JPH02210457A - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
- Publication number
- JPH02210457A JPH02210457A JP3221789A JP3221789A JPH02210457A JP H02210457 A JPH02210457 A JP H02210457A JP 3221789 A JP3221789 A JP 3221789A JP 3221789 A JP3221789 A JP 3221789A JP H02210457 A JPH02210457 A JP H02210457A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- carbon
- photosensitive layer
- protective layer
- charge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 115
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 claims abstract description 12
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 38
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 34
- -1 amine compound Chemical class 0.000 claims description 11
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 abstract 2
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 abstract 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 28
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 8
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 5
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MKYQPGPNVYRMHI-UHFFFAOYSA-N Triphenylethylene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MKYQPGPNVYRMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXBSSAFKXWFUMF-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trinitrofluoren-9-one Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C([N+](=O)[O-])C([N+]([O-])=O)=C2[N+]([O-])=O ZXBSSAFKXWFUMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGQSLSMAEVWNPU-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-phenylethenyl)benzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1C=CC1=CC=CC=C1 NGQSLSMAEVWNPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 1-[(e)-2-phenylethenyl]anthracene Chemical compound C=1C=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C2C=1\C=C\C1=CC=CC=C1 VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- JNGDCMHTNXRQQD-UHFFFAOYSA-N 3,6-dioxocyclohexa-1,4-diene-1,2,4,5-tetracarbonitrile Chemical compound O=C1C(C#N)=C(C#N)C(=O)C(C#N)=C1C#N JNGDCMHTNXRQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- QCUOBSQYDGUHHT-UHFFFAOYSA-L cadmium sulfate Chemical compound [Cd+2].[O-]S([O-])(=O)=O QCUOBSQYDGUHHT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000331 cadmium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 150000001787 chalcogens Chemical group 0.000 description 1
- MRQIXHXHHPWVIL-UHFFFAOYSA-N chembl1397023 Chemical compound OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC1=CC=CC=C1 MRQIXHXHHPWVIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N dibenzothiophene Chemical group C1=CC=CC=2[34S]C3=C(C=21)C=CC=C3 IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- OHUWRYQKKWKGKG-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;pyrene Chemical compound O=C.C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 OHUWRYQKKWKGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229930195712 glutamate Natural products 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000007978 oxazole derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920002102 polyvinyl toluene Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical group 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical class C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001651 triphenylamine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
写真用感光体に関する。
、導電性支持体上にセレンないしセレン合金を主体とす
る光導電層を設けたもの、酸化亜鉛、硫酸カドミウムな
どの無機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの
、ポリ−N−ビニルカルバゾールとトリニトロフルオレ
ノンあるいはアゾ顔料などの有機光導電材料を用いたも
の、及び非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般に
知られている。
光体をまず暗所で、例えばコロナ放電によって帯電させ
、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選択的に散逸せ
しめて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔料などの着
色材と高分子物質などの結合剤とから構成される検電微
粒子(トナー)で現像し可視化して画像を形成する様に
した画像形成法の一つである。
な特性としては (1)暗所で適当な電位に帯電できること。
それぞれ優れた特徴及び欠点を有しているが、なかでも
近年は製造コストが安い、環境汚染が少ない、比較的自
由な感光体設計ができる等の理由により、有機系感光体
の発展が著しい。
料を結着樹脂の中へ分散あるいは溶解して導電性支持体
上に塗布したものであり、ひとつの層で電荷保持、電荷
発生、電荷輸送の機能を有する単層型と電荷発生の機能
を有する電荷発生層(C:GL)、帯電電荷の保持とC
GLから注入された電荷の輸送機能を有する電荷輸送層
(CTL)、更には必要に応じて支持体からの電荷の注
入を阻止する、あるいは支持体での光の反射を防止する
等の機能を有した層などを積層した構成の機能分離型と
が知られている。
ているが、有機材料であるがゆえに表面硬度が低く、複
写プロセスでの実使用時に現像剤、転写紙、クリーニン
グ部材等から受ける機械的な負荷によって、摩耗や傷が
発生しやすいという本質的な欠点も有している。
た局部的な傷はコピー上でスジ状の異常画像を発生させ
る原因になり、いずれも感光体寿命を左右する重要な問
題である。
層を設けて、複写機内外で受ける機械的負荷に対する耐
久性を改善する方法が提案されている。
特公昭3g−015446)、無機酸化物を設ける方法
(特公昭43−014517)、接着層を設けた後、絶
縁層を積層する方法(特公昭43−o27sqt)、或
いは一 プラズマCVI)法・光CVD法等によってa−5iM
、 5−3i:N:H層、a−5i:0:H層等を積層
する方法(特開昭57−179859、特開昭59−0
58437)などが開示されている。
への応用が活発化している。
保護層を設けたもの(特開昭6O−249155)、最
表面にダイヤモンド状カーボン保護層を設けたもの(特
開昭6l−255352)、感光層上に炭素を主成分と
する高硬度絶縁層を形成したもの(特開昭6l−264
355)あるいは有機感光層上に窒素原子、酸素原子、
ハロゲン原子、アルカリ金属原子等の原子を少なくとも
含むプラズマ有機重合膜から成る保護層を設けたもの(
特開昭63−97961〜4)、有機感光層」二にカル
コゲン原子、III属原子、■属原子、■属原子等の原
子を少なくとも含むグロー放電により生成された非晶質
炭化水素膜から成る保護層を設けたもの(特開昭63−
220166〜9)などを挙げることができろ。
ロセス(スパッタリンク、プラズマCVD、グロー放電
分解法、光CVD法等)により作製した炭素又は炭素を
主成分とする高硬度の薄1摸(j−カーボン膜あるいは
ダイヤモンド状炭素膜という総称で呼ばれるものに属す
る。)を形成したものである。
硬度が向上し、耐久性に優れたものであるが、表面保護
層の形成手段として、たとえばHβ:486nm、 )
I γ:434nm、 C−11:43]nm等の高い
エネルギーを有する波長光の発光を伴うイオンプロセス
が用いられているため、有機系感光層中の電荷発生材料
、電荷輸送材料あるいは結着樹脂等かこの光の影響を受
け、有機系感光層本来の有する電気的特性が損なわれ、
光感度の低下や残留電位の上昇等が生しることがその後
の研究により明らかとなった。
たものであって、その目的はたとえ表面保護層の形成手
段として発光を伴うイオンプロセスを採用しても、優れ
た電気的特性を維持し得ると共に耐久性に優れた電子写
真用感光体を提供することにある。
も有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写
真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成
分とし、かつ有機系感光層は光安定剤を含有することを
特徴とする電子写真用感光体によって達成される。
らなる表面保護層を有する電子写真用感光体の電気的特
性や機械的耐久性の低下現象について鋭意検討した結果
、表面保護層を形成する過程において発生する光によっ
て有機系感光層が劣化し、そのため光感度の低下や残留
電位の上昇が生じたり、機械的耐久性が低減することを
知見した。
導電性支持体上に有機系感光層及び表面保護層を積層し
た構成の電子写真用感光体においては、表面保護層を炭
素又は炭素を主成分とする物質によって形成し、かつ有
機系感光層に光安定剤好ましくはヒンダードアミン系化
合物を含有させることによって感光体の電気的特性並び
に機械耐久性を著しく向」二できることを見出し、本発
明を完成するに至った。
、導電性支持体1上に下引WJ2、電荷発生層3、電荷
輸送層4及び表面保護層5を順次設けた構成となってい
る。第2図(a)、(b)、(C)、(d)はそれぞれ
本発明の他の実施態様に係る電子写真感光体の構成例を
示すものである。
護層5の間に中間層6を設けた構成のものであり、第2
図(b)は第1図における機能分離型の感光層を単層型
感光層7としたものである。また第2図(c)は第2図
(b)の単層型感光層7と表面保護層5との間に中間層
6を介在させたものであり、第2図(d)は導電性支持
体1上に直接電荷輸送m 4を設け、その上に電荷発生
r’f’J 3、中間WJ6及び表面保護層5を順次積
層した構成のものである。
いは心電処理をした絶縁体、たとえばAfl、N1、F
e、 Cu、 Auなどの金属あるいはそれらの合金の
他、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ガ
ラス等の絶縁性基体上にAQ、 Ag、 Au等の金属
あるいはIn、 01、Sue、等の導電材料の薄膜を
形成したもの、導電処理をした紙等が使用できる。
るいはベルト状のいずれのものも使用できる。
引層は本発明の効果をいっそう向上すると共に、接着性
を向上する目的で設けられ、その材料としてはSj、0
. Au203、シランカップリング剤、チタンカップ
リング剤、クロムカップリング剤等の無機材料やポリア
ミド樹脂、アルコール可溶性ポリアミド樹脂、水溶性ポ
リビニルブチラール、ポリビニルブチラール、PVA等
の接着性の良いバインダー樹脂などが使用さ九る。その
他、前記接着性の良い樹脂にZnO1Tie、、、Zn
S等を分散したものも使用できる。下引層の形成法とし
ては無機材料単独の場合はスパッタリング、蒸着等の方
法が、また有機材料を用いた場合は通常の塗布法が採用
される。なお下引層の厚さは5μm以下が適当である。
けられる有機系感光層としては単層型あるいは機能分離
型のいずれもが適用できる。
酸化チタン、硫酸亜鉛等の光感電性粉体、セレン粉体、
無定形シリコン粉体、スクアリック塩顔料、フタロシア
ニン顔料、アズレニウム塩顔料、アゾ顔料等を必要に応
じて結着剤樹脂及び/又は後述する電子供与性化合物と
共に塗布形成されたもの、またピリリウム系染料とビス
フェノールA系のポリカーボネーI〜とから形成される
共晶錯体に電子供与性化合物を添加した組成物を用いた
もの等が挙げらhる。結着樹脂としては後述する機能分
離型感光層と同様のものを使用することがてきる。この
単層型感光Jmの厚さは5〜30μmが適当である。
L)と電荷輸送層(CTL)を積層したものが例示され
る。
生7i(CGL)としては、結晶セレン、セレン化ヒ素
等の無機光導電性粉体あるいは有機系染顔料を結着剤樹
脂に分散もしくは溶解させたものが用いられる。
シーアイピグメントブルー25〔カラーインデックス(
(J)21180)、シーアイピグメントレツ1〜41
.(CI 21.200)、シーアイアシッドレッド5
2(CI45100)、シーアイベーシックレッド3(
CI 4521.0)、さらに、ポリフィリン骨格を有
するフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スク
アリック塩顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(
特開昭53−95033号公報に記載)、スチリルスチ
ルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−1.382
29号公報に記載)、1〜リフエニルアミン骨格を有す
るアゾ顔料(特開昭53−132547号公報に記載)
、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料(特開昭5
4−21728号公報に記載)、オキサジアゾール骨格
を有するアゾ顔料(特開昭54−12742号公報に記
載)、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54
−22834号公報に記載)、ビススチルベン骨格を有
するアゾ顔料(特開昭54−17733号公報に記載)
、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(
特開昭54−2129号公報に記載)、ジスチリルカル
バゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−1773
4号公報に記載)、カルバゾール骨格を有するトリアゾ
顔料(特開昭57−195767号公報、同57−19
5768号公報に記載)等、さらに、シーアイピグメン
トブルー16(CI 74100)等のフタロシアニン
系顔料、シーアイバッドブラウン5(CI73410)
、シーアイバッドダイ(CI 73030)等のインジ
ゴ系顔料、アルゴスカーレットB(バイオレット社製)
、インダスレンスカーレットR(バイエル社製)等のペ
リレン系顔料等を使用することができる。
て用いられる。
100重量部用いるのが適当であり、好ましくは0〜5
0重量部である。
アミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート、ポリエーテルなどの縮合系樹脂並び
にポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレー
ト、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラ
ール、スチレンブタジェン共重合体、スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体等の重合体および共重合体等の接着
性、絶縁性樹脂が挙げられる。
脂とともに、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、
ジオキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用いてボールミ
ル、アトライター、サンドミルなどにより分散し、分散
液を過度に希釈して塗布することにより形成できる。塗
布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法な
どを用いて行なうことができる。
り、好ましくは0.1〜2戸である。
又はセレン化ヒ素合金等の粒子を用いる場合には、電子
供与性結着剤及び/又は電子供与性有機化合物とが併用
される。このような電子供与性物質としてはポリビニル
カルバゾールおよびその誘導体(例えばカルバゾール骨
格に塩素、臭素などのハロゲン、メチル基、アミノ基な
どの置換基を有するもの)、ポリビニルピレン、オキサ
ジアゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、ジアリールメタ
ン、α−フェニルスチルベン、トリフェニルアミン系化
合物などの窒素含有化合物およびジアリールメタン系化
合物等があるが、特にポリビニルカルバゾールおよびそ
の誘導体が好ましい。
にはポリビニルカルバゾールおよびその誘導体に他の電
子供与性有機化合物を添加しておくことが好ましい。こ
の種の無機系電荷発生物質の含有量は層全体の30〜9
0重量%が適当である。また無機系電荷発生物質を用い
た場合の電荷発生層の厚さは0.2〜5μmが適当であ
る。
により電荷発生層で発生分離した電荷を移動させて保持
していた帯電電荷と結合させることを目的とする層であ
る。帯電電荷を保持させる目的達成のために電気抵抗が
高いことが要求され、また保持した帯電電荷で高い表面
電位を得る目的を達成するためには、誘電率が小さくか
つ電荷移動性か良いことが要求される。
送物質および必要に応じて用いられるバインダー樹脂よ
り構成される。すなわち、以上の物質を適当な溶剤に溶
解ないし分散してこれを塗布乾燥することにより電荷輸
送層を形成することができる。
る。
およびその誘導体、ポリーγ−カルバゾリルエチルグル
タメートおよびその誘導体、ピレンホルムアルデヒド縮
合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニル
フェナン1〜レン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン
誘導体、9(p−ジエチルアミノスチリル)アントラセ
ン、]、1ビス=(4−ジベンジルアミノフェニル)プ
ロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、
フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体
等の電子供与性物質が挙げられる。
ムアニル、テI−ラシアノエチレン、テトラシアノキノ
ンジメタン、2,4.7−1−リニ1〜ロー9フルオレ
ノン、2,4,5.7−テIへラニトロー9−フルオレ
ノン、2,4,5.7−チトラニトロキサントン、2,
4゜8−トリニドロチオキサントン、2,6.8− ト
リニトロ4■−インデノ(1,,2−b)チオフェノン
−4−オン、1,3゜7−トリニトロジベンゾチオフエ
ノンー5,5−ジオキサイドなどの電子受容物質が挙げ
られる。
いられる。
、ポリスチレン、スチレン−アクリコニ1−リル共重合
体、スチレン−ブタジェン共重合体、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリアクリレ−1〜樹脂、フェノキシ
樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチル
セルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホ
ルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカル
バゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ慴
脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ア
ルキッド樹脂等の熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂が挙げ
られる。
−ルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化
メチレンなどが用いられる。
。
よい。可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチ
ルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤として使用されて
いるものがそのまま使用でき、その使用量は、バインダ
ー樹脂に対してO〜30重景%重量が適当である。レベ
リング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチル
フェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル類が
使用され、その使用量はバインダー樹脂に対して、O〜
1重量2程度が適当である。
L、 CTLの順に積層しても、CTL、 CGLの順
に積層してもかまわない。
との間に設けられる中間層には、5j−0、AQ、0.
等の無機材料を蒸着、スパッタリング、陽極酸化などの
方法で設けたものや、ポリアミド樹脂(特開昭58−3
0757号公報、特開昭58−98739号公報)、ア
ルコール可溶性ナイロン樹脂(特開昭60−19676
6号公報)、水溶性ポリビニルブチラルール樹脂(特開
昭60−232553号公報)、ポリビニルブチラール
樹脂(特開昭58−106549号公報)、ポリビニル
アルコールなどの樹脂層を用いることができる。
顔料粒子を分散したものも、中間層として用いることが
できる。
チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用
することもできる。中間層の膜厚は0〜5μmが適当で
ある。
的耐久性の向上のために前記有機系感光層あるいは必要
に応じて設けられる中間層の少なくとも一層に光安定剤
、好ましくはヒンダードアミン系化合物を添加すること
が必要である。
と効果の発現性が不充分となり、また多すぎると光安定
剤が析出したり、感光層の特性に影響を及ぼす場合もあ
るので、有機系感光層あるいは中間層の樹脂成分に対し
0.001〜10重量2、好ましくは0.05〜5重量
Xが適当である。
具体例を表−1に示すが、もちろん本発明はこれらのも
のに限定されるものではなし′I。
たは炭素を主成分としたもので、好ましくはSP3軌道
を有するダイヤモンドと類似のc−c結合を有しており
、ビッカース硬度100−3000kg/d、比抵抗(
固有抵抗)1.X107〜l X 10”Ω・mの値を
有し、光学的エネルギーバンドl’ll(Egという)
が1.OeV以上である、赤外または可視領域で透光性
を有する薄膜で形成される。
、グロー放電分解法、光CVD法などにより形成され、
特にその製膜法は限定されるものではないが、プラズマ
CVD法でありながらスパッタ効果を伴わせつつ成膜さ
せる方法によって良好な特性を有する保護層を得ること
ができる。この代表例としては、本発明人の出願になる
特許願[炭素被膜を有する複合体及びその製造方法」(
特願昭56−146929昭和56年9月17日出願、
特開昭58−49609)が挙げられる。
極(カソード側)に基板を配設し、セルフバイアスを用
いて平坦面の上面に堆積させる製膜法であり、マイクロ
波励起方法により活性種を強く励起することによって高
硬度の炭素膜を得ることができる。
しく適用されるが、たとえば第3図に示すようなプラズ
マCVD装置によれば、同様の保護層を支持体形状にと
られれることなく製膜することが可能である。
ト弁(9)によりロード/アンロード用予備室(7′)
と仕切られている。真空槽(7)内は排気系(20)[
圧力調整バルブ(21)、ターボ分子ポンプ(22)、
ロータリーポンプ(23)より成る]により真空排気さ
れ、また一定圧力に保たれる様になっている。
)(電極側より見て四角または六角形状を有している)
と、この両端の開口部を覆う様にしたフード(8)(8
′)、さらにこのフード(8) (8’ )に配設され
た一対の同一形状を有する第−及び第二の電極(3)
(3’ )(アルミニウム等の金属メツシュを用いてい
る)より構成されている。(30)は反応槽(50)内
へ導入するガスラインを示しており、下記に示す様な各
種ガス容器が接続されておりそれぞれ流量計(29)を
経てノズル(25)より反応槽(50)の中へ導入され
る。
2 H6等エツチング用ガス:0゜等 枠構造体(2)中には、有機光導電層を形成した支持体
(1)[(1,−t)、(1−2)、−(1−n))が
第3図(A)(B)の様に配置される。なおこのそれぞ
れの支持体は、後述するように第三の電極として配置さ
れる。
するための一対の電源(15) [(15−1)、(1
5−2)、lが用意されている。第一の交番電圧の周波
数は1〜1゜O阿Hzである。
) (16−2)とつながる。このマツチングトランス
での位相は位相調整器により調整し、互いに180゜ま
たは0°ずれて供給できる。すなわち対称型又は同相型
の出力を有している。
ぞれ第−及び第二の電極(3) (3’ )に連結され
ている。またトランスの出力側中点(5)は接地レベル
に保持されている。更にこの中点(5)と第三の電極す
なわち支持体(1) ((1−1)、(1−2)、−(
t−n))またはそれらに電気的に連結するホルダ(2
)の間に第二の交番電圧を印加するための電源(]7)
が配設されている。この第二の交番電圧の周波数は1〜
5゜0KHzである。
(3)(3’)間にプラズマが発生する。このプラズマ
は上下のフード(8) (8”)、枠構造体(2)によ
り取り囲まれているため、外側の外部空間(6)には放
出せず、また反応空間内でのプラズマ電位が均質になっ
ている。ノズル(25)を通してこの反応空間に導入さ
れた反応用ガスはプラズマのエネルギーにより分解され
、第二の交番電圧により支持体に印加されている負自己
バイアス(−10〜600V)によって加速され、支持
体上にスパッタしつつ成膜するので緻密な構造を有する
被膜が得られる。
は13.56M1(zの周波数の場合0.1〜IKWで
あり、第三の電極すなわち支持体に印加する第二の交番
電圧の出力は150K)Izの周波数の場合約100W
である。
りその割合はNF3/C2H,=1/20〜4/lであ
り、反応時の真空槽内圧力は0.001〜1..0to
rrである。
分解されて支持体上にNとFが添加されたダイヤモンド
状薄膜(DLCともいうが、添加物が添加されたDLC
を含めて本発明では炭素または炭素を主成分とする被膜
という。)が得られる。
膜条件を変えることによって得られる被膜の物性(硬度
、光透過率、比抵抗等)を比較的自由に変化させること
ができる。特に硬度は支持体に印加される負自己バイア
ス及び反応圧力によって大きく変化させることができる
。加えてこの方法では支持体を特に加熱する必要はなく
、150°C以下の低温で炭素または炭素を主成分とす
る被膜を形成できるため、耐熱性の低い有機系感光層」
−にも何ら支障なく保護層を製膜することが可能である
。
0人〜10μmであり、好ましくは]000人〜2μm
である。
きハロゲン元素、窒素、リン、ホウ素などの添加物を必
要に応じて添加することもでき、その濃度は膜の深さ方
向に対し、均一であっても勾配を設けてもかまわない。
、種類なとを制御した多層構造から成っていてもかまわ
ない。
明する。
さ250mm)に下記組成比の混合物をボールミルで1
2時間分散し調製した下引層形成液を乾燥後の膜厚が約
2μmになる様に浸漬法で塗工し下引層を形成した。
ポリアミド樹脂(東し社製CM−8000) 1メタ
ノール 25この下引層上に下
記処方の電荷発生層塗工液を浸漬塗工し、120℃で1
0分間乾燥させ、膜厚約0.15μmの電荷発生層を形
成した。
ヘキサノン 360上記混合物をボー
ルミルで72時間分散した後、さらにシクロヘキサノン
:メチルエチルケトン=1:1(重量比)の混合溶媒5
00重量部で希釈調製する。
工液を乾燥後の膜厚が約20μmになる様に浸漬塗工し
て電荷輸送層を設【づた。
CVD装置を用いて下記条件により炭素または炭素を主
成分とする保護層を製膜した。
,流量 : 150 SCCM反応圧力
: 0.05torr第一の交番電圧出力 :
40011 ]、33.56M1zバイアス電圧(直
流分) : −1,50Vこのようにして得た炭素また
は炭素を主成分とした保護層は比抵抗xio”Ω・cm
、ビッカース硬度1500kg/mm 、光学的エネル
ギーバンド巾2.2eVで、膜厚は0.8声であった。
た。
処方の電荷輸送塗工液を乾燥後の膜厚が約20戸になる
様に浸漬塗工して電荷輸送層を設けた。
中間層形成液を塗工して膜厚約2000人の中間層を形
成した。
または炭素を主成分とする保護層を製膜して実施例2の
電子写真用感光体を作製した。
く同様にして、実施例3の電子写真感光体を作製した。
削除した以外は実施例1と全く同様にして、比較例1の
電子写真用感光体を作製した。
例1)について、静電特性を評価した。
で回転させ、−6KVのコロナ放電により20秒帯電し
た時の表面電位Vmax (V)を測定し、ついでタン
グステンランプで感光体表面の照度が5(1,ux)に
なる様設定しである光で表面電位が800vから1/1
0の80Vになるまでの時間(see)を求め、露光量
E 1./ 1.0(lux−sec)を算出した。更
にこの光照射を30秒おこなった後の表面電位を残留電
位Vr(V)として測定した。その結果を下記衣−2に
示す。
の結果より明らかな様に本発明の感光体(実施例1,2
.3)はVrが低く良好な感度を示しているが、有機感
光層中に光安定剤を含まない比較例1の感光体はVrが
非常に高く、感度もその影響を受けて非常に悪くなって
しまっている。
イプのレーザープリンター)に塔載し画像を採取したと
ころ、実施例1,2.3のものは非常に良好な印字品質
が得られたが、比較例1の感光体は充分に光減衰しない
ため、印字のかすれや白抜は状の異常画像が発生してし
まい、実使用に耐えなかった。
取をおこなったところ、5万枚を越えても初期と同様の
良好な画像品質を維持し、感光体表面にキズ等を発生せ
ず、非常に優れた耐久性を示した。
感光層と炭素または炭素を主成分とする保護層との間に
必要に応して設けられる中間層のいずれか一層に光安定
剤を含有させたことから、たとえ保護層を形成するため
に各種イオンプロセスを採用したとしても、良好な電気
的特性を維持し、かつその耐久性が著しく優れたもので
ある。
面図であり、第2図(a)及び(b)は他の実施態様の
構成を示す模式断面図である。第3図は表面保護層の形
成の際に用いるプラズマCVI)装置の1例の説明図で
あり、第4図はプラズマCVD装置の枠構造体(2)の
平面図である。 1・・・導電性支持体、2・・下引層、3・電荷発生層
、4・・電荷輸送層、5・・・中間層、6・表面保護層
、7・感光層(単層型) 特許出願人 株式会社 リ コ ココ −〜 く表 【ニニアーーーノ = (−r−一)
Claims (4)
- (1)導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表
面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、
表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、かつ有機系感
光層は光安定剤を含有することを特徴とする電子写真用
感光体。 - (2)有機系感光層と表面保護層の間に中間層が設けら
れた特許請求の範囲第1項記載の電子写真用感光体。 - (3)有機系感光層あるいは中間層のうち少なくともい
ずれか一層に光安定剤を含有する特許請求の範囲第1〜
2項いずれか記載の電子写真用感光体。 - (4)光安定剤がヒンダードアミン系化合物である特許
請求の範囲第1〜3項いずれか記載の電子写真用感光体
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3221789A JP2805050B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3221789A JP2805050B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 電子写真用感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02210457A true JPH02210457A (ja) | 1990-08-21 |
JP2805050B2 JP2805050B2 (ja) | 1998-09-30 |
Family
ID=12352761
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3221789A Expired - Lifetime JP2805050B2 (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2805050B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014006350A (ja) * | 2012-06-22 | 2014-01-16 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び電子写真感光体の製造方法 |
-
1989
- 1989-02-10 JP JP3221789A patent/JP2805050B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014006350A (ja) * | 2012-06-22 | 2014-01-16 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び電子写真感光体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2805050B2 (ja) | 1998-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3350833B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3345700B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
US5059502A (en) | Electrophotographic photoconductor | |
US5840455A (en) | Electrophotographic photoconductor | |
JPH06175471A (ja) | 画像形成装置 | |
JP3409107B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP2818881B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3266387B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH02210457A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3057165B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP2818882B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3266380B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3523651B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3057196B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP2979070B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH02210455A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3000088B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3309305B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP2897135B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3254206B2 (ja) | 炭素膜の形成方法 | |
JP2599635B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP2873602B2 (ja) | 電子写真用感光体の作製方法 | |
JP2995336B2 (ja) | 電子写真用感光体およびその製造方法 | |
JPH04133068A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3119860B2 (ja) | 電子写真用感光体の作製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070724 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080724 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090724 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090724 Year of fee payment: 11 |