JPH02205318A - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

Info

Publication number
JPH02205318A
JPH02205318A JP2635689A JP2635689A JPH02205318A JP H02205318 A JPH02205318 A JP H02205318A JP 2635689 A JP2635689 A JP 2635689A JP 2635689 A JP2635689 A JP 2635689A JP H02205318 A JPH02205318 A JP H02205318A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rod
core tube
furnace
tube
carrying rod
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2635689A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Toyofuku
毅 豊福
Masayuki Kikuchi
正幸 菊池
Toshiyuki Kuramochi
倉持 俊幸
Satoshi Noda
聡 野田
Kazutaka Miura
一隆 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2635689A priority Critical patent/JPH02205318A/ja
Publication of JPH02205318A publication Critical patent/JPH02205318A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 半導体装置の製造過程で使用される横型の熱処理装置に
関し、 半導体装置の搬送棒の擦れをなくして炉心管をクリーン
な状態に保持することを目的とし、被加熱体を搬送する
搬送棒を、炉心管内に移動可能に貫通させるとともに、
該炉心管から露出する上記搬送棒の両端寄りの底部に移
動用ローラを取り付けたことを含み構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、熱処理装置に関し、より詳しくは、半導体装
置の製造過程で使用される横型の熱処理装置に関する。
〔従来の技術〕
半導体装置の製造過程における熱拡散、熱酸化、アニー
ル、シンタリング等の加熱処理は、−aに横型の加熱炉
中で行われているが、加熱炉に塵埃が侵入して半導体基
板に付着すると、その後の工程で、半導体ウェハに形成
する膜にピンホールが発生したり、月々に凹凸が生じる
といった種りの問題が発生する。
このため、熱処理装置においては、半導体ウェハを出し
入れする部分にクリーンベンチを設け、加熱炉中への塵
埃の侵入を阻止するようにしている。
しかし、横型熱処理装置は、第3図(a)に例示するよ
うに、加熱炉30の炉心管50中にウェハ51を入れる
手段として、半導体ウェハ51を収容した石英容器52
を片持梁状の搬送棒53によって搬送するようにしてい
るため、半導体ウェハ51や石英容器52の重みにより
搬送棒53が下方に撓んでしまい、半導体ウェハ51の
搬送過程においてその先端部分が炉心管50の内壁と接
触する結果、石英により形成した炉心管50や搬送棒5
3から削り取られた石英性の塵が炉心管50内で発生す
るといった問題が生じる。
そこで、この問題を解決するために特開昭60−244
030号公報、特開昭61−59722号公報において
、搬送棒を慴動可能にi!3!置する支点を炉心管の先
端近傍に設け、搬送棒の先端が炉心管の内壁に接触する
ことを防IFする装置が、提案されている。
C発明が解決しようとする課題〕 ところで、前者の装置は第3図(b)に示すように、加
熱炉31の炉心管54のウェハ搬送口55に対して反対
側の閉塞部56に挿通孔58を設けてここに搬送棒57
を挿通させ、この挿通孔58を支点として搬送棒57を
支持するようにしているために、搬送棒57を炉心管5
4から引き出す際に、搬送棒57の裏面が挿通孔58に
擦れて石英性の塵埃Bが発生し、その塵埃Bが炉心管5
4中に入り込むといった不都合がある。
また、後者の装置は第3図(c)に示すように、支点5
9を炉心管60先端の外部に設けてこの支点59上で搬
送棒6Iを摺動させるもので、加熱炉32の炉心管60
の閉塞部62に設けた挿通孔63と搬送棒61が擦れる
ことは避けられるが、外部に設けた支点59と搬送棒6
1が擦れるために、搬送棒61の裏面から削がれた石英
性のmcの一部がその裏面に付着してしまい、搬送棒6
1を引き出す際に炉心管60内にaCが侵入するといっ
た問題がある。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであっ
て、搬送棒の擦れをなくすことができる熱処理装置を提
供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記した!!lBは、被加熱体を搬送する搬送棒(5)
を、加熱炉の炉心管(1)内に移動可能に貫通させると
ともに、該炉心管(1)から露出する上記搬送棒(5)
の両端寄りの底部に移動用ローラ(9,13)を取り付
けたことを特徴とする熱処理装置により解決する。
〔作 用〕
本発明において、半導体ウェハ等のような被加熱体を搬
送する際には、移動用ローラ(9,13)を駆動して搬
送棒(5)を移動させる。
ところで、搬送棒(5)は、移動用ローラ(9,13)
によって一定の高さに支持されるために、加熱炉の炉心
管(1)内を移動する際に他の部材と接触することがな
く、搬送棒(5)の他部材との接触によって発生する塵
埃により炉心管(1)内を汚染するという事態を避ける
ことが可能になる。
したがって、炉心管(1)の中をクリーンな状態に保持
することができる。
(実施例〕 以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は、本発明の一実施例を示す装置の断面図であっ
て、図中符号1は、周囲を加熱器2によって覆われた石
英よりなる円筒状の炉心管で、開口されたその一端には
、ウェハ3を出し入れするウェハ搬送口4が設けられ、
また、閉塞された他端には、後述する搬送棒5を非接触
状態で挿通ずる挿通口6と、ガス供給ロアが形成されて
いる。
上記した搬送棒5は、ウェハを収納する石英性バスケッ
ト8を炉心管1内に長平方向に搬送するもので、その一
端寄りには、後述するボートローラ9と、ウェハ搬送口
4を閉塞する盟休10とが端から順に取り付けられ、ま
たそこから中央寄りの位置には、バスケット8をaXす
るための偏平のS!置台11が一体的に形成されており
、さらに、搬送棒5の他端には、炉心管lの閉塞端外方
に設けられた支持台12上を転がる台車13が取り付け
られていて、炉心管!の挿通口6を通した搬送棒5を移
動可能に支持するように構成されている。
上記したボートローラ9は、炉心管1のウェハ搬送口4
側に設けられたクリーンベンチ14内のレール15上を
摺動するもので、他端に取り付けた台車13と同様に搬
送棒5を支持するとともに、搬送棒5を炉心管1の長手
方向に移動させ得るように構成されている。
なお、図中符号16は、炉心管lのガス供給ロアにガス
を供給するガス供給器、17は、装置全体を覆う保護カ
バーを示している。
次に、上記した実施例の動作を第2図に基づいて説明す
る。
まず、第2図(a)に示すように、ボートローラ9をレ
ール15に沿って外方向に移動し、搬送棒5の載置台I
IをクリーンベンチI4内に引き出して、ウェハ3を収
納したバスケット8を載置台11に載せる。
この状態では、搬送棒5に取り付けた台車13は支持台
12上を摺動して炉心管1に引き寄せられている。
次に、ボートローラ9を炉心管1に向けて摺動すると、
載置台ll上のバスケット8が加熱された炉心管l内に
搬送されるとともに、炉心管1のウェハ搬送口4は蓋体
10によって閉塞される。
この場合に、台車13は、炉心管1の挿通口6を通した
搬送棒5の端部を支持しながら炉心管1から遠ざかる方
向に支持台12上を転がることになる(第2図(b))
この結果、搬送棒5は挿通口6と接触せず、しかも、炉
心管1の外部においても他の部材と接触することがない
ので、摺動棒5から石英性の塵が発生することはない。
そして、加熱処理を終えた時点で、第2図(C)に示す
ように、ボートローラ9を炉心管lの外方に向けて摺動
させてウェハ3を取り出すと、載置台11上のバスケッ
ト8がクリーンベンチ14内に引き出される一方、炉心
管1の挿通口6から露出した搬送棒5は、他の部材と何
ら接触せずに炉心管l内に入り込むために削られること
はなく、炉心管1に石英性の塵埃を搬送することはなく
なる。このため、炉心管1はクリーンな状態に保持され
ることになる。
ところで、上記した実施例では、搬送棒5の端部に台車
13を取付けるようにしたが、ボートローラを装着する
こともできる。
また、上記した実施例では、バスケットを搬送棒のu1
台に載せるようにしたが、バスケットを搬送棒に釣り下
げるようにすることもできる。
なお、上記した炉心管lは、CVD装置等においては反
応管ともいう。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、搬送棒の両端にロー
ラを取り付けるようにしたので、炉心管を通る搬送棒は
一定の高さに維持されて他の部材と接触することがなく
、搬送棒の接触によって発生する塵埃によや炉心管を汚
染することを阻止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a) 、 (b)は、本発明の一実施例を示す
装置の断面図と、この装置に用いる搬送棒の平面図、第
2図(a)〜(c)は、本発明の一実施例装置の動作説
明図、 第3図(a)〜(c)は、従来装置を示す断面図である
。 (符号の説明) l・・・炉心管、 2・・・加熱器、 4・・・ウェハ搬送口、 5・・・搬送棒、 6・・・挿通口、 8・・・バスケット、 9・・・ボートローラ、 10・・・蓋体、 11・・・載置台、 12・・・支持台。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 被加熱体を搬送する搬送棒を、炉心管内に移動可能に貫
    通させるとともに、 該加熱管から露出する上記搬送棒の両端寄りの底部に移
    動用ローラを取り付けたことを特徴とする熱処理装置。
JP2635689A 1989-02-03 1989-02-03 熱処理装置 Pending JPH02205318A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2635689A JPH02205318A (ja) 1989-02-03 1989-02-03 熱処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2635689A JPH02205318A (ja) 1989-02-03 1989-02-03 熱処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02205318A true JPH02205318A (ja) 1990-08-15

Family

ID=12191201

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2635689A Pending JPH02205318A (ja) 1989-02-03 1989-02-03 熱処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02205318A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2579298A4 (en) * 2010-06-04 2017-03-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Heat-treatment furnace

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2579298A4 (en) * 2010-06-04 2017-03-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Heat-treatment furnace
US9799535B2 (en) 2010-06-04 2017-10-24 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Heat-treatment furnace

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3664897B2 (ja) 縦型熱処理装置
JPS6153721A (ja) スロツトを設けた片持ち拡散管装置およびこれに装填する方法および装置
KR20070026198A (ko) 가열장치 및 도포, 현상장치
JPH01243416A (ja) 熱処理装置
JP2008174361A (ja) 基板搬送装置
JPH02174225A (ja) 処理装置
JP2005123583A (ja) 基板ホルダ内に基板支持体をローディングするための方法およびシステム
KR102435775B1 (ko) 반응관 유닛의 반송 방법
JPH03216409A (ja) 連続処理装置
JPH02205318A (ja) 熱処理装置
JP3587280B2 (ja) 縦型熱処理装置およびキャスター付ヒーターの設置方法
JP2726903B2 (ja) 熱処理炉用基板保持具の搬送装置
JPH10139157A (ja) 基板搬送装置
JPS6373620A (ja) 高温処理装置
JPH04125948A (ja) 熱処理方法
JP3999412B2 (ja) 反応管着脱用台車および半導体製造装置
JPS59208824A (ja) 半導体部材等の加熱装置
JPH047511Y2 (ja)
JP2015008202A (ja) 熱処理炉
JPH01162329A (ja) 縦型熱処理装置
JP3164817B2 (ja) 熱処理装置及びそのメンテナンス方法
JPH04111743U (ja) 真空中に於ける加熱ワークの搬送装置
JP2000012473A (ja) 熱処理炉
JP2968829B2 (ja) 熱処理装置
US10096416B2 (en) Magnetizing apparatus and magnetizing method