JPH0220040A - ウエハ移送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ウェハを装填したカセットが収納されかつ
不活性ガスが封入された容器から、つエバを取り出して
処理室に移送して処理させるウェハ移送装置に関する。

〔従来の技術〕

従来におけるウェハ移送装置の概略構成を第２図に示す
。図において、ｌは本体、２は入側予備排気室、３は処
理室、４は出側予備排気室、５はローデインダステージ
、６はアンローデインダステージである。ＣＩ、Ｃ２は
ウェハを装填しｔ；カセットであって、それぞれローデ
インダステージ５とアンローデインダステージ６に置か
れている。

このような移送装置では、まずウェハを装填したカセッ
トＣＩをローデインダステージ５におき、カセットＣＩ
内のウェハを一枚づつ前側予備排気室２から処理室３に
送り込み、そして処理を行った後、ウェハを後側予備排
気室４からアンローデインダステージ６に取出す。この
ような装置は通常はクリーンルームにおいて使用される
が、ウェハは装置のローディング部あるいはアンローデ
ィング部に、ある一定時間保持されるため、この時、保
持時間に比例したダストの付着が起る。

また、装置から装置への搬送においても同様なダスト付
着が生じるため、ダスト数の管理が問題となる。更に、
ウェハは大気に曝されており、ウェハ表面の酸化膜厚や
吸着層厚は大気に曝される時間等により変化し、ウェハ
毎に異なるためプロセス後の特性に不均一性が生じる。

一方、ダストフリーで搬送できるシステムとしてはＳＭ
ＩＦ（スミ７）がある。第３図は、その概略構成図であ
る。図において、１１はポットの上蓋、１２はカセット
、１３はポット１１の底面、１４はローディング部のス
テージ、１５はローディング部のケーシング、１６は入
側予備排気室、１７は処理室、１８はローディング用ウ
ェハ移載器である。また、図において処理室１７の左側
には、入側予備排気室１６と同様の出側予備排気室が構
成されていると共に、ローディング部と同様のアンロー
ディング部が構成されている。

このような装置を動作させる場合は、まずカセット１２
の入ったポット１１をローディング部のケーシング１５
の上部に置く。ポット１１の底部１３はローディング部
のステージ１４とマグネットあるいは止め金具等で機械
的に密着させ固定する。この状態でステージ４をケーシ
ング１５の内部へ下げ、そしてカセット１２内のウェハ
を、ローディング用移載器ｌＢによってダストフリーで
取り出して処理室１７内にローディングする。処理後の
ウェハは、出側予備排気室内のアンローディング用移載
器によってアンローディングして、アンローディング部
のポット内に収納する。これにより、ダストフリーで搬
送が可能となる。このように、ウェハは、ポット１１内
に大気中で装填されてから、装置内で取出されて処理後
に再び大気中でポットｌｌ内に装填されて、装置外に取
出される。

したがって、本例の場合もウェハ周辺の雰囲気制御がな
されていない。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述したように、従来にあっては、ウェハ周辺の雰囲気
制御がなされていないため、ウェハの表面にダストが付
着したり、大気に曝される時間等によって、ウェハ表面
の酸化膜厚や吸着層厚が変化するため、プロセス後の特
性に不均一性が生じるという問題があった。

この発明の目的は、ウェハを装置に装填する際のダスト
数を低減させてウェハ間で一定にすること、更にクリー
ンルーム外の装置においてもダストフリーで使用できる
こと、またウェハ表面の酸化膜厚や吸着層厚を最小値で
かつ１カセツト内で一定値を保つことができる新規なウ
ェハ移送装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

この発明のウェハ移送装置は、 ウェハを装填したカセットが収納されかつ不活性ガスが
封入された容器から、ウェハを取り出して処理室に移送
して処理させるウェハ移送装置であって、 前記処理室の前段に、前記容器内のウェハを不活性ガス
雰囲気中で取り出すローディング室を設け、 かつ前記処理室の後段に、前記処理室にて処理された後
のウェハを不活性ガス雰囲気中で前記容器内に収納する
アンローディング室を備えたことを特徴とする。

［作用１ この発明のウェハ移送装置は、ウェハを装填したカセッ
トが収納され、かつＮ１等の不活性ガスが封入された気
密性の高い容器から、ウェハを取り出して処理室に移送
する。すなわち、そのカセットを処理室の前段に設けた
ローディング室に入れ、清浄空気でブローしてダストフ
リーにする。

その後、Ｎ３等不活性ガス雰囲気にしてから容器を開け
、カセットからウェハを自動的に取出して装置の処理室
へ送り込む。その後、再び逆の過程でウェハを回収する
。このように、大気に触れさせるこなく、ウェハを装置
の処理室へ送り込む。

〔実施例〕

以下、この発明の一実施例を第１図に基づいて説明する
。

図において、２１はローディング室であり、その上部に
はＨＥＰＡフィルター２２が備えられている。ローディ
ング室２１内には、コンテナ２３を昇降させるコンテナ
昇降用エレベータ２４が装備されている。コンテナ２３
にはコンテナ入口扉２５があり、この入口扉２５はコン
テナ入口扉開閉用レバー２６によって開閉されるように
なっている。コンテナ２３には、ウェハを装填したカセ
ット２７が収納されている。ローディング室２１は入側
予備排気室２８に通じており、その入側予備排気室２８
にはローディング用ウェハ移載器２９が装備されている
。また入側予備排気室２８はウェハの処理室３０に通じ
、更にその処理室３０は出側予備排気室３１に通じてい
る。この出側予備排気室３１には、アンローディング用
ウェハ移載器３２が装備されている。また、出側予備排
気室３１は、ローディング室２１と同様に構成されたア
ンローディング室に通じている。

この装置を動作させるには、予め、クリーンルーム等の
清浄な場所にて、ウェハの装填されたカセット７をコン
テナ２３に収納し、そのコンテナ２３の中を窒素で充分
置換して、窒素を封入しておく。

そして、このコンテナ２３をロープインク室２１に入れ
る。ローディング室２１では、ＨＥＰＡフィルター２２
を通して窒素ガスがダウン７０−となり流れる。ローデ
ィング室２１の下部はパンチング板となっており、上部
から流れて来た窒素ガスが通過し、排気口からポンプに
より吸引されて外部へ放出される。これにより、コンテ
ナ２３の表面に付着しているダストを落し、無塵化（ク
ラス１００以下）にする。そして、気密構造となってい
るローディング室２１を無塵状態で窒素雰囲気にする。

この状態で、コンテナ入口扉２５に取り付けであるフッ
クに開閉レバー２６を引っ掛ける。それから、コンテナ
昇降用エレベータ２４を下降させ、ウェハ移載器２９に
よってカセット２７からウェハを一枚づつ取出して、入
側予備排気室２８から処理室３０に搬送し、プロセスを
行なう。プロセスを終了したウェハは、ウェハ移載器３
２によってカセットに装填され、そしてローディング室
２１と同じ構造を有するアンローディング室にてコンテ
ナに収納される。この時の動作は窒素ガス雰囲気中で行
なう。そしてコンテナをアンローディング室から装置の
外に取り出す。

〔発明の効果〕

以上説明したように、この発明のウェハ移送装置は、不
活性ガス雰囲気中でウェハを出し入れする構成であるか
ら、クリーンルーム以外の通常ノ場所に設置されたウェ
ハ移送装置において、ダストフリーでプロセスを行なう
ことができる。しかも、窒素など不活性ガスでウェハ表
面を保護するので、表面酸化膜や吸着層厚を最少に抑え
ることができる。これらの結果、均一性と再現性の優れ
た状態で高い特性の得られる処理を、クリーンルーム外
でもダストフリーで行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を説明するだめの要部の概
略構成図である。 第２図は従来における半導体製造装置のブロック図、第
３図はＳＭ　Ｉ　Ｆ（スミ７）の概略構成図である。 ２１・・・・・・ローディング室、　　２３・・・・・
・コンテナ、２４・・・・・・コンテナ昇降用エレベー
タ、２５・・・・・・コンテナ入口扉、 ２６・・・・・・開閉レバー　　２７・・・・・・カセ
ット、２８・・・・・・入側予備排気室、 ２９・・・・・・ローディング用ウェハ移載器、３０・
・・・・・処理室、　　３１・・・・・・出側予備排気
室、３２・・・・・・アンローディング用ウェハ移載器
。 出願人　　日本電信電話株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ウェハを装填したカセットが収納されかつ不活性ガスが
   封入された容器から、ウェハを取り出して処理室に移送
   して処理させるウェハ移送装置であって、 前記処理室の前段に、前記容器内のウェハを不活性ガス
   雰囲気中で取り出すローディング室を設け、 かつ前記処理室の後段に、前記処理室にて処理された後
   のウェハを不活性ガス雰囲気中で前記容器内に収納する
   アンローディング室を備えたことを特徴とするウェハ移
   送装置。