JP2004259933A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004259933A JP2004259933A JP2003048967A JP2003048967A JP2004259933A JP 2004259933 A JP2004259933 A JP 2004259933A JP 2003048967 A JP2003048967 A JP 2003048967A JP 2003048967 A JP2003048967 A JP 2003048967A JP 2004259933 A JP2004259933 A JP 2004259933A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- wafers
- cassette
- film thickness
- dummy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】ウエハに所定の処理を施す処理炉と、ウエハを保持した状態で処理炉に搬送可能なボートと、1枚以上のウエハを収納した状態でボートに搬送可能なカセットと、処理炉の内部状態を安定化させるために必要なウエハ数と実際に一度に処理すべきウエハ数との差を解消するために用いられる複数のダミーウエハと、ウエハの膜厚を検知可能な膜厚検知部300とを具備し、ウエハ膜厚検知手段により検知した前記ダミーウエハ毎の累積膜厚に基づいて、次回のウエハ処理時に使用するダミーウエハを選択する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウエハの処理時にダミーウエハを使用する半導体製造装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造装置で扱うウエハの種類は、プロセスの目的である製品ウエハ、品質管理を行うために用いるモニタウエハ、プロセス安定化のために用いるサイドダミーウエハ、及び処理単位の歯抜けを埋めるために用いるフィルダミーウエハがある。
【0003】
前記それぞれのウエハは、カセットと呼ばれる1枚以上のウエハを保持する入れ物に入れられて半導体製造装置に供給される。
【0004】
ダミーウエハと呼ばれるサイドダミーウエハ及びフィルダミーウエハは、数回のプロセスで繰り返し使用され、ダミーウエハをプロセス毎に、カセットから必要枚数取出す方法として、図10に示すように、毎回決まった位置(先頭)から必要枚数のダミーウエハを使用する方法と、図11に示すように、前回の次のダミーウエハを先頭として、これから必要枚数を使用する方法とがある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の半導体製造装置では、プロセス毎の成膜結果は一意的ではないため、繰り返し使用することにより、最初は同じ状態から使用を開始したダミーウエハに堆積した膜厚について、最後には、厚いものや薄いものが混在する状態になる。
【0006】
膜厚の厚いものは、プロセス処理中に剥離が起こり、これがパーティクル(ごみ)となって製品ウエハのプロセスに悪影響を及ぼす。このため、一番厚く堆積したダミーウエハを基準にカセットを交換しなければならず、カセット内の全ダミーウエハを有効に使用することができないという課題がある。
【0007】
なお、上記課題を解決するため、プロセス毎にダミーウエハを交換するのではなく、ボート上に常時同じダミーウエハを載置した状態で、ウエハの処理を行うものでは、ダミーウエハの累積成膜時間、累積膜厚又は成膜実行回数が、予め定めた時間、膜厚または回数に達したか否かを判断して、ダミーウエハを単体で新品と交換するものもあるが(例えば、特許文献1参照)、本発明のようにプロセス毎にダミーウエハを選択し、最適なプロセス処理を行うものは知られていない。
【0008】
【特許文献1】
特開閉11−121587号公報(第5頁)
【0009】
本発明は、上記のような従来の課題を解決するためのものであり、ダミーウエハ毎の累積膜厚に基づいて、次回のウエハ処理時に使用するダミーウエハを選択することにより、カセット内の全ダミーウエハを有効に使用することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決する為、本発明は、ウエハに所定の処理を施す処理炉と、ウエハを保持した状態で処理炉に搬送可能なボートと、処理炉の内部状態を安定化させるために必要なウエハ数と実際に一度に処理すべきウエハ数との差を解消するために用いられる複数のダミーウエハと、ウエハの膜厚を検知可能なウエハ膜厚検知手段と、を具備する半導体製造装置において、前記ウエハ膜厚検知手段により検知した前記ダミーウエハ毎の累積膜厚に基づいて、次回のウエハ処理時に使用するダミーウエハを選択する手段を備えたことを特徴とするものである。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を図により説明する。
図1にダミーウエハ使用制御のブロック図を、図2にダミーウエハカセットの使用制御のブロック図を、図3に本発明を実施した半導体製造装置の斜視図を、図4に半導体製造装置の断面図をそれぞれ示す。
【0012】
まず、図3及び図4に基づいて、本発明を実施した半導体製造装置の概要を説明する。
【0013】
筐体101内部の前面側には、1枚以上のウエハ200を収納するカセット100の授受を外部搬送装置との間で行うカセットステージ105が設けられており、カセットステージ105の後側には、カセット100の昇降手段としてのカセットエレベータ115が設けられている。カセットエレベータ115には、カセット100の搬送手段としてのカセット移載機114が取付けられており、カセットエレベータ115の後側には、カセット100の載置手段としてカセット棚109が設けられている。カセットステージ105の上方にも予備カセット棚110が設けられており、予備カセット棚110の上方にはクリーニングユニット118が設けられ、クリーンエアーを筐体101の内部に流通させるように構成されている。
【0014】
筐体101の後部上方には、ウエハ200に所定の処理を施す処理炉202が設けられており、処理炉202の下方にはウエハ200を水平姿勢で多段に保持するボート217が配置されている。ボート217には、これを処理炉202に昇降させるボートエレベータ121が設けられており、ボートエレベータ121に取付けられた昇降部材122の先端部には蓋体としてのシールキャップ219が取付けられ、ボート217を垂直に支持している。ボートエレベータ121とカセット棚109との間には、昇降手段としての移載エレベータ113が設けられており、移載エレベータ113には搬送手段としてのウエハ移載機112が取付けられている。また、ボートエレベータ121の横には、開閉機構を持ち、処理炉202の下面を塞ぐ炉口シャッタ116が設けられており、カセット移載機114などの搬送動作は、搬送制御手段124により制御される。
【0015】
ウエハ200が装填されたカセット100は、外部搬送装置からカセットステージ105にウエハ200が上向き姿勢で搬入され、ウエハ200が水平姿勢となるようにカセットステージ105において90度回転させられる。さらに、カセット100は、カセットエレベータ115の昇降動作、横行動作及びカセット移載機114の進退動作、回転動作の協働により、カセットステージ105からカセット棚109または予備カセット棚110に搬送される。
【0016】
カセット棚109にはウエハ移載機112の搬送対象となるカセット100が収納される移載棚123があり、ウエハ200が移載に供されるカセット100はカセットエレベータ115、カセット移載機114により移載棚123に移載される。
【0017】
カセット100が移載棚123に移載されると、ウエハ移載機112の進退動作、回転動作及び移載エレベータ113の昇降動作の協働により、移載棚123から降下状態のボート217にウエハ200を移載する。
【0018】
ボート217に所定枚数のウエハ200が移載されると、ボートエレベータ121によりボート217が処理炉202に挿入され、シールキャップ219により処理炉202が気密に閉塞される。気密に閉塞された処理炉202内では、ウエハ200が加熱されるとともに処理ガスが処理炉202内に供給され、ウエハ200に処理がなされる。
【0019】
ウエハ200への処理が完了すると、ウエハ200は、上記動作の逆の手順によりボート217から移載棚123のカセット100に移載され、カセット100はカセット移載機114により移載棚123からカセットステージ105に移載される。この後、カセット100は外部搬送装置により筐体101の外部に搬出される。
【0020】
なお、炉口シャッタ116は、ボート217が降下状態の際に処理炉202の下面を塞ぎ、外気が処理炉202内に巻き込まれるのを防止している。
【0021】
ボート217に移載されるウエハ200は、図5に示されるように製品ウエハ200Pと、処理炉202の内部状態を安定化させるために必要なウエハ200の数と実際に一度に処理すべき製品ウエハ200Pの数との差を解消するために、製品ウエハの不足分を補充するダミーウエハ200Dとがあり、不足した製品ウエハ200Pの補充方式としては以下のような方法がある。なお、ボート217には、プロセス安定化のために用いるサイドダミーウエハ200SDがあらかじめ上下に分割保持されている。
【0022】
(1)カセット単位一括補充方式
図5に示されるように、製品ウエハ200Pのカセット100に製品ウエハ200Pの不足がある(すなわち、カセット100にスロット数分の製品ウエハ200Pが装填されていない)場合、装填されている製品ウエハ200Pを上詰め(図5中「P1,P2,P3,P4」の部分)でボート217に移載し、その直下(図5中「P1,P2,P3,P4不足分」の部分)に不足分だけダミーウエハ200Dを移載する。この処理は、1バッチ内に存在する製品ウエハ200Pのカセット100の数分繰り返される。すなわち、図5では、4つのカセット100を使用するので、4回繰り返されることになる。
【0023】
(2)不足ウエハ一括補充方式
図6に示されるように、1バッチ分の製品ウエハ200Pのカセット100に装填されている製品ウエハ200Pの全部を上詰め(図6中「P1,P2,P3,P4」の部分)でボート217に移載し、その後、総数に対する不足分(図5中「P1,P2,P3,P4不足分」の部分)だけダミーウエハ200Dを移載する。
【0024】
(3) カセット単位歯抜け補充方式
図7に示されるように、製品ウエハ200Pをカセット100に装填されていた状態のままボート217に移載する。例えば、図7中P1カセットの3スロットに製品ウエハ200Pがなかった場合、ボート217側でもP1移載領域の3スロット目が空になり(投影移載)、この後、空のスロットにダミーウエハ200Dを移載する。
【0025】
(4)不足ウエハ上下分割補充方式
図8に示されるように、1バッチ分の製品ウエハ200Pのカセット100に装填されている製品ウエハ200Pの全部を中央詰め(図8中「P1,P2,P3,P4」の部分)でボート217に移載し、その後、総数に対する不足分だけダミーウエハ200Dを上下に分割して(図8中「不足分」の部分)移載する。
【0026】
(5)製品ウエハ下詰め補充方式
図9に示されるように、1バッチ分の製品ウエハ200Pのカセット100に装填されている製品ウエハ200P全部を下詰め(図9中「P1,P2,P3,P4」の部分)でボート217に移載し、その後、総数に対する不足分だけダミーウエハ200Dを図9中「P1,P2,P3,P4不足分」の部分へ移載する。
【0027】
次に、図1に基づいて、ダミーウエハ200Dの使用制御について説明する。
【0028】
ダミーウエハの使用制御のための構成は、膜厚検知部(ウエハ膜厚検知手段)300、膜厚管理部310、材料制御部320、外部入力330、使用方法制御部340から構成されており、膜厚検知部300は、予め設定されている単位時間当たりの膜厚レートとプロセス実時間とによりシステムが計算したダミーウエハ200Dに堆積した膜厚値を、膜厚管理部310に伝達する。なお、外部入力330から入力される実際に測定されたダミーウエハ200Dの膜厚値を用いるようにしても良い。
【0029】
膜厚管理部310は、全ダミーウエハ200Dの膜厚値を管理しており、材料制御部320から使用しているダミーウエハ200Dの情報を取得し、対象となるダミーウエハ200Dの積算膜厚値に膜厚検知部300から取得した膜厚値を加算する。
【0030】
材料制御部320は、プロセスで使用するカセット100とウエハ200の情報を保持しており、ダミーウエハ200Dの移動時に、使用しているカセット100と、そのカセット100内のどのダミーウエハ200Dを使用しているかの情報を作成する。
【0031】
外部入力330は、実際に測定したダミーウエハ200Dの膜厚値や、次回使用するダミーウエハ200Dの膜厚値の条件などを入力する。
【0032】
使用方法制御部340は、外部入力330から指定された膜厚値に関する条件(例えば、積算膜厚値の小さいもの順や、膜厚値が所定Å以下のものなどという条件)や、カセット100の交換に関する条件(例えば、膜厚値が所定Å以上のダミーウエハ200Dが所定枚数(例えば0〜25)になると交換するというような条件)に合うダミーウエハ200Dの情報を膜厚管理部310から取得し、材料制御部320に伝達する。
【0033】
次に、制御の流れについて説明する。
【0034】
〈処理1〉 ダミーウエハ200Dをボート217に移載する際に、材料制御部320が、移載された全てのダミーウエハ200Dに対して使用されたカセット100と、そのカセット100内のどの部分のダミーウエハ200Dであるかの情報を作成する。
【0035】
〈処理2〉 膜厚検知部300では、使用している全ダミーウエハ200Dの膜厚値をそれぞれ検知し、膜厚管理部310に伝達する(図1中▲1▼)。
【0036】
〈処理3〉 膜厚管理部310において、材料制御部320から使用しているダミーウエハ200Dの情報を取得し(図1中▲2▼)、該当するダミーウエハ200Dの積算膜厚値に膜厚検知部300から取得した膜厚値を加算する。
【0037】
〈処理4〉 使用方法制御部340が、外部入力330から指定された条件に合うダミーウエハ200Dの情報を膜厚管理部310から取得して(図1中▲3▼)、この情報を材料制御部320に伝達する。
【0038】
〈処理5〉 材料制御部320において、伝達された情報に基づいて指定されたダミーウエハ200をプロセス処理に選択使用し、〈処理1〉に戻る。ここで、膜厚検知部300、膜厚管理部310、材料制御部320及び使用方法制御部は、本発明におけるダミーウエハを選択する手段を構成している。
【0039】
前記〈処理4〉において、使用方法制御部340が膜厚管理部310から条件に合うダミーウエハ200Dが必要枚数に達しないという情報を取得した場合、カセット100の交換が必要になる。この交換に際しては、以下のような、ダミーウエハ200Dを収納したカセット100の使用方法制御を行う。
【0040】
すなわち、図2に基づいて説明すると、
〈処理6〉 使用方法制御部340が、外部入力330から指定されたカセット100を交換する条件の情報を、予め膜厚管理部310に伝達する(図2中▲1▼)。
【0041】
〈処理7〉 膜厚管理部310では、材料制御部320から取得した使用しているダミーウエハ200Dの情報に基づき、対象となるダミーウエハの積算膜厚値に膜厚検知部から取得した膜厚値を加算し、〈処理6〉において使用方法制御部340から取得した条件に合うカセット100が存在する場合は、材料制御部320にカセット100の交換が必要なことを伝達する(図2中▲2▼)。
【0042】
〈処理8〉 材料制御部320では、カセット100が交換されて新しいカセット100が半導体製造装置に供給されたときに、カセット識別子と、カセット100に充填されているダミーウエハ200Dの枚数と、カセット100内のダミーウエハ200Dのマップ情報と、を膜厚管理部310に伝達する(図2中▲3▼)。
【0043】
〈処理9〉 膜厚管理部310では、取得したカセット100とダミーウエハ200Dの情報とを保持し、各ダミーウエハ200Dの積算膜厚値のカウンタを0クリアする。
【0044】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、半導体製造装置内の全ダミーウエハの個々の累積膜厚を管理し、次のプロセスに使用するダミーウエハを選択することにより、カセット内の全ダミーウエハを有効に使用することができるばかりでなく、カセット単位当りのプロセス処理回数を増やすことができる。
したがって、半導体製造装置に対する単位時間当たりのカセットの必要数を減らすことになるため、工場全体のダミーウエハ数を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のダミーウエハ使用制御のブロック図である。
【図2】本発明のダミーウエハカセットの使用制御のブロック図ある。
【図3】本発明を実施した半導体製造装置の斜視図である。
【図4】半導体製造装置の断面図である。
【図5】カセット単位一括補充方式を示す図である。
【図6】不足ウエハ一括補充方式を示す図である。
【図7】カセット単位歯抜け補充方式を示す図ある。
【図8】不足ウエハ上下分割補充方式を示す図である。
【図9】製品ウエハ下詰め補充方式を示す図である。
【図10】従来のダミーウエハの補充方法を示す一例である。
【図11】従来のダミーウエハの補充方法を示す別の例である。
【符号の説明】
100 カセット、200 ウエハ、200D ダミーウエハ、202 処理炉、217 ボート、300 膜厚検知部(ウエハ膜厚検知手段)。
Claims (1)
- ウエハに所定の処理を施す処理炉と、ウエハを保持した状態で処理炉に搬送可能なボートと、処理炉の内部状態を安定化させるために必要なウエハ数と実際に一度に処理すべきウエハ数との差を解消するために用いられる複数のダミーウエハと、ウエハの膜厚を検知可能なウエハ膜厚検知手段とを具備する半導体製造装置において、
前記ウエハ膜厚検知手段により検知した前記ダミーウエハ毎の累積膜厚に基づいて、次回のウエハ処理時に使用するダミーウエハを選択する手段を備えたことを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003048967A JP4294972B2 (ja) | 2003-02-26 | 2003-02-26 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003048967A JP4294972B2 (ja) | 2003-02-26 | 2003-02-26 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004259933A true JP2004259933A (ja) | 2004-09-16 |
JP4294972B2 JP4294972B2 (ja) | 2009-07-15 |
Family
ID=33114783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003048967A Expired - Lifetime JP4294972B2 (ja) | 2003-02-26 | 2003-02-26 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4294972B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008243980A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Nec Electronics Corp | 非製品ウェハの在庫管理システム、在庫管理方法及びプログラム |
JP2013102125A (ja) * | 2011-10-19 | 2013-05-23 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
KR20140123574A (ko) | 2012-03-07 | 2014-10-22 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 방법 및 프로그램 |
JP2015106575A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-06-08 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、制御プログラム及び半導体装置の製造方法 |
JP2019087614A (ja) * | 2017-11-06 | 2019-06-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び通知方法 |
CN113436991A (zh) * | 2021-05-28 | 2021-09-24 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 用于批处理半导体设备的晶圆调度方法及系统 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5921200B2 (ja) | 2012-01-05 | 2016-05-24 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、基板処理方法、半導体装置の製造方法、縮退運用プログラムおよび生産リストの作成プログラム |
JP6144924B2 (ja) | 2012-03-21 | 2017-06-07 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、メンテナンス方法及びプログラム |
-
2003
- 2003-02-26 JP JP2003048967A patent/JP4294972B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008243980A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Nec Electronics Corp | 非製品ウェハの在庫管理システム、在庫管理方法及びプログラム |
JP2013102125A (ja) * | 2011-10-19 | 2013-05-23 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
KR101555283B1 (ko) * | 2011-10-19 | 2015-09-24 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 기판 반송 방법, 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치에서의 더미 기판의 운용 방법 |
KR20140123574A (ko) | 2012-03-07 | 2014-10-22 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 방법 및 프로그램 |
US20140370628A1 (en) * | 2012-03-07 | 2014-12-18 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, substrate processing method, and recording medium |
JPWO2013133101A1 (ja) * | 2012-03-07 | 2015-07-30 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及び基板処理方法 |
KR101652613B1 (ko) * | 2012-03-07 | 2016-08-30 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 방법 및 프로그램 |
US9543220B2 (en) | 2012-03-07 | 2017-01-10 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, substrate processing method, and recording medium |
JP2015106575A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-06-08 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、制御プログラム及び半導体装置の製造方法 |
JP2019087614A (ja) * | 2017-11-06 | 2019-06-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び通知方法 |
US11152241B2 (en) | 2017-11-06 | 2021-10-19 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and notification method |
CN113436991A (zh) * | 2021-05-28 | 2021-09-24 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 用于批处理半导体设备的晶圆调度方法及系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4294972B2 (ja) | 2009-07-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW448485B (en) | Storage device for treated objects and transport station therefor | |
JP5820731B2 (ja) | 基板処理装置および固体原料補充方法 | |
JP4359640B2 (ja) | 基板搬送装置及びダウンフロー制御方法 | |
TW200903693A (en) | Vacuum processing apparatus, operating method of the vacuum processing apparatus, and recording medium | |
TW201724325A (zh) | 形成用於一半導體基板並具有低溼度值的一乾淨的環境的方法及系統 | |
JP6069578B2 (ja) | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及び記録媒体 | |
KR100858693B1 (ko) | 열처리장치, 열처리방법 및 패턴형성방법 | |
CN107833846A (zh) | 基板处理装置和基板运送方法 | |
JP2004259933A (ja) | 半導体製造装置 | |
WO2015030047A1 (ja) | 基板処理装置のメンテナンス方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、及び基板処理装置のメンテナンスプログラムを読取可能な記録媒体 | |
US11367642B2 (en) | Substrate processing apparatus and purging method | |
JPS5945219B2 (ja) | ウェハ処理装置 | |
JP5154102B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2015076472A (ja) | 薬液容器交換装置、容器載置モジュール及び薬液容器の交換方法 | |
JP2015106575A (ja) | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、制御プログラム及び半導体装置の製造方法 | |
TWI470540B (zh) | 基板處理裝置及基板處理裝置之顯示方法 | |
JP5987808B2 (ja) | 基板処理装置 | |
TW302516B (ja) | ||
TWI802690B (zh) | 基板處理裝置及半導體裝置的製造方法以及記錄媒體 | |
JP4607618B2 (ja) | 成膜装置、コンピュータプログラム及び記憶媒体 | |
JP6123629B2 (ja) | 薬液容器交換装置及び基板処理装置 | |
JPWO2020194415A1 (ja) | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | |
JP4734185B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理装置の制御方法 | |
JP2009231748A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2011061156A (ja) | 基板処理装置、ガス導入装置、及び半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061023 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090304 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090331 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090409 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120417 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4294972 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130417 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140417 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |