JP4607618B2 - 成膜装置、コンピュータプログラム及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
前記圧力調整バルブの開度を検出する開度検出部と、
反応容器内で行われた過去の成膜処理により成膜された薄膜の累積膜厚と今回の成膜処理の目標膜厚とに基づいて、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚を求める累積膜厚管理部と、
バッチサイズごとに、成膜処理を終えたときの設定圧力に対応する圧力調整バルブの開度と当該成膜処理を終えたときの累積膜厚と、を夫々2軸に割り当てて2軸座標系として作成した過去の処理データを記憶する処理データ記憶部と、
この処理データ記憶部に記憶されている過去の処理データを用い、今回実施しようとしているバッチサイズで行われた最新の少なくとも2回の成膜処理における圧力調整バルブの開度と前記累積膜厚とで決まる前記2軸座標系上の各点の位置と、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚の値と、に基づいて今回の成膜処理における圧力調整バルブの開度を予測し、その予測値が閾値を越えているか否かを判断する判断手段と、を備えたことを特徴とする。
前記圧力調整バルブの開度を検出する開度検出部と、
反応容器内で行われた過去の成膜処理により成膜された薄膜の累積膜厚と今回の成膜処理の目標膜厚とに基づいて、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚を求める累積膜厚管理部と、
バッチサイズごとに、成膜処理を終えたときの設定圧力に対応する圧力調整バルブの開度と当該成膜処理を終えたときの累積膜厚と、を夫々2軸に割り当てて2軸座標系に作成された相関モデル線図を記憶する相関モデル線図記憶部と、
今回実施しようとしている成膜処理のバッチサイズに応じた相関モデル線図と、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚の値と、に基づいて今回の成膜処理における圧力調整バルブの開度を予測し、その予測値が閾値を越えているか否かを判断する判断手段と、を備えたことを特徴とする。
相関モデル線図を作成する作成手段は、前記相関データに基づいて近似式の種類を選択する手段と、選択された種類の近似式と前記相関データとに基づいて相関モデル線図を作成するように構成することもできる。
反応容器内で行われた過去の成膜処理により成膜された薄膜の累積膜厚と今回の成膜処理の目標膜厚とに基づいて、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚を求めるステップと、
バッチサイズごとに、成膜処理を終えたときの設定圧力に対応する圧力調整バルブの開度と当該成膜処理を終えたときの累積膜厚と、を夫々2軸に割り当てて2軸座標系として作成した過去の処理データの中から、今回実施しようとしているバッチサイズに対応する過去の処理データを読み出すステップと、
読み出した過去の処理データを用い、今回実施しようとしているバッチサイズで行われた最新の少なくとも2回の成膜処理における圧力調整バルブの開度と前記累積膜厚とで決まる前記2軸座標系上の各点の位置と、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚の値と、に基づいて今回の成膜処理における圧力調整バルブの開度を予測し、その予測値が閾値を越えているか否かを判断するステップと、
その予測値が閾値を越えているか否かを判断するステップと、を実行するように作成されたことを特徴とする。
反応容器内で行われた過去の成膜処理により成膜された薄膜の累積膜厚と今回の成膜処理の目標膜厚とに基づいて、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚を求めるステップと、
バッチサイズごとに、成膜処理を終えたときの設定圧力に対応する圧力調整バルブの開度と当該成膜処理を終えたときの累積膜厚と、を夫々2軸に割り当てて2軸座標系に作成された相関モデル線図の中から、今回実施しようとしているバッチサイズに応じた相関モデル線図を読み出すステップと、
読み出された相関モデル線図と、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚の値と、に基づいて今回の成膜処理における圧力調整バルブの開度を予測するステップと、
その予測値が閾値を越えているか否かを判断するステップと、を実行するように作成されたことを特徴とする。
1 反応容器
20 バルブ本体
25 圧力調整バルブ
27 角度検出部
3 制御部
31 通信部
32 装置データ記憶部
35 異常報知部
36 処理レシピ選択部
37 累積膜厚管理部
4 プログラム格納部
41 データ処理プログラム
42 判断プログラム
5 処理データ記憶部
72 相関モデル線図作成プログラム
Claims (7)
- 真空雰囲気下で、保持具に保持された基板に成膜処理するための反応容器と、この反応容器に接続された真空排気路と、この真空排気路に設けられ、反応容器内の圧力を設定圧力になるように制御するための圧力調整バルブと、を備え、各々保持具における基板の保持枚数である、複数のバッチサイズの中から選択されたバッチサイズに応じた基板の枚数を保持具に保持して成膜処理が行われる成膜装置において、
前記圧力調整バルブの開度を検出する開度検出部と、
反応容器内で行われた過去の成膜処理により成膜された薄膜の累積膜厚と今回の成膜処理の目標膜厚とに基づいて、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚を求める累積膜厚管理部と、
バッチサイズごとに、成膜処理を終えたときの設定圧力に対応する圧力調整バルブの開度と当該成膜処理を終えたときの累積膜厚と、を夫々2軸に割り当てて2軸座標系として作成した過去の処理データを記憶する処理データ記憶部と、
この処理データ記憶部に記憶されている過去の処理データを用い、今回実施しようとしているバッチサイズで行われた最新の少なくとも2回の成膜処理における圧力調整バルブの開度と前記累積膜厚とで決まる前記2軸座標系上の各点の位置と、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚の値と、に基づいて今回の成膜処理における圧力調整バルブの開度を予測し、その予測値が閾値を越えているか否かを判断する判断手段と、を備えたことを特徴とする成膜装置。 - 真空雰囲気下で、保持具に保持された基板に成膜処理するための反応容器と、この反応容器に接続された真空排気路と、この真空排気路に設けられ、反応容器内の圧力を設定圧力になるように制御するための圧力調整バルブと、を備え、各々保持具における基板の保持枚数である、複数のバッチサイズの中から選択されたバッチサイズに応じた基板の枚数を保持具に保持して成膜処理が行われる成膜装置において、
前記圧力調整バルブの開度を検出する開度検出部と、
反応容器内で行われた過去の成膜処理により成膜された薄膜の累積膜厚と今回の成膜処理の目標膜厚とに基づいて、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚を求める累積膜厚管理部と、
バッチサイズごとに、成膜処理を終えたときの設定圧力に対応する圧力調整バルブの開度と当該成膜処理を終えたときの累積膜厚と、を夫々2軸に割り当てて2軸座標系に作成された相関モデル線図を記憶する相関モデル線図記憶部と、
今回実施しようとしている成膜処理のバッチサイズに応じた相関モデル線図と、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚の値と、に基づいて今回の成膜処理における圧力調整バルブの開度を予測し、その予測値が閾値を越えているか否かを判断する判断手段と、を備えたことを特徴とする成膜装置。 - バッチサイズと、設定圧力に対応する圧力調整バルブの開度と、前記累積膜厚と、を対応づけて作成した過去の処理データを記憶する処理データ記憶部と、
この処理データ記憶部に記憶されているデータに基づいて相関モデル線図を作成する作成手段と、を備えたことを特徴とする請求項2記載の成膜装置。 - 前記処理データ記憶部に記憶された処理データに基づいて、バッチサイズ毎に、設定圧力に対応する圧力調整バルブの開度の過去のデータと前記累積膜厚の過去のデータとを夫々2軸に割り当てて2軸座標系に作成された相関データを表示する表示手段を備え、
相関モデル線図を作成する作成手段は、前記相関データに基づいて近似式の種類を選択する手段と、選択された種類の近似式と前記相関データとに基づいて相関モデル線図を作成することを特徴とする請求項3記載の成膜装置。 - 真空雰囲気下で、保持具に保持された基板に成膜処理するための反応容器と、この反応容器に接続された真空排気路と、この真空排気路に設けられ、反応容器内の圧力を設定圧力になるように制御するための圧力調整バルブと、を備え、各々保持具における基板の保持枚数である、複数のバッチサイズの中から選択されたバッチサイズに応じた基板の枚数を保持具に保持して成膜処理が行われる成膜装置に用いられるコンピュータプログラムであって、
反応容器内で行われた過去の成膜処理により成膜された薄膜の累積膜厚と今回の成膜処理の目標膜厚とに基づいて、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚を求めるステップと、
バッチサイズごとに、成膜処理を終えたときの設定圧力に対応する圧力調整バルブの開度と当該成膜処理を終えたときの累積膜厚と、を夫々2軸に割り当てて2軸座標系として作成した過去の処理データの中から、今回実施しようとしているバッチサイズに対応する過去の処理データを読み出すステップと、
読み出した過去の処理データを用い、今回実施しようとしているバッチサイズで行われた最新の少なくとも2回の成膜処理における圧力調整バルブの開度と前記累積膜厚とで決まる前記2軸座標系上の各点の位置と、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚の値と、に基づいて今回の成膜処理における圧力調整バルブの開度を予測し、その予測値が閾値を越えているか否かを判断するステップと、
その予測値が閾値を越えているか否かを判断するステップと、を実行するように作成されたことを特徴とするコンピュータプログラム。 - 真空雰囲気下で、保持具に保持された基板に成膜処理するための反応容器と、この反応容器に接続された真空排気路と、この真空排気路に設けられ、反応容器内の圧力を設定圧力になるように制御するための圧力調整バルブと、を備え、各々保持具における基板の保持枚数である、複数のバッチサイズの中から選択されたバッチサイズに応じた基板の枚数を保持具に保持して成膜処理が行われる成膜装置置に用いられるコンピュータプログラムであって、
反応容器内で行われた過去の成膜処理により成膜された薄膜の累積膜厚と今回の成膜処理の目標膜厚とに基づいて、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚を求めるステップと、
バッチサイズごとに、成膜処理を終えたときの設定圧力に対応する圧力調整バルブの開度と当該成膜処理を終えたときの累積膜厚と、を夫々2軸に割り当てて2軸座標系に作成された相関モデル線図の中から、今回実施しようとしているバッチサイズに応じた相関モデル線図を読み出すステップと、
読み出された相関モデル線図と、今回の成膜処理を終えた時の累積膜厚の値と、に基づいて今回の成膜処理における圧力調整バルブの開度を予測するステップと、
その予測値が閾値を越えているか否かを判断するステップと、を実行するように作成されたことを特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項5または6に記載のコンピュータプログラムを格納したことを特徴とする記憶媒体。
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DE602005017310T DE602005017310D1 (de) | 2004-12-28 | 2005-12-22 | Halbleiter-herstellungsvorrichtung, abnormitätsdetektion in einer solchen halbleiter-herstellungsvorrichtung, verfahren zum spezifizieren der abnormitätsursache oder zur vorhersage von abnormität und aufzeichnungsmedium, worauf ein computerprogramm zist |
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