JP6864705B2 - 基板処理装置、制御システム及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 148
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 69
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 111
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 98
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 19
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 59
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 52
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 42
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 36
- 239000010408 film Substances 0.000 description 33
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 30
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 14
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 13
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 5
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
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Description
本実施形態で説明する基板処理装置は、半導体装置の製造工程で用いられるもので、処理対象となる基板を処理室に収容した状態で当該基板をヒータによって加熱して処理を施すものである。
本実施形態にかかる基板処理装置の構成例について図1を用いて説明する。
基板処理装置10は、内部に処理炉40等の主要部が配置される筐体12を備えている。筐体12の正面側には、ポッドステージ18が配置されている。ポッドステージ18上には、ウエハ14を収納する搬送容器としてのポッド16が搬送されて載置される。ポッド16は、その内部に例えば25枚のウエハ14が収納され、図示しない蓋が閉じられた状態でポッドステージ18上に載置されるように構成されている。つまり、基板処理装置10では、そのポッド16が載置されるポッドステージ18を利用しつつ外部装置とポッド16の授受を行うようになっている。
次に、上述した処理炉40について図2を用いて簡単に説明する。
次に、本実施形態にかかる基板処理装置10を用いて、半導体デバイス製造の一工程として、ウエハ14に対する処理を行う場合の動作手順について説明する。
基板処理装置10にてウエハ14に対する処理を行う場合は、先ず、ポッドステージ18に複数枚のウエハ14を収容したポッド16を載置する。そして、ポッド搬送装置20によりポッド16をポッドステージ18から回転ポッド棚22aまたは積層ポッド棚22bに移載する。
その後、ポッド搬送装置20により、回転ポッド棚22aまたは積層ポッド棚22bに載置されたポッド16をポッドオープナ24に搬送する。そして、ポッドオープナ24によりポッド16の蓋を開き、ポッド16に収容されているウエハ14の枚数を基板枚数検知器により検知する。
ポッドオープナ24がポッド16の蓋を開いたら、次いで、移載室50内に配置された基板移載機28が、ポッド16からウエハ14を取り出す。そして、ポッド16から取り出した未処理状態のウエハ14を、基板移載機28と同じく移載室50内に位置するボート30に移載する。つまり、基板移載機28は、移載室50内にて、処理室42内へ搬入する前のボート30に未処理状態のウエハ14を装填するウエハチャージ動作を行う。これにより、ボート30は、複数枚のウエハ14を鉛直方向にそれぞれが間隔を成す積層状態で保持することになる。ボート30が積層状態で保持して一括処理するウエハ14の枚数は、例えば50枚〜175枚である。
ウエハチャージ動作後は、ボートエレベータの昇降動作により、未処理状態のウエハ14を複数枚保持したボート30を処理室42内へ搬入(ボートローディング)する。つまり、ボートエレベータを動作させて、未処理状態のウエハ14を保持したボート30を、移載室50内から処理室42内へ搬入する。これにより、シールキャップ46は、封止部材46aを介してマニホールド45の下端をシールした状態となる。
ボートローディング後は、処理室42に搬入されたボート30が保持する未処理状態のウエハ14に対して、所定の処理を行う。例えば、成膜処理を行う場合であれば、ヒータユニット49を用いて処理室42内に対する加熱を行うとともに、回転機構43を動作させてボート30を回転させつつ、ウエハ14も回転させる。ウエハ14の回転は、後述するウエハ14の搬出まで継続する。そして、ガス導入管47により処理室42へ原料ガスやパージガス等を供給する。これにより、ボート30に保持された未処理状態のウエハ14の表面に薄膜形成が行われる。
その後、ボートエレベータの昇降動作により、シールキャップ46を下降させてマニホールド45の下端を開口させるとともに、処理済状態のウエハ14を保持したボート30をマニホールド45の下端から処理室42外へ搬出(ボートアンローディング)する。つまり、ボートエレベータを動作させて、処理済状態のウエハ14を保持したボート30を、処理室42内から移載室50内へ搬出する。
待機させたボート30のウエハ14が所定温度(例えば室温程度)まで冷えた後は、移載室50内に配置された基板移載機28が、ボート30からのウエハ14の脱装を行う。そして、ボート30から脱装した処理済状態のウエハ14を、ポッドオープナ24に載置されている空のポッド16に搬送して収容する。つまり、基板移載機28は、移載室50内にて、処理室42内から搬出されたボート30が保持する処理済状態のウエハ14を、当該ボート30から取り出してポッド16へ移載するウエハディスチャージ動作を行う。
以下、次の段階から説明する。
14 ウエハ
Claims (15)
- 処理室に少なくとも原料ガスを供給し基板に成膜するプロセスレシピを実行することにより、基板を処理するコントローラと、
処理室の圧力を検出する圧力センサで検知された圧力値に基づき圧力制御バルブの開度を制御する圧力制御コントローラを備え、
前記圧力制御コントローラは、
前記圧力センサ及び前記圧力制御バルブから取得したデータを蓄積するメモリ領域を有し、前記プロセスレシピ実行中の前記圧力制御バルブの全閉までのバルブフルクローズ時間を計測して前記メモリ領域に保持するよう構成され、
前記コントローラは、
前記メモリ領域に保持された前記バルブフルクローズ時間を取得し、取得した前記バルブフルクローズ時間が閾値の範囲内かを確認するよう構成されている基板処理装置。 - 前記コントローラは、前記原料ガスを前記処理室に供給する工程と、前記原料ガスを前記処理室から排気する工程と、を有する前記プロセスレシピを実行するように構成されている請求項1記載の基板処理装置。
- 更に、前記プロセスレシピを前記コントローラに実行させる主コントローラを設け、
前記コントローラは、前記主コントローラに前記バルブフルクローズ時間を所定周期で報告するように構成され、
前記主コントローラは、前記バルブフルクローズ時間と予め保持している閾値と比較するように構成されている請求項1記載の基板処理装置。 - 前記コントローラは、前記圧力制御コントローラに周期的にデータ要求指示を出力するように構成されている請求項1記載の基板処理装置。
- 前記圧力制御コントローラは、前記圧力制御バルブのバルブフルクローズ時間の他、前記圧力センサで検出した圧力値及び前記圧力制御バルブの開度データを含むデータを前記コントローラに報告するように構成されている請求項4記載の基板処理装置。
- 前記コントローラは、前記圧力制御コントローラから前記圧力制御バルブの開度が0%になるまでの時間を前記バルブフルクローズ時間として取得するように構成されている請求項1記載の基板処理装置。
- 前記圧力制御コントローラのデータ取得周期は、前記コントローラのデータ要求指示周期よりも短く設定されている請求項1記載の基板処理装置。
- 前記プロセスレシピは前記原料ガスを供給するステップを更に有し、
前記ステップを実行中、少なくとも前記圧力制御バルブが全閉される期間を有するように構成されている請求項1記載の基板処理装置。 - 前記プロセスレシピは前記原料ガスを供給する供給ステップを更に有し、
前記供給ステップは、前記圧力制御バルブを全閉する全閉ステップを含み、
前記閾値は、前記全閉ステップのステップ時間の間に設定されるよう構成されている請求項1記載の基板処理装置。 - 更に、前記原料ガスを供給するバルブを有し、
前記バルブは、前記圧力制御バルブを全閉にした後、開放されるよう構成されている請求項1記載の基板処理装置。 - 前記プロセスレシピは前記原料ガスを供給するステップの前に前記圧力制御バルブを全閉するステップを更に有し、
前記原料ガス供給中は、前記圧力制御バルブが全閉されるように構成されている請求項1記載の基板処理装置。 - 更に、前記主コントローラと接続される上位コントローラを設け、
前記主コントローラは、前記圧力制御コントローラから取得した前記バルブフルクローズ時間を前記上位コントローラに報告するように構成されている請求項3記載の基板処理装置。 - 前記上位コントローラは、前記コントローラ及び前記圧力制御コントローラから離間された位置に設けられている請求項12記載の基板処理装置。
- 処理室に少なくとも原料ガスを供給し基板に成膜するプロセスレシピを実行することにより、前記基板を処理するコントローラと、
前記処理室の圧力を検出する圧力センサで検知された圧力値に基づき圧力制御バルブの開度を制御する圧力制御コントローラを備えた制御システムであって、
前記圧力制御コントローラは、
前記圧力センサ及び前記圧力制御バルブから取得したデータを蓄積するメモリ領域を有し、前記プロセスレシピ実行中の前記圧力制御バルブの全閉までのバルブフルクローズ時間を計測すると共に前記メモリ領域に保持するよう構成され、
前記コントローラは、
前記メモリ領域に保持された前記バルブフルクローズ時間を取得し、取得した前記バルブフルクローズ時間が閾値の範囲内かを確認するよう構成されている制御システム。 - 処理室に少なくとも原料ガスを供給し基板に成膜するプロセスレシピを実行することにより、基板を処理する工程を有する半導体装置の製造方法であって、
前記基板を処理する工程では、
処理炉内の圧力を検出する圧力センサで検知された圧力値に基づき圧力制御バルブの開度を制御する工程と、
前記圧力センサ及び前記圧力制御バルブから取得したデータを圧力制御コントローラのメモリ領域に蓄積する工程と、
前記圧力制御バルブの全閉までのバルブフルクローズ時間を計測すると共に該バルブフルクローズ時間を前記圧力制御コントローラのメモリ領域に保持する工程と、
前記メモリ領域に保持された前記バルブフルクローズ時間を取得する工程と、
取得した前記バルブフルクローズ時間が閾値の範囲内かを確認する工程と、
を更に有する半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/362,356 US11060190B2 (en) | 2018-03-29 | 2019-03-22 | Substrate processing apparatus and control system |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018064191 | 2018-03-29 | ||
JP2018064191 | 2018-03-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019176135A JP2019176135A (ja) | 2019-10-10 |
JP6864705B2 true JP6864705B2 (ja) | 2021-04-28 |
Family
ID=68167424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019011910A Active JP6864705B2 (ja) | 2018-03-29 | 2019-01-28 | 基板処理装置、制御システム及び半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6864705B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7077287B2 (ja) | 2018-09-28 | 2022-05-30 | 日東電工株式会社 | 圧電デバイス、及び圧電デバイスの製造方法 |
CN111604324A (zh) * | 2020-05-15 | 2020-09-01 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 晶片清洗机的控制方法及晶片清洗机 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4592235B2 (ja) * | 2001-08-31 | 2010-12-01 | 株式会社東芝 | 生産装置の故障診断方法及び生産装置の故障診断システム |
JP4607618B2 (ja) * | 2005-02-15 | 2011-01-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置、コンピュータプログラム及び記憶媒体 |
JP2012059997A (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体装置の製造方法及び基板処理装置 |
JP6022908B2 (ja) * | 2012-01-16 | 2016-11-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及びバルブ動作確認方法 |
JP6061545B2 (ja) * | 2012-08-10 | 2017-01-18 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理方法および基板処理装置 |
JP2014194966A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-09 | Tokyo Electron Ltd | 処理方法及び処理装置 |
-
2019
- 2019-01-28 JP JP2019011910A patent/JP6864705B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019176135A (ja) | 2019-10-10 |
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