JPH02198677A - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

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JPH02198677A
JPH02198677A JP1830289A JP1830289A JPH02198677A JP H02198677 A JPH02198677 A JP H02198677A JP 1830289 A JP1830289 A JP 1830289A JP 1830289 A JP1830289 A JP 1830289A JP H02198677 A JPH02198677 A JP H02198677A
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JP
Japan
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cleaned
cleaning
passage
main body
cleaning liquid
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Pending
Application number
JP1830289A
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English (en)
Inventor
Masakazu Yokoyama
正教 横山
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は1例えばCOD (Charge Coupl
edDev I ce)などの電子部品を洗浄して微小
な付着ごみを除去する洗浄装置に関する。
(従来の技術) 例えば、第2図に示すようなCOD (ChargeC
oupled Device)型の固体撮像素子はカメ
ラ等に使用されて画像処理を行なっている。そして、チ
ップCを封じるガラスリッドgに1例えば数−程度以上
の大きさのごみ或いはしみ等が付着していると1画質が
低下することがある。このため、この種の固体撮像素子
では、封止用ガラスリッドgの表面に付むしたごみ或い
はしみ等を確実に除去する必要がある。
(発明が解決しようとする課題) ところで、上述のような固体撮像素子(以下。
ワークと称する)のごみやしみ等を除去する洗浄装置と
しては、上記ワークの全体を洗浄液中に浸してワークの
洗浄を行なうタイプのものが用いられていた。しかし、
この種の洗浄装置ではワークを洗浄液から取出す際に、
−旦除去されて洗浄液中に浮遊したごみがワークに再び
付着し、ワークが再汚染されることがあった。また、ワ
ークの表面に残った水滴が自然乾燥した後にじみとなっ
てワークに付着することがあった。さらに、上記ワーク
の全体を洗浄液に浸すための洗浄液槽等が必要であり、
装置が大型になるという不具合があった。
本発明の目的とするところは、ワークを再汚染すること
がなく小型な洗浄装置を提供することにある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段及び作用)上記目的を達成
するために本考案は1本体と。
この本体に取付けられて被洗浄物を保持し、被洗浄物の
被洗浄面と上記本体との間をほぼ密閉した状態で上記被
洗浄面を上記本体に対向させる保持具と、上記本体に設
けられ、上記保持具に保持された被洗浄物の被洗浄面と
対向して開口する洗浄口と、この洗浄口とそれぞれの一
端部を連通させた噴出用通路および排出用通路と、噴出
用通路に洗浄液を流通させ上記被洗浄面に洗浄液を吹付
ける洗浄液吐出装置と、上記被洗浄面に吹付けて反射し
た洗浄液を、上記洗浄口および排出用通路を介して吸入
し排出する排出装置と、洗浄液による洗浄が終わった上
記被洗浄面に乾燥用気体を、噴出用通路を流通させ洗浄
口から吐出させて上記被洗浄面に吹付ける乾燥装置と、
上記洗浄液と上記乾燥用気体との通路を切換える切換手
段と、保持具を上記本体に対して移動させ、被洗浄面を
上記洗浄口に対して相対変位させる保持具移動装置と。
少なくともこの保持具移動装置、洗浄液供給装置。
排出装置、および乾燥用気体供給装置とを制御する制御
装置とを具備したことにある。
こうすることによって本発明は、被洗浄物の被洗浄面か
ら除去した付着ごみを洗浄液とともに排出装置で吸込ん
で被洗浄物の再汚染を防止するとともに、噴出用通路に
洗浄液と乾燥用気体とを流通させて装置を小型化できる
ようにしたことにある。
(実施例) 以下1本発明の一実施例を第1図に基づいて説明する。
第1図は本発明による洗浄装置の一実施例を示すもので
ある。そして、この洗浄装置1は9本体2と、この本体
2に設けられた保持具、3とを有している。このうち2
本体2は、略平坦に加工されたスライド面4を有してお
り、このスライド面4を後述する保持具3に対向させて
いる。さらに。
本体2は、スライド面4と離間して設けられ全長に亘り
上記スライド面4と略一定の間隔で平行に対向するスラ
イドレール5を有している。
さらに、上記保持具3は、その−側部を上記スライドレ
ール5に取付けられており1図中に矢印Aで示すように
、スライドレール5に沿ってスライド自在になっている
。そして、保持具3は、その表面6の略全体を本体2の
スライド面4に対向させ接近させている。また、保持具
3は2表面6に開口しその内部を段差状に成形された。
被洗浄物保持用凹陥部(以下、凹陥部と称する)7を有
している。
そして、保持具3は上記凹陥部7に、被洗浄物としての
CCD (Charge Coupled Devic
e)型固体撮像素子8を収納し保持している。さらに、
保持具3は、凹陥部7の奥部にCCD8に突設された複
数のピン9・・・を位置させるとともに1表面6にCC
I)8の上面を構成する平板状のガラスリッド10を露
出させている。
そして、被洗浄面としてのガラスリッド表面11は、保
持具3の表面6との同一平面内、或いは、凹陥部7の、
上記表面6よりも幾分内側の部位に位置している。そし
て、保持具3の表面6に露出したガラスリッド表面11
と本体2のスライド面4との間は1例えばごみ等が侵入
しにくい状態でシールされている。
さらに、上記CCDを保持した保持具3は1本体2に設
けられた保持具移動装置(以下、移動装置と称する)1
2により駆動されるようになっている。つまり、この移
動装置12は上記本体2に固定されている。そして、移
動装置12は、先端にねじ部13を形成し回転自在な駆
動軸14を有している。さらに、この駆動軸14は、そ
の軸心方向を3本体2のスライド面4およびスライドレ
ール5の長手方向とほぼ平行にした状態で設けられてい
る。そして、駆動軸14は上記ねじ部13を保持具3に
螺合している。
さらに、上記移動装置12は駆動軸14を軸心回りに回
転させ9スライドレール5に嵌合した保持具3を2駆動
輔14の軸心方向に移動させる。
そして、移動装置12は、駆動軸14を正逆回転させる
ことにより保持具3を2本体2のスライド面4に沿わせ
進退させる。なお、上記移動装置12は5図中に15で
示す制御装置から出力される信号を受ける。
また、上記保持具3の表面6に露出した上記ガラスリッ
ド表面11は、上記本体2のスライド面4に開口した洗
浄口16と対向している。すなわち この洗浄口16は
1本体2に設けられた噴出用通路17と排出用通路18
との境界部に位置している。そして、洗浄口16は、上
記噴出用通路17の出口を構成するとともに排出用通路
18の人口を構成している。
また、上記噴出用通路17および排出用通路18の、上
記保持具3の側の各端部は洗浄口16に連通している。
そして1両通路17.18の上記各端部は互いに異なる
方向から洗浄口16に延びており、保持具3の表面6に
対して傾斜している。さらに1両通路17.18は中間
部で折曲しており1両通路17.18の各他端部は互い
にほぼ平行に配設されている。
そして、噴出用通路17の、洗浄口16の側の端部は絞
られて他の部分よりも細径になっており。
この部分にはノズル19が形成されている。また。
排出用通路18はその断面積を、上記ノズル19の断面
積よりも大きく設定されている。なお、排出用通路18
の断面積を噴出用通路17の大径部の断面積よりも大と
してもよい。
また、上記噴出用通路17には5図中に20で示す洗浄
液吐出装置としての高圧水供給装置5及び、21で示す
乾燥装置としての圧縮空気供給装置とが噴出用配管22
を介して接続されている。
そして、これら高圧水供給装置20と圧縮空気供給装置
21とは、配管22の途中に設けられた切換手段として
の切換弁23を介して、高圧水および高圧空気を噴出用
通路17にそれぞれ圧送する。
つまり、上記高圧水供給装置20は、加圧した。
洗浄液としての洗浄水を噴出用通路17へ送り出す。そ
して、高圧水供給装置20から送り出された洗浄水は、
噴出用通路17のノズル19から細かい噴流となって噴
出す。さらに、ノズル19から噴出した洗浄水は、上記
ガラスリッド表面11に当たり、ガラスリッド表面11
の付着ごみを飛ばして除去する。
そして、この洗浄水はガラスリッド表面11で反射し、
除去したごみと共に排出用通路18に流入する。そして
、排出用通路18に流入した洗浄水は排出用通路18お
よび排出用配管24を流通し9図中に25で示す排出装
置により吸入され排出される。なお、噴出用通路17と
排出用通路18との間の角度は、ガラスリッド表面11
に入射する洗浄水及びガラスリッド表面11で反射した
洗浄水との間の角度に対応するよう設定されている。
また、洗浄水による付着ごみの除去が終わると。
上記切換弁23が作動する。そ1.て、圧縮空気供給装
置21により加圧された乾燥用気体としての高圧な空気
が、圧縮空気供給装置21から切換弁23を経て噴出用
通路17へ送られる。そして。
噴出用通路17に達した圧縮空気は上記ノズル19から
噴出され、上記ガラスリッド表面11に残った水滴を吹
流してガラスリッド表面11を強制的に乾燥させる。な
お、この圧縮空気供給装置21、切換弁23.上記高圧
水供給装置20および排出装置25には制御装置15か
らの指令信号が入力される。
このような構成のものでは、ガラスリッド表面11に吹
付けられた洗浄水が、除去した付着ごみとともに排出さ
れるので、付着ごみが滞留するということがなく、洗浄
したCCD8の再汚染を防止することができる。また、
圧縮空気供給装置21から供給された圧縮空気で被洗浄
面に残った水滴を吹流して強制的に乾燥させているので
、上記水滴がしみになるということがない。さらに。
切換弁23を設けて洗浄水と圧縮空気との両方を噴出用
通路17からガラスリッド表面11に吹付けているので
、噴出用通路17は一系統で済み。
これにより装置が小型になる なお2本発明は、CCD型固体撮像素子以外の被洗浄物
を洗浄するものにも適用可能である。
[発明の効果] 以上説明したように本発明は1本体に保持具移動装置に
より移動可能に設けられた保持具で被洗浄物を保持し、
被洗浄物の被洗浄面に洗浄液吐出装置により洗浄液を吹
付けて被洗浄面の付着ごみやじみを除去し、被洗浄面で
反射した洗浄液を排出装置により吸入して排出し、乾燥
装置により。
洗浄液での洗浄が終わった上記被洗浄面に乾燥用気体を
吹付けて被洗浄面を乾燥させるとともに。
これら保持具移動装置、洗浄液供給装置、排出装置、お
よび乾燥用気体供給装置を制御する制御装置を設けたも
のである。
したがって本発明は、被洗浄物の再汚染を防止できると
ともに、装置の小型化を可能にするという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す概略構成図。 ff 第2必ビ般のCCD型固体撮像素子を示す一部破断した
斜視図である。 2・・・本体、3・・・保持具、8・・・CCD (被
洗浄物)、11・・・CCDのガラスリッド表面(被洗
浄面)、12・・・保持具移動装置、15・・・制御装
置。 16・・・洗浄口、17・・・噴出用通路、18・・・
排出用通路、20・・・高圧水供給装置(洗浄液吐出装
置)。 21・・・圧縮空気供給装置(乾燥装置)、23・・・
切換弁(切換手段)、25・・・排出装置。 、九矛茂( 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 本体と、この本体に取付けられて被洗浄物を保持し、被
    洗浄物の被洗浄面と上記本体との間をほぼ密閉した状態
    で上記被洗浄面を上記本体に対向させる保持具と、上記
    本体に設けられ、上記被洗浄物の被洗浄面と対向して開
    口する洗浄口と、この洗浄口とそれぞれの一端部を連通
    させた噴出用通路および排出用通路と、噴出用通路に洗
    浄液を流通させ上記被洗浄面に洗浄液を吹付ける洗浄液
    吐出装置と、上記被洗浄面に吹付けて反射した洗浄液を
    、上記洗浄口および排出用通路を介して吸入し排出する
    排出装置と、洗浄液による洗浄が終わった上記被洗浄面
    に乾燥用気体を、上記噴出用通路を流通させ上記洗浄口
    から吐出させて上記被洗浄面に吹付ける乾燥装置と、上
    記洗浄液と上記乾燥用気体との通路を切換える切換手段
    と、上記保持具を上記本体に対して移動させ、上記被洗
    浄面を上記洗浄口に対して相対変位させる保持具移動装
    置と、少なくともこの保持具移動装置、上記洗浄液供給
    装置、上記排出装置、および上記乾燥用気体供給装置と
    を制御する制御装置とを具備した洗浄装置。
JP1830289A 1989-01-27 1989-01-27 洗浄装置 Pending JPH02198677A (ja)

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JP (1) JPH02198677A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4931575A (en) * 1987-03-13 1990-06-05 The Board Of Governors For Higher Education, State Of Rhode Island And Providence Plantations Chiral glycerol derivatives
JP2006272238A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Olympus Corp 洗浄方法及び洗浄装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4931575A (en) * 1987-03-13 1990-06-05 The Board Of Governors For Higher Education, State Of Rhode Island And Providence Plantations Chiral glycerol derivatives
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