JPH02193118A - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はパーソナルコンピュータ、ワードプロセッサの
画像表示装置、計測機の表示パネル自動車のインストル
メントパネルなどに使用される液晶表示素子およびその
製造方法に関する。

〔発明の概要〕

本発明は液晶素子において絶縁膜をシール材より内部及
び外部に形成し、かつシール材の下には絶縁膜及び配向
膜が形成されていない領域を有する事により製造歩留り
を上げるだけでなく信転性も向上させたものである。

〔従来の技術〕

液晶表示素子はデジタルウォッチ用デイスプレィから始
まり、その後、電卓、計測機、自動車等への応用が広が
り近年ではパーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ
の画像表示装置等の大容量、大画面の表示素子へとその
用途が拡大して来た。

この間に液晶表示素子において、■水分の侵入による表
示不良及び消費電流の増大　■導電性の異物による上下
基板間にシシート　　■腐食による端子の断線等の品質
上の問題があった。以下図面に基づいて説明する。

第２図は従来のデジタルウォッチ用、電卓用等の小型の
液晶表示素子において良く使用される製法で作られる液
晶表示素子の断面図である。

透明電極１２．１６を有するガラス基板１１．１７上に
液晶１９の分子配列を制御するための配向膜１３．１５
がスピンナー又はディッピングにより基板全面に形成し
てあり、この２枚の基板がシール材１４を介して張り合
わせである。この製法によればシール材１４の下には配
向膜１３．１５が形成されている。この配向膜としては
ポリイミド、ポリビニルアルコール等のシール材との密
着性の悪い有機膜が使われるため、この界面から水分が
侵入し、透明電極のない場所も点燈する「にじみ現象」
や消費電流が増大するという品質問題が発生することが
あった。又、この時の配向膜の厚さは３００人程変色薄
く絶縁膜としての機能がないため、導電性の異物があっ
た場合には上下基板間がショートするという問題もあっ
た。

第３図は計測機用、自動車用等の比較的中〜大型の液晶
表示素子において良く使用される製法で作られる液晶表
示素子の断面図である。

透明電極２２．２６を有するガラス基板２１．２７上に
液晶２９の分子配列を制御するための配向膜２３．２５
が印刷法にてシール材２４より内部にのみ形成されてい
る。この製法によればシール材２８の下には透明電極又
は、ガラス基板表面があるだけであるからシール材との
密着性が極めて良く、ここから水分が侵入する事はなく
「にじみ現象」や消費電流の増加も見られない。又、こ
の時の配向膜の厚さは５００〜１５００人程度と厚くな
変色め、上下基板間のショート発生は少しは改善される
が基板サイズが大型化するにつれて、その発生率は増加
するという問題があった。さらにシール材外部に出てい
る透明電極はＭＩＪき出しの状態になっているため、大
気中の水分、塩分等により腐食しやすく特にＡの部分に
おいて多く断線するといった問題が発生していた。

第４図はパーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ用
の大型液晶表示素子において良く使用される製法で作ら
れる液晶表示素子の断面図である。

透明電極３７を有する基板３８上に印刷又はスパッタ、
ＣＶＤ等で５ｉ０２を主成分とする絶縁膜を形成した後
、透明電極３２を有するガラス基板とともに、液晶分子
４０を配列させるための配向膜３３．３５をシール材３
４より内部に印刷、成膜する。この製法によれば基板サ
イズが大型化しても絶縁膜により上下基板間のショート
発生はなくなり、この絶縁膜はシール材より外部にまで
形成されているため、大気中の水分、塩分等により腐食
しゃすいＢの部分においても保護膜として働き、断線す
る問題も発生しない。しかし、この製法によればシール
材の下には絶縁膜が存在するため密着性に開動が残り高
温、多湿の状態ではこの界面から水分が侵入して「みじ
み現象」消費電流の増大という品質問題が発生すること
があった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は従来液晶表示素子において問題となっていた、
■水分の侵入による「にじみ現象」等の表示不良及び消
費電流の増大　■導電性の異物による上下基板間のショ
ート　■水分、塩分が透明電極を腐食する事により発生
ずる断面を解決しようとするものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は上記問題点を解決するためのものであり、絶縁
膜をシール材より内部及び外部に形成し、かつシール材
の下には絶縁膜及び配向膜が形成されていない領域を有
する様に製造する工程から成る。

〔作用〕

この様にシール材の下に絶縁膜及び配向膜のない領域を
持つ事により、密着性が向上し水分の侵入が防げ、「に
じみ現象」消費電流の増大の発生を防止する。又、絶縁
膜をシール材より内部に形成する事により導電性の異物
による上下基板間のショートを防ぎ、この絶縁膜をシー
ル材より外部に形成する事により水分、塩分が透明電極
を腐食する事を防ぎ断線の発生を防止する。

〔実施例〕

実施例１ 第１図に従って本発明の製造方法の一例を説明する。ま
ず、ガラス基板４Ｌ　４Ｂ上に透明電極４２４７を所定
の形状に形成する。次に基板４８上にＳｉＯ□を主成分
とする絶縁膜４６．４９を印刷法にて形成する。さらに
この上と基板４１の上にポリイミドから成る配向膜４３
．４５を同様に印刷法にて形成する。

この時、絶縁膜、配向膜ともにシール材を形成する領域
には印刷しないでおき、この領域にエポキシ樹脂から成
るシール材４４．５０を形成し２枚の基板を張り合わせ
液晶５１を封入する。以上の工程で作製した液晶表示素
子は、１２インチの大きさにもかかわらず上下基板間の
ショートは発生しなかった。又、これを４０°Ｃ２９０
％の高温多湿の状態で１０００時間放置した後でも、水
分の侵入による「にじみ現象ｊ消費電流の増大の問題は
発生せず、腐食による断線も発生しなかった。

実施例２ 実施例１における絶縁膜として、スパッタにて選択的に
シール材の内部及び外部にＳｉＯ□膜を形成し、以下実
施例１と同様に配向膜、シール材を形成し作製した液晶
表示素子は実施例１と同様に上下基板間のショート、水
分の侵入、断線とも発生しなかった。

実施例３ 実施例１における絶縁膜としてＣＶＤにて選択的にシー
ル材の内部及び外部に５ｉ０２膜を形成し、以下実施例
１と同様に液晶表示素子を作製したところ上下基板間の
ショート、水分の侵入、断線とも発生しなかった。

〔発明の効果〕

以上実施例で具体的に説明したように本発明によれば、
絶縁膜をシール材より内部及び外部に形成し、かつシー
ル材の下には絶縁膜及び配向膜が形成されていない領域
を持つ事により、従来発生していた■水分の侵入による
「にじみ現象」消費電流の増大　■導電性の異物による
上下基板間のショート　■水分、塩分が透明電極を腐食
する事により発生する断線を同時に解決する事ができた
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による液晶表示素子の断面図、第２図、
第３図、第４図は従来の製造方法による液晶表示素子の
断面図である。 ３１　３Ｂ　　４１ ３３．３５，４３ ３４　３９．４４ ５１　・　・　・ １１．１７，２Ｌ２７ １２１６．２２，２６ １３．１５，２３，２５ １４　１８．２４．２８ １９、　２９．　４０ ３６、　４６．　４９　　・ ４８・・・ガラス基板 ４７・・・透明電極 ４５・・・配向膜 ５０・・・シール材 ・・液晶 ・・絶縁膜 以 上 出願人　セイコー電子工業株式会社 代理人　弁理士　林　　敬　之　助 本文１用でよる液晶）じト累）のＶ午ａ■り第１図 液晶表水素与６断面図ａ 第　２　図 液晶表示（４打面図す 第３　ＩＡＩ 液晶禾不系）の酊面図Ｃ 第　４　図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）２枚の電極及び配向膜を有する基板をシール材を
   介して一定の間隙を持って張り合わせた後、該間隙に液
   晶を充填して成る液晶表示素子の製造方法において、少
   なくとも一方の基板上に絶縁膜をシール材より内部及び
   外部に形成する事を特徴とする液晶表示素子の製造方法
   。
2. （２）電極及び配向膜を有する２枚の基板が、シール材
   により一定の間隙を持って張り合わされ、該間隙に液晶
   が充填されている液晶表示素子において、該液晶表示素
   子のシール材の下には該絶縁膜及び配向膜が形成されて
   いない領域を有することを特徴とする液晶表示素子。