JPH02191252A - インドレニン誘導体 - Google Patents

インドレニン誘導体

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JPH02191252A
JPH02191252A JP1237742A JP23774289A JPH02191252A JP H02191252 A JPH02191252 A JP H02191252A JP 1237742 A JP1237742 A JP 1237742A JP 23774289 A JP23774289 A JP 23774289A JP H02191252 A JPH02191252 A JP H02191252A
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真鍋 修
Shigeo Fujita
繁雄 藤田
Shizuo Iwata
岩田 志都夫
Morihiro Kamiyama
神山 守弘
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Asahi Kagaku Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規なインドレニン誘導体に関する。
発明の開示 本発明のインドレニン誘導体は、文献未記載の化合物で
あって、下記一般式(1)で表わされる。
〔式中R1は水素原子又は低級アルキル基を示す。
X及びYは、同−又は異なって、メチレン基又は酸素原
子を示す。〕 上記一般式(1)で表わされる本発明の化合物は、後記
に示すように一般式(8)で表わされるシアニン系化合
物を合成するための中間体として有用である。
本発明の化合物は、種々の方法により製造され得るが、
その好ましい方法を示せば下記に示す方法に従い容易に
製造される。
 CH3 一般式(2)で表わされる公知のアニリン誘導体と式(
3)で表わされる公知の3−ブロモ−3−メチル−2−
ブタノンとの反応は、脱酸剤の存在下に行なわれる。脱
酸剤としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、ト
リーn−プロピルアミン、トリーn−ブチルアミン等の
第3級アミン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カ
ルシウム等の炭酸アルカリ金属塩、酢酸ナトリウム、酢
酸カリウム、酢酸カルシウム等の酢酸アルカリ金属塩等
が挙げられ、これらは一般式(2)の化合物に対して通
常0. 3〜5倍モル程度、好ましくは0.5〜1.5
倍モル程度用いられる。化合物(2)と化合物(3)と
の使用割合としては、通常前者に対して後者を0.3〜
5倍モル量程度、好ましくは0.5〜1.5倍モル量程
度とするのがよい。該反応は、通常常温〜200℃程度
、好ましくは50〜150℃程度で行なわれ、一般に数
時間〜25時間程度、好ましくは5〜15時間程度で完
結する。
斯くして得られる本発明の化合物は、慣用の単離精製手
段、例えば再結晶、カラム分離等により反応混合物から
容易に単離、精製される。
本発明の化合物は、下記に示す方法に従い、−般式(8
)のシアニン系化合物に誘導され得る。
(4a) (4b) 〔式中R1、X及びYは前記に同じ。ZIはバークロレ
ート残基及びテトラフルオロボレート残基以外の酸性残
基、Z2はバークロレート残基又はテトラフルオロボレ
ート残基を示す。R2は置換基を有することのある低級
アルキル基を示す。〕 一般式(4a)で表わされる化合物は、一般式(1)で
表わされるインドレニン誘導体にアルキル化剤を作用さ
せることにより製造される。アルキル化剤としては、例
えばトルエンスルホン酸メチル、トルエンスルホン酸エ
チル、トルエンスルホン酸n−プロピル、トルエンスル
ホン酸イソプロピル、トルエンスルホン酸n−ブチル等
のアルキルトルエンスルホネート、臭化エチル、臭化n
−プロピル、臭化n−ブチル、沃化エチル、沃化n−プ
ロピル、塩化n−プロピル、塩化n−ブチル等のハロゲ
ン化アルキル、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等の硫酸ジ
アルキル、酸とエポキシ化合物との混合物(例えば塩酸
、硫酸等の無機酸や酢酸、プロピオン酸等の有機酸等と
エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等との混合
物)、メチルスルトン、エチルスルトン、プロピルスル
トン、ブチルスルトン等のアルキルスルトン等が挙げら
れる。化合物(1)1モルに対するアルキル化剤の使用
量は、通常0.3〜5倍モル量程度、好ましくは0.5
〜2倍モル量程度とするのがよい。該反応は、無溶媒下
又はトルエン、キシレン等のアルキルベンゼン、n−オ
クタン、n−デカン、シクロヘキサン、デカリン等の脂
肪族炭化水素類、ベンゼン、ナフタリン、テトラリン等
の芳香族炭化水素類、トリクロルエタン、テトラクロル
エタン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素類等の溶媒中にて行なわれる。該反応は、
通常室温〜200℃程度、好ましくは50〜150℃程
度で行なわれ、一般に2〜30時間程度、好ましくは5
〜25時間程時間路了する。
一般式(5)で表わされる化合物は、化合物(4a)を
適当な溶媒、例えば水中にてアルカリで処理することに
より製造される。用いられるアルカリとしては、従来公
知のものをいずれも使用でき、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム等が挙げられる。アルカリの使用量と
しては、化合物(4a)1モル当り、通常1〜20倍モ
ル量程度、好ましくは1〜5倍モル量程度とするのがよ
い。また溶媒の使用量としては、化合物(4a)1モル
当り、通常2〜100倍モル量程度、好ましくは2〜2
0倍モル量程度とするのがよい。上記反応は、通常0〜
150℃程度、好ましくは0〜100℃程度で行なわれ
、一般に数十分〜10時間程度、好ましくは1〜5時間
程度で終了する。
一般式(4b)で表わされる化合物は、化合物(5)に
一般式(6)で表わされる化合物をメタノール、エタノ
ール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、n−ブタノール、イソブチルアルコール、1ert
−ブチルアルコール等のアルコール類、ベンゼン、トル
エン、キシレン、n−オクタン、n−デカン、シクロヘ
キサン、デカリン、トリクロルエタン、テトラクロルエ
タン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン等の炭化水素
類等の適当な溶媒中で反応させることにより製造される
。化合物(5)と化合物(6)との使用割合としては、
通常前者に対して後者を0. 3〜10倍モル量程度、
好ましくは0. 5〜3倍モル量程度とするのがよい。
該反応は、0〜70’C程度で行なわれ、一般に10分
〜3時間程度で完結する。
上記で得られるインドレニウム塩(一般式(4a)及び
一般式(4b)の化合物)に、公知の一般式 〔式中nは2又は3を示す。〕 で表わされる化合物を縮合反応させることにより、一般
式 〔式中R1、R2、X及びYは前記に同じ。Zは酸性残
基を示す。nは前記に同じ。〕 で表わされるシアニン系化合物が製造される。
上記一般式(8)において、R1、R2及びZで示され
る各基は、具体的にはそれぞれ以下の通りである。
低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t
ert−ブチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オ
クチル基等の01−8のアルキル基を例示できる。
上記低級アルキル基に置換している置換基としては、例
えばC1−8のアルキコシ基、水酸基、スルホン酸基、
カルボキシ基’  (CI−8のアルキル)アミノ基、
フェニルスルホニルアミノ基、p−メチルフェニルスル
ホニルアミノ基、アセトキシ基、(CI−3のアルコキ
シ)カルボニル基、(c、。
のアルコキシ)(C,3のアルコキシ)カルボニル基等
を挙げることができる。斯かる置換基を有する低級アル
キル基の具体例としては、メトキシメチル、エトキシメ
チル、2−メトキシエチル、2−エトキシエチル、2−
 (n−ブトキシ)エチル、n−ブトキシメチル、2−
ヒドロキシエチル、−(CH2)m−3O3Na (m
は1〜8の整数である)、メチルアミノメチル、ジメチ
ルアミノメチル、2−(p−メチルフェニルスルホニル
アミノ)エチル、アセトキシメチル、メトキシカルボニ
ルメチル、メトキシメトキシメチル、2−エトキシエト
キシエチル基等を例示できる。
Zとしては、ハロゲン原子、アルキル硫酸塩残基、アリ
ールスルホン酸塩残基、バークロレート残基、テトラフ
ルオロボレート残基、アリールカルボン酸残基等を例示
できる。2がハロゲン原子である場合、zeの具体例と
してはCIC)BrOIQlFO等を例示できる。2が
アルキル硫酸塩残基である場合、zeの具体例としては
CH35O40、C2Hs SO40 n−C3H7SOa e、 n−C4H95Oa o等
を例示できる。Zがアリールスルホン酸塩残基である場
合、ZOの具体例としてはQso3eCH3−/C>S
 O30等を例示できる。Zがバークロレート残基であ
る場合、20の具体例としてはCl0aO等を例示でき
る。2がテトラフルオロボレート残基である場合、ZO
の具体例としてはBF40等を例示できる。またZがア
リールカルボン酸残基である場合、ZOの具体例として
は(=Σcooe等を例示できる。
上記縮合反応は、脂肪酸塩の存在下、脱水性有機酸中に
て行なわれる。脂肪酸塩としては、例えば酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、プロピオン酸ナト
リウム、プロピオン酸カリウム等を挙げることができ、
これは一般式(4a)又は(4b)の化合物1モル当り
、通常0.5〜3モル程度、好ましくは1〜2モル程度
用いられる。また脱水性有機酸としては、例えば無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、γ−ブチロラクトン
等が挙げられる。斯かる脱水性有機酸は、一般式(4a
)又は(4b)の化合物1モル当り、通常10〜100
モル程度、好ましくは20〜50モル程度用いられる。
一般式(4a)又は(4b)の化合物と一般式(7)の
化合物との使用割合は、通常前者に対して後者を0. 
2〜1.5倍モル程度、好ましくは0. 4〜0.7倍
モル程度とするのがよい。上記反応は、通常50〜15
0℃程度、好ましくは70〜140℃で好適に進行し、
一般に10〜60分程度で該反応は完結する。
上記各々の工程で得られる化合物は、慣用の単離精製手
段、例えば再結晶、カラム分離等により反応混合物から
容易に単離、精製される。
上記で得られる一般式(8)のシアニン系化合物は、以
下に示す有用性を具備するものである。
即ち、一般式(8)のシアニン系化合物は、メタノール
、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、n−ブタノール、イソブタノール、fer
(−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール
、ジクロルメタン、ジクロルエタン等の脂肪酸ハロゲン
化炭化水素等の有機溶剤に良好な溶解性を示し、670
〜830nmに極大吸収波長があり、高いモル吸光係数
を有している。また、半導体レーザ用光デイスク記録媒
体として用いる場合、再生レーザ光による光反射率が極
めて高く、特に利用価値が高いものである。
また一般式(8)の化合物は、一般の染料に比し、吸収
が鮮鋭であるため、フィルター用色素として、また複写
及び印刷用の感光体又は感光体の増感色素として好適に
使用され得る。更に該化合物は、肝機能検査薬等の医療
診断薬、LB膜用色素等としても有用である。
また本発明の化合物は、フォトクロミック材料等の機能
性色素の中間体としても有用である。
実  施  例 以下に本発明化合物の製造例を実施例として掲げ、次に
一般式(8)の化合物の製造例を参考例として掲げる。
実施例1 3.4−メチレンジオキシアニリン20.57g、3−
ブロモ−3−メチル−2−ブタノン24.76g及びピ
リジン7511の混合物を50〜55℃で5時間反応さ
せ、更に還流下1−0時間反応させた。反応終了後、水
100rlに投入し、ジクロルメタン5011で抽出し
、溶媒を除去後、真空蒸留により2. 3. 34リメ
チル−5,6メチレンジオキシインドレニン11.64
gを得た。
沸点134−136℃/4〜5mm11g元素分析  
  CHN 実測値(%)   7[1,66,56,7計算値(%
)   ?Q、92  6.45  6.89実施例2 5−アミノインダン20.00g、3−ブロモ3−メチ
ル−2−ブタノン27.23g及びピリジン6011の
混合物を実施例1と同様に処理して、−軟式(1)の化
合物[R1=H1X−メチレン基、Y=メチレン基]1
7.60gを得た。
沸点122〜130°C/ 3〜4 mm11g元素分
析    CHN 実測値(%)   84.3  8.7  6.9計算
値(%)   84.37  8.60  7.03実
施例3 一般式(2)の化合物[R1−メチル基、X−〇、Y−
メチレン基)19.76gを用い、実施例1と同様にし
て一般式(1)の化合物[R+メチル基、X=0.Y−
メチレン基)1.1.72gを得た。
沸点139〜145°C/ 5〜6 mm11g元素分
析    CHN 実測値(%)   77.9  8.1  6.4計算
値(%)   78,10  7,96  6.51実
施例4 一般式(2)の化合物〔R1=メチル基、Xメチレン基
、Y=O)19.76gを用い、実施例1と同様にして
一般式(1)の化合物〔Rメチル基、X−メチレン基、
Y=0)11..65gを得た。
沸点130〜135°c/ 3〜4 mm11g元素分
析    CHN 実測値(%)   77.8  8.1  6.3計算
値(%)   78.10  7.96  6.51参
考例1 上記実施例1で得られた2、3. 3−4リメチル−5
,6−メチレンジオキシインドレニン10.16g、p
−hルエンスルホン酸n−ブチル1.3.67g及びク
ロルベンゼン40yt12の混合物を還流下に200時
間反応せた。反応終了後、水60x(lで1−(n−ブ
チル)−2,3,3−)ジメチル−5,6−メチレンジ
オキシインドレニウム・トルエンスルホネートを抽出し
た。
コノ抽出液に20%N a OH20gを加え、700
Cで3時間反応後、トルエン3011で抽出した。トル
エンを留去後、真空蒸留により、1(n−ブチル)−3
,3−ジメチル−2−メチレン−5,6−メチレンジオ
キシインドリン5.25gを得た。
沸点162−164°C/ 5〜6 mmt1g上記で
得られた1−(n−ブチル)−3,3ジメチル−2−メ
チレン−5,6−メチレンシオキシインドリン5.00
g及びイソプロピルアルコール100.vIの混合物中
へ、20℃以下で70%HCIOa 3 、 24 g
を加えた。室温で1時間攪拌後、5°C以下に冷却した
。析出する結晶をか別、洗浄後乾燥して、■−(n−ブ
チル)−2゜3.3−4リメチル−5,6−メチレンジ
オキシインドレニウム・バークロレート6.94gを得
た。
融点147.0−150.0°C 1−(n−ブチル)−2,3,3−1リメチル=5.6
−メチレンジオキシインドレニウム・バークロレート1
.45g、β−アニリノ−アクロレイン−アニル塩酸塩
0.52g及び酢酸カワウム0.68gを無水酢酸20
11に加え、10分間還流した後、水100zA’へ投
入した。析出した結晶を炉別、水洗後、メタノールで再
結晶して、軟式(8)の化合物[R’ =H,R2=n
−ブチル基、X=O1Y=O1Z○=C1040,n=
2)1.05gを得た。この化合物の融点、吸収最大波
長(λmat )及びモル吸光係数(ε)は以下の通り
である。
融点:242.0−243.0°C λmax  : 696nm (メタノール)ε: 1
.76X105cm@・M−’参考例2 一般式(1)の化合物(R1=H1x=o、y=O)1
0.15gを用い、参考例1と同様にして、−軟式(8
)の化合物[RI =H,R2=エチル基、X=O1Y
=O1ze=Iθ、n=2〕5.20gを得た。
この化合物の吸収最大波長(λmax )は694nm
(メタノール)であった。
参考例3 一般式(1)の化合物[RI =H,X=O,Y=0、
)15.00gを用い、参考例1と同様にして、−軟式
(8)の化合物(R1=H% R2=2−メトキシエチ
ル基、x=o、y=o、ze=C1040、n=336
.OOgを得た。
この化合物の吸収最大波長(λmax )は793nm
(メタノール)であった。
参考例4 一般式(1)の化合物[R+=メチル基、X=0、Y−
メチレン基〕 6.45gを用い、参考例1と同様にし
て、−軟式(8)の化合物〔R1=メチル基、R2=n
−ブチル基、x=o、y=メチレン基、Z e= CI
 Oaθ、n=2.12. 09gを得た。この化合物
の融点、吸収最大波長(λmax )及びモル吸光係数
(ε)は以下の通りである。
融点: 227−228°C λmax  : 695nm (ジアセトンアルコール
)ε: 1.94X105cm−’ 参考例5 一般式(1)の化合物〔R1=メチル基、X=メチレン
基、Y=O)6.45gを用い、参考例1と同様にして
、−軟式(8)の化合物〔R1=メチル基、R2=n−
ブチル基、X=メチレン基、Y=0.Ze=CIIOa
O,n=2)2.76gを得た。この化合物の融点、吸
収最大波長(λmax)及びモル吸光係数(ε)は以下
の通りである。
融点:215−217℃ λmax  : 688nm (ジアセトンアルコール
)ε:1.90X105cm→ 参考例6 一般式(1)の化合物(R1=)T、 X=メチレン基
、Y=メチレン基、)4.00gを用い、参考例1と同
様にして、−軟式(8)の化合物[:R’ =H,R2
=n−ブチル基、X=メチレン基、Y=メチレン基、Z
O−CIO40n=2〕2.20gを得た。この化合物
の融点、吸収最大波長(λmax )及びモル吸光係数
(ε)は以下の通りである。
融点:163−165°C λmax  : 670nm (ジアセトンアルコール
)ε 二 2.  24X1 0 5 cm’参考参考 −7式(1)の化合物[RI =H,X=メチレン基、
Y=メチレン基、〕を用い、参考例1と同様にして、−
軟式(8)の化合物[R1=l(。
R2=2−エトキシエチル基、X=メチレン基、Y=メ
チレン基、ZO=CIO40、n=2〕を得た。この化
合物の吸収最大波長(λmaw )及びモル吸光係数(
ε)は以下の通りである。
λmax  : 672nm (ジアセトンアルコール
)ε :2. 20X105 cm−’ 参考例8 一般式(1)の化合物[RI =H,X−メチレン基、
Y=メチレン基〕を用い、参考例1と同様にして、一般
式(8)の化合物[RI=H。
R2=2−アセトキシエチル基、X=メチレン基、Y=
メチレン基、ZO−BF40、n=3〕を得た。この化
合物の吸収最大波長(λmax )及びモル吸光係数(
ε)は以下の通りである。
λmaxニア68nm ε: 2.28X105cm−’ 参考例9 一般式(1)の化合物[RI =H,X−メチレン基、
Y=メチレン基〕を用い、参考例1と同様にして、一般
式(8)の化合物[R1−H1R2=2−メトキシエチ
ル基、X=メチレン基、Yメチレン基、zo=1o  
n=3]を得た。この化合物の吸収最大波長(λmax
)及びモル吸光係数(ε)は以下の通りである。
λmawニア68nm ε: 2. 3 Qx 105cm” 参考例1〇 一般式(1)の化合物[RI =H,X=O1Y−O)
を用い、参考例1と同様にして、一般式(8)の化合物
[RI =HXR2=2−ヒドロキシエチル基、X=0
、Y=O1ZO= CH3(=\5O3eXn=23を得た。この化合物の
吸収最大波長(λmax)及びモル吸光係数(ε)は以
下の通りである。
λmax:695nm(ジアセトンアルコール)ε: 
1.70X105cm” 参考例11 一般式(1)の化合物[R1=FT、X=O,Y−0)
を用い、参考例1と同様にして、−軟式%式% CIo n=3:lを得た。この化合物の吸収最大波長
(λmax )及びモル吸光係数(ε)は以下の通りで
ある。
λmax  : 790nm (メタノール)ε: 1
.60XI Q5cm” 参考例12 一般式(1)の化合物[RI−メチル基、XO,Y−メ
チレン基〕を用い、参考例1と同様にして、一般式(8
)の化合物[RI−メチル基、R2=n−ブチル基、X
−0XY=メチレン基、ZO−C2H5SO40n−3
〕を得た。この化合物の吸収最大波長(λmax )及
びモル吸光係数(ε)は以下の通りである。
λmax  : 795nm (メタノール)ε: 1
. 93x 105cm−1 (以 上)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1は水素原子又は低級アルキル基を示す。X
    及びYは、同一又は異なって、メチレン基又は酸素原子
    を示す。〕 で表わされるインドレニン誘導体。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2000226528A (ja) * 1998-11-30 2000-08-15 Yamamoto Chem Inc ポリメチン化合物、その製造方法及び用途

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JP2000226528A (ja) * 1998-11-30 2000-08-15 Yamamoto Chem Inc ポリメチン化合物、その製造方法及び用途
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