JPH02186657A - 半導体素子剥離装置 - Google Patents

半導体素子剥離装置

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Publication number
JPH02186657A
JPH02186657A JP1004628A JP462889A JPH02186657A JP H02186657 A JPH02186657 A JP H02186657A JP 1004628 A JP1004628 A JP 1004628A JP 462889 A JP462889 A JP 462889A JP H02186657 A JPH02186657 A JP H02186657A
Authority
JP
Japan
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suction
semiconductor element
push
holes
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1004628A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisashi Nakaoka
中岡 久
Satoru Waga
悟 和賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP1004628A priority Critical patent/JPH02186657A/ja
Publication of JPH02186657A publication Critical patent/JPH02186657A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68318Auxiliary support including means facilitating the separation of a device or wafer from the auxiliary support
    • H01L2221/68322Auxiliary support including means facilitating the selective separation of some of a plurality of devices from the auxiliary support

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体装置組立装置に用いられる粘着フィル
ムから半導体素子を剥離する半導体素子剥離装置に関す
るものである。
(従来の技術) 従来の半導体素子剥離装置について、第2図の断面図に
より説明する。同図において、従来の半導体素子剥離装
置は、半導体素子1を粘着面に等間隔に保持した粘着フ
ィルム2を載せる。」二面に突上げ孔3aとその両側に
」−記の半導体素子1の保持間隔に合せて配置された2
個の吸着孔3bを設け、真空発生装置(図示せず)に接
続する排気口3cを有する中空の吸着台3と、上端のホ
ルダ4によって上記の突上げ孔3aに挿通すする突上げ
針5を装着した駆動軸6を、上下動自在に保持し、上記
の吸着台3を固定する基台7と、」〕記の真空発生装置
に接続され、上記の突上げ孔3aの真−Fに配置されて
上下方向に摺動する吸着ノズル8とから構成されている
なお、吸着台3と駆動軸6は、図示していないが、0リ
ング等のバッキングを用いて気密を保持する構造となっ
ている。
このように構成された半導体素子剥離装置の動作につい
て説明する。
まず、半導体素子1が粘着面に保持された粘着フィルム
2をその裏面を下向きにして吸着台3の十に載せる。吸
着台3は吸着孔3bにより真空圧で粘着フィルム2を吸
引し固定する。この際、真空圧は、突上げ孔3aおよび
吸着孔3bにより粘着フィルム2を内側に引き込む。
次に、駆動軸6を」二方に摺動して、半導体素子1をそ
の中央を突上げ針5で突き−1−げ粘着フィル1% 2
から剥離する。同時に吸着ノズル8を降下して半導体素
子1を吸着した後、」二昇する。このようにして、半導
体素子]−を粘着フィルム2から剥離する。
(発明が解決しようとする課題) しかしなから、−上記の構成では、突上げ孔3aでも粘
着フィルム2を真空圧で引き込むため、半導体素子1も
共に突」−げ孔3aの中に引き寄せられ、]゛■カ■カ
メラいて自動的に検出する際にピントが合わず良好な検
出処理が行えないという問題があった。特に、半導体素
子1が小形の時に顕著に現われた。さらに、吸着台3の
気密を保つために、上下動する駆動軸6の摺動面の設計
および工作が複雑化し高価となるという問題もあった。
本発明は上記の問題を解決するもので、突1−げ孔には
真空が働かず、安定した剥離作業が行われる安価な半導
体素子剥離装置を提供するものである。
(課題を解決するための手段) 」−記の課題を解決するため、本発明は、吸着台の内部
に、排気口と吸着孔を接続する環状の吸気路を設けるも
のである。
(作 用) 上記の構成により、突上げ孔は真空によって吸引される
ことがなくなり、従って吸着によって半導体素子が突−
ヒげ孔に落ち込むことがなく確実な検出が可能になる。
また、気密を保つ密閉設計の必要がなくなる。
(実施例) 本発明の一実施例を第1図により説明する。
同図に示す実施例が、第2図に示した従来例と異なる点
は、吸着台3の内部に、吸着孔3bと排気口3cとを連
通ずる環状の吸気路3dを設け、突上げ孔3aが排気口
3cと連通しないようにしたことである。また、図には
描いてないが、吸着台3は基台7の装着部、駆動軸6と
基台7との間の摺動部に設けられた気密装置は、必要が
ないので省略されている。
その他は従来例と変らないので、同じ構成部品には同一
符号を付して、その説明を省略する。
また、粘着フィルム2に保持された半導体素子1を剥離
する動作も従来例と変らないので、省略するが、本実施
例では、突にげ孔3aの内側は大気圧なので、粘着フィ
ルム2が、突上げ孔3aの中に吸引されることがない。
なお、吸着台3上面を球面状にすれば、隣り合う半導体
素子1どうじの分離が良好となり、より確実な剥離が行
える。また、吸着台3」二面を中心線平均粗さRaが2
5a程度以」二の粗面にしておけば、粘着フィルム2が
密着せず、粘着フィルム2を移動する場合に、安定した
移動が行なえる。
(発明の効果) 以1−説明したように、本発明によれば、粘着フィルム
は吸着孔のみで固定されるので、半導体素子が突上げ孔
に落ち込むことがなく、検出処理が確実となり信頼性の
ある、しかも安価な半導体素子剥離装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による半導体素子剥離装置の断面図、第
2図は従来の半導体素子剥離装置の断面図である。 1 ・・・半導体素子、 2 ・ 粘着フィルム、3 
・・吸着台、 3a・・ 突上げ孔、 3b・吸着孔、
 3c・・・排気口、 3d ・・環状吸気路、 4・
・・ホルダ、 5・・・突上げ針、6 ・・ 駆動軸、
 7 ・・基台、 8・・・吸着ノズル。 特許出願人 松下電子工業株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 上下動する突上げ針が挿通する突上げ孔、およびその周
    囲に設けられた複数の吸着孔を有する真空吸着台と、上
    記の突上げ孔の真上に配置された上下動する吸着ノズル
    とから構成され、粘着フィルムの粘着面に配列された半
    導体素子を粘着面から剥離する半導体素子剥離装置にお
    いて、上記の複数の吸着孔は排気口と環状の吸気路で連
    通し、突上げ孔は連孔しないことを特徴とする半導体素
    子剥離装置。
JP1004628A 1989-01-13 1989-01-13 半導体素子剥離装置 Pending JPH02186657A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007043654A1 (ja) * 2005-10-14 2007-04-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. チップピックアップ装置およびチップピックアップ方法ならびにチップ剥離装置およびチップ剥離方法

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WO2007043654A1 (ja) * 2005-10-14 2007-04-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. チップピックアップ装置およびチップピックアップ方法ならびにチップ剥離装置およびチップ剥離方法
JP2007109936A (ja) * 2005-10-14 2007-04-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd チップピックアップ装置およびチップピックアップ方法ならびにチップ剥離装置およびチップ剥離方法
US8192578B2 (en) 2005-10-14 2012-06-05 Panasonic Corporation Chip pickup apparatus, chip pickup method, chip releasing device and chip releasing method

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