JPH02184527A - 二酸化チタン、その製造法及びその用途 - Google Patents
二酸化チタン、その製造法及びその用途Info
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- JPH02184527A JPH02184527A JP1307864A JP30786489A JPH02184527A JP H02184527 A JPH02184527 A JP H02184527A JP 1307864 A JP1307864 A JP 1307864A JP 30786489 A JP30786489 A JP 30786489A JP H02184527 A JPH02184527 A JP H02184527A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は二酸化チタン、その製造法及びその琺瑯及び溶
融エナメル中における不透明化剤としての用途に関する
。
融エナメル中における不透明化剤としての用途に関する
。
二酸化チタンは顔料としてT i Cj! 4と02と
の反応によるかまたは硫酸を含有する硫酸チタニル水溶
液の加水分解とこれに次ぐ■焼によるかして製造される
。
の反応によるかまたは硫酸を含有する硫酸チタニル水溶
液の加水分解とこれに次ぐ■焼によるかして製造される
。
硫酸法の場合、二酸化チタン水和物の懸濁物を5〜20
時間、ロータリーキルン中で■焼スる。
時間、ロータリーキルン中で■焼スる。
加水分解の過程で集積する析出物は比BET表面50〜
500m’/gを有する微粒子から成り、これは■焼中
に著しい凝集を受ける。
500m’/gを有する微粒子から成り、これは■焼中
に著しい凝集を受ける。
燻焼の結果として生成される凝集体は直径0゜1”1.
On++nの粒子の形態にあり、これは0.2〜0.4
μmの第一次粒子で形成されている。この材料は琺瑯ま
たは溶融エナメル中に混合するためのタリンカーまたは
粉砕顔料としても不適当であり、なぜならその凝集体は
乾燥形態でエナメル7リツトの他の成分と混合されると
き、フリットの溶融過程で二酸化チタンの不完全且つ不
均一な溶解をもたらすからである。
On++nの粒子の形態にあり、これは0.2〜0.4
μmの第一次粒子で形成されている。この材料は琺瑯ま
たは溶融エナメル中に混合するためのタリンカーまたは
粉砕顔料としても不適当であり、なぜならその凝集体は
乾燥形態でエナメル7リツトの他の成分と混合されると
き、フリットの溶融過程で二酸化チタンの不完全且つ不
均一な溶解をもたらすからである。
ドイツ特許出願公開第1207363号は、琺瑯中へ混
合するためのTie、生成物を、沈殿された二酸化チタ
ン水和物の燻焼によって製造する方法を記載している。
合するためのTie、生成物を、沈殿された二酸化チタ
ン水和物の燻焼によって製造する方法を記載している。
この方法において、5〜20μmの第一次粒子から成る
粗らい粒径の沈殿された二酸化チタン水和物を、Tie
、顔料の製造において得られる如き、大部分1μm以下
の第一次粒子から成る微粒状の沈殿された二酸化チタン
水和物と混合し、そして得られた混合物を燻焼する。こ
の方法の不利は二つの異なった二酸化チタン水和物を先
ずつくらなければならないため、非常に高価につくこと
である。その上、このようにして得られるTiO2の不
利は1〜2 kg / lの高い見掛は比重を有しそし
て明らかに1m”/g以下の低い比表面を有し、それに
よって7リフト中の溶融過程で不十分な反応性をあられ
すことである。
粗らい粒径の沈殿された二酸化チタン水和物を、Tie
、顔料の製造において得られる如き、大部分1μm以下
の第一次粒子から成る微粒状の沈殿された二酸化チタン
水和物と混合し、そして得られた混合物を燻焼する。こ
の方法の不利は二つの異なった二酸化チタン水和物を先
ずつくらなければならないため、非常に高価につくこと
である。その上、このようにして得られるTiO2の不
利は1〜2 kg / lの高い見掛は比重を有しそし
て明らかに1m”/g以下の低い比表面を有し、それに
よって7リフト中の溶融過程で不十分な反応性をあられ
すことである。
米国特許第2,721.787号は、■焼されたアナタ
ーゼ(第一次粒子径0.2〜0.3μm1比表面4.5
〜9m”/g)及び0.1〜3%の無機バインダーより
成る自由流動性、粉塵のない凝集体を記載している。こ
れらの凝集体は通常の温度150〜400℃における顔
料製造から発生する水性分級された二酸化チタン顔料の
水性スラリーを噴霧乾燥することによって製造される。
ーゼ(第一次粒子径0.2〜0.3μm1比表面4.5
〜9m”/g)及び0.1〜3%の無機バインダーより
成る自由流動性、粉塵のない凝集体を記載している。こ
れらの凝集体は通常の温度150〜400℃における顔
料製造から発生する水性分級された二酸化チタン顔料の
水性スラリーを噴霧乾燥することによって製造される。
この方法の不利は、■焼された二酸化チタン顔料を先ず
製造し、次いでこれを水中に取ってスラリーをつくり、
次にこれを噴霧乾燥して所定の凝集体を得なければなら
ないことである。
製造し、次いでこれを水中に取ってスラリーをつくり、
次にこれを噴霧乾燥して所定の凝集体を得なければなら
ないことである。
ドイツ特許出願公開第1 202 259号は、エナメ
ルフリット用のTie、凝集体の製造を記載し、その方
法においては、適当な二酸化チタン(結晶子径0.2〜
0.7μm)を加水分解しうる金属または珪素のハロゲ
ン化物を添加して顆粒化する。
ルフリット用のTie、凝集体の製造を記載し、その方
法においては、適当な二酸化チタン(結晶子径0.2〜
0.7μm)を加水分解しうる金属または珪素のハロゲ
ン化物を添加して顆粒化する。
日本特許出願昭60−220884号によれば、微粒、
球状Ti0.粒子をTie、ゾルと混合し、50°Cで
噴霧乾燥しそして温度500℃以上で燻焼する。TiO
2ゾルは硫酸を含有するTiO2水和物をアンモニアで
中和し、濾過し、洗滌しそして濃硫酸で解膠することに
よって得られる。こうしてつくられた生成物は粒径0.
1〜50μmを有しそして化粧料、触媒及びセラミック
中で用いられる。エナメル中へ混合するには適しない。
球状Ti0.粒子をTie、ゾルと混合し、50°Cで
噴霧乾燥しそして温度500℃以上で燻焼する。TiO
2ゾルは硫酸を含有するTiO2水和物をアンモニアで
中和し、濾過し、洗滌しそして濃硫酸で解膠することに
よって得られる。こうしてつくられた生成物は粒径0.
1〜50μmを有しそして化粧料、触媒及びセラミック
中で用いられる。エナメル中へ混合するには適しない。
■焼が800°C以下で行なわれる場合、比較的大量の
硫酸が残留しそしてエナメルの焼成の過程で粗らく鈍い
エナメル表面を与える。より高い■焼温度では、粉末粒
子は便通ぎそのためそれらはフリット中に完全に消化さ
れない。
硫酸が残留しそしてエナメルの焼成の過程で粗らく鈍い
エナメル表面を与える。より高い■焼温度では、粉末粒
子は便通ぎそのためそれらはフリット中に完全に消化さ
れない。
英国特許第1.176.912号は、硫酸塩含量がTi
O2に基づき0.45〜1.2%で、BET表面35〜
55m”/g及び第一次粒子径0.025〜0.05μ
mを有する微細分散されたアナターゼを記載している。
O2に基づき0.45〜1.2%で、BET表面35〜
55m”/g及び第一次粒子径0.025〜0.05μ
mを有する微細分散されたアナターゼを記載している。
このアナターゼは硫酸を含有するTiO2水和物の72
5〜760°Cにおける■焼及びこれに次ぐ磨砕によっ
て製造される。
5〜760°Cにおける■焼及びこれに次ぐ磨砕によっ
て製造される。
生成物は写真及びコピー紙中に用いられる。これはエナ
メル中への混合には適せず、それは高硫黄含量のため粗
らく、鈍い表面をもたらすからであり、且つその粒子が
微細のためそれがフリット素原料混合物中における集団
を引き起こし、従って7リツトの溶融過程で不完全な溶
解及びスラッジの形成を生じるからである。
メル中への混合には適せず、それは高硫黄含量のため粗
らく、鈍い表面をもたらすからであり、且つその粒子が
微細のためそれがフリット素原料混合物中における集団
を引き起こし、従って7リツトの溶融過程で不完全な溶
解及びスラッジの形成を生じるからである。
ドイツ特許出願公開第1592428号によれば、二酸
化チタン水利物または好ましくは小さい二酸化チタン粒
子を液中で化学的に処理して凝集を促進し、粒子を直径
1〜500μmの微小球に凝集しそして凝集された微小
球を乾燥してそして■焼する。化学処理は無機酸、有機
酸及び塩基との反応から成る。得られるTie2粉末の
見掛は比重は、触媒担体としての使用に適し、068〜
1.0g/j2である。生成物はエナメル中への混合に
は不適当であり、なぜならば個々の顆粒化された粒子は
化学処理の結果として、後続する凝集と相俟って、非常
に密集して詰まっており、これがエナメルフリット中に
おける貧弱で不完全な溶融をたらすからである。
化チタン水利物または好ましくは小さい二酸化チタン粒
子を液中で化学的に処理して凝集を促進し、粒子を直径
1〜500μmの微小球に凝集しそして凝集された微小
球を乾燥してそして■焼する。化学処理は無機酸、有機
酸及び塩基との反応から成る。得られるTie2粉末の
見掛は比重は、触媒担体としての使用に適し、068〜
1.0g/j2である。生成物はエナメル中への混合に
は不適当であり、なぜならば個々の顆粒化された粒子は
化学処理の結果として、後続する凝集と相俟って、非常
に密集して詰まっており、これがエナメルフリット中に
おける貧弱で不完全な溶融をたらすからである。
従って本発明の目指す問題は、琺瑯及び溶融エナメル用
の不透明化剤としての使用に適する二酸化チタンを提供
することである。
の不透明化剤としての使用に適する二酸化チタンを提供
することである。
今回、本発明による二酸化チタンは上記した要求を満t
;すことが見出された。この二酸化チタンは、TiO2
含量が≧87重量%、硫酸塩含量がTi0zに基づき0
.45重量%より少なく、好ましくは0.3重量%より
少なく、アルカリ酸化物含量がTiesに基づき0.5
重量%より少なく、好ましくは0.2重量%より少なく
、残留水含量がTiO2に基づき12重量%より少なく
、BET表面が30〜500m”/g、見掛は比重が0
.2〜0.8kg/l、第一次粒子径が0.005〜0
.1μm及び平均凝集粒状体径が30〜500μmであ
り、そして非晶形態及び/または結晶性アナターゼとし
て存在する。
;すことが見出された。この二酸化チタンは、TiO2
含量が≧87重量%、硫酸塩含量がTi0zに基づき0
.45重量%より少なく、好ましくは0.3重量%より
少なく、アルカリ酸化物含量がTiesに基づき0.5
重量%より少なく、好ましくは0.2重量%より少なく
、残留水含量がTiO2に基づき12重量%より少なく
、BET表面が30〜500m”/g、見掛は比重が0
.2〜0.8kg/l、第一次粒子径が0.005〜0
.1μm及び平均凝集粒状体径が30〜500μmであ
り、そして非晶形態及び/または結晶性アナターゼとし
て存在する。
顆粒のTjOよ含量は〉87重量%であるが、熱処理に
よって増大することができる。その硫酸塩含量は、Ti
O2に゛基づき0.45重量%より少なく、好ましくは
0.3重量%より小である。
よって増大することができる。その硫酸塩含量は、Ti
O2に゛基づき0.45重量%より少なく、好ましくは
0.3重量%より小である。
もつと高い硫酸塩含量はエナメルの焼成過程でTiet
の再結晶に悪い影響を及ぼしそして不規則で鈍いエナメ
ル仕上げをもたらす。
の再結晶に悪い影響を及ぼしそして不規則で鈍いエナメ
ル仕上げをもたらす。
アルカリ酸化物、特にナトリウム及びカリウム酸化物、
の全含量は、T i O2に基づき0.5重量%以下、
好ましくは0.2重量%以下である。
の全含量は、T i O2に基づき0.5重量%以下、
好ましくは0.2重量%以下である。
もつと大きい含量はエナメルの不透明化度の低下をもた
らす。残留水含量、TiO2に基づき12重量%までは
エナメルに関し二酸化チタンの性質に悪い影響を与えな
い。
らす。残留水含量、TiO2に基づき12重量%までは
エナメルに関し二酸化チタンの性質に悪い影響を与えな
い。
30〜500m2/gの大きいBET表面(BET表面
はドイツ工業標準DIN 66131゜6章、197
3年lO月により検定;5−ポイント法、測定ガス:窒
素、窒素滓騰温度における吸着、窒素1分子は0.16
2nm”の面積を占めるものと想定、前処理:窒素気流
中1時間、130°Cに加熱)及び0.005〜0.1
μmの小さい第一次粒子径は高い反応性、従ってエナメ
ル溶融物中におけるTiO2のすぐれた熟成挙動をもた
らす。
はドイツ工業標準DIN 66131゜6章、197
3年lO月により検定;5−ポイント法、測定ガス:窒
素、窒素滓騰温度における吸着、窒素1分子は0.16
2nm”の面積を占めるものと想定、前処理:窒素気流
中1時間、130°Cに加熱)及び0.005〜0.1
μmの小さい第一次粒子径は高い反応性、従ってエナメ
ル溶融物中におけるTiO2のすぐれた熟成挙動をもた
らす。
径30〜500μmの球形凝集体は満足すべき流動挙動
を示し、混合中にフリットの他の成分に対し粘着せずそ
して高い安定性を示す、即ち混合工程中に、集塊化及び
不完全な溶融をもたらすべき、微細粒へと崩壊すること
はない。
を示し、混合中にフリットの他の成分に対し粘着せずそ
して高い安定性を示す、即ち混合工程中に、集塊化及び
不完全な溶融をもたらすべき、微細粒へと崩壊すること
はない。
混合過程で凝集体はフリット中に均一に分布しそして次
いで完全にそして均一に溶融する。
いで完全にそして均一に溶融する。
急冷されたフリット中で、粒子は二酸化チタンに富む近
傍帯域を形成し、これはエナメルの焼成の初期段階の間
における二酸化チタンの再結晶のための種子セルとして
働く。エナメルの焼成が続くに従い、アナターゼが殆ど
独占的に、適当な結晶子の大きさで、等軸晶形態で、そ
して均一分布で、形成され、それによりすぐれた不透明
化力のための高い反射性が得られる。
傍帯域を形成し、これはエナメルの焼成の初期段階の間
における二酸化チタンの再結晶のための種子セルとして
働く。エナメルの焼成が続くに従い、アナターゼが殆ど
独占的に、適当な結晶子の大きさで、等軸晶形態で、そ
して均一分布で、形成され、それによりすぐれた不透明
化力のための高い反射性が得られる。
他の態様において、二酸化チタンは好ましくは、金属M
g s Ca % S r N B a 1S n
N S b N B i sY、Zr、Zn、v、Nb
XW及び/またはMoの酸化物、燐酸塩及び/または珪
酸塩及び/または元素P及び/またはSiの酸化物を、
二酸化チタンに基づき、痕跡量から10ffi量%まで
、好ましくは7重量%より多くない量で含有する。例え
ばP2O,の添加はTie2の再結晶、従ってエナメル
の乳白度を改善し、またWOlの添加はエナメルの色彩
を改善する。添加物のTiO2粒子からの最初の空間的
分離は後続するTie、の再結晶に対し驚くべき程著し
い重要性を有する;即ち同じ添加物を同じ量で直接フリ
ット中に添加するときは遥かに弱い効果しか有しないで
あろう。
g s Ca % S r N B a 1S n
N S b N B i sY、Zr、Zn、v、Nb
XW及び/またはMoの酸化物、燐酸塩及び/または珪
酸塩及び/または元素P及び/またはSiの酸化物を、
二酸化チタンに基づき、痕跡量から10ffi量%まで
、好ましくは7重量%より多くない量で含有する。例え
ばP2O,の添加はTie2の再結晶、従ってエナメル
の乳白度を改善し、またWOlの添加はエナメルの色彩
を改善する。添加物のTiO2粒子からの最初の空間的
分離は後続するTie、の再結晶に対し驚くべき程著し
い重要性を有する;即ち同じ添加物を同じ量で直接フリ
ット中に添加するときは遥かに弱い効果しか有しないで
あろう。
二酸化チタンはその他に更にバインダー例えば水ガラス
、カルボキシメチルセルロース及び/またはポリビニル
アルコール、及び/または解膠剤例えばポリホスフェー
ト及び/またはポリアクリレートを、TiO2に基づき
0.1〜5重量%の量で含有することができる。
、カルボキシメチルセルロース及び/またはポリビニル
アルコール、及び/または解膠剤例えばポリホスフェー
ト及び/またはポリアクリレートを、TiO2に基づき
0.1〜5重量%の量で含有することができる。
本発明はまた本発明の二酸化チタンの適当な製造法に関
するものであり、その方法においては沈殿された酸−含
有二酸化チタン水和物を塩基でpH7〜13に調整し、
随時40°Cないし還流温度に0.1〜lO時間加熱し
、濾過しそして洗滌し、過剰の塩基を随時除去し、生成
物を、随時補助剤を添加して、スプレー乾燥しそして次
いで随時200〜800°C1好ましくは400〜60
0°Cで熱処理する。
するものであり、その方法においては沈殿された酸−含
有二酸化チタン水和物を塩基でpH7〜13に調整し、
随時40°Cないし還流温度に0.1〜lO時間加熱し
、濾過しそして洗滌し、過剰の塩基を随時除去し、生成
物を、随時補助剤を添加して、スプレー乾燥しそして次
いで随時200〜800°C1好ましくは400〜60
0°Cで熱処理する。
酸−含有Ti0z水和物を塩基で処理する目的は、付着
している酸を完全に相当する塩へ変換しそれを次いで洗
滌除去することにある。塩基で処理されたTie2水和
物を40℃ないし還流温度で0.1−1o時間予備加熱
することは塩の除去を促進する。
している酸を完全に相当する塩へ変換しそれを次いで洗
滌除去することにある。塩基で処理されたTie2水和
物を40℃ないし還流温度で0.1−1o時間予備加熱
することは塩の除去を促進する。
特定の一態様において、塩−含有Tie、水和物は洗滌
の前に加圧処理に付すことができる。これは例えば密閉
加圧容器中で熱処理することによって行なうことができ
る。また、例えば適当な装置中で高圧膨脹技法を用いる
ことも可能である。
の前に加圧処理に付すことができる。これは例えば密閉
加圧容器中で熱処理することによって行なうことができ
る。また、例えば適当な装置中で高圧膨脹技法を用いる
ことも可能である。
上記手段は外来塩の濾過及び洗滌除去における改良へ導
き、それに従って処理された二酸化チタンの性質をエナ
メルに関して改善する結果をもたらす。
き、それに従って処理された二酸化チタンの性質をエナ
メルに関して改善する結果をもたらす。
濾過及び洗滌の後、過剰の塩基は好ましくは再び大部分
除去される。水酸化ナトリウム及び/または水酸化カリ
ウムを用いた場合、これは例えば塩酸、硝酸及び/また
は燐酸でpH7〜2に調整し、そして生成されたナトリ
ウム及び/またはカリウムの塩を再濾過及び洗滌するこ
とによって行なわれる。熱処理または加圧処理の如き濾
過及び洗滌の改良手段は、この段階においても適用しう
る。
除去される。水酸化ナトリウム及び/または水酸化カリ
ウムを用いた場合、これは例えば塩酸、硝酸及び/また
は燐酸でpH7〜2に調整し、そして生成されたナトリ
ウム及び/またはカリウムの塩を再濾過及び洗滌するこ
とによって行なわれる。熱処理または加圧処理の如き濾
過及び洗滌の改良手段は、この段階においても適用しう
る。
他の好ましい一態様において、塩基としてアンモニアが
用いられる。生成されたアンモニウム塩もまた酸でpH
7〜2に調整した後、濾過及び洗滌によって除去するこ
とができる。しかし有利にはスプレー乾燥の後400〜
800 ’Cで熱処理することにより除去することもで
き、これにより第二回の濾過サイクルの必要性をなくす
ることができる。
用いられる。生成されたアンモニウム塩もまた酸でpH
7〜2に調整した後、濾過及び洗滌によって除去するこ
とができる。しかし有利にはスプレー乾燥の後400〜
800 ’Cで熱処理することにより除去することもで
き、これにより第二回の濾過サイクルの必要性をなくす
ることができる。
好ましい一態様において、補助剤は適当な形態で、洗滌
された実質的に塩を含まない二酸化チタン水和物にスプ
レー乾燥の前に添加することができ、これは最終製品中
に大部分元素Mg、Ca。
された実質的に塩を含まない二酸化チタン水和物にスプ
レー乾燥の前に添加することができ、これは最終製品中
に大部分元素Mg、Ca。
Sr、Ba、Sn、Sb%Bi%Y、Zr、Zn。
V、Nb、W及び/またはMoの酸化物、燐酸塩及び/
または珪酸塩として、及び/または元素P及び/または
Slの酸化物として、二酸化チタンに基づき、101i
量%までの量、好ましくは7重量%までの量で存在する
。
または珪酸塩として、及び/または元素P及び/または
Slの酸化物として、二酸化チタンに基づき、101i
量%までの量、好ましくは7重量%までの量で存在する
。
補助剤は上記した金属の塩、例えば炭酸塩、硝酸塩、塩
化物、弗化物、珪酸塩、燐酸塩または酸化物である。
化物、弗化物、珪酸塩、燐酸塩または酸化物である。
バインダー例えば水ガラス、カルボキシメチルセルロー
スまたはポリビニルアルコール、及び/または解膠剤例
えばポリホスフェート、またはポリアクリレートをTi
0z水和物に燻焼前に0゜1〜5重量%の量で添加する
ことができる。
スまたはポリビニルアルコール、及び/または解膠剤例
えばポリホスフェート、またはポリアクリレートをTi
0z水和物に燻焼前に0゜1〜5重量%の量で添加する
ことができる。
スプレー乾燥法は排空気の温度90°C以上、好ましく
は140°C以上で行なわれる。この目的のため、補助
剤は随時実質的に塩を含まないTie、懸濁液に添加さ
れ、次いでこれを乾燥塔中へ固形分含量〉25重ヨー、
好ましくは〉35重量%で、−成分もしくは多成分ノズ
ルを通じまたは遠心力噴霧ディスクを通じて導入する。
は140°C以上で行なわれる。この目的のため、補助
剤は随時実質的に塩を含まないTie、懸濁液に添加さ
れ、次いでこれを乾燥塔中へ固形分含量〉25重ヨー、
好ましくは〉35重量%で、−成分もしくは多成分ノズ
ルを通じまたは遠心力噴霧ディスクを通じて導入する。
送給懸濁液の固形分高含量及びスプレー乾燥基中の高乾
燥温度はいずれも粒体の安定性に好ましい影響を有し、
従ってTie、のエナメルに対する加工性に対し好まし
い影響を及ぼす。。
燥温度はいずれも粒体の安定性に好ましい影響を有し、
従ってTie、のエナメルに対する加工性に対し好まし
い影響を及ぼす。。
Ti1t含量及び粒体の安定性は、スプレー乾燥された
粉末に対し随時続いて行なわれる200〜800℃、好
ましくは400〜600℃で行なわれる条件調整によっ
て増大される。
粉末に対し随時続いて行なわれる200〜800℃、好
ましくは400〜600℃で行なわれる条件調整によっ
て増大される。
例えば硫酸法による顔料の製造において得られる如き、
BET表面50〜500m”/gををする硫酸含有二酸
化チタン水和物は、本発明による製造法のための出発材
料として好ましく用いられる。
BET表面50〜500m”/gををする硫酸含有二酸
化チタン水和物は、本発明による製造法のための出発材
料として好ましく用いられる。
本発明による二酸化チタンは琺瑯または溶融エナメルの
製造における不透明化剤として用いることができる。
製造における不透明化剤として用いることができる。
下記の実施例1及び2は本発明を、何ら制限することな
く、説明するためのものである。
く、説明するためのものである。
実施例I
Tie、含有25.5重量%、硫酸塩含量、Tie2に
基づき、7,5重量%、BET表面280m’/gを有
する二酸化チタン水和物水性懸濁液を水酸化ナトリウム
でpH8に調整し、1時間90℃に加熱し、濾過しそし
て洗滌して塩を除き、H,O中へ再懸濁し、硫酸でpH
4に調整し、再濾過しそして洗滌して塩を除く。固形分
含量40重量%を有する濾過ケーキを再懸濁する。Ti
e2に基づき0.5重量%のP、0.を懸濁液に添加し
、これを遠心力噴霧ディスクを有するスプレー乾燥機中
で排空気温度170°Cで乾燥する。
基づき、7,5重量%、BET表面280m’/gを有
する二酸化チタン水和物水性懸濁液を水酸化ナトリウム
でpH8に調整し、1時間90℃に加熱し、濾過しそし
て洗滌して塩を除き、H,O中へ再懸濁し、硫酸でpH
4に調整し、再濾過しそして洗滌して塩を除く。固形分
含量40重量%を有する濾過ケーキを再懸濁する。Ti
e2に基づき0.5重量%のP、0.を懸濁液に添加し
、これを遠心力噴霧ディスクを有するスプレー乾燥機中
で排空気温度170°Cで乾燥する。
得られた生成物は、TiO2含量92.0重量%、硫酸
塩含量、TiO2に基づき、0.2重量%、アルカリ酸
化物含量、TiO2に基づき、0.1重量%、塩化物含
量、TiO2に基づき、0.4重量%、P、OS含量、
TiO2に基づき、0.5重量%、H20含量、T i
O、に基づき、6.7重量%、BET表面280m2
/g、第一次粒子径0.01 p ms見掛は比重0.
45kg/l及び平均凝集粒体径80μmを有し、そし
て非晶性及び結晶性アナターゼとして存在する。
塩含量、TiO2に基づき、0.2重量%、アルカリ酸
化物含量、TiO2に基づき、0.1重量%、塩化物含
量、TiO2に基づき、0.4重量%、P、OS含量、
TiO2に基づき、0.5重量%、H20含量、T i
O、に基づき、6.7重量%、BET表面280m2
/g、第一次粒子径0.01 p ms見掛は比重0.
45kg/l及び平均凝集粒体径80μmを有し、そし
て非晶性及び結晶性アナターゼとして存在する。
生成物は非粘着性で自由流動性であり、そしてボロン−
チタンホワイトエナメルフリット中ですぐれた混合及び
熟成挙動を示す。施用及び焼成後、高い反射性、高い乳
白化力及び好ましいカラーのエナメル仕上げが得られる
。
チタンホワイトエナメルフリット中ですぐれた混合及び
熟成挙動を示す。施用及び焼成後、高い反射性、高い乳
白化力及び好ましいカラーのエナメル仕上げが得られる
。
実施例2
実施例1中に記載の如き二酸化チタン水和物懸濁液をア
ンモニアでpH8に調整し、濾過しそして洗滌して塩を
除く。残渣を水中に取って35重量%の懸濁液とし、こ
れを次に噴霧ノズルを有するスプレー乾燥機中で排空気
温度140°Cで乾燥しそして30分間500℃で条件
調整する。得られた生成物は、Tie、含量97重量%
、硫酸塩含量、Ti01に基づき、0.25重量%、H
2o含量、Ti0z4:m基づき、1.7重量%、BE
T表面125m2/g、見掛は比重0.6kg/l、第
一次粒子径0.03μm及び平均凝集粒体径185μm
を有しそして主として結晶性アナターゼとして存在する
。
ンモニアでpH8に調整し、濾過しそして洗滌して塩を
除く。残渣を水中に取って35重量%の懸濁液とし、こ
れを次に噴霧ノズルを有するスプレー乾燥機中で排空気
温度140°Cで乾燥しそして30分間500℃で条件
調整する。得られた生成物は、Tie、含量97重量%
、硫酸塩含量、Ti01に基づき、0.25重量%、H
2o含量、Ti0z4:m基づき、1.7重量%、BE
T表面125m2/g、見掛は比重0.6kg/l、第
一次粒子径0.03μm及び平均凝集粒体径185μm
を有しそして主として結晶性アナターゼとして存在する
。
生成物は非粘着性で自由流動性であり、モして硼化チタ
ンホワイトエナメルフリット中ですぐれた混合及び熟成
挙動を示す。施用及び焼成後、高い反射性、高い乳白化
力及び好ましいカラーのエナメル仕上げが得られる。
ンホワイトエナメルフリット中ですぐれた混合及び熟成
挙動を示す。施用及び焼成後、高い反射性、高い乳白化
力及び好ましいカラーのエナメル仕上げが得られる。
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
■、少くとも87重量%のTi0z含量、TiO2に基
づき0.45重量%またはそれ以下の硫酸塩含量、Ti
O2に基づき0.5重量%より少ないアルカリ酸化物含
量、TiO2に基づき12重量%より少ない水含量、3
0〜500m2/gのBET表面、0.2〜0.8kg
/lの見掛は比重、0.005〜0.1pmの第一次粒
子径及び30〜500μmの平均凝集粒体径を有し、そ
してTie、は非晶形または結晶性アナターゼ形または
両者の混合形態にあることを特徴とする二酸化チタン組
成物。
づき0.45重量%またはそれ以下の硫酸塩含量、Ti
O2に基づき0.5重量%より少ないアルカリ酸化物含
量、TiO2に基づき12重量%より少ない水含量、3
0〜500m2/gのBET表面、0.2〜0.8kg
/lの見掛は比重、0.005〜0.1pmの第一次粒
子径及び30〜500μmの平均凝集粒体径を有し、そ
してTie、は非晶形または結晶性アナターゼ形または
両者の混合形態にあることを特徴とする二酸化チタン組
成物。
2、硫酸塩含量はTiO2に基づき0.3重量%より小
である上記第1項記載の二酸化チタン組成物。
である上記第1項記載の二酸化チタン組成物。
3、アルカリ酸化物含量はTie2に基づき0.2重量
%より小である上記第1項記載の二酸化チタン組成物。
%より小である上記第1項記載の二酸化チタン組成物。
4、少くとも一つの金属Mg、Ca、Sr。
Bas Sn%sb、 Bi、y、Zr%Zns V%
W及びMoの少くとも一つの酸化物、燐酸塩または珪酸
塩、または元素PまたはSiの酸化物、またはその混合
物をTiO2に基づき10重量%までの量で含有する上
記第1項記載の二酸化チタン組成物。
W及びMoの少くとも一つの酸化物、燐酸塩または珪酸
塩、または元素PまたはSiの酸化物、またはその混合
物をTiO2に基づき10重量%までの量で含有する上
記第1項記載の二酸化チタン組成物。
5、酸−含有二酸化チタン水和物を塩基でpH7〜13
に調整し、次いでこれを濾過しそして洗滌し、そして得
られる生成物を次にスプレー乾燥することを特徴とする
上記第1項記載の二酸化チタンの製造方法。
に調整し、次いでこれを濾過しそして洗滌し、そして得
られる生成物を次にスプレー乾燥することを特徴とする
上記第1項記載の二酸化チタンの製造方法。
6、酸−含有二酸化チタンは硫酸を含有しそして硫酸法
による顔料製造における加水分解後にBET表面50〜
500m2/gをもって得られたものである上記第5項
記載の方法。
による顔料製造における加水分解後にBET表面50〜
500m2/gをもって得られたものである上記第5項
記載の方法。
7.塩基は水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムであ
り、そして過剰の塩基は濾過及び洗滌後に酸でpHを2
〜7に調整しそしてそこで生成されたナトリウム塩また
はカリウム塩を再−濾過及び洗滌することによって除去
する上記第5項記載の方法。
り、そして過剰の塩基は濾過及び洗滌後に酸でpHを2
〜7に調整しそしてそこで生成されたナトリウム塩また
はカリウム塩を再−濾過及び洗滌することによって除去
する上記第5項記載の方法。
8、水和物のpH調整後、得られた混合物を0゜1−1
0時間、40℃ないし混合物の還流温度の温度に加熱す
る上記第5項記載の方法。
0時間、40℃ないし混合物の還流温度の温度に加熱す
る上記第5項記載の方法。
9、スプレー乾燥は90℃以上の温度で行なわれる上記
第5項記載の方法。
第5項記載の方法。
lO,スプレー乾燥後、乾燥生成物を200〜800°
Cにおける加熱処理により条件調整する上記第5項記載
の方法。
Cにおける加熱処理により条件調整する上記第5項記載
の方法。
11、塩基はアンモニアでありそして過剰のアンモニア
及び生成されたアンモニウム塩を400〜800°Cに
おける熱処理によって除去する上記第5項記載の方法。
及び生成されたアンモニウム塩を400〜800°Cに
おける熱処理によって除去する上記第5項記載の方法。
12、不透明化剤が上記第1項記載の二酸化チタン組成
物であることを特徴とする改善された不透明化剤含有琺
瑯または溶融エナメル。
物であることを特徴とする改善された不透明化剤含有琺
瑯または溶融エナメル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、少くとも87重量%のTiO_2含量、TiO_2
に基づき0.45重量%またはそれ以下の硫酸塩含量、
TiO_2に基づき0.5重量%より少ないアルカリ酸
化物含量、TiO_2に基づき12重量%より少ない水
含量、30〜500m^2/gのBET表面、0.2〜
0.8kg/lの見掛け比重、0.005〜0.1μm
の第一次粒子径及び30〜500μmの平均凝集粒状体
径を有し、そしてTiO_2は非晶形または結晶性アナ
ターゼ形または両者の混合形態にあることを特徴とする
二酸化チタン組成物。 2、酸−含有二酸化チタン水和物を塩基でpH7〜13
に調整し、次いでこれを濾過しそして洗滌し、そして得
られる生成物を次にスプレー乾燥することを特徴とする
請求項1記載の二酸化チタンの製造方法。 3、不透明化剤が請求項1記載の二酸化チタン組成物で
あることを特徴とする改善された不透明化剤含有琺瑯ま
たは溶融エナメル。
Applications Claiming Priority (2)
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---|---|---|---|---|
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DE19800881A1 (de) * | 1998-01-13 | 1999-07-15 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zur Herstellung von TiO¶2¶ nach dem Sulfatverfahren |
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-
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- 1989-11-27 FI FI895659A patent/FI895659A/fi not_active Application Discontinuation
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- 1989-11-28 ZA ZA899054A patent/ZA899054B/xx unknown
- 1989-11-29 JP JP1307864A patent/JPH02184527A/ja active Pending
- 1989-11-29 BR BR898906003A patent/BR8906003A/pt unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008519750A (ja) * | 2004-11-11 | 2008-06-12 | バーゼル・ポリオレフィン・イタリア・ソチエタ・ア・レスポンサビリタ・リミタータ | チタン化合物を含有する廃液からTiO2粉末の製造 |
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AU4559289A (en) | 1990-06-07 |
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