JPH02179645A - 光重合によって架橋できる層用現像溶剤およびレリーフフォームの製法 - Google Patents
光重合によって架橋できる層用現像溶剤およびレリーフフォームの製法Info
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- 239000002904 solvent Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 21
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 abstract description 9
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 abstract description 8
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 abstract description 6
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 52
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N indane Chemical compound C1=CC=C2CCCC2=C1 PQNFLJBBNBOBRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 antiozonants Substances 0.000 description 7
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N butylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1 OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000001510 limonene Nutrition 0.000 description 4
- 229940087305 limonene Drugs 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N tert-butylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HYFLWBNQFMXCPA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-methylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C HYFLWBNQFMXCPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical class CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIPKSKMDTAQBDJ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,3-dihydro-1h-indene Chemical compound C1=CC=C2C(C)CCC2=C1 FIPKSKMDTAQBDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLCSFXXPPANWQY-UHFFFAOYSA-N 3-ethyltoluene Chemical compound CCC1=CC=CC(C)=C1 ZLCSFXXPPANWQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWATWSYOIIXYMA-UHFFFAOYSA-N Pentylbenzene Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1 PWATWSYOIIXYMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- QUEBYVKXYIKVSO-UHFFFAOYSA-N m-propyltoluene Chemical compound CCCC1=CC=CC(C)=C1 QUEBYVKXYIKVSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006218 1-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JXFVMNFKABWTHD-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=C(C)C=C1 JXFVMNFKABWTHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N N-Nitrosodiphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(N=O)C1=CC=CC=C1 UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBQRUYIOTHNGOP-UHFFFAOYSA-N benzo[c][2,1]benzoxaphosphinine 6-oxide Chemical compound C1=CC=C2P(=O)OC3=CC=CC=C3C2=C1 VBQRUYIOTHNGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- RTACIUYXLGWTAE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 RTACIUYXLGWTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 1
- GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)O GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- KXUHSQYYJYAXGZ-UHFFFAOYSA-N isobutylbenzene Chemical compound CC(C)CC1=CC=CC=C1 KXUHSQYYJYAXGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930003658 monoterpene Natural products 0.000 description 1
- 150000002773 monoterpene derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000002577 monoterpenes Nutrition 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LXCJGJYAOVCKLO-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-n-hydroxynitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1CCCCC1 LXCJGJYAOVCKLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000004005 nitrosamines Chemical class 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N ortho-diethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- ILLKMACMBHTSHP-UHFFFAOYSA-N tetradecaethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO ILLKMACMBHTSHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/325—Non-aqueous compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光重合によって架橋でき且つエラストマー重
合体をベースとする結合剤、それと相容性の光重合性単
量体および光開始剤を含む層用現像溶剤に関する。
合体をベースとする結合剤、それと相容性の光重合性単
量体および光開始剤を含む層用現像溶剤に関する。
造像的に露光した後、現像し、洗い落とす光重合架橋性
層によってレリーフフオーム(rel 1error+
ms)、特にフレキソ印刷版を製造することは以前から
既知である。
層によってレリーフフオーム(rel 1error+
ms)、特にフレキソ印刷版を製造することは以前から
既知である。
これらのフオームの製造のためには、光重合体層は、化
学線に造像的に露光している。次いで、レリーフは、現
像溶剤(developlng 5olvent)を使
用して、層の未露光部、従って、未架橋部を洗い落とす
ことによって形成できる。現像溶剤は、層の未架橋部を
できるだけ迅速に溶解すべきであり、一方、溶剤は、版
が迅速に乾燥するように、層の架橋部からできる限り最
大限容易に除去できなければならない。
学線に造像的に露光している。次いで、レリーフは、現
像溶剤(developlng 5olvent)を使
用して、層の未露光部、従って、未架橋部を洗い落とす
ことによって形成できる。現像溶剤は、層の未架橋部を
できるだけ迅速に溶解すべきであり、一方、溶剤は、版
が迅速に乾燥するように、層の架橋部からできる限り最
大限容易に除去できなければならない。
この理由で、低沸点現像溶剤が、現在一般に使用されて
いる。
いる。
DE−A第22 15 090号明細書に記載の好適な
溶剤の例としては、メチルエチルケトン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、四塩化炭素、トリクロロエタン、ト
リクロロエチレン、メチルクロロホルムおよびテトラク
ロロエタン、およびこれらの混合物が挙げられている。
溶剤の例としては、メチルエチルケトン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、四塩化炭素、トリクロロエタン、ト
リクロロエチレン、メチルクロロホルムおよびテトラク
ロロエタン、およびこれらの混合物が挙げられている。
毒性であり且つ処分上の問題を生ずることが、前記塩素
化炭化水素の不利な点である。塩素化炭化水素を現像溶
剤として使用するならば、除去すべき層の部分は、プレ
ート上に依然としてありながら、非常に強く膨潤し、そ
して未架橋層部分の溶解成分の濃度が現像溶剤中で増大
するにつれて、溶剤の粘度は急激に上がる。その結果、
現像溶剤の容量は、非常に限定され且つ溶剤は、既に固
形分5%で役に立たな(される。粘度の激増の更に他の
結果は、プレートが固形分5%未満においてさえ非常に
遅く現像することである。更に、ニトリルゴムをエラス
トマーとして含有するプレートの現像は、非常に遅い。
化炭化水素の不利な点である。塩素化炭化水素を現像溶
剤として使用するならば、除去すべき層の部分は、プレ
ート上に依然としてありながら、非常に強く膨潤し、そ
して未架橋層部分の溶解成分の濃度が現像溶剤中で増大
するにつれて、溶剤の粘度は急激に上がる。その結果、
現像溶剤の容量は、非常に限定され且つ溶剤は、既に固
形分5%で役に立たな(される。粘度の激増の更に他の
結果は、プレートが固形分5%未満においてさえ非常に
遅く現像することである。更に、ニトリルゴムをエラス
トマーとして含有するプレートの現像は、非常に遅い。
DE−A第22 15 090号明細書に明記の非塩
素化炭化水素のうちには、ベンゼン、トルエンおよびキ
シレンが記載されている。
素化炭化水素のうちには、ベンゼン、トルエンおよびキ
シレンが記載されている。
これらの溶剤は、易燃性であるという不利を有し、更に
層の苛酷な膨潤をもたらし、従って、プレートの遅い現
像および遅い乾燥をもたらす。
層の苛酷な膨潤をもたらし、従って、プレートの遅い現
像および遅い乾燥をもたらす。
低い引火点のため、これらの溶剤は、更に防爆ではない
現像装置で使用することができない。
現像装置で使用することができない。
DE−A第36 00 116号明細書は、必須成分と
して、分枝であるか1個または3個のオレフィン二重結
合を有する環式であるか飽和であるか1〜3個のオレフ
ィン二重結合を有する脂環式である炭化水素、アルコー
ルまたはケトンを含有する比較的高沸点現像溶剤を記載
している。モノテルペンが、特に挙げられている。例で
使用されているリモネンは、良好な現像特性を有するこ
とがあるが、酸素に感受性であり且つ皮膚を刺激し、こ
れらの性質は現像溶剤では存在すべきではない。また、
非常に遅い現像のみを可能にし且つ層から除去すること
が困難であることが、リモネンの不利な点である。更に
、ニトリルゴムを含有するプレートは、合理的な時間内
で現像することができない。
して、分枝であるか1個または3個のオレフィン二重結
合を有する環式であるか飽和であるか1〜3個のオレフ
ィン二重結合を有する脂環式である炭化水素、アルコー
ルまたはケトンを含有する比較的高沸点現像溶剤を記載
している。モノテルペンが、特に挙げられている。例で
使用されているリモネンは、良好な現像特性を有するこ
とがあるが、酸素に感受性であり且つ皮膚を刺激し、こ
れらの性質は現像溶剤では存在すべきではない。また、
非常に遅い現像のみを可能にし且つ層から除去すること
が困難であることが、リモネンの不利な点である。更に
、ニトリルゴムを含有するプレートは、合理的な時間内
で現像することができない。
それゆえ、本発明の目的は、
(a) ?5性ではなく、
(b)高い引火点を有し、
(c)層の膨潤を生じずに、できるだけ完全且つ迅速に
層から除去でき、 (d)層の成分を取り上げる時に粘度のできる限り最小
限の増大を示し、それゆえ、高い容量要件に無関係に、
迅速且つ過失なしに現像することが可能であり、そして (e)エラストマーとしてニトリルゴムを含有するプレ
ートの迅速な現像を生ずる 光重合体層用現像溶剤を提供することにある。
層から除去でき、 (d)層の成分を取り上げる時に粘度のできる限り最小
限の増大を示し、それゆえ、高い容量要件に無関係に、
迅速且つ過失なしに現像することが可能であり、そして (e)エラストマーとしてニトリルゴムを含有するプレ
ートの迅速な現像を生ずる 光重合体層用現像溶剤を提供することにある。
本発明の目的は、必須成分として、一般式Ic式中、R
1−R4は同じでも異なっていてもよく、H,(C1〜
C3)n−アルキルまたはイソアルキルであり、Rおよ
びR2は直接隣接しているならば、環員(好ましくは非
置換)として炭素数5または6の脂環式または芳香環を
形成してもよい〕 の芳香族化合物(但し、置換基および環員の炭素原子の
和は9〜13である)を含有することを特徴とする前記
種類の現像溶剤を提供することによって達成される。
1−R4は同じでも異なっていてもよく、H,(C1〜
C3)n−アルキルまたはイソアルキルであり、Rおよ
びR2は直接隣接しているならば、環員(好ましくは非
置換)として炭素数5または6の脂環式または芳香環を
形成してもよい〕 の芳香族化合物(但し、置換基および環員の炭素原子の
和は9〜13である)を含有することを特徴とする前記
種類の現像溶剤を提供することによって達成される。
炭素原子の数が9〜11(特に9または10)である一
般式Iの芳香族化合物が、特に好ましい。
般式Iの芳香族化合物が、特に好ましい。
同様に、置換基の和が3〜うである一般式の芳香族化合
物(但し、R1およびR2は脂環式またはシクロ芳香環
を形成するために閉じてはいない)が、好ましい。その
場合には、残りの基Rの炭素原子の和は、零であり、即
ち、RおよびR4はHを表わす。
物(但し、R1およびR2は脂環式またはシクロ芳香環
を形成するために閉じてはいない)が、好ましい。その
場合には、残りの基Rの炭素原子の和は、零であり、即
ち、RおよびR4はHを表わす。
基R1およびR2をブリッジすることによって形成でき
る環システムとしては、インダン、インデン、ナフタレ
ンおよびテトラリンが挙げられる。
る環システムとしては、インダン、インデン、ナフタレ
ンおよびテトラリンが挙げられる。
しかしながら、C9環システムインダンおよびインデン
が、好ましい。
が、好ましい。
置換基中の炭素原子の和が5であるならば、この数5は
、好ましくは、単一のペンチル基(例えば、R1−ペン
チル)によって到達される一方、R2−R4はHを表わ
す。
、好ましくは、単一のペンチル基(例えば、R1−ペン
チル)によって到達される一方、R2−R4はHを表わ
す。
置換基中の炭素原子の和が3であるならば、この数は、
好ましくは、3個のメチル基、1個のメチル基および1
個のエチル基または1個のプロピル基から生ずる。
好ましくは、3個のメチル基、1個のメチル基および1
個のエチル基または1個のプロピル基から生ずる。
置換基中の炭素原子の和が4であるならば、この数は、
4個のメチル基、1個のメチル基および1個のプロピル
基、2個のエチル基、2個のメチル基および1個のエチ
ル基または1個のブチル基から生ずる。
4個のメチル基、1個のメチル基および1個のプロピル
基、2個のエチル基、2個のメチル基および1個のエチ
ル基または1個のブチル基から生ずる。
下記の芳香族化合物が、特に好ましい:イソプロピルベ
ンゼン、n−プロピルベンゼン、1−メチル−3−エチ
ルベンゼン、1,3.5−トリメチルベンゼン、1−メ
チル−2−エチルベンゼン、1.2.4−トリメチルベ
ンゼン、イソブチルベンゼン、5ee−ブチルベンゼン
、1゜2.3−)リンチルベンゼン、1−メチル−4−
イソプロピルベンゼン、インダン、インデン、1゜3−
ジエチルベンゼン、1−メチル−4−プロピルベンゼン
、n−ブチルベンゼン、1−メチル−3−プロピルベン
ゼン、1.2.4.5−テトラメチルベンゼン、ジメチ
ルエチルベンゼン、メチルインダン、n−ペンチルベン
ゼン。
ンゼン、n−プロピルベンゼン、1−メチル−3−エチ
ルベンゼン、1,3.5−トリメチルベンゼン、1−メ
チル−2−エチルベンゼン、1.2.4−トリメチルベ
ンゼン、イソブチルベンゼン、5ee−ブチルベンゼン
、1゜2.3−)リンチルベンゼン、1−メチル−4−
イソプロピルベンゼン、インダン、インデン、1゜3−
ジエチルベンゼン、1−メチル−4−プロピルベンゼン
、n−ブチルベンゼン、1−メチル−3−プロピルベン
ゼン、1.2.4.5−テトラメチルベンゼン、ジメチ
ルエチルベンゼン、メチルインダン、n−ペンチルベン
ゼン。
本発明の現像溶剤は、個々または一般式1に対応する各
種の芳香族化合物の混合物の形態のいずれかで一般式I
の芳香族化合物を含有できる。
種の芳香族化合物の混合物の形態のいずれかで一般式I
の芳香族化合物を含有できる。
本発明に係る現像溶剤は、一般式lの芳香族化合物55
〜100重量%、特に55〜90重量%を含む。
〜100重量%、特に55〜90重量%を含む。
一般式Iの化合物に加えて、本発明の現像溶剤は、特に
重合体層が追加のポリアミド含有保護層を担持するなら
ば、添加剤として他の溶剤を含んでいてもよい。この場
合には、アルコール、特に比較的高沸点のアルコールが
、追加の溶剤とじて使用するのに好ましい。
重合体層が追加のポリアミド含有保護層を担持するなら
ば、添加剤として他の溶剤を含んでいてもよい。この場
合には、アルコール、特に比較的高沸点のアルコールが
、追加の溶剤とじて使用するのに好ましい。
本発明の現像溶剤を使用して現像すべき光重合架橋性層
の主成分は、本質上エラストマー重合体をベースとする
結合剤、この結合剤と相容性である光重合性単量体およ
び光開始剤からなる。この層は、各種の他の結合剤、単
量体または光開始剤を含んでいてもよい。
の主成分は、本質上エラストマー重合体をベースとする
結合剤、この結合剤と相容性である光重合性単量体およ
び光開始剤からなる。この層は、各種の他の結合剤、単
量体または光開始剤を含んでいてもよい。
層に含有してもよい添加剤は、染料、顔料、抗ハレーシ
ョン剤、酸化防止剤、可塑剤、オゾン亀裂防止剤、架橋
剤、:JRwJ剤、充填剤、均染剤および層の作用を改
良する他の薬剤からなる。
ョン剤、酸化防止剤、可塑剤、オゾン亀裂防止剤、架橋
剤、:JRwJ剤、充填剤、均染剤および層の作用を改
良する他の薬剤からなる。
前記層に加えてもよい更に他の補助剤は、例えば、熱重
合を防止する抑制剤、例えば、ヒドロキノンおよびその
誘導体、2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール、ニ
トロフェノール、ニトロソアミン、例えば、N−ニトロ
ソジフェニルアミン、またはN−ニトロソシクロへキシ
ルヒドロキシルアミンの塩、例えば、それらのアルカリ
金属塩またはアルミニウム塩である。
合を防止する抑制剤、例えば、ヒドロキノンおよびその
誘導体、2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール、ニ
トロフェノール、ニトロソアミン、例えば、N−ニトロ
ソジフェニルアミン、またはN−ニトロソシクロへキシ
ルヒドロキシルアミンの塩、例えば、それらのアルカリ
金属塩またはアルミニウム塩である。
光重合によって架橋できる特に好ましい層は、共役脂肪
族ジエン(その単量体単位は4〜5個の炭素原子を有す
る)の重合体からなる結合剤を含有するものである。こ
れらのうち、下記のものが特に挙げられる:天然ゴム、
ブタジェンおよびイソプレンの単独重合体、ブタジェン
とイソプレンとの共重合体、ブタジェンおよび/または
イソプレンとスチレン、ビニルトルエン、アクリロニト
リル、(メタ)アクリル酸アルキルエステルなどの他の
単量体との共重合体、例えば、EP−A第064 56
4号明細書に係るニトリルゴム、スチレン/ブタジェン
、スチレン/イソプレン、およびスチレン/イソプレン
/ブタジェンのランダム共重合体、またはスチレン含量
10〜50重量%を有するスチレン単量体とブタジェン
および/またはイソプレンとのブロック重合体。この種
のエラストマーは、DE−B第22 15 090号明
細書、DE−A第24 56 439号明細書、DE−
A第29 42 183号明細書、およびDE−A第2
1 38 582号明細書に記載されている。
族ジエン(その単量体単位は4〜5個の炭素原子を有す
る)の重合体からなる結合剤を含有するものである。こ
れらのうち、下記のものが特に挙げられる:天然ゴム、
ブタジェンおよびイソプレンの単独重合体、ブタジェン
とイソプレンとの共重合体、ブタジェンおよび/または
イソプレンとスチレン、ビニルトルエン、アクリロニト
リル、(メタ)アクリル酸アルキルエステルなどの他の
単量体との共重合体、例えば、EP−A第064 56
4号明細書に係るニトリルゴム、スチレン/ブタジェン
、スチレン/イソプレン、およびスチレン/イソプレン
/ブタジェンのランダム共重合体、またはスチレン含量
10〜50重量%を有するスチレン単量体とブタジェン
および/またはイソプレンとのブロック重合体。この種
のエラストマーは、DE−B第22 15 090号明
細書、DE−A第24 56 439号明細書、DE−
A第29 42 183号明細書、およびDE−A第2
1 38 582号明細書に記載されている。
光重合によって架橋できる層は、一般に、結合剤20〜
95重量%、好ましくは30〜95重量%を含有する。
95重量%、好ましくは30〜95重量%を含有する。
1以上の重合性オレフィン二重結合を有する好適な単量
体は、特にアクリル酸およびメタクリル酸のエステルお
よびアミドである。例は、エチレングリコール、ジー
トリー、テトラ−、ポリエチレングリコール(後者は好
ましくは10〜15個のエチレングリコール単位を有す
る)、1.3−プロパンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール1、ドデカンジオール、グリセロール、1,1.
1−トリメチロールプロパン、1.2.4−ブタントリ
オール、ペンタエリトルトールなどの一価または多価ア
ルコールの相容性モノおよびジアクリレートおよびモノ
およびジメタクリレート、例えば、エチレングリコール
モノメタクリレ−)、1. 3−プロパンジオールモノ
メタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘ
キサンジオールジメタクリレート、2−エチルへキシル
アクリレート、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ス
テアリル、グリセロールモノまたはジアクリレート、1
.2.4−ブタントリオールモノメタクリレート、ペン
タエリトリトールトリアクリレート、ポリエチレングリ
コールメチルエーテルアクリレート、テトラデカエチレ
ングリコールジメタクリレートまたはグリセロールとN
−メチロールアクリルアミドまたはメタクリルアミド3
モルとのトリエーテルである。層に含有される単量体の
量は、一般に、組成物の不揮発性成分の約1〜7Off
i量%、好ましくは約2〜50重量%である。
体は、特にアクリル酸およびメタクリル酸のエステルお
よびアミドである。例は、エチレングリコール、ジー
トリー、テトラ−、ポリエチレングリコール(後者は好
ましくは10〜15個のエチレングリコール単位を有す
る)、1.3−プロパンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール1、ドデカンジオール、グリセロール、1,1.
1−トリメチロールプロパン、1.2.4−ブタントリ
オール、ペンタエリトルトールなどの一価または多価ア
ルコールの相容性モノおよびジアクリレートおよびモノ
およびジメタクリレート、例えば、エチレングリコール
モノメタクリレ−)、1. 3−プロパンジオールモノ
メタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘ
キサンジオールジメタクリレート、2−エチルへキシル
アクリレート、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ス
テアリル、グリセロールモノまたはジアクリレート、1
.2.4−ブタントリオールモノメタクリレート、ペン
タエリトリトールトリアクリレート、ポリエチレングリ
コールメチルエーテルアクリレート、テトラデカエチレ
ングリコールジメタクリレートまたはグリセロールとN
−メチロールアクリルアミドまたはメタクリルアミド3
モルとのトリエーテルである。層に含有される単量体の
量は、一般に、組成物の不揮発性成分の約1〜7Off
i量%、好ましくは約2〜50重量%である。
使用できる光開始剤は、記録材料の加工において十分な
熱安定性を示し且つ露光時に十分な数の遊離基を形成す
ることによって単量体の重合を開始する既知化合物であ
る。光開始剤は、約250〜500 nmの波長領域内
の光を吸収してプロセスでラジカルを形成すべきである
。好適な光開始剤の例は、アシロインおよびそれらの誘
導体、例えば、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテ
ル、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、vic
ジケトンおよびそれらの誘導体、例えば、ベンジル、ベ
ンジルアセタール、例えば、ベンジルジメチルケタール
、フルオレノン、チオキサントン、多核キノン、アクリ
ジンおよびキノキサリン;およびまたトリクロロメチル
−5−)リアジン、2−へロメチルー4−ビニル−1,
3,4−オキサジアゾール誘導体、トリクロロメチル基
によって置換されたハロゲン含有オキサゾール、DE−
A第33 33 450号明細書に係るトリハロメチル
基を含有するカルボニルメチレン複素環式化合物、例え
ば、DE−A第 31 33 419号明細書にfCi載のようなアシル
ホスフィンオキシト化合物および他のリン含有光開始剤
、例えば、西独特許出願P第 38 27 735.2号明細書に記載の6−アシル−
(6H)−ジベンズ−(c、e) (1,2)−オキ
サホスホリン−6−オキシド、特に6−(2,4,6−
)リンチルベンゾイル)−(6H)−ジベンズ(c、e
)(1,2)−オキサホスホリン−6−オキシドである
。光開始剤は、互いの組み合わせで使用でき、または補
助開始剤または活性剤、例えば、ミヒラーケトンおよび
その誘導体または2−アルキルアントラキノンと併用で
きる。光開始剤の量は、一般に、層の0.01〜10重
量%、好ましくは0.5〜5重二%である。
熱安定性を示し且つ露光時に十分な数の遊離基を形成す
ることによって単量体の重合を開始する既知化合物であ
る。光開始剤は、約250〜500 nmの波長領域内
の光を吸収してプロセスでラジカルを形成すべきである
。好適な光開始剤の例は、アシロインおよびそれらの誘
導体、例えば、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテ
ル、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、vic
ジケトンおよびそれらの誘導体、例えば、ベンジル、ベ
ンジルアセタール、例えば、ベンジルジメチルケタール
、フルオレノン、チオキサントン、多核キノン、アクリ
ジンおよびキノキサリン;およびまたトリクロロメチル
−5−)リアジン、2−へロメチルー4−ビニル−1,
3,4−オキサジアゾール誘導体、トリクロロメチル基
によって置換されたハロゲン含有オキサゾール、DE−
A第33 33 450号明細書に係るトリハロメチル
基を含有するカルボニルメチレン複素環式化合物、例え
ば、DE−A第 31 33 419号明細書にfCi載のようなアシル
ホスフィンオキシト化合物および他のリン含有光開始剤
、例えば、西独特許出願P第 38 27 735.2号明細書に記載の6−アシル−
(6H)−ジベンズ−(c、e) (1,2)−オキ
サホスホリン−6−オキシド、特に6−(2,4,6−
)リンチルベンゾイル)−(6H)−ジベンズ(c、e
)(1,2)−オキサホスホリン−6−オキシドである
。光開始剤は、互いの組み合わせで使用でき、または補
助開始剤または活性剤、例えば、ミヒラーケトンおよび
その誘導体または2−アルキルアントラキノンと併用で
きる。光開始剤の量は、一般に、層の0.01〜10重
量%、好ましくは0.5〜5重二%である。
光重合によって架橋できる組成物は、厚さ0.02〜1
0+*m、好ましくは0 、 2〜6 vatsを有す
る層を形成するために溶液からの注型または押出および
カレンダー掛けによってレリーフおよびフレキソ印刷版
の製造に使用できる。層は、適当な支持体の表面に積層
でき、または組成物の溶液は層支持体に適用できる。
0+*m、好ましくは0 、 2〜6 vatsを有す
る層を形成するために溶液からの注型または押出および
カレンダー掛けによってレリーフおよびフレキソ印刷版
の製造に使用できる。層は、適当な支持体の表面に積層
でき、または組成物の溶液は層支持体に適用できる。
前記層は、レリーフ印刷版の製造に使用できるだけでは
なく、例えば、平版印刷版、グラビアシリンダー、スク
リーン印刷ステンシル、およびフォトレジストの製造に
も使用できる。
なく、例えば、平版印刷版、グラビアシリンダー、スク
リーン印刷ステンシル、およびフォトレジストの製造に
も使用できる。
所期応用に応じて、好適な支持体は、例えば、ポリエス
テルフィルム、鋼またはアルミニウムシート、銅シリン
ダー、スクリーン印刷ステンシル用支持体、発泡体層、
ゴム弾性支持体、または回路ボードからなる。また、カ
バーまたは保護層、例えば、ポリビニルアルコールまた
はポリアミドの薄層、または剥離自在のカバーフィルム
、例えば、ポリエチレンテレフタレートの剥離自在のカ
バーフィルムを感光性記録層に適用することが有利であ
ることがある。更に、支持体の予備被覆は、有利である
ことがある。支持体と感光性層との間の追加の層は、例
えば、抗ハレーション層として、または接着剤層として
作用させてもよい。
テルフィルム、鋼またはアルミニウムシート、銅シリン
ダー、スクリーン印刷ステンシル用支持体、発泡体層、
ゴム弾性支持体、または回路ボードからなる。また、カ
バーまたは保護層、例えば、ポリビニルアルコールまた
はポリアミドの薄層、または剥離自在のカバーフィルム
、例えば、ポリエチレンテレフタレートの剥離自在のカ
バーフィルムを感光性記録層に適用することが有利であ
ることがある。更に、支持体の予備被覆は、有利である
ことがある。支持体と感光性層との間の追加の層は、例
えば、抗ハレーション層として、または接着剤層として
作用させてもよい。
本発明によれば、光重合架橋レリーフフオームの製法が
、更に提供される。水洗においては、光重合によって架
橋できる層は、水銀蒸気ランプ、蛍光管などの光源の化
学線に造像的に露光する(発光される波長は230〜4
501m%好ましくは300〜420r++*である)
。層の未露光部、従って未架橋部は、噴霧、洗浄または
ブラッシングによって、本発明に係る現像溶剤によって
除去する。現像されたレリーフフオームは、適宜、12
0℃までの温度で乾燥し、そして同時または爾後のいず
れかに化学線に後露光してもよい。
、更に提供される。水洗においては、光重合によって架
橋できる層は、水銀蒸気ランプ、蛍光管などの光源の化
学線に造像的に露光する(発光される波長は230〜4
501m%好ましくは300〜420r++*である)
。層の未露光部、従って未架橋部は、噴霧、洗浄または
ブラッシングによって、本発明に係る現像溶剤によって
除去する。現像されたレリーフフオームは、適宜、12
0℃までの温度で乾燥し、そして同時または爾後のいず
れかに化学線に後露光してもよい。
本発明に係る光重合架橋レリーフフオームは、印刷フオ
ーム、特に凸版およびレリーフ印刷フオーム(フレキソ
印刷に特に好適)の製造に有利に使用される。本発明を
下記例によって説明する。
ーム、特に凸版およびレリーフ印刷フオーム(フレキソ
印刷に特に好適)の製造に有利に使用される。本発明を
下記例によって説明する。
例1
先ず、市販の蛍光管露光装置を使用して、層厚2.8m
mを有するエラストマーとしてのスチレン−イソプレン
−スチレン3ブロック重合体〔■シレル(Cyrel)
HL )をベースとする市販のフレキソ印刷版をバック
からの全露光に76秒間付した後、それと接触状態で置
かれたネガ透明を通してフロントから12分間造像的に
露光した。
mを有するエラストマーとしてのスチレン−イソプレン
−スチレン3ブロック重合体〔■シレル(Cyrel)
HL )をベースとする市販のフレキソ印刷版をバック
からの全露光に76秒間付した後、それと接触状態で置
かれたネガ透明を通してフロントから12分間造像的に
露光した。
次いで、下記に表示の組成を有し且つブタノール量15
重量%を含有する一般式Iの芳香族炭化水素の混合物を
使用して、このようにして露光された版をブラシを備え
た市販の現像装置中で現像した。最適の結果を達成する
ための現像時間は、5分であった。
重量%を含有する一般式Iの芳香族炭化水素の混合物を
使用して、このようにして露光された版をブラシを備え
た市販の現像装置中で現像した。最適の結果を達成する
ための現像時間は、5分であった。
次いで、フレキソ印刷フオームを60℃で2時間乾燥し
、室温で15時間貯蔵した。臭素水溶液を使用した通例
の後処理後、優秀な品質のフレキソ印刷フオームが、得
られた。
、室温で15時間貯蔵した。臭素水溶液を使用した通例
の後処理後、優秀な品質のフレキソ印刷フオームが、得
られた。
芳香族炭化水素を含む混合物の組成:
n−プロピルベンゼンとイソプロピルベンゼンとの混合
物2.7%、 各種の異性体メチルエチルベンゼンの混合物21.5%
、 各種の異性体トリメチルベンゼンの混合物50.6%、 インダン2.6%、 各種の異性体ジメチルエチルベンゼンの混合物4.1%
、 ブチルベンゼン2.5%および 炭素数9〜11の各種のアルキルベンゼンの混合物17
%。
物2.7%、 各種の異性体メチルエチルベンゼンの混合物21.5%
、 各種の異性体トリメチルベンゼンの混合物50.6%、 インダン2.6%、 各種の異性体ジメチルエチルベンゼンの混合物4.1%
、 ブチルベンゼン2.5%および 炭素数9〜11の各種のアルキルベンゼンの混合物17
%。
例2
市販のフレキソ印刷版を例1と同様に露光した。
次いで、例1の芳香族炭化水素の混合物(しかしながら
、この混合物には2−エチルブタノール−(1)15重
量%が添加されている)を使用して、露光された版を市
販の現像装置中で現像した。最適の結果を達成するため
の現像時間は、5分であった。次いで、フレキソ印刷フ
オームを例1と同様に後処理した。優秀な品質のフレキ
ソ印刷版が、得られた。
、この混合物には2−エチルブタノール−(1)15重
量%が添加されている)を使用して、露光された版を市
販の現像装置中で現像した。最適の結果を達成するため
の現像時間は、5分であった。次いで、フレキソ印刷フ
オームを例1と同様に後処理した。優秀な品質のフレキ
ソ印刷版が、得られた。
例3
例1に係る市販のフレキソ印刷版(版サイズ18X3c
m)からカバー層を剥離した後、版を1゜3.5−トリ
メチルトルエン50m1中で5分間均一にブラッシング
した。例1と同様に乾燥し貯蔵した後、残留層厚1.2
8mmが、得られた。
m)からカバー層を剥離した後、版を1゜3.5−トリ
メチルトルエン50m1中で5分間均一にブラッシング
した。例1と同様に乾燥し貯蔵した後、残留層厚1.2
8mmが、得られた。
残留層厚(現像に利用できる時間との組み合わせで)は
、現像速度の尺度である。最初2.8m■厚の層の残留
層厚が小さければ小さい程、使用する溶剤の現像速度は
、高い。
、現像速度の尺度である。最初2.8m■厚の層の残留
層厚が小さければ小さい程、使用する溶剤の現像速度は
、高い。
例4
4−イソプロピルトルエンを現像溶剤として使用した以
外は、例3の方法に従った。残留層厚は、1.27−l
であった。
外は、例3の方法に従った。残留層厚は、1.27−l
であった。
例5
例1に記載のような脂肪族置換芳香族化合物の混合物を
現像溶剤として使用した以外は、例3の方法に従った。
現像溶剤として使用した以外は、例3の方法に従った。
測定された残留層厚は、0.88鰭であった◎
例6
例2の溶剤混合物を使用した以外は、例5の方法に従っ
た。残留層厚は、0.4+o+*であった。
た。残留層厚は、0.4+o+*であった。
例7(比較例)
フレキソ印刷版を例3に記載のように露光し、現像した
が、この場合には、リモネンを現像溶剤として使用した
。測定できた残留層厚は、1.53+a嘗であった。
が、この場合には、リモネンを現像溶剤として使用した
。測定できた残留層厚は、1.53+a嘗であった。
例8
例1に係るフレキソ印刷版をバックからの全露光に76
秒間付し、次いで、ネガ透明を使用して、フロントから
8分間露光した。カバー層を除去した後、版(直径30
mm)をメシチレン(1,3゜5−トリメチルトルエン
)50ml中で5分間入れた。その後、版を拭き取り、
60℃で2時間乾燥し、17時間貯蔵した。層の重量の
増大1.97%が、測定できた。
秒間付し、次いで、ネガ透明を使用して、フロントから
8分間露光した。カバー層を除去した後、版(直径30
mm)をメシチレン(1,3゜5−トリメチルトルエン
)50ml中で5分間入れた。その後、版を拭き取り、
60℃で2時間乾燥し、17時間貯蔵した。層の重量の
増大1.97%が、測定できた。
例9
テトラリンを現像溶剤として使用した以外は、例8に記
載の方法に従った。この場合には、重量の増大は、3.
59%であった。
載の方法に従った。この場合には、重量の増大は、3.
59%であった。
例10
例1の溶剤混合物を現像溶剤として使用した以外は、例
8に記載の方法に従った。重量の増大は、2.7%であ
った。
8に記載の方法に従った。重量の増大は、2.7%であ
った。
例11
ペルクロロエチレンを現像溶剤として使用した以外は、
例8に記載の方法に従った。現像、乾燥後の層の重量の
増大は、4.3%であった。
例8に記載の方法に従った。現像、乾燥後の層の重量の
増大は、4.3%であった。
例12
成分をフレキソ印刷版(0シレルHL)の未架橋部から
取り上げる現像溶剤の能力(容量)を測定するために、
各種の現像溶剤の粘度は、エラストマーとしてスチレン
/イソプレン/スチレンの3ブロック共重合体を含有す
るプレートの現像後の層からの成分によって生ずる異な
る固形分で測定した。
取り上げる現像溶剤の能力(容量)を測定するために、
各種の現像溶剤の粘度は、エラストマーとしてスチレン
/イソプレン/スチレンの3ブロック共重合体を含有す
るプレートの現像後の層からの成分によって生ずる異な
る固形分で測定した。
表1は、固形分5.7.5および10mm%に関してウ
ッペローデ粘度計中で25℃において測定された粘度値
を示す。本発明の現像溶剤は、固形分7.5重量%で非
常に高い現像速度を可能にする粘度を示したが、現像溶
剤中の固形分5重量%のみでのベルクロロエチレンの粘
度は、既に余りに高いので、迅速な現像をもはや保証さ
れなかった。
ッペローデ粘度計中で25℃において測定された粘度値
を示す。本発明の現像溶剤は、固形分7.5重量%で非
常に高い現像速度を可能にする粘度を示したが、現像溶
剤中の固形分5重量%のみでのベルクロロエチレンの粘
度は、既に余りに高いので、迅速な現像をもはや保証さ
れなかった。
表 1
例13
ベンジンインキでの印刷に好適であるニトリルゴム(■
シレルLP)をベースとする市販のフレキソ印刷版を例
6に記載のように15分間処理した。残留層厚は、0.
6mmであった。
シレルLP)をベースとする市販のフレキソ印刷版を例
6に記載のように15分間処理した。残留層厚は、0.
6mmであった。
例14(比較例)
市販のフレキソ印刷版([株]シレルLP)を例13に
明記のように処理した。しかしながら、使用した現像溶
剤は、リモネンであった。版は、現像できなかった。
明記のように処理した。しかしながら、使用した現像溶
剤は、リモネンであった。版は、現像できなかった。
例15(比較例)
市販のフレキソ印刷版を例13と同様に処理した。しか
しながら、使用した現像溶剤は、n−ブタノール15重
量%と一緒のベルクロロエチレンからなっていた。現像
時間15分後、残留層厚は、1.21龍であった。
しながら、使用した現像溶剤は、n−ブタノール15重
量%と一緒のベルクロロエチレンからなっていた。現像
時間15分後、残留層厚は、1.21龍であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光重合によって架橋でき且つエラストマー重合体を
ベースとする結合剤、これと相容性の光重合性単量体お
よび光開始剤を含む層用現像溶剤であって、必須成分と
して、一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1〜R^4は同じでも異なっていてもよく
、H、(C_1〜C_5)n−アルキルまたはイソアル
キルを表わし、R^1およびR^2は直接隣接している
ならば、環員(好ましくは非置換)として炭素数5また
は6の脂環式または芳香環を形成してもよい〕 の芳香族化合物(但し、置換基および環員の炭素原子の
和は9〜13である)を含有することを特徴とする現像
溶剤。 2、一般式 I の芳香族化合物55〜100重量%、特
に55〜90重量%を含む、請求項1に記載の現像溶剤
。 3、溶剤が、特に添加剤として比較的高沸点のアルコー
ルを含有する、請求項1または2に記載の現像溶剤。 4、光重合によって架橋できる層を造像的に露光し、層
の未架橋部を現像溶剤(現像溶剤は請求項1ないし3の
いずれか1項に記載の芳香族化合物を含有する)によっ
て洗い落とすことを特徴とする光重合架橋レリーフフォ
ームの製法。 5、洗い落とした後、レリーフフォームを 120℃までの温度で乾燥し、そして同時または爾後の
いずれかに化学線に後露光する、請求項4に記載の方法
。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3836403.4 | 1988-10-26 | ||
DE3836403A DE3836403A1 (de) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02179645A true JPH02179645A (ja) | 1990-07-12 |
JP2929546B2 JP2929546B2 (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=6365924
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1279618A Expired - Lifetime JP2929546B2 (ja) | 1988-10-26 | 1989-10-26 | 光重合によって架橋できる層用現像溶剤およびレリーフフォームの製法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5516623A (ja) |
EP (1) | EP0365988B1 (ja) |
JP (1) | JP2929546B2 (ja) |
AU (1) | AU614674B2 (ja) |
CA (1) | CA2001490C (ja) |
DE (2) | DE3836403A1 (ja) |
ES (1) | ES2056176T3 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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DE4020374A1 (de) * | 1990-06-27 | 1992-01-02 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung photopolymerer flexographischer reliefdruckplatten |
DE4022221A1 (de) * | 1990-07-12 | 1992-01-23 | Basf Magnetics Gmbh | Magnetband mit schleifmittel |
JP3095273B2 (ja) * | 1991-11-12 | 2000-10-03 | 東京応化工業株式会社 | フレキソ印刷版用現像液 |
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US6818049B1 (en) | 1998-05-05 | 2004-11-16 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Environmentally preferred fluids and fluid blends |
US6280519B1 (en) | 1998-05-05 | 2001-08-28 | Exxon Chemical Patents Inc. | Environmentally preferred fluids and fluid blends |
US8349185B2 (en) | 2010-10-20 | 2013-01-08 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for rebalancing a multicomponent solvent solution |
US8530142B2 (en) | 2011-03-15 | 2013-09-10 | Eastman Kodak Company | Flexographic printing plate precursor, imaging assembly, and use |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL101499C (ja) * | 1951-08-20 | |||
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DE2454399C2 (de) * | 1974-11-16 | 1981-09-24 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Ablösemittel für Fotolacke |
FR2455076A1 (fr) * | 1979-04-24 | 1980-11-21 | Rhone Poulenc Ind | Composition pour l'elimination des resines photoresistantes |
SU866793A1 (ru) * | 1979-12-21 | 1981-09-23 | Проектно-Технологический И Научно-Исследовательский Институт | Состав дл удалени фоторезиста на каучуковой основе |
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JPS58137836A (ja) * | 1982-02-10 | 1983-08-16 | Toshiba Corp | ゴム系レジストの処理剤 |
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JPH0717737B2 (ja) * | 1987-11-30 | 1995-03-01 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性熱硬化性樹脂組成物及びソルダーレジストパターン形成方法 |
US5312719A (en) * | 1988-10-26 | 1994-05-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Developing solvent for layers which are crosslinkable by photopolymerization and process for the production of relief forms |
DE3908763A1 (de) * | 1989-03-17 | 1990-09-27 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungselement mit einer aufzeichnungsschicht und einer deckschicht unterschiedlicher loeslichkeitseigenschaften sowie verfahren zu seiner entwicklung in einem arbeitsgang |
DE3908764C2 (de) * | 1989-03-17 | 1994-08-11 | Basf Ag | Entwickler für die Herstellung photopolymerisierter flexographischer Reliefdruckformen |
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1988
- 1988-10-26 DE DE3836403A patent/DE3836403A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-10-18 DE DE58907886T patent/DE58907886D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-18 ES ES89119314T patent/ES2056176T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-18 EP EP89119314A patent/EP0365988B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-25 CA CA002001490A patent/CA2001490C/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-25 AU AU43749/89A patent/AU614674B2/en not_active Expired
- 1989-10-26 JP JP1279618A patent/JP2929546B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-02-23 US US08/392,673 patent/US5516623A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5516623A (en) | 1996-05-14 |
AU4374989A (en) | 1990-05-03 |
ES2056176T3 (es) | 1994-10-01 |
CA2001490C (en) | 2001-07-17 |
EP0365988B1 (de) | 1994-06-15 |
DE58907886D1 (de) | 1994-07-21 |
DE3836403A1 (de) | 1990-05-03 |
CA2001490A1 (en) | 1990-04-26 |
JP2929546B2 (ja) | 1999-08-03 |
EP0365988A2 (de) | 1990-05-02 |
AU614674B2 (en) | 1991-09-05 |
EP0365988A3 (en) | 1990-12-12 |
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