JPH02282256A - 非粘着性表面を有するレリーフ印刷版の製法 - Google Patents
非粘着性表面を有するレリーフ印刷版の製法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
- G03F7/405—Treatment with inorganic or organometallic reagents after imagewise removal
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野−1
本発明は、
(i )(a+)少なくとも1種の酸基含有ポリマー結
合剤、 (a2)酸基含有ポリマー結合剤(a2)と相容性であ
る、少なくとも1種のオレフィン系不飽和光重合性モノ
マー及び (a3)少なくとも1種の光重合開始剤を含(fする光
重合性レリーフ形成記録層(A)を画像に基づき露光し
、 (2)画像に基づきPW光しノーレリーフ形成記録層(
A)の、露光されなかった、従って光重合していない領
域を現像液で洗浄(現像)し、かつ (3)こうj、で生じる光重合したレリーフ層を後処理
溶液で後処理4゛ることに、j−リ、光i[i合性レリ
ーフ層が非粘着性表面を有ずろ■ノリーフ印刷板を製造
する方法に関する。
合剤、 (a2)酸基含有ポリマー結合剤(a2)と相容性であ
る、少なくとも1種のオレフィン系不飽和光重合性モノ
マー及び (a3)少なくとも1種の光重合開始剤を含(fする光
重合性レリーフ形成記録層(A)を画像に基づき露光し
、 (2)画像に基づきPW光しノーレリーフ形成記録層(
A)の、露光されなかった、従って光重合していない領
域を現像液で洗浄(現像)し、かつ (3)こうj、で生じる光重合したレリーフ層を後処理
溶液で後処理4゛ることに、j−リ、光i[i合性レリ
ーフ層が非粘着性表面を有ずろ■ノリーフ印刷板を製造
する方法に関する。
[従来の技術]
光重合性レリーフ形成記録層中に少なくとも1種の酸基
含有ポリマー結合剤を含有する光重合性レリーフ印刷板
、並びに更に光重合したレリーフ層をイJするレリーフ
印刷板の製造方法はドイツ連邦共和国特許出願公開第2
517043号、同国特許出願公告2.720228号
、同国特許ill願公開第29 (12412弓及び同
国特許出願公告第30128/IIづ何]I]細、1丁
、米国特許第4415649号明細書、欧州特許出願公
開第0076028舅゛明細占、米国特許第45172
79号明細占、欧州特許出願公告第0162570シJ
・、同第016270号、同第083552弓、同第0
223114弓、同第0226153ど、同第0231
002 r;又は同第02937504明細書から公知
である。
含有ポリマー結合剤を含有する光重合性レリーフ印刷板
、並びに更に光重合したレリーフ層をイJするレリーフ
印刷板の製造方法はドイツ連邦共和国特許出願公開第2
517043号、同国特許出願公告2.720228号
、同国特許ill願公開第29 (12412弓及び同
国特許出願公告第30128/IIづ何]I]細、1丁
、米国特許第4415649号明細書、欧州特許出願公
開第0076028舅゛明細占、米国特許第45172
79号明細占、欧州特許出願公告第0162570シJ
・、同第016270号、同第083552弓、同第0
223114弓、同第0226153ど、同第0231
002 r;又は同第02937504明細書から公知
である。
更に2))(I記及びその他のj[〉式の光jTiTi
−リーフ形式記録層を杓4るL・リーフ印刷板かふし製
造したレリーフ印刷板の光重合したレリーフ層を非粘着
性にするために後処理することも公り、1である。−而
で(」、ごの後処理はハI′□オゾンを含有するか又は
ハ[オゾンを遊離する後処理溶液で行われる(欧州特許
公告第0021829 吋明細書、米国特許42672
1 /I +;−明細書2)・イツ連邦共和国特許出願
公開第2823300舅明細書、米国特許第44004
59号明細、IF、欧州特許出願公開第0064564
号、同第0096835号、同第0208943と又は
同第0256309吋明細11−7参照)、又は短波長
UV光線を用いて行われる(米国特許第35()6/1
7IOシ」・、同第1141565/Iシ」、同第42
02696号明細占、欧州時1.′1出願公≦′1第0
017927号明細マI:又は欧州特許出願公開第01
5499 /1弓−明細、IF参jift )。
−リーフ形式記録層を杓4るL・リーフ印刷板かふし製
造したレリーフ印刷板の光重合したレリーフ層を非粘着
性にするために後処理することも公り、1である。−而
で(」、ごの後処理はハI′□オゾンを含有するか又は
ハ[オゾンを遊離する後処理溶液で行われる(欧州特許
公告第0021829 吋明細書、米国特許42672
1 /I +;−明細書2)・イツ連邦共和国特許出願
公開第2823300舅明細書、米国特許第44004
59号明細、IF、欧州特許出願公開第0064564
号、同第0096835号、同第0208943と又は
同第0256309吋明細11−7参照)、又は短波長
UV光線を用いて行われる(米国特許第35()6/1
7IOシ」・、同第1141565/Iシ」、同第42
02696号明細占、欧州時1.′1出願公≦′1第0
017927号明細マI:又は欧州特許出願公開第01
5499 /1弓−明細、IF参jift )。
しかしながら、?+1来公知の後処理法は欠点を有して
いる。例えば、短波長Uv光線で行う後処理はもちろん
安全技術上の理由から、特にまたレリーフ印刷板の光1
5合したレリーフ層の処理の際にそれを包囲する空気の
酸素から高い毒性のオゾンが発生し1.該オゾンが更に
なJ5光重合したレリーフ層自体を劣化するという理由
から高い設備費用を必要とする1、この劣化は、光重合
したレリーフ層の後処理を窒素雰囲気ド、水中又はアル
カリ金属又はアルカリ−14類金属亜硫酸塩水溶液中で
実施ずろことによ−・てのみ回避することができるが、
このことはまた設備費用を一層冒めろ、央にf:i !
:、短波長U V光線を用いた後処理は目頭(こ記載し
、に種類の毘・R合(7たレリーフ層の表ir+iを完
全にはJ1粘眉慴(こ1.ないか又は脆弱化4−る1、 環境保護、作業衛生及び実施+1J能f1のμ地から、
Ilj& 食1’tのハ[4・ケン含有又はハロケン遊
離後処理溶液(J欠点をイ」−ツ゛ろ。例えば、これら
の後処理溶液の成分は予め混合+、、−こユーザ′に供
給されるのでけなく、−r6−ザが該成分を使用直前に
自分て正確な量比で配合しなけらばならず1.このため
に′4Yた、最終ユーザ、即し複写技師(J既に安全技
術士の理由だ(jから専門外である ・定の化学知識を
イJ゛することを[10提条件とする。史に、後処理の
ために要する時間は極めて正確に厳守されねばならない
、それというのもさもな(3れば光重合し〕ζレリーフ
層の後処理した表面は脆弱になりかつ亀裂を形成する傾
向を小ずからである。更に、この後処理溶液はたいてい
まさに不安定でありかつごく短い耐用1時間を有するに
すぎない。そのiE確な使用時点を逃すと、予測できな
い形で実用に適しない後処理結果が得られろ。更にまノ
5−1そのようにして彼処P(1シた表rr+1にはハ
ロゲン残渣を洗い流す際に滴痕が形成され、該滴痕(,
1印刷の際に印刷結果に不快に認められる。更に、その
表面がそのような滴痕をffする光tT′i合したレリ
ーフ層は印刷過程で印刷枚数が多くなると再び粘着性に
なる。。
いる。例えば、短波長Uv光線で行う後処理はもちろん
安全技術上の理由から、特にまたレリーフ印刷板の光1
5合したレリーフ層の処理の際にそれを包囲する空気の
酸素から高い毒性のオゾンが発生し1.該オゾンが更に
なJ5光重合したレリーフ層自体を劣化するという理由
から高い設備費用を必要とする1、この劣化は、光重合
したレリーフ層の後処理を窒素雰囲気ド、水中又はアル
カリ金属又はアルカリ−14類金属亜硫酸塩水溶液中で
実施ずろことによ−・てのみ回避することができるが、
このことはまた設備費用を一層冒めろ、央にf:i !
:、短波長U V光線を用いた後処理は目頭(こ記載し
、に種類の毘・R合(7たレリーフ層の表ir+iを完
全にはJ1粘眉慴(こ1.ないか又は脆弱化4−る1、 環境保護、作業衛生及び実施+1J能f1のμ地から、
Ilj& 食1’tのハ[4・ケン含有又はハロケン遊
離後処理溶液(J欠点をイ」−ツ゛ろ。例えば、これら
の後処理溶液の成分は予め混合+、、−こユーザ′に供
給されるのでけなく、−r6−ザが該成分を使用直前に
自分て正確な量比で配合しなけらばならず1.このため
に′4Yた、最終ユーザ、即し複写技師(J既に安全技
術士の理由だ(jから専門外である ・定の化学知識を
イJ゛することを[10提条件とする。史に、後処理の
ために要する時間は極めて正確に厳守されねばならない
、それというのもさもな(3れば光重合し〕ζレリーフ
層の後処理した表面は脆弱になりかつ亀裂を形成する傾
向を小ずからである。更に、この後処理溶液はたいてい
まさに不安定でありかつごく短い耐用1時間を有するに
すぎない。そのiE確な使用時点を逃すと、予測できな
い形で実用に適しない後処理結果が得られろ。更にまノ
5−1そのようにして彼処P(1シた表rr+1にはハ
ロゲン残渣を洗い流す際に滴痕が形成され、該滴痕(,
1印刷の際に印刷結果に不快に認められる。更に、その
表面がそのような滴痕をffする光tT′i合したレリ
ーフ層は印刷過程で印刷枚数が多くなると再び粘着性に
なる。。
しかし、レリーフ印刷板、特にフレキソレリーフ印刷板
の光重合したレリーフ層の高すぎろ表面粘着性は、印刷
の際に帯状紙のむL)(pluck)及び引裂きが生じ
る、この際更になお微細な画素は剥離された紙繊Mtに
よって塗り込められる、従って益々、これらの印刷技術
的問題点をリド除するか又は軽減させる後処理方法が必
要になった。しかし、従来公知の後処理方法自体が11
、人な欠点を有しているので、前記問題点を解決するた
めの新規方法を見いだす必要か生じた[発明が解決しよ
うとする課題] 従って、本発明の課題は、光重合したレリーフ層が非粘
着性の表面を有するレリーフ印刷板を製造する新規方法
を見いだすことであり、該方法は公知技術水準の前記欠
点をもはや有しているべきではない。
の光重合したレリーフ層の高すぎろ表面粘着性は、印刷
の際に帯状紙のむL)(pluck)及び引裂きが生じ
る、この際更になお微細な画素は剥離された紙繊Mtに
よって塗り込められる、従って益々、これらの印刷技術
的問題点をリド除するか又は軽減させる後処理方法が必
要になった。しかし、従来公知の後処理方法自体が11
、人な欠点を有しているので、前記問題点を解決するた
めの新規方法を見いだす必要か生じた[発明が解決しよ
うとする課題] 従って、本発明の課題は、光重合したレリーフ層が非粘
着性の表面を有するレリーフ印刷板を製造する新規方法
を見いだすことであり、該方法は公知技術水準の前記欠
点をもはや有しているべきではない。
1課題を解決するだめの手段]
ところが驚異的にも、前記課題は、冒頭に記載した形式
の光重合したレリーフ層を有するレリーフ印11:l板
において、光重合したレリーフ層を塩基性後処理溶液で
処理ケることにより兄事に解決することができる。
の光重合したレリーフ層を有するレリーフ印11:l板
において、光重合したレリーフ層を塩基性後処理溶液で
処理ケることにより兄事に解決することができる。
従って、本発明の対象は、
(1)(a2)少なくとも1種の酸基含有ポリマー結合
剤、 (a2)酸基含有ポリマー結合剤(al)と相容性であ
る、少なくとも1種のオレフィン系不飽和光重合性モノ
マー及び (a3)少なくとも1種の光重合開始剤を含有する光重
合性レリーフjし成記録層(A)を画像に、li&づき
露光し、 (2)画像に基づき露光しlμレリーフ形成記録層(A
)の、露光されなかった、従って光重合していない領域
を現像液で洗浄(現像)1−1かつ (3)こうして生じる光重合したレリーフ層を後処理溶
液で後処理することにより、光重合したレリーフ層が非
粘着性表面を有するレリーフ印刷板を製造する方法であ
って、該方法は前記工程(3)で塩基性後処理溶液を使
用することを特徴とする。
剤、 (a2)酸基含有ポリマー結合剤(al)と相容性であ
る、少なくとも1種のオレフィン系不飽和光重合性モノ
マー及び (a3)少なくとも1種の光重合開始剤を含有する光重
合性レリーフjし成記録層(A)を画像に、li&づき
露光し、 (2)画像に基づき露光しlμレリーフ形成記録層(A
)の、露光されなかった、従って光重合していない領域
を現像液で洗浄(現像)1−1かつ (3)こうして生じる光重合したレリーフ層を後処理溶
液で後処理することにより、光重合したレリーフ層が非
粘着性表面を有するレリーフ印刷板を製造する方法であ
って、該方法は前記工程(3)で塩基性後処理溶液を使
用することを特徴とする。
以下には、光重合したレリーフ層が非粘着性表面をイ1
するレリーフ印刷板を製造するための新規方法を、簡略
化のために“本発明方法”と記載する。 本発明方法の
本発明による重要な工程は、工程(3)である。該工程
は、本発明方法の工程(1)及び(2)から得られた光
重合1−だレリーフ層を後処理溶液で後処理することよ
りなる。この際に、本発明によれば塩基性後処理溶液を
使用する。
するレリーフ印刷板を製造するための新規方法を、簡略
化のために“本発明方法”と記載する。 本発明方法の
本発明による重要な工程は、工程(3)である。該工程
は、本発明方法の工程(1)及び(2)から得られた光
重合1−だレリーフ層を後処理溶液で後処理することよ
りなる。この際に、本発明によれば塩基性後処理溶液を
使用する。
本発明に基づき使用すべき後処理溶液は、少なくとも1
種の溶剤及び少なくとも1種の塩基を含イJ′する。
種の溶剤及び少なくとも1種の塩基を含イJ′する。
溶剤としては、中性の極性溶剤並びにまたプロトン性極
性溶剤並びに中性の極性溶剤とプロトン性極性溶剤の混
合物が該当する。
性溶剤並びに中性の極性溶剤とプロトン性極性溶剤の混
合物が該当する。
好適な中性の極性溶剤の例は、ジ−n−ブチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、メチル
エチルケ′l−ン、アセチルアセトン、酢酸エチルj、
ステル、アセトニトリル及びメチルビ[Jリドンである
。
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、メチル
エチルケ′l−ン、アセチルアセトン、酢酸エチルj、
ステル、アセトニトリル及びメチルビ[Jリドンである
。
適゛(′1なプロトン性極性溶剤の例は、水、メタノー
ル、エタノール、n−プロパツール、イソブ[lパノー
ル、n−ブタノール、酢酸、エチμングリコール、ジエ
ヂレングリコール又はジJ′。
ル、エタノール、n−プロパツール、イソブ[lパノー
ル、n−ブタノール、酢酸、エチμングリコール、ジエ
ヂレングリコール又はジJ′。
ヂレングリコールモノメヂルエーテルである。
好適な溶剤の例は、水、グリコール、n−ブタノール又
はジエヂレングリコールであり、これらのうらでも水が
特にイ丁利に使用される。
はジエヂレングリコールであり、これらのうらでも水が
特にイ丁利に使用される。
本発明に基づき使用すべき好適な塩基の例は、例えば金
属水酸化物、塩基性反応する金属塩、有機アミン及びア
ンモニアである。
属水酸化物、塩基性反応する金属塩、有機アミン及びア
ンモニアである。
好適な金属水酸化物の例は、アルカリ金属水酸化物又は
アルカリ土類金属水酸化物、水酸化スカンジウlx 、
水酸化イッ)・リウム、水酸化ランタン及びランタニド
水酸化物であり、これらのうちでも水酸化づトリウド、
水酸化カリウド、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチ
ウト及び水酸化バリウムが特に好適である。ごれらのう
ぢでも、水酸化すトリウノ−\が最も!I−1’適であ
る本発明に基づき使用すべき好適な塩基性反応する金属
塩の例(J1塩基性反応するアルカリ金属又(Jアルカ
リ土類金属塩、スカンジウJ1塩、イツトリウム塩、ラ
ンタン塩及びランクニド塩であり、これらのうちでもナ
トリウム塩、カリウム塩か特に好ましくかつすトリウ1
1塩が特に十分に好適である。
アルカリ土類金属水酸化物、水酸化スカンジウlx 、
水酸化イッ)・リウム、水酸化ランタン及びランタニド
水酸化物であり、これらのうちでも水酸化づトリウド、
水酸化カリウド、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチ
ウト及び水酸化バリウムが特に好適である。ごれらのう
ぢでも、水酸化すトリウノ−\が最も!I−1’適であ
る本発明に基づき使用すべき好適な塩基性反応する金属
塩の例(J1塩基性反応するアルカリ金属又(Jアルカ
リ土類金属塩、スカンジウJ1塩、イツトリウム塩、ラ
ンタン塩及びランクニド塩であり、これらのうちでもナ
トリウム塩、カリウム塩か特に好ましくかつすトリウ1
1塩が特に十分に好適である。
本発明に基づき使用ずへき塩基性反応する塩の別の例は
、炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、カルボン酸塩、アルコキシ
ド及びフェノキシトでありこれらのうちでもアルカリ金
属、アルカリ土類金属、スカンジウ11、イツトリウム
、ランタン及びランクニドの虜酸塩、燐酸塩、硼酸塩、
カルボン酸塩、アルコキシド及びフェノキシトが特に1
・分に好適である。
、炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、カルボン酸塩、アルコキシ
ド及びフェノキシトでありこれらのうちでもアルカリ金
属、アルカリ土類金属、スカンジウ11、イツトリウム
、ランタン及びランクニドの虜酸塩、燐酸塩、硼酸塩、
カルボン酸塩、アルコキシド及びフェノキシトが特に1
・分に好適である。
本発明に基づき使用すべき、特に十分に好適な塩基性反
応する塩の例は、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、硼酸ナトリウム
、ナトリウムメチラート及びすトリウムエヂラートであ
り、これらのうちでも炭酸すトリウムが全く特に有利に
使用される。
応する塩の例は、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、硼酸ナトリウム
、ナトリウムメチラート及びすトリウムエヂラートであ
り、これらのうちでも炭酸すトリウムが全く特に有利に
使用される。
本発明に基づき使用すべき好適な有機アミンの例は、第
一、第−及び第三非環式及び環式アミン例えばメチルア
ミン、エチルアミン、1]プロピルアミン、n−ブチル
アミンn−ペンチルアミン及びn−ヘキシルアミン、ジ
メチルアミン、ジエチルアミン、ジ rl −ブrjピ
ルアミン、ジ−n−ペンチルアミン及びシーローヘギシ
ルアミン:トリメヂルアミン、トリエチルアミン、トリ
ーn−ブ〔Jピルアミン、トリー1ブチルアミン、トリ
ーn−ペンチルアミン及びトリーn−ペンチアミン;ン
ク「Jヘキノルアミン及びジンクロヘキンルアミン・モ
ルポリンピペラジン、イミダゾリジン、ピペリジン、1
.3−デアアゾリジン、ペルヒト「7−1 4デアジン
、N−エチルモルホリン、N−メチルピペラジン、N−
エチルピペラノン1.Nプロピルイミダゾリジン、N−
ヘキシル−13−デアアゾリジン、N−(2−ヒドロキ
シエチル)ピペラジン、N−(3−ヒドロキン−nプロ
ピル)ピペラジン、N−(6−ヒトロギシーローヘキソ
ル)ピペラジン、N−(ω−ヒドロギシーポリ(エチレ
ンオキシド)−α−イルJ−ピペラジン及びN−(ω−
ヒドロキシポリ(プロピオンオインド)−α−イル]−
ピペラジン、N−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル
)アミン、N、N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミ
ン、N−プロピル−N−(2ヒトC1ギンエチル)アミ
ン、N−ブチル−N(2−ヒドロキシエチル)アミン、
N−メチルN−(2−ヒドロキシプロピル)アミン、N
N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)アミンN−プロピ
ル−N=(5−ヒドロキン−3オキザペンヂル)アミン
、N、N、N’、N’テトラ−(2−ヒドロキシエチル
)−エチレンジアミン、NN、N’、N′−テ)・ラメ
デルブタン−1,4−ジイル−ジアミン、エチレンジア
ミン、ジエヂレンジアミン、N−メヂルN−エヂルーエ
チレンジアミン、N、N−ジメヂルーエヂレンジアミン
、N N’−ジエチルエチレンジアミン、N、N、N
#、N′−テトラメヂルーエヂレントリアミン、プロパ
ン−I3−ジイル−ジアミン及びブタン−1,4ジイル
−ジアミン 及びポリエチレンイミンである。これらの
アミンのうりでも、2以1″の官能価のアミンが有利で
ある。
一、第−及び第三非環式及び環式アミン例えばメチルア
ミン、エチルアミン、1]プロピルアミン、n−ブチル
アミンn−ペンチルアミン及びn−ヘキシルアミン、ジ
メチルアミン、ジエチルアミン、ジ rl −ブrjピ
ルアミン、ジ−n−ペンチルアミン及びシーローヘギシ
ルアミン:トリメヂルアミン、トリエチルアミン、トリ
ーn−ブ〔Jピルアミン、トリー1ブチルアミン、トリ
ーn−ペンチルアミン及びトリーn−ペンチアミン;ン
ク「Jヘキノルアミン及びジンクロヘキンルアミン・モ
ルポリンピペラジン、イミダゾリジン、ピペリジン、1
.3−デアアゾリジン、ペルヒト「7−1 4デアジン
、N−エチルモルホリン、N−メチルピペラジン、N−
エチルピペラノン1.Nプロピルイミダゾリジン、N−
ヘキシル−13−デアアゾリジン、N−(2−ヒドロキ
シエチル)ピペラジン、N−(3−ヒドロキン−nプロ
ピル)ピペラジン、N−(6−ヒトロギシーローヘキソ
ル)ピペラジン、N−(ω−ヒドロギシーポリ(エチレ
ンオキシド)−α−イルJ−ピペラジン及びN−(ω−
ヒドロキシポリ(プロピオンオインド)−α−イル]−
ピペラジン、N−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル
)アミン、N、N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミ
ン、N−プロピル−N−(2ヒトC1ギンエチル)アミ
ン、N−ブチル−N(2−ヒドロキシエチル)アミン、
N−メチルN−(2−ヒドロキシプロピル)アミン、N
N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)アミンN−プロピ
ル−N=(5−ヒドロキン−3オキザペンヂル)アミン
、N、N、N’、N’テトラ−(2−ヒドロキシエチル
)−エチレンジアミン、NN、N’、N′−テ)・ラメ
デルブタン−1,4−ジイル−ジアミン、エチレンジア
ミン、ジエヂレンジアミン、N−メヂルN−エヂルーエ
チレンジアミン、N、N−ジメヂルーエヂレンジアミン
、N N’−ジエチルエチレンジアミン、N、N、N
#、N′−テトラメヂルーエヂレントリアミン、プロパ
ン−I3−ジイル−ジアミン及びブタン−1,4ジイル
−ジアミン 及びポリエチレンイミンである。これらの
アミンのうりでも、2以1″の官能価のアミンが有利で
ある。
塩基は、本発明に」11;づき使用すべき後処理溶液中
に、その都度の後処理溶液に対して、005〜IO1有
利には0.01〜5、特に005〜2.5重量%の量で
含イ」゛される。この場合、その都度の使用される後処
理溶液中の1挿具」−の塩基の量は、一方では光重合し
たレリーフ層の後処理すべき表面の状態及び物質組成に
よって、他方ではその都度の使用される溶剤中の1挿具
」−の当該塩基の溶解度に基づき決定される。従って、
後処理溶液のその都度使用すべき組成は当業者によって
簡1.ljな前実験で確認することができる。
に、その都度の後処理溶液に対して、005〜IO1有
利には0.01〜5、特に005〜2.5重量%の量で
含イ」゛される。この場合、その都度の使用される後処
理溶液中の1挿具」−の塩基の量は、一方では光重合し
たレリーフ層の後処理すべき表面の状態及び物質組成に
よって、他方ではその都度の使用される溶剤中の1挿具
」−の当該塩基の溶解度に基づき決定される。従って、
後処理溶液のその都度使用すべき組成は当業者によって
簡1.ljな前実験で確認することができる。
本発明に基づき使用すべき後処理溶液は、前記溶剤及び
塩基の他に表面活性剤を当該後処理溶液に対して 0.
001〜1重量%の量で含で」゛することができる。こ
のためには原1川的には、前記塩」1(の存在下に分解
Uずかつその都度使用される溶剤中に可溶性である総て
の表面活性剤が該当する。適当な表面活性剤の例は、8
〜20個の炭素原子を¥]゛する飽和炭化水素連鎖及び
5〜18個の炭素原子を有する1測具−1−の過弗素化
された炭化水素連鎖を有するカヂオン性及びアニオン性
両親媒性物質、例えばエヂレンオキンドーブ[lピレン
オキシド−ブロック共重合体及びアルギルグリコシドで
ある。好適な表面活性剤の例は、欧州特許出願公開第0
208943号明細書から明らかである。
塩基の他に表面活性剤を当該後処理溶液に対して 0.
001〜1重量%の量で含で」゛することができる。こ
のためには原1川的には、前記塩」1(の存在下に分解
Uずかつその都度使用される溶剤中に可溶性である総て
の表面活性剤が該当する。適当な表面活性剤の例は、8
〜20個の炭素原子を¥]゛する飽和炭化水素連鎖及び
5〜18個の炭素原子を有する1測具−1−の過弗素化
された炭化水素連鎖を有するカヂオン性及びアニオン性
両親媒性物質、例えばエヂレンオキンドーブ[lピレン
オキシド−ブロック共重合体及びアルギルグリコシドで
ある。好適な表面活性剤の例は、欧州特許出願公開第0
208943号明細書から明らかである。
方法としては、光重合したレリーフ層の表面の本発明の
ために重要な後処理(第3工程)は特殊性をイfしてい
す、該後処理は、本発明の範囲内で、光重合性レリーフ
印刷板のレリーフ形成記録層(ハ)を画像に基づき露光
しく第1工F’、’ )かつ画像に」1(づき露光した
レリーフ形成記録層(A)の露光されなかった、従って
光重合しなかった領域を現像液で洗浄(現像)した(第
2工程)後に実施する。この場合、このようにして形成
した光重合したレリーフ層に第31程で本発明に基づき
使用すべき後処理溶液を噴射するか、又は光重合したレ
リーフ層ないしはレリーフ印刷板を、本発明に基づき使
用すべき後処理溶液を入れた後処理溶液浴内に浸ts’
(することができる。後処理のためにどの方法を使用す
るかとは無関係に、光重合したレリーフ層のその都度後
処理される表面と、後処理溶液との接触時間は10秒〜
15分間、イf利には30秒〜5分間、特に1〜3分間
である。
ために重要な後処理(第3工程)は特殊性をイfしてい
す、該後処理は、本発明の範囲内で、光重合性レリーフ
印刷板のレリーフ形成記録層(ハ)を画像に基づき露光
しく第1工F’、’ )かつ画像に」1(づき露光した
レリーフ形成記録層(A)の露光されなかった、従って
光重合しなかった領域を現像液で洗浄(現像)した(第
2工程)後に実施する。この場合、このようにして形成
した光重合したレリーフ層に第31程で本発明に基づき
使用すべき後処理溶液を噴射するか、又は光重合したレ
リーフ層ないしはレリーフ印刷板を、本発明に基づき使
用すべき後処理溶液を入れた後処理溶液浴内に浸ts’
(することができる。後処理のためにどの方法を使用す
るかとは無関係に、光重合したレリーフ層のその都度後
処理される表面と、後処理溶液との接触時間は10秒〜
15分間、イf利には30秒〜5分間、特に1〜3分間
である。
本発明方法は、自体公知のレリーフ形成記録層(A)を
有するレリーフ印刷板で実施する。
有するレリーフ印刷板で実施する。
この自体公知の光重合性レリーフ形成記録層(A)はま
た、少なくとも1種の酸基含イJ°ポリマー結合剤(a
l)、該結合剤(aI)と相容性である少なくとも1種
のオレフィン系不飽和光重合性モノマー(a2)、及び
少なくとも1種の光重合開始剤(a3)を含有する。1
1f1記種類の適当な光重合性レリーフ形成記録層(A
)を有するレリーフ印刷板の例は、ドイツ連邦共和国特
許出願公開第2517043号明細書、同国4!許出願
公告第2720228号明細書、同国特許出願公開第2
902/I I 2号、同30128dlシ」叫す1細
書、米国特許第、i、I ] 56/I 9号明細書、
欧州特許出願公開第0076028号明細書、米国特許
第45]7279号明細書、欧州特許出願公開第016
2570号、同第0164270号、同第018355
2号、同第0223+14シ」、同第0226153号
、同第0231002号及び同第0293750号明細
;1)に記載されている。
た、少なくとも1種の酸基含イJ°ポリマー結合剤(a
l)、該結合剤(aI)と相容性である少なくとも1種
のオレフィン系不飽和光重合性モノマー(a2)、及び
少なくとも1種の光重合開始剤(a3)を含有する。1
1f1記種類の適当な光重合性レリーフ形成記録層(A
)を有するレリーフ印刷板の例は、ドイツ連邦共和国特
許出願公開第2517043号明細書、同国4!許出願
公告第2720228号明細書、同国特許出願公開第2
902/I I 2号、同30128dlシ」叫す1細
書、米国特許第、i、I ] 56/I 9号明細書、
欧州特許出願公開第0076028号明細書、米国特許
第45]7279号明細書、欧州特許出願公開第016
2570号、同第0164270号、同第018355
2号、同第0223+14シ」、同第0226153号
、同第0231002号及び同第0293750号明細
;1)に記載されている。
J、チレンと、(メタ)アクリル酸及び少なくとも1種
のビニルエステル、ピニルゴ、−チル、(ツタ)アクリ
ル酸エステル及び/又は(メタ)y′クリル酸アミドど
の変性又は未変性コポリマーを酸ノ1ζ又はカルボキソ
ル基含有ポリマー結合剤(a2)として含イjする、欧
州特許出願公開第022311 /Iシ」−1)目]第
0231002舅又は同第(129、’:3750号明
細P;に記載された光・b合性レリーフ形成記録層(A
)、又はマレイン化されかつ部分エステル化又は部分ア
ミド化されたポリブタジェンを酸基又はカルボギンル基
含有ポリマー結合剤(段2)を含有する、欧州特許出願
公開第02261534:、l、明細11冒こ記載され
た記録層(ハ)を使用4゛るのが特にイ」利である。
のビニルエステル、ピニルゴ、−チル、(ツタ)アクリ
ル酸エステル及び/又は(メタ)y′クリル酸アミドど
の変性又は未変性コポリマーを酸ノ1ζ又はカルボキソ
ル基含有ポリマー結合剤(a2)として含イjする、欧
州特許出願公開第022311 /Iシ」−1)目]第
0231002舅又は同第(129、’:3750号明
細P;に記載された光・b合性レリーフ形成記録層(A
)、又はマレイン化されかつ部分エステル化又は部分ア
ミド化されたポリブタジェンを酸基又はカルボギンル基
含有ポリマー結合剤(段2)を含有する、欧州特許出願
公開第02261534:、l、明細11冒こ記載され
た記録層(ハ)を使用4゛るのが特にイ」利である。
周知のごとく、これらの光重合性レリーフ形成記録層(
A)は、前記の酸基含有ポリマー結合剤(a2)の他に
常にJ:たム゛おKA tN’:合剤と相容性のオレフ
ィン系不飽和光重合性モノマー(a2) jll、iび
に光重合を開始させるために必要な光重合開始剤(a3
)を一般的f[!で含有する。
A)は、前記の酸基含有ポリマー結合剤(a2)の他に
常にJ:たム゛おKA tN’:合剤と相容性のオレフ
ィン系不飽和光重合性モノマー(a2) jll、iび
に光重合を開始させるために必要な光重合開始剤(a3
)を一般的f[!で含有する。
更に、光重合性レリーフ形成記録層(A)は別の添加物
例えば熱で開始する小会の抑制剤、染料、顔料、ホトク
ロノ1物質、反射防11−剤、軟化剤、酸化防止剤、オ
ゾン亀裂防止剤、レリーフ構造改良剤、架橋助剤、充填
剤及び/又は補強充填剤を有効量で含有することができ
ろ。
例えば熱で開始する小会の抑制剤、染料、顔料、ホトク
ロノ1物質、反射防11−剤、軟化剤、酸化防止剤、オ
ゾン亀裂防止剤、レリーフ構造改良剤、架橋助剤、充填
剤及び/又は補強充填剤を有効量で含有することができ
ろ。
本発明方法の範囲内で、これらの自体公知の光重合性1
ノリーフ形成記録層(A)は、?:’; /):で化学
線で画像に基つき鮨光する(第1工程)。
ノリーフ形成記録層(A)は、?:’; /):で化学
線で画像に基つき鮨光する(第1工程)。
化学線のための適当な光源の例は、常用かつ公知の水銀
高床、中圧又は低圧放射器、U V蛍光灯及びメタルハ
ライドをドープしたランプである。。
高床、中圧又は低圧放射器、U V蛍光灯及びメタルハ
ライドをドープしたランプである。。
その後、画像に基づき露光したレリーフ形成記録層(ハ
)の露光されなかった、従って光重合しなかった領域を
現像液で洗浄ないしは現像する(第2工程)。周知のご
とく、該現像は常用かつ公知のスプレー こすり及びブ
ラッシ洗浄機で実施する。適当な現像液の例は、1ii
j記の中性の極性溶剤及びプロトン性の極性溶剤である
。
)の露光されなかった、従って光重合しなかった領域を
現像液で洗浄ないしは現像する(第2工程)。周知のご
とく、該現像は常用かつ公知のスプレー こすり及びブ
ラッシ洗浄機で実施する。適当な現像液の例は、1ii
j記の中性の極性溶剤及びプロトン性の極性溶剤である
。
本発明方法は、工程(1)及び(2)並びに本発明のた
めに重要なT稈(3)の外になお別の自体公知の工程を
包含する。
めに重要なT稈(3)の外になお別の自体公知の工程を
包含する。
自体公知の適当な別の工程の例は、工程(2)及び(3
)に引続いたレリーフ印刷板の光重合性レリーフ形成記
録層(A)の全面露光工程、乾燥工程並びに本発明方法
で製造された光重合したレリーフ層の全面後露光である
3゜[発明の効果] 本発明方法は、公知技術水環′に比較して多数の利点を
有する。例えば、不発明方/、Ifで製造されたレリー
フ印刷版は、その表面が非粘着性である光重合したレリ
ーフ層を有する。従って、ごのレリーフ印刷版は特に・
F版、凸版及びフレキソ印刷板にために好適である、ご
の場合これらは更になおポトレジストとして使用するこ
とができる。これらは有利にフレキソ印刷板のために、
特にエンドレス印刷のために使用される。更に、本発明
に基づき使用すべき後処理溶液の成分は複写に既に完成
した容易に線iIk WAI整i’iJ能な、無制限に
貯蔵可能な混合物を提供することができる。この場合、
一般的に後処理溶融の製造、取り扱い及び廃棄処理のた
めに、膨大な技術的安全方策を必要とせずかつユーザに
おいては特別の化学的知識を110提条件としない1.
更こ、前実験によって確認された最適な後処理11.1
3間は、光重合したレリーフ層の表面の損傷を回避する
ために、厳密に随、持する必要はなく、これらは、運転
過程が必要とすれば、そのまま−1−回ってもよい、こ
のことは複写企業において]−稈の調整に著しく大きな
融通性をもたらす。付加的なもう1つの利点は、本発明
にノ1(づき使用ずべき後処理溶液は長期間保存可能で
ありかつ長期間の保存及び/又は数回の使用後もきイつ
めて容易に再生することができ、しかもこのことは不利
な結果をもたらさない。更に、該後処理溶液は公知の後
処理溶液よりも低い腐食性を有する。イ・]加的に、本
発明に基づき実施すべき後処理工程は、長時間の保存及
び/又は連続使用後でも光重合したレリーフ層の表面を
その粘着性に関してだけでなく、またその艶消しの均−
性及び光学的均質性並びにその脆弱化及び亀裂形成に対
する安定性に関して改良する。、従って、本発明方法で
製造されたレリーフ印刷板は、公知技術水9の方法に基
づき製造したレリーフ印刷板よりも多い回数及び長くフ
レキソ印刷において使用するごとができる。従って、本
発明方法で製造したレリーフ印刷板は優れた印刷物のき
イつめて大量の印刷枚数を提供する。更になお、その光
重合したレリーフV;の非粘着性表面は優れたインキ受
容性をイ1゛シ、その際しかも印刷インキ溶剤に対して
極めて安定でありかつそれによって問題になる稈には膨
潤されない。
)に引続いたレリーフ印刷板の光重合性レリーフ形成記
録層(A)の全面露光工程、乾燥工程並びに本発明方法
で製造された光重合したレリーフ層の全面後露光である
3゜[発明の効果] 本発明方法は、公知技術水環′に比較して多数の利点を
有する。例えば、不発明方/、Ifで製造されたレリー
フ印刷版は、その表面が非粘着性である光重合したレリ
ーフ層を有する。従って、ごのレリーフ印刷版は特に・
F版、凸版及びフレキソ印刷板にために好適である、ご
の場合これらは更になおポトレジストとして使用するこ
とができる。これらは有利にフレキソ印刷板のために、
特にエンドレス印刷のために使用される。更に、本発明
に基づき使用すべき後処理溶液の成分は複写に既に完成
した容易に線iIk WAI整i’iJ能な、無制限に
貯蔵可能な混合物を提供することができる。この場合、
一般的に後処理溶融の製造、取り扱い及び廃棄処理のた
めに、膨大な技術的安全方策を必要とせずかつユーザに
おいては特別の化学的知識を110提条件としない1.
更こ、前実験によって確認された最適な後処理11.1
3間は、光重合したレリーフ層の表面の損傷を回避する
ために、厳密に随、持する必要はなく、これらは、運転
過程が必要とすれば、そのまま−1−回ってもよい、こ
のことは複写企業において]−稈の調整に著しく大きな
融通性をもたらす。付加的なもう1つの利点は、本発明
にノ1(づき使用ずべき後処理溶液は長期間保存可能で
ありかつ長期間の保存及び/又は数回の使用後もきイつ
めて容易に再生することができ、しかもこのことは不利
な結果をもたらさない。更に、該後処理溶液は公知の後
処理溶液よりも低い腐食性を有する。イ・]加的に、本
発明に基づき実施すべき後処理工程は、長時間の保存及
び/又は連続使用後でも光重合したレリーフ層の表面を
その粘着性に関してだけでなく、またその艶消しの均−
性及び光学的均質性並びにその脆弱化及び亀裂形成に対
する安定性に関して改良する。、従って、本発明方法で
製造されたレリーフ印刷板は、公知技術水9の方法に基
づき製造したレリーフ印刷板よりも多い回数及び長くフ
レキソ印刷において使用するごとができる。従って、本
発明方法で製造したレリーフ印刷板は優れた印刷物のき
イつめて大量の印刷枚数を提供する。更になお、その光
重合したレリーフV;の非粘着性表面は優れたインキ受
容性をイ1゛シ、その際しかも印刷インキ溶剤に対して
極めて安定でありかつそれによって問題になる稈には膨
潤されない。
[実施例及び比較実験]
以下の実施例及び比較実験では、光重合性レリーフ形成
記録層の表面の粘る性は、D lN53■57に基づく
振子式粘度の測定又は触覚のいずれかにより測定した。
記録層の表面の粘る性は、D lN53■57に基づく
振子式粘度の測定又は触覚のいずれかにより測定した。
触覚を用いで確認した粘着性は、以下の通り評価した。
注1・非粘着性
注21弱粘着性
注3:強粘着性
実施例1〜5及び比較実験■1
実験仕様・
実施例1〜5及び比較実験■1のために、同じ物質組成
及び同じ横進の6つの1ノリーフ印刷板を製造した。
及び同じ横進の6つの1ノリーフ印刷板を製造した。
一般にレリーフ印刷板の支持板として使用される、厚さ
0.24シmの銅板に常用かつ公知の約15μmの)゛
塗り層aびに常用かつ公知の厚さ約51+mの接活層を
施した。その後、接着層の上に厚さ約50011mの光
重合性レリーフ形成記録層(A)を貼付1−た。光重合
性レリーフ形成記録層(A)自体は、メルトフローイン
デックス(mfi) 300!/ I 0分間(190
℃及び21Nの荷重で測定)を有する、コポリマーに対
して、ブタジェン60重量%、アクリル酸20重量%及
びn−ブヂルアクリレ−1・20重量%からなるコポリ
マー63,6重量%(酸基含有結合剤a1)、ヘキサジ
−16−シオールージアクリレート(モノマーa2)1
1.9重量%、N −n−ブ(ノビルーN−(2−ヒド
ロキシエチル)アミン7 、9 TrCfi1%、グリ
シジルアクリレート(モノマーa2)3.95重量%、
ペンジルジメチルアセクール(光重合開始剤λ2)1.
5重’rt%、ヒトロキノンモノメチルエーテル317
1:+7量%及びN−n−ブヂルベンゼンスルポンアミ
ド7.98重量%からなっていた。。
0.24シmの銅板に常用かつ公知の約15μmの)゛
塗り層aびに常用かつ公知の厚さ約51+mの接活層を
施した。その後、接着層の上に厚さ約50011mの光
重合性レリーフ形成記録層(A)を貼付1−た。光重合
性レリーフ形成記録層(A)自体は、メルトフローイン
デックス(mfi) 300!/ I 0分間(190
℃及び21Nの荷重で測定)を有する、コポリマーに対
して、ブタジェン60重量%、アクリル酸20重量%及
びn−ブヂルアクリレ−1・20重量%からなるコポリ
マー63,6重量%(酸基含有結合剤a1)、ヘキサジ
−16−シオールージアクリレート(モノマーa2)1
1.9重量%、N −n−ブ(ノビルーN−(2−ヒド
ロキシエチル)アミン7 、9 TrCfi1%、グリ
シジルアクリレート(モノマーa2)3.95重量%、
ペンジルジメチルアセクール(光重合開始剤λ2)1.
5重’rt%、ヒトロキノンモノメチルエーテル317
1:+7量%及びN−n−ブヂルベンゼンスルポンアミ
ド7.98重量%からなっていた。。
6枚のレリーフ印刷板を室Δ、1−で611間保イfし
かつその後以下のようにして更に加工した。
かつその後以下のようにして更に加工した。
実施例1
前記の6個のレリーフ印111]板を通常かつ公知方法
で平板露光機で画像に基づき露光しかつその後純粋な水
で現像した1、こうして得られた光重合したレリーフ層
を有するレリーフ印刷板を、まず乾燥しかつ引続き3分
間−F板露光機(光出力40ワツト)で後露光した。後
露光に引続き、レリーフ印刷板を30秒間2%の炭酸ソ
ーダ溶液に浸漬し、その後乾燥した。その先i1j合し
たレリーフ層の表面は実際に非粘着性であった(1)I
N53]57に基づく振子粘着性 7)。
で平板露光機で画像に基づき露光しかつその後純粋な水
で現像した1、こうして得られた光重合したレリーフ層
を有するレリーフ印刷板を、まず乾燥しかつ引続き3分
間−F板露光機(光出力40ワツト)で後露光した。後
露光に引続き、レリーフ印刷板を30秒間2%の炭酸ソ
ーダ溶液に浸漬し、その後乾燥した。その先i1j合し
たレリーフ層の表面は実際に非粘着性であった(1)I
N53]57に基づく振子粘着性 7)。
実施例2
実施例■を繰り返したが、(11シこの場合には後処理
時間(浸漬時間)は1分間であ−〕た。その後、レリー
フ印刷板の光重合したレリーフ層は非粘着性表面を有し
ていた(1)IN53157に基づく振子粘着性・10
)。
時間(浸漬時間)は1分間であ−〕た。その後、レリー
フ印刷板の光重合したレリーフ層は非粘着性表面を有し
ていた(1)IN53157に基づく振子粘着性・10
)。
実施例3
実施例1を繰り返したが、但しこの場合にはレリーフ印
刷板を30秒間1%の苛性ソーダ溶液に浸漬し、た。そ
の後、光重合したレリーフ層の表面は一11粘着性であ
った(DIN53157に基づく振子粘着性:10)。
刷板を30秒間1%の苛性ソーダ溶液に浸漬し、た。そ
の後、光重合したレリーフ層の表面は一11粘着性であ
った(DIN53157に基づく振子粘着性:10)。
実施例4
実施例3を繰り返したが、但しこの場合には後処理時間
(浸漬時間)は1分間であった1、光重合したレリーフ
層の表面は完全に非粘着性であった(DIN53157
に基づく振子粘着性実施例5 実施例4を繰り返したが、但しこの場合には1%の苛性
ソーダ溶液の代わりに、苛性−ダ溶液0.5重量%、表
面活性剤(すI・リウムパラフィンスルホネ−1−)0
.1重量%及び水99゜6重量%からなる混合物を使用
した。このよう1こして後処理した光重合したレリーフ
層は、しリーフ表面もまたレリーフ基底も完全に非枯7
1性であった。
(浸漬時間)は1分間であった1、光重合したレリーフ
層の表面は完全に非粘着性であった(DIN53157
に基づく振子粘着性実施例5 実施例4を繰り返したが、但しこの場合には1%の苛性
ソーダ溶液の代わりに、苛性−ダ溶液0.5重量%、表
面活性剤(すI・リウムパラフィンスルホネ−1−)0
.1重量%及び水99゜6重量%からなる混合物を使用
した。このよう1こして後処理した光重合したレリーフ
層は、しリーフ表面もまたレリーフ基底も完全に非枯7
1性であった。
該レリーフ印刷版を圧胴に張設し、かつ常用かつ公知の
フレキソ印刷機械でエタノール含(Jフレキソ印刷イン
キを使用してフレキソ」−ントレス印刷のために使用し
た。この場合、優れた印刷結果が得られた、この場合印
11自体の品質は100,000枚後もそのまま維持さ
れた。
フレキソ印刷機械でエタノール含(Jフレキソ印刷イン
キを使用してフレキソ」−ントレス印刷のために使用し
た。この場合、優れた印刷結果が得られた、この場合印
11自体の品質は100,000枚後もそのまま維持さ
れた。
比較実験
実施例5を繰り返したか、イ[1しこの場合には本発明
に糸づき使用すべきレリーフ印刷板の後処理を行わなか
った。従って、レリーフ印刷板の光重合したレリーフ層
の表面は高い粘着性を杓していた( I) I N 5
3157に基づく振子も11着性=2)。従って、フレ
キソエンドレス印刷の際に好ましい印刷結果は得られな
かった3、更に、印刷枚数も、印刷条件−トでレリーフ
印刷板の明らかに悪い粘X性に起因して少なかった。
に糸づき使用すべきレリーフ印刷板の後処理を行わなか
った。従って、レリーフ印刷板の光重合したレリーフ層
の表面は高い粘着性を杓していた( I) I N 5
3157に基づく振子も11着性=2)。従って、フレ
キソエンドレス印刷の際に好ましい印刷結果は得られな
かった3、更に、印刷枚数も、印刷条件−トでレリーフ
印刷板の明らかに悪い粘X性に起因して少なかった。
実施例6及び比較実験V2
実施例6及び比較′j¥件V2を実施するために、光重
合性混合物を、コポリマーに対しで、エチレン57.1
重量%、アクリル酸18.9$7it%及び2−エヂル
ヘキシルーアクリレ−1・(酸基含有ポリマー結合剤a
、2)24重量%からなるコポリマー7.82kg、グ
リシジルメタクリレ−1・(モノマーa2)500y、
メチルメタクリレート(モノマーa2)500@、。ペ
ンノルジメチルアセクール(光重合開始剤a3)、Nメ
チルイミダゾール2.57.2,6−シーtブチル−p
クレゾール257、N−n−ブイルベンゼンスルポン
アミド750@、N−二トロソンクrJ /\キシルヒ
ドロギンルアミンーカリウム塩401?及びザフラ、:
ン’ll’ (C,I 、 502/10)3Yの押
出しにより製造した。該光重合した混合物を押出機から
排出させが−っカレンダで厚さ2675μmの光重合性
レリーフ形成記録層(A)を成形した。その成形と同時
に、光重合性レリーフ形成記録層(ハ)をその−刃側で
、常用かつ公知の接イ1;剤を施したポリ」−ヂレンテ
レフタレ−1・支持シーi・と、が−ノその他方の側を
、ポリビニルアルコールからなるカバー層で被覆したポ
リエヂレンテレフタレー1−・カバーシートと強固に接
イ″、して全厚さ30007+mのレリーフ印刷版を製
造した。。
合性混合物を、コポリマーに対しで、エチレン57.1
重量%、アクリル酸18.9$7it%及び2−エヂル
ヘキシルーアクリレ−1・(酸基含有ポリマー結合剤a
、2)24重量%からなるコポリマー7.82kg、グ
リシジルメタクリレ−1・(モノマーa2)500y、
メチルメタクリレート(モノマーa2)500@、。ペ
ンノルジメチルアセクール(光重合開始剤a3)、Nメ
チルイミダゾール2.57.2,6−シーtブチル−p
クレゾール257、N−n−ブイルベンゼンスルポン
アミド750@、N−二トロソンクrJ /\キシルヒ
ドロギンルアミンーカリウム塩401?及びザフラ、:
ン’ll’ (C,I 、 502/10)3Yの押
出しにより製造した。該光重合した混合物を押出機から
排出させが−っカレンダで厚さ2675μmの光重合性
レリーフ形成記録層(A)を成形した。その成形と同時
に、光重合性レリーフ形成記録層(ハ)をその−刃側で
、常用かつ公知の接イ1;剤を施したポリ」−ヂレンテ
レフタレ−1・支持シーi・と、が−ノその他方の側を
、ポリビニルアルコールからなるカバー層で被覆したポ
リエヂレンテレフタレー1−・カバーシートと強固に接
イ″、して全厚さ30007+mのレリーフ印刷版を製
造した。。
こうして得られたレリーフ印刷版をその背面から化学線
で60秒間前QB光した。その後、ポリエチレンテレフ
タレート・カバーシーi・を取り除き、かつ光重合性レ
リーフ形成記録層(A)に固着したポリビニルアルコー
ル・カバー層の表面に標準ネガヂブをa ttだ1.そ
の後、光重合性レリーフ形成記録りり(A)を標ダ(ネ
ガヂブを透過して画像に基づき蛍光\lt板露光機で2
0分間露光した。該画像に)1(づく4光に引続き、画
像に基づき露光したレリーフ形成記録層(A)の総光さ
れなかった、ひいては光Tト合しなかった領域をスプレ
ー洗浄機で純粋な水で30秒間、その後円形ブラッン洗
浄機てペルク[JルJ−ヂレン及び0 ブタノール(容
量比4・2)からなる混合物で5分間洗a1シた3、こ
うして得l)れた光重合したレリーフ印刷板を有するレ
リーフ印刷版を60℃で60分間乾燥しかつ該乾燥に弓
続き117光平板露光機を用いて20分間後露光した。
で60秒間前QB光した。その後、ポリエチレンテレフ
タレート・カバーシーi・を取り除き、かつ光重合性レ
リーフ形成記録層(A)に固着したポリビニルアルコー
ル・カバー層の表面に標準ネガヂブをa ttだ1.そ
の後、光重合性レリーフ形成記録りり(A)を標ダ(ネ
ガヂブを透過して画像に基づき蛍光\lt板露光機で2
0分間露光した。該画像に)1(づく4光に引続き、画
像に基づき露光したレリーフ形成記録層(A)の総光さ
れなかった、ひいては光Tト合しなかった領域をスプレ
ー洗浄機で純粋な水で30秒間、その後円形ブラッン洗
浄機てペルク[JルJ−ヂレン及び0 ブタノール(容
量比4・2)からなる混合物で5分間洗a1シた3、こ
うして得l)れた光重合したレリーフ印刷板を有するレ
リーフ印刷版を60℃で60分間乾燥しかつ該乾燥に弓
続き117光平板露光機を用いて20分間後露光した。
その後、該レリーフ印刷版を2つの半休に分割した。そ
の一方の半休は実施例6を実施するために使用17、他
方の反対は比較実験V2を実施するたぬに使用した。
の一方の半休は実施例6を実施するために使用17、他
方の反対は比較実験V2を実施するたぬに使用した。
比較実験v2
このために使用したL・リーフ印刷版の半休は更に後処
理し1.了かった。従って、その光重合性レリーフ形成
記録層(△〕のに面は顕著な高い粘着性をイJしていた
(触覚で確認−fl; 3 )。このレリーフ印刷版の
更に処理しなか−った半体の張設後に、該半休を常用か
つ公知のフレキソ印刷機でエタノール含有フ1ノギソイ
ンキを用いてフレギソエンドレス印刷のため1.′:使
用し六−6この場合、申し7分の無い印刷結果を得るこ
とはできなかった。史に、印刷枚数は、更+2二後処理
しなかった光重合したレリー゛ノ層の明らかに悪い粘眉
性に起因して少なか・−3た3、 実施例6
理し1.了かった。従って、その光重合性レリーフ形成
記録層(△〕のに面は顕著な高い粘着性をイJしていた
(触覚で確認−fl; 3 )。このレリーフ印刷版の
更に処理しなか−った半体の張設後に、該半休を常用か
つ公知のフレキソ印刷機でエタノール含有フ1ノギソイ
ンキを用いてフレギソエンドレス印刷のため1.′:使
用し六−6この場合、申し7分の無い印刷結果を得るこ
とはできなかった。史に、印刷枚数は、更+2二後処理
しなかった光重合したレリー゛ノ層の明らかに悪い粘眉
性に起因して少なか・−3た3、 実施例6
Claims (3)
- (1)(a_1)少なくとも1種の酸基含有ポリマー結
合剤、 (a_2)酸基含有ポリマー結合剤(a_1)と相容性
である、少なくとも1種のオレフィン系不飽和光重合性
モノマー及び (a_3)少なくとも1種の光重合開始剤 を含有する光重合性レリーフ形成記録層(A)を画像に
基づき露光し、 - (2)画像に基づき露光したレリーフ形成記録層(A)
の、露光されなかった、従って光重合していない領域を
現像液で洗浄(現像)し、かつ - (3)こうして生じる光重合したレリーフ層を後処理溶
液で後処理することにより、光重合したレリーフ層が非
粘着性表面を有するレリーフ印刷板を製造する方法にお
いて、前記工程(3)で塩基性後処理溶液を使用するこ
とを特徴とする、非粘着性表面を有するレリーフ印刷板
の製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3904780A DE3904780A1 (de) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | Verfahren zur herstellung von photopolymerisierten reliefdruckplatten mit klebfreier oberflaeche |
DE3904780.6 | 1989-02-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02282256A true JPH02282256A (ja) | 1990-11-19 |
JP2925624B2 JP2925624B2 (ja) | 1999-07-28 |
Family
ID=6374285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2034044A Expired - Lifetime JP2925624B2 (ja) | 1989-02-17 | 1990-02-16 | 非粘着性表面を有するレリーフ印刷版の製法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5124237A (ja) |
EP (1) | EP0383200B1 (ja) |
JP (1) | JP2925624B2 (ja) |
CA (1) | CA2008987C (ja) |
DE (2) | DE3904780A1 (ja) |
FI (1) | FI900786A0 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009105871A1 (en) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Prittie Family Trust 89 | Raised image plate construction with regions of varying support thickness beneath the image areas |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5733948A (en) * | 1995-09-06 | 1998-03-31 | Mac Dermid, Imaging Technology, Inc. | Tack-free photopolymer printing plate |
US7247344B2 (en) * | 2004-11-16 | 2007-07-24 | Timothy Gotsick | Method and apparatus for applying surface treatments to photosensitive printing elements during thermal development |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL101499C (ja) * | 1951-08-20 | |||
JPS5752051A (en) * | 1980-09-12 | 1982-03-27 | Toshiba Corp | Formation of resist pattern |
US4400459A (en) * | 1981-05-07 | 1983-08-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for bromine surface treatment of photosensitive elastomeric flexographic printing plates |
JPS60191237A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-09-28 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 露光硬化後非粘着性感光性樹脂組成物 |
US4603058A (en) * | 1984-10-05 | 1986-07-29 | Macdermid, Incorporated | Post-treatment of cured, radiation sensitive, polymerizable resins to eliminate surface tack |
DE3521955A1 (de) * | 1985-06-20 | 1987-01-02 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von klebfreien, glatten oberflaechen von photopolymerisierten reliefdruckformen fuer den flexodruck |
US4806506A (en) * | 1987-09-14 | 1989-02-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for detackifying photopolymer flexographic printing plates |
DE3742275A1 (de) * | 1987-12-12 | 1989-06-22 | Hoechst Ag | Verfahren zur nachbehandlung von entwickelten reliefdruckformen fuer den flexodruck |
-
1989
- 1989-02-17 DE DE3904780A patent/DE3904780A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-01-31 CA CA002008987A patent/CA2008987C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-02-08 US US07/476,900 patent/US5124237A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-02-09 EP EP90102536A patent/EP0383200B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-09 DE DE59009934T patent/DE59009934D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-02-16 FI FI900786A patent/FI900786A0/fi not_active IP Right Cessation
- 1990-02-16 JP JP2034044A patent/JP2925624B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009105871A1 (en) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Prittie Family Trust 89 | Raised image plate construction with regions of varying support thickness beneath the image areas |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2008987A1 (en) | 1990-08-17 |
JP2925624B2 (ja) | 1999-07-28 |
EP0383200A2 (de) | 1990-08-22 |
DE3904780A1 (de) | 1990-08-23 |
EP0383200A3 (de) | 1991-09-04 |
DE59009934D1 (de) | 1996-01-18 |
EP0383200B1 (de) | 1995-12-06 |
FI900786A0 (fi) | 1990-02-16 |
CA2008987C (en) | 1999-05-04 |
US5124237A (en) | 1992-06-23 |
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