JPH0217629B2 - - Google Patents
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- JPH0217629B2 JPH0217629B2 JP7120886A JP7120886A JPH0217629B2 JP H0217629 B2 JPH0217629 B2 JP H0217629B2 JP 7120886 A JP7120886 A JP 7120886A JP 7120886 A JP7120886 A JP 7120886A JP H0217629 B2 JPH0217629 B2 JP H0217629B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1216—Metal oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C18/1229—Composition of the substrate
- C23C18/1245—Inorganic substrates other than metallic
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- Ceramic Engineering (AREA)
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- Chemically Coating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、例えば工業用乾燥器用ヒータ、住設
器機用ヒータ、医療用ヒータ等として用いられる
抵抗発熱体の製造方法に関する。
器機用ヒータ、医療用ヒータ等として用いられる
抵抗発熱体の製造方法に関する。
（従来の技術）
従来、この種の抵抗発熱体は、ニクロム線、タ
ングステン線、カーボン、或いは炭化ケイ素等の
セラミツクス等を用いて所望形状の抵抗発熱体に
形成して製造している。
ングステン線、カーボン、或いは炭化ケイ素等の
セラミツクス等を用いて所望形状の抵抗発熱体に
形成して製造している。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、前記従来の抵抗発熱体の製造方
法によつては、厚みの小さいものが得られないと
いう不都合を有する。
法によつては、厚みの小さいものが得られないと
いう不都合を有する。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、前記不都合を解消した抵抗発熱体の
製造方法を提供することを目的とするもので、そ
の発明は、オクチル酸インジウムを単独で、或い
は添加剤としてのジブチル錫ジアセテートと共に
有機溶媒中に溶解したスプレー溶液を、400〜800
℃に保たれた基材上に噴霧して金属酸化物被膜を
形成することから成る。
製造方法を提供することを目的とするもので、そ
の発明は、オクチル酸インジウムを単独で、或い
は添加剤としてのジブチル錫ジアセテートと共に
有機溶媒中に溶解したスプレー溶液を、400〜800
℃に保たれた基材上に噴霧して金属酸化物被膜を
形成することから成る。
スプレー溶液は、有機溶媒中にオクチル酸イン
ジウムを含んでいることが必須であるが、
SnO2／In2O3重量比換算で０〜0.2、好ましくは
0.01〜0.1の範囲でジブチル錫ジアセテートを含
ませることは任意である。
ジウムを含んでいることが必須であるが、
SnO2／In2O3重量比換算で０〜0.2、好ましくは
0.01〜0.1の範囲でジブチル錫ジアセテートを含
ませることは任意である。
有機溶媒としては、一般にはキシレン、塩化メ
チレン、ベンゼンを単独で、或いは混合して用い
る。
チレン、ベンゼンを単独で、或いは混合して用い
る。
スプレー溶液は、オクチル酸インジウムが有機
溶媒に対し、３〜50wt％、好ましくは10〜30wt
％程度となるように調節する。オクチル酸インジ
ウムが有機溶媒に対し50wt％を越えると粉状の
金属酸化物が生成し易く、また3wt％未満である
と金属酸化物被膜の生成効率が悪いからである。
溶媒に対し、３〜50wt％、好ましくは10〜30wt
％程度となるように調節する。オクチル酸インジ
ウムが有機溶媒に対し50wt％を越えると粉状の
金属酸化物が生成し易く、また3wt％未満である
と金属酸化物被膜の生成効率が悪いからである。
基材は、一般にはガラス、セラミツクス等の板
状体を用い、これを400〜800℃、好ましくは400
〜600℃に加熱しておいてから、前記スプレー溶
液を噴霧する。基材を400〜800℃の範囲にしてお
けば粉状の金属酸化物の生成を押さえると共に得
られる金属酸化物被膜の抵抗が高くなることも押
さえることができるからである。また、予め400
〜800℃に加熱された基板上にスプレー溶液を噴
霧するので、基材上に付着するスプレー溶液は付
着と同時に熱分解され均一で透明な金属酸化物被
膜が形成される。
状体を用い、これを400〜800℃、好ましくは400
〜600℃に加熱しておいてから、前記スプレー溶
液を噴霧する。基材を400〜800℃の範囲にしてお
けば粉状の金属酸化物の生成を押さえると共に得
られる金属酸化物被膜の抵抗が高くなることも押
さえることができるからである。また、予め400
〜800℃に加熱された基板上にスプレー溶液を噴
霧するので、基材上に付着するスプレー溶液は付
着と同時に熱分解され均一で透明な金属酸化物被
膜が形成される。
スプレー溶液は、一般には0.5〜1.5Kg／cm2のス
プレー圧で噴霧する。
プレー圧で噴霧する。
（実施例）
以下、添附図面に従つて本発明の実施例に付き
説明する。
説明する。
実施例 １
オクチル酸インジウムをベンゼン溶液に対して
24wt％溶解したスプレー溶液を用意し、スプレ
ー圧1.2Kg／cm2、スプレー距離40cmで、500℃に加
熱された板状のガラス及びアルミナ基材１上に所
用量噴霧して、種々の膜厚の金属酸化物被膜２を
形成し、種々の抵抗値の抵抗発熱体を得た。得ら
れた金属酸化物被膜２は全て透明で、ピンホール
も生じていなかつた。
24wt％溶解したスプレー溶液を用意し、スプレ
ー圧1.2Kg／cm2、スプレー距離40cmで、500℃に加
熱された板状のガラス及びアルミナ基材１上に所
用量噴霧して、種々の膜厚の金属酸化物被膜２を
形成し、種々の抵抗値の抵抗発熱体を得た。得ら
れた金属酸化物被膜２は全て透明で、ピンホール
も生じていなかつた。
実施例 ２
オクチル酸インジウムを、重量比で１：１のキ
シレン、ベンゼン混合溶液に対して24wt％溶解
すると共に、これにSnO2／In2O3重量比換算で
0.01の成分比率となるようにジブチル錫ジアセテ
ートを溶解したスプレー溶液を用意し、スプレー
圧1.0Kg／cm2、スプレー距離40cmで、500℃に加熱
された板状のガラス及びアルミナ基材１上に所用
量噴霧して、種々の膜厚の金属酸化物被膜２を形
成し、種々の抵抗値の抵抗発熱体を得た。得られ
た金属酸化物被膜２は全て透明でピンホールも生
じていなかつた。
シレン、ベンゼン混合溶液に対して24wt％溶解
すると共に、これにSnO2／In2O3重量比換算で
0.01の成分比率となるようにジブチル錫ジアセテ
ートを溶解したスプレー溶液を用意し、スプレー
圧1.0Kg／cm2、スプレー距離40cmで、500℃に加熱
された板状のガラス及びアルミナ基材１上に所用
量噴霧して、種々の膜厚の金属酸化物被膜２を形
成し、種々の抵抗値の抵抗発熱体を得た。得られ
た金属酸化物被膜２は全て透明でピンホールも生
じていなかつた。
第２図は実施例１及び実施例２で得られたアル
ミナ基材１上に金属酸化物被膜２を形成された抵
抗発熱体の膜厚と、表面抵抗値を測定して得た、
膜厚と表面抵抗値の関係を示す特性線図であり、
曲線Ａ，Ｂは夫々、実施例１、２の特性曲線を示
す。
ミナ基材１上に金属酸化物被膜２を形成された抵
抗発熱体の膜厚と、表面抵抗値を測定して得た、
膜厚と表面抵抗値の関係を示す特性線図であり、
曲線Ａ，Ｂは夫々、実施例１、２の特性曲線を示
す。
図示の通り、両者とも1μｍ以下においても、
抵抗発熱体に適する10〜1000Ω／□内外の表面抵
抗値であつたことが確認された。
抵抗発熱体に適する10〜1000Ω／□内外の表面抵
抗値であつたことが確認された。
また、実施例２のように添加剤を併用すれば、
より薄膜のもので低抵抗値のものが得られること
がわかる。
より薄膜のもので低抵抗値のものが得られること
がわかる。
第３図は、実施例２で得られたガラス及びアル
ミナ基材１上に金属酸化物被膜２を形成された抵
抗発熱体の膜厚と、表面抵抗値を測定した結果得
られた、膜厚と表面抵抗値の関係を示す特性線図
であり、曲線Ｃ，Ｄは夫々基材１としてガラス、
アルミナを用いた場合の特性線図を示す。図示の
通り、アルミナ基材１を用いた方がガラス基材１
を用いた場合よりも、より薄膜のもので低抵抗値
のものが得られることがわかる。
ミナ基材１上に金属酸化物被膜２を形成された抵
抗発熱体の膜厚と、表面抵抗値を測定した結果得
られた、膜厚と表面抵抗値の関係を示す特性線図
であり、曲線Ｃ，Ｄは夫々基材１としてガラス、
アルミナを用いた場合の特性線図を示す。図示の
通り、アルミナ基材１を用いた方がガラス基材１
を用いた場合よりも、より薄膜のもので低抵抗値
のものが得られることがわかる。
第４図は、実施例２で得られたアルミナ基材１
上に金属酸化物被膜２を形成された膜厚0.3μｍで
表面抵抗値200Ω／□の抵抗発熱体の温度と低公
知の関係を示す特性線図であり、図示の通り、
300℃以上では抵抗発熱体の抵抗値が増大するの
で、電流が小さくなつて発熱量が下がり、抵抗発
熱体は過熱防止されると共に、300℃までは再現
性に優れることが確認された。
上に金属酸化物被膜２を形成された膜厚0.3μｍで
表面抵抗値200Ω／□の抵抗発熱体の温度と低公
知の関係を示す特性線図であり、図示の通り、
300℃以上では抵抗発熱体の抵抗値が増大するの
で、電流が小さくなつて発熱量が下がり、抵抗発
熱体は過熱防止されると共に、300℃までは再現
性に優れることが確認された。
（発明の効果）
このように、本発明によれば、オクチル酸イン
ジウムを単独で、或いは添加剤としてのジブチル
錫ジアセテートと共に有機溶媒中に溶解したスプ
レー溶液を、400〜800℃に保たれた基材上に噴霧
して、金属有機化合物の熱分解によつて金属酸化
物被膜を形成するようにしたので、極めて簡単な
方法で、厚みの小さな抵抗発熱体を製造でき、し
かも基材上に透明な金属酸化物被膜が形成される
ので、ガラス等の透明基材を用いれば、遠赤外放
射ガラス、熱線反射ガラス、結露防止ガラス、帯
電防止ガラス、透明導電ガラス、電磁波シールド
ガラス等も簡単に製造できる効果を有する。ま
た、不透明なセラミツク板に形成しても同様の効
果を有する。
ジウムを単独で、或いは添加剤としてのジブチル
錫ジアセテートと共に有機溶媒中に溶解したスプ
レー溶液を、400〜800℃に保たれた基材上に噴霧
して、金属有機化合物の熱分解によつて金属酸化
物被膜を形成するようにしたので、極めて簡単な
方法で、厚みの小さな抵抗発熱体を製造でき、し
かも基材上に透明な金属酸化物被膜が形成される
ので、ガラス等の透明基材を用いれば、遠赤外放
射ガラス、熱線反射ガラス、結露防止ガラス、帯
電防止ガラス、透明導電ガラス、電磁波シールド
ガラス等も簡単に製造できる効果を有する。ま
た、不透明なセラミツク板に形成しても同様の効
果を有する。
第１図は本発明製造方法によつて得られた抵抗
発熱体の斜視図、第２図及び第３図は得られた抵
抗発熱体の膜厚と表面抵抗値の関係を示す特性線
図、第４図はその温度と抵抗値の関係を示す特性
線図である。 １……基材、２……金属酸化物被膜。
発熱体の斜視図、第２図及び第３図は得られた抵
抗発熱体の膜厚と表面抵抗値の関係を示す特性線
図、第４図はその温度と抵抗値の関係を示す特性
線図である。 １……基材、２……金属酸化物被膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ オクチル酸インジウムを単独で、或いは添加
剤としてのジブチル錫ジアセテートと共に有機溶
媒中に溶解したスプレー溶液を、400〜800℃に保
たれた基材上に噴霧して金属酸化物被膜を形成す
ることから成る抵抗発熱体の製造方法。 ２ 該スプレー溶液中のオクチル酸インジウムと
ジブチル錫ジアセテートの成分比率を、SnO2／
In2O3重量比換算で０〜0.2とし、該有機溶媒とし
てキシレン、塩化メチレン、ベンゼンを単独で、
或いは混合して用いることを特徴とする特許請求
の範囲第１項に記載の抵抗発熱体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7120886A JPS62228483A (ja) | 1986-03-31 | 1986-03-31 | 抵抗発熱体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7120886A JPS62228483A (ja) | 1986-03-31 | 1986-03-31 | 抵抗発熱体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62228483A JPS62228483A (ja) | 1987-10-07 |
| JPH0217629B2 true JPH0217629B2 (ja) | 1990-04-23 |
Family
ID=13454029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7120886A Granted JPS62228483A (ja) | 1986-03-31 | 1986-03-31 | 抵抗発熱体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62228483A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0894417A (ja) * | 1994-09-28 | 1996-04-12 | Denken Eng Kk | 遠隔残量検出装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006018900A1 (ja) * | 2004-08-17 | 2006-02-23 | Figla Co., Ltd. | 導電膜付ガラス |
| CN102036433B (zh) * | 2010-12-21 | 2012-08-22 | 吕一诺 | 一种双膜层结构的红外电热膜加热管、其制备方法及其应用 |
-
1986
- 1986-03-31 JP JP7120886A patent/JPS62228483A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0894417A (ja) * | 1994-09-28 | 1996-04-12 | Denken Eng Kk | 遠隔残量検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62228483A (ja) | 1987-10-07 |
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