JPH02167445A - 反射光量測定方法および装置 - Google Patents
反射光量測定方法および装置Info
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- JPH02167445A JPH02167445A JP32243088A JP32243088A JPH02167445A JP H02167445 A JPH02167445 A JP H02167445A JP 32243088 A JP32243088 A JP 32243088A JP 32243088 A JP32243088 A JP 32243088A JP H02167445 A JPH02167445 A JP H02167445A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/4738—Diffuse reflection, e.g. also for testing fluids, fibrous materials
- G01N21/474—Details of optical heads therefor, e.g. using optical fibres
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、蛍光灯から放射される光を被測定物に照射し
、この被測定物から反射される反射光の光量を測定する
反射光量測定方法および装置に関するものであって、特
に絵柄面積率の測定に使用されるものである。
、この被測定物から反射される反射光の光量を測定する
反射光量測定方法および装置に関するものであって、特
に絵柄面積率の測定に使用されるものである。
（従来の技術）
絵柄面積率の測定に用いられる従来の反射光量測定装置
は、測定を開始する直前に基準板からの反射光量を蛍光
灯の各部分毎に測定し、この測定結果に基づいて蛍光灯
の各部分の明るさの補正を行ったり、あるいは蛍光灯の
ある部分の明るさを常時測定してリアルタイムで補正を
行っていた。
は、測定を開始する直前に基準板からの反射光量を蛍光
灯の各部分毎に測定し、この測定結果に基づいて蛍光灯
の各部分の明るさの補正を行ったり、あるいは蛍光灯の
ある部分の明るさを常時測定してリアルタイムで補正を
行っていた。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら前者の場合は蛍光灯全体の補正は行えるが
リアルタイムに補正を行うことができないという問題が
有る。また、一般に蛍光灯は各部分によって明るさの変
動が一様でないため、後者の場合、蛍光灯全体の補正が
行えないという問題があった。
リアルタイムに補正を行うことができないという問題が
有る。また、一般に蛍光灯は各部分によって明るさの変
動が一様でないため、後者の場合、蛍光灯全体の補正が
行えないという問題があった。
本発明は上記問題点を考慮してなされたものであって、
光源の光量が変動した場合でも測定精度を可及的に向上
させることのできる反射光量測定方法および装置を提供
することを目的とする。
光源の光量が変動した場合でも測定精度を可及的に向上
させることのできる反射光量測定方法および装置を提供
することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
本発明による反射光量測定装置は蛍光灯から放射される
光を被測定物に照射し、被測定物によって反射される光
量を検出する反射光量検出手段と、蛍光灯から放射され
る光量を検出する放射光量検出手段と、反射光量検出手
段の検出値と放射光量検出手段の検出値に基づいて修正
された反射光量を演算する演算手段とを備えていること
を特徴とする。
光を被測定物に照射し、被測定物によって反射される光
量を検出する反射光量検出手段と、蛍光灯から放射され
る光量を検出する放射光量検出手段と、反射光量検出手
段の検出値と放射光量検出手段の検出値に基づいて修正
された反射光量を演算する演算手段とを備えていること
を特徴とする。
また、本発明による反射光量測定方法は、蛍光灯から放
射される光を被測定物に照射し、被測定物によって反射
される反射光量を検出する第１の工程と、蛍光灯から放
射される放射光量を検出する第２の工程と、第１の工程
によって検出される反射光量と第２の工程によって検出
される放射光量とに基づいて修正された反射光量を演算
する第３の工程とを備えていることを特徴とする。
射される光を被測定物に照射し、被測定物によって反射
される反射光量を検出する第１の工程と、蛍光灯から放
射される放射光量を検出する第２の工程と、第１の工程
によって検出される反射光量と第２の工程によって検出
される放射光量とに基づいて修正された反射光量を演算
する第３の工程とを備えていることを特徴とする。
一方、本発明による絵柄面積率測定方法は、パネルから
の反射光量を測定する工程において上述の反射光量測定
方法を用いて行うことを特徴とする。
の反射光量を測定する工程において上述の反射光量測定
方法を用いて行うことを特徴とする。
（作 用）
このように構成された本発明による反射光量測定装置に
よれば、反射光量検出手段と放射光量検出手段の検出値
に基づいて修正された反射光量が演算手段によって演算
される。この修正され反射光量の測定値は、光源の光量
が変動した場合でも測定点が同一ならば同じ値となり、
光源の光量が変動した場合の影響を受けない。これによ
り測定精度を可及的に向上させることができる。
よれば、反射光量検出手段と放射光量検出手段の検出値
に基づいて修正された反射光量が演算手段によって演算
される。この修正され反射光量の測定値は、光源の光量
が変動した場合でも測定点が同一ならば同じ値となり、
光源の光量が変動した場合の影響を受けない。これによ
り測定精度を可及的に向上させることができる。
上述のようにして構成された本発明による反射光量測定
方法によれば、第１の工程によって検出される反射光量
と、第２の工程によって検出される放射光量とに基づい
て修正された反射光量が第３の工程によって演算される
。これにより前述の反射光量測定装置と同様に測定精度
を可及的に向上させることができる。
方法によれば、第１の工程によって検出される反射光量
と、第２の工程によって検出される放射光量とに基づい
て修正された反射光量が第３の工程によって演算される
。これにより前述の反射光量測定装置と同様に測定精度
を可及的に向上させることができる。
また、本発明による絵柄面積率ｆｆ１ｌ定方法によれば
、パネルからの反射光量の測定に上述の反射光量測定方
法が用いられる。これにより測定精度を可及的に向上さ
せることができる。
、パネルからの反射光量の測定に上述の反射光量測定方
法が用いられる。これにより測定精度を可及的に向上さ
せることができる。
（実施例）
第１図に本発明による反射光量測定装置の実施例を示す
。この実施例の反射光量測定装置は、蛍光灯１と、複数
のセンサＡ およびＢ１ （ｉ−１゜・・・ｎ）と、演
算手段５とを有している。センサＡ、（ｉ＝ｌ、・・・
ｎ）は蛍光灯１の軸方向に沿って、遮光箱１５の基板１
６下に一列状に配設されており、蛍光灯１から放射され
る光の光量ａ、を検出する。またセンサＢ１（ｔ−１、
・・・ｎ）は、センサＡ、に対応して蛍光灯１の軸方向
に沿って遮光箱１５の基板１６下に一列状に配設されて
おり、蛍光灯１の、被測定物１０によって反射される反
射光量す、を測定する。なお遮光箱１５の内側の中央に
、仕切板１８が設けられている。この仕切板１８は、蛍
光灯１の放射光がセンサＢ、によって検知されないよう
に、また被測定物からの反射光がセンサＡ、によって検
知されないように設けたものである。
。この実施例の反射光量測定装置は、蛍光灯１と、複数
のセンサＡ およびＢ１ （ｉ−１゜・・・ｎ）と、演
算手段５とを有している。センサＡ、（ｉ＝ｌ、・・・
ｎ）は蛍光灯１の軸方向に沿って、遮光箱１５の基板１
６下に一列状に配設されており、蛍光灯１から放射され
る光の光量ａ、を検出する。またセンサＢ１（ｔ−１、
・・・ｎ）は、センサＡ、に対応して蛍光灯１の軸方向
に沿って遮光箱１５の基板１６下に一列状に配設されて
おり、蛍光灯１の、被測定物１０によって反射される反
射光量す、を測定する。なお遮光箱１５の内側の中央に
、仕切板１８が設けられている。この仕切板１８は、蛍
光灯１の放射光がセンサＢ、によって検知されないよう
に、また被測定物からの反射光がセンサＡ、によって検
知されないように設けたものである。
演算手段５は、センサＢ、の検出出力ｂ１とセンサＡ、
の検出出力の比ｂ ＝ ／ ａ ｔを演算する。
の検出出力の比ｂ ＝ ／ ａ ｔを演算する。
そして更に、これらの演算されたｎ個の比す、／ａ、（
ｉ＝１．・・・ｎ）の平均値を求め、この平均値を修正
された反射光量の測定値（相当値）として出力する。こ
の修正された反射光量の測定値は蛍光灯の光量が変動し
た場合でも測定領域が同一ならば同一の値となり、蛍光
灯１の光量が変動した場合の影響を受けない。これによ
り測定精度を向上させることができる。
ｉ＝１．・・・ｎ）の平均値を求め、この平均値を修正
された反射光量の測定値（相当値）として出力する。こ
の修正された反射光量の測定値は蛍光灯の光量が変動し
た場合でも測定領域が同一ならば同一の値となり、蛍光
灯１の光量が変動した場合の影響を受けない。これによ
り測定精度を向上させることができる。
なお上記実施例においては、センサＡ、は蛍光灯１から
直接放射される放ａｔ光の光量を検出したが、遮光箱１
５内に光を反射する基準板を設け、蛍光灯１から直接放
射される光を上記基準板に当て、この基準板によって反
射される光をセンサＡ、によって検出しても上記実施例
と同様の効果を得ることができる。
直接放射される放ａｔ光の光量を検出したが、遮光箱１
５内に光を反射する基準板を設け、蛍光灯１から直接放
射される光を上記基準板に当て、この基準板によって反
射される光をセンサＡ、によって検出しても上記実施例
と同様の効果を得ることができる。
第２図に本発明による絵柄面積率測定方法を実施する装
置の一構成例を示す。この装置は、複数のセンサＡ、、
およびＢ、（ｉ＝１．・・・ｎ）と、】
】 増幅器２１と、マルチプレクサ２３と、アナログ除算器
２４と、Ａ／Ｄ変換器２５と、絵柄面積率演算手段２６
とを有している。センサＡ、（ｔ＝１、・・・ｎ）は図
示していない蛍光灯から放射される光の量を検出する。
置の一構成例を示す。この装置は、複数のセンサＡ、、
およびＢ、（ｉ＝１．・・・ｎ）と、】
】 増幅器２１と、マルチプレクサ２３と、アナログ除算器
２４と、Ａ／Ｄ変換器２５と、絵柄面積率演算手段２６
とを有している。センサＡ、（ｔ＝１、・・・ｎ）は図
示していない蛍光灯から放射される光の量を検出する。
センサＢ、（ｉ＝１．・・・ｎ）は上記蛍光灯の、パネ
ルによって反射される反射光量を測定する。なおセンサ
Ａ１．・・・ＡｏおよびセンサＢ１．・・・Ｂｏはそれ
ぞれ上記蛍光灯の軸方向に沿って一列状に配設されてい
る。増幅器２１は、センサＡ、、およびＢ、 （ｉ−
１，・・・ｎ）のそれぞれの検出出力ａ、およびｂｌを
増幅し、マルチプレクサ２３に送出する。マルチプレク
サ２３は増幅器２１によって増幅されたセンサＡ１゜お
よびＢ、（ｉ−１，・・・ｎ）の検出出力ａ、およびし
、を１組として順次アナログ除算器２４に送出する。ア
ナログ除算器２４は検出出力ｂ１とａ の比ｂ ＋ ／
ａ ｓを演算する。Ａ／Ｄ変換器２５はアナログ除算
器２４によって演算された比ｂ１／ａ、をＡ／Ｄ変換す
る。絵柄面積率演算手段２６は、Ａ／Ｄ変換器２５を介
して人力された、センサＢ１およびＡ１の検出出力のｎ
個の比ｂｉ／ ａ １（ｉ −１、・・・ｎ）に基づい
て、これらのｎ個の比す、／ａ、（ｉ＝１．・・・ｎ）
の平均値、すなわち修正された反射光量を演算する。そ
してこの演算された平均値に基づいて絵柄面積率Ｐ（％
）を下記の式を用いて演算する。
ルによって反射される反射光量を測定する。なおセンサ
Ａ１．・・・ＡｏおよびセンサＢ１．・・・Ｂｏはそれ
ぞれ上記蛍光灯の軸方向に沿って一列状に配設されてい
る。増幅器２１は、センサＡ、、およびＢ、 （ｉ−
１，・・・ｎ）のそれぞれの検出出力ａ、およびｂｌを
増幅し、マルチプレクサ２３に送出する。マルチプレク
サ２３は増幅器２１によって増幅されたセンサＡ１゜お
よびＢ、（ｉ−１，・・・ｎ）の検出出力ａ、およびし
、を１組として順次アナログ除算器２４に送出する。ア
ナログ除算器２４は検出出力ｂ１とａ の比ｂ ＋ ／
ａ ｓを演算する。Ａ／Ｄ変換器２５はアナログ除算
器２４によって演算された比ｂ１／ａ、をＡ／Ｄ変換す
る。絵柄面積率演算手段２６は、Ａ／Ｄ変換器２５を介
して人力された、センサＢ１およびＡ１の検出出力のｎ
個の比ｂｉ／ ａ １（ｉ −１、・・・ｎ）に基づい
て、これらのｎ個の比す、／ａ、（ｉ＝１．・・・ｎ）
の平均値、すなわち修正された反射光量を演算する。そ
してこの演算された平均値に基づいて絵柄面積率Ｐ（％
）を下記の式を用いて演算する。
ここでＣは測定すべき領域の修正された反射光量、Ｈは
第１の測定基準部（例えば画線濃度が０％）の修正され
た反射光量、Ｎは第２の測定基準部（例えば画線濃度が
１００％）の修正された反射光量を示す。
第１の測定基準部（例えば画線濃度が０％）の修正され
た反射光量、Ｎは第２の測定基準部（例えば画線濃度が
１００％）の修正された反射光量を示す。
以上連べたように、修正された反射光量を用いて絵柄面
積率を演算することにより本実施例の絵柄面積率測定方
法は従来のものに比べて測定精度の向上を計ることがで
きる。
積率を演算することにより本実施例の絵柄面積率測定方
法は従来のものに比べて測定精度の向上を計ることがで
きる。
本発明によれば光源の光量が変動した場合でも測定精度
を可及的に向上させることができる。
を可及的に向上させることができる。
柄面積率測定方法を実施する装置の構成例を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
１・・・蛍光灯、５・・・演算手段、１０・・・被測定
物、Ａ、、Ｂ、（ｉ−１，・・・ｎ）・・・センサ。
物、Ａ、、Ｂ、（ｉ−１，・・・ｎ）・・・センサ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、蛍光灯から放射される光を被測定物に照射し、前記
被測定物によって反射される光量を検出する反射光量検
出手段と、前記蛍光灯から放射される光量を検出する放
射光量検出手段と、前記反射光量検出手段の検出値と前
記放射光量検出手段の検出値に基づいて修正された反射
光量を演算する演算手段とを備えていることを特徴とす
る反射光量測定装置。 ２、蛍光灯から放射される光を被測定物に照射し、前記
被測定物によって反射される反射光量を検出する第１の
工程と、前記蛍光灯から放射される放射光量を検出する
第２の工程と、前記第１の工程によって検出される反射
光量と前記第２の工程によって検出される放射光量とに
基づいて修正された反射光量を演算する第３の工程とを
備えていることを特徴とする反射光量測定方法。 ３、パネルからの反射光量を測定する工程に、請求項２
記載の反射光量測定方法を用いてパネルの絵柄面積率を
測定する絵柄面積率測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63322430A JP2965078B2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 反射光量測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63322430A JP2965078B2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 反射光量測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02167445A true JPH02167445A (ja) | 1990-06-27 |
| JP2965078B2 JP2965078B2 (ja) | 1999-10-18 |
Family
ID=18143582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63322430A Expired - Lifetime JP2965078B2 (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 反射光量測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2965078B2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60100710A (ja) * | 1983-11-07 | 1985-06-04 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | オフセツト印刷機における刷版の絵柄面積率計測装置 |
| JPS6269112A (ja) * | 1985-09-24 | 1987-03-30 | Toshiba Seiki Kk | パネルの絵柄面積率測定方法 |
| JPS6316247A (ja) * | 1985-07-25 | 1988-01-23 | カ−ル・ツアイス−スチフツング | 無接触反射率測定装置 |
| JPS6388430A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-19 | Shimadzu Corp | 絶対反射率測定装置 |
-
1988
- 1988-12-21 JP JP63322430A patent/JP2965078B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60100710A (ja) * | 1983-11-07 | 1985-06-04 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | オフセツト印刷機における刷版の絵柄面積率計測装置 |
| JPS6316247A (ja) * | 1985-07-25 | 1988-01-23 | カ−ル・ツアイス−スチフツング | 無接触反射率測定装置 |
| JPS6269112A (ja) * | 1985-09-24 | 1987-03-30 | Toshiba Seiki Kk | パネルの絵柄面積率測定方法 |
| JPS6388430A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-19 | Shimadzu Corp | 絶対反射率測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2965078B2 (ja) | 1999-10-18 |
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