JPS61120004A - 水およびインキ量測定装置 - Google Patents
水およびインキ量測定装置Info
- Publication number
- JPS61120004A JPS61120004A JP59241822A JP24182284A JPS61120004A JP S61120004 A JPS61120004 A JP S61120004A JP 59241822 A JP59241822 A JP 59241822A JP 24182284 A JP24182284 A JP 24182284A JP S61120004 A JPS61120004 A JP S61120004A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- film thickness
- ink
- water
- measured
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Rotary Presses (AREA)
- Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、例えばオフセット印刷機などに使用するイ
ンキおよび水の膜厚測定装置に関する。
ンキおよび水の膜厚測定装置に関する。
従来、オフセット印刷機において版に塗布する水の量お
よ′びインキの量は試し刷シにより熟練した印刷工によ
り手動調艷されていた。
よ′びインキの量は試し刷シにより熟練した印刷工によ
り手動調艷されていた。
水の量については、近年、赤外線の吸収やレーデ先の反
射を利用した非接触方式の測定が可能なものが提案され
、使用されている。
射を利用した非接触方式の測定が可能なものが提案され
、使用されている。
しかし、インキの膜厚を測定するものについては接触式
のエリクセン膜厚計が実用に供されているが、この装置
を用いるには印刷機を停、止して測定しなければならな
い。
のエリクセン膜厚計が実用に供されているが、この装置
を用いるには印刷機を停、止して測定しなければならな
い。
どの発明は、上記従来の欠点を除去するためになされた
もので、非接触式で簡便に水膜厚とイン中膜厚を同時に
測定できる水およびインキ量測定装置を提供することを
目的とする。
もので、非接触式で簡便に水膜厚とイン中膜厚を同時に
測定できる水およびインキ量測定装置を提供することを
目的とする。
この発明の水およびインキ量測定装置は、光源からの光
をインキ量の測定に対しては２．３１〜２１３５μｍの
帯域のフィルタを用いかつ水の量の測定に対しては所定
の帯域のフィルタにより切り換えて被測定物に照射し、
被測定物における光の反射光または透過光の被測定物の
吸収量を検出器で検出し、この検出器の出力信号から参
照光と水膜厚測定光およびインキ膜厚測定光の比または
差をとって信号処理を行なって水およびインキの量を測
定するようにしたものである。
をインキ量の測定に対しては２．３１〜２１３５μｍの
帯域のフィルタを用いかつ水の量の測定に対しては所定
の帯域のフィルタにより切り換えて被測定物に照射し、
被測定物における光の反射光または透過光の被測定物の
吸収量を検出器で検出し、この検出器の出力信号から参
照光と水膜厚測定光およびインキ膜厚測定光の比または
差をとって信号処理を行なって水およびインキの量を測
定するようにしたものである。
以下、この発明の水およびインキ量測定装置の実施例に
ついて図面に基づき説明する。第１図はその一実施例の
構成を示すブロック図である。この第１図において、１
は光源、２はモータであシ、モータ２によ勺円板３を回
転するようになっている。円板３には所定の間隔をもっ
て光学フィルタ４〜６が取シ付けられておシ。
ついて図面に基づき説明する。第１図はその一実施例の
構成を示すブロック図である。この第１図において、１
は光源、２はモータであシ、モータ２によ勺円板３を回
転するようになっている。円板３には所定の間隔をもっ
て光学フィルタ４〜６が取シ付けられておシ。
この光学フィルタ４〜６を通して光源１からの光線が被
測定物７に照射するようになっている。
測定物７に照射するようになっている。
この被測定物７には水８．およびインキ９が塗布されて
いる。
いる。
被測定物７からの反射光は検出器１θで検出するように
なっている。検出器１０からは電気信号が出力され、そ
の出力は増幅器１１を経て同期検出器１２に人力するよ
うになっている。
なっている。検出器１０からは電気信号が出力され、そ
の出力は増幅器１１を経て同期検出器１２に人力するよ
うになっている。
同期検出器１２には円板３の回転に対応する参照光信号
も入力されるようになっている。
も入力されるようになっている。
同期検出器１２の出力は演算処理装置１３に入力される
ようになっており、この演算処理装置１３の出力は表示
装置１４に送られ、アナログ的またはディノタル的に表
示するようになっている。
ようになっており、この演算処理装置１３の出力は表示
装置１４に送られ、アナログ的またはディノタル的に表
示するようになっている。
次に、以上のように構成されたこの発明の水およびイン
キ量測定装置の動作を第２図（＆）〜第２図（ｄ）に示
すタイムチャートを併用して述べる。
キ量測定装置の動作を第２図（＆）〜第２図（ｄ）に示
すタイムチャートを併用して述べる。
光源１より出た光はモータ２により回転する円板３上に
取付けられた光学フィルタ４，５．６を順次通って被測
定物７に照射される。
取付けられた光学フィルタ４，５．６を順次通って被測
定物７に照射される。
この被測定物７に照射された光は一部水８″またはイン
キ９により吸収され、残シは反射して検出器１０に検出
され、電気信号２０（第２図（ａ） ） Ｋ変換される
。
キ９により吸収され、残シは反射して検出器１０に検出
され、電気信号２０（第２図（ａ） ） Ｋ変換される
。
この電気信号は増幅器１ノにより増幅され、同期検出器
１２で同期検出し、参照光信号２ノ（第２図（ｂ） ）
、水膜厚測定光信号２２（第２図（ｃ） ） 、イン
キ膜厚測定光信号２３（第２図（ｄ））のそれぞれの信
号に分けられる。
１２で同期検出し、参照光信号２ノ（第２図（ｂ） ）
、水膜厚測定光信号２２（第２図（ｃ） ） 、イン
キ膜厚測定光信号２３（第２図（ｄ））のそれぞれの信
号に分けられる。
この信号の振幅値ＦＪ１ ｖＥ２ ｙＥ３ をアナ
ログ的またはデシタル的手段を用いて保持し、演算処理
装置Ｉ３により、アナログ的またはデシタル的に参照光
信号値Ｅ１ と水膜厚測定光信号値Ｅ８の比または差、
参照光信号値Ｅｌ とインキ膜厚測定光Ｅ、の比また
は差をとる。
ログ的またはデシタル的手段を用いて保持し、演算処理
装置Ｉ３により、アナログ的またはデシタル的に参照光
信号値Ｅ１ と水膜厚測定光信号値Ｅ８の比または差、
参照光信号値Ｅｌ とインキ膜厚測定光Ｅ、の比また
は差をとる。
参照光は水またはインキによりほとんど影響を受けない
ので、これらの比や差は水膜厚およびインキ膜厚に比例
する。この値をアナログ的またはデシタル的に表示装置
１４で表示すれば、水膜厚とインキ膜厚を同一の装置で
簡便に測れる。
ので、これらの比や差は水膜厚およびインキ膜厚に比例
する。この値をアナログ的またはデシタル的に表示装置
１４で表示すれば、水膜厚とインキ膜厚を同一の装置で
簡便に測れる。
水による光の吸収が起る波長は１．４５μｍ。
１．９４μｍ、２．９６μｍ、４８μｍ、６．１ｔ１ｒ
ｎなどが知られている。
ｎなどが知られている。
また、インキについては、３．４μｍ 、 ５．４μｍ
、６．８５μｍについては公知であるが、２．３１〜２
．３５μｍの間の光でも吸収が起ることがわかった。
、６．８５μｍについては公知であるが、２．３１〜２
．３５μｍの間の光でも吸収が起ることがわかった。
インキ膜厚の測定（この２．３１〜２．３５μｍの間の
光を用いると、たとえば参照光の波長を１．８μｍ、水
膜厚測定光の波長を１．９４μｍとすると長波長用の０
８結晶などの特殊な光学材料を必要としないで光学系を
構成できるため、３．４μｍなどの長波長の光を用いる
ものより容易に安価な装置を製作できる。
光を用いると、たとえば参照光の波長を１．８μｍ、水
膜厚測定光の波長を１．９４μｍとすると長波長用の０
８結晶などの特殊な光学材料を必要としないで光学系を
構成できるため、３．４μｍなどの長波長の光を用いる
ものより容易に安価な装置を製作できる。
なお、上記実施例では、被測定物の反射光を検出する場
合を例示したが、被測定物の透過光を検出するようにし
てもよいことは自明である。
合を例示したが、被測定物の透過光を検出するようにし
てもよいことは自明である。
以上述べたように、この発明の水およびインキ量測定装
置によれば、被測定物に光を照射してその反射光または
透過光の被測定物による吸収量を検出し、その検出信号
から参照光信号と水膜厚測定光およびインキ膜厚測定光
との比または差をとるようにし、特にインキ量の測定に
２．３１〜２．３５μｍの間の光を用いるようにしたの
で、容易に安価で簡便な水膜厚、およびインキ膜厚を測
定できる。
置によれば、被測定物に光を照射してその反射光または
透過光の被測定物による吸収量を検出し、その検出信号
から参照光信号と水膜厚測定光およびインキ膜厚測定光
との比または差をとるようにし、特にインキ量の測定に
２．３１〜２．３５μｍの間の光を用いるようにしたの
で、容易に安価で簡便な水膜厚、およびインキ膜厚を測
定できる。
第１図はこの発明の水およびインキ量測定装置の一実施
例を示すプロ、り図、第２図は同上水およびインキ量測
定装置における検出器で検出された信号および処理過程
の信号を示す図である。 １・・・光源、２・・・モータ、３・・・円板、４〜−
６・・・フィルタ、７・・・被測定物、８・・・水、９
・・・インキ。 １０・・・検出器、１２・・・同期検出器、１３・・・
演算処理装置、１４・・・表示装置。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第 １ 囚
例を示すプロ、り図、第２図は同上水およびインキ量測
定装置における検出器で検出された信号および処理過程
の信号を示す図である。 １・・・光源、２・・・モータ、３・・・円板、４〜−
６・・・フィルタ、７・・・被測定物、８・・・水、９
・・・インキ。 １０・・・検出器、１２・・・同期検出器、１３・・・
演算処理装置、１４・・・表示装置。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第 １ 囚
Claims (1)
- 光源からの光をインキの量の測定に対しては２．３１〜
２．３５μｍの光を通過しかつ水の量の測定に対しては
所定の帯域の光を通過させて被測定物に照射する光学フ
ィルタと、上記被測定物の反射光または透過光を検出す
る検出器と、この検出器の出力信号より参照光信号と上
記被測定物の水膜厚測定光およびインキ膜厚測定光との
比または差をそれぞれとるように信号処理を行って水の
量およびインキの量を測定する演算処理装置とよりなる
水およびインキ量測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59241822A JPS61120004A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 水およびインキ量測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59241822A JPS61120004A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 水およびインキ量測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61120004A true JPS61120004A (ja) | 1986-06-07 |
Family
ID=17080009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59241822A Pending JPS61120004A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 水およびインキ量測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61120004A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61148061A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | オフセツト印刷機におけるインキと湿し水の自動制御方法 |
| EP0380412A2 (en) * | 1989-01-27 | 1990-08-01 | Measurex Corporation | Coating weight measuring and control apparatus and method |
| US5276327A (en) * | 1991-12-09 | 1994-01-04 | Measurex Corporation | Sensor and method for mesaurement of select components of a material |
| US5338361A (en) * | 1991-11-04 | 1994-08-16 | Measurex Corporation | Multiple coat measurement and control apparatus and method |
| WO2000034737A1 (de) * | 1998-12-04 | 2000-06-15 | Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien | Automatische kontrolle der hydrophilie einer festen oberfläche mit infrarotspektroskopie |
-
1984
- 1984-11-16 JP JP59241822A patent/JPS61120004A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61148061A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | オフセツト印刷機におけるインキと湿し水の自動制御方法 |
| EP0380412A2 (en) * | 1989-01-27 | 1990-08-01 | Measurex Corporation | Coating weight measuring and control apparatus and method |
| US5338361A (en) * | 1991-11-04 | 1994-08-16 | Measurex Corporation | Multiple coat measurement and control apparatus and method |
| US5276327A (en) * | 1991-12-09 | 1994-01-04 | Measurex Corporation | Sensor and method for mesaurement of select components of a material |
| WO2000034737A1 (de) * | 1998-12-04 | 2000-06-15 | Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien | Automatische kontrolle der hydrophilie einer festen oberfläche mit infrarotspektroskopie |
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