JPH02158994A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
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- JPH02158994A JPH02158994A JP63312799A JP31279988A JPH02158994A JP H02158994 A JPH02158994 A JP H02158994A JP 63312799 A JP63312799 A JP 63312799A JP 31279988 A JP31279988 A JP 31279988A JP H02158994 A JPH02158994 A JP H02158994A
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- Japan
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 16
- 101710156159 50S ribosomal protein L21, chloroplastic Proteins 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
-
- G—PHYSICS
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- G11C—STATIC STORES
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- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4097—Bit-line organisation, e.g. bit-line layout, folded bit lines
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
複数対の電圧不確定(フローティング)になる時間を有
するノードが設けられ、該各対の電圧不確定になる時間
を有する電圧部ノード間に現れる信号の微小電位差を差
動増幅するダイナミックRAM等の半導体集積回路に関
し、 線間容量による雑音による誤動作を防止した半導体集積
回路を提供することを目的とし、複数対の電圧不確定に
なる時間を有する電圧部ノードが配列され、その外側に
確定電圧部が設けられ、該各対の電圧不確定になる時間
を有する電圧部ノードの微小電位差により動作する半導
体集積回路において前記複数対の電圧不確定になる時間
を有する電圧部ノードと前記確定電圧部との間に内部信
号線による雑音源を設けるように構成する、 ことを特徴とする。
するノードが設けられ、該各対の電圧不確定になる時間
を有する電圧部ノード間に現れる信号の微小電位差を差
動増幅するダイナミックRAM等の半導体集積回路に関
し、 線間容量による雑音による誤動作を防止した半導体集積
回路を提供することを目的とし、複数対の電圧不確定に
なる時間を有する電圧部ノードが配列され、その外側に
確定電圧部が設けられ、該各対の電圧不確定になる時間
を有する電圧部ノードの微小電位差により動作する半導
体集積回路において前記複数対の電圧不確定になる時間
を有する電圧部ノードと前記確定電圧部との間に内部信
号線による雑音源を設けるように構成する、 ことを特徴とする。
[産業上の利用分野]
本発明は複数対の電圧不確定になる時間を有する電圧部
ノードが設けられ、該各対の電圧不確定になる時間を有
する電圧部ノード間に現れる信号の微小電位差を差動増
幅するダイナミックRAM等半導体集積回路に関する。
ノードが設けられ、該各対の電圧不確定になる時間を有
する電圧部ノード間に現れる信号の微小電位差を差動増
幅するダイナミックRAM等半導体集積回路に関する。
近年、半導体集積回路たとえば半導体記憶装置において
は、高集積化、微細化が進み、この結果、内部配線間の
線間容量が重要な問題となっている。
は、高集積化、微細化が進み、この結果、内部配線間の
線間容量が重要な問題となっている。
従来の半導体集積回路の一例は、第5図に示すように、
複数対の電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN
l + Nl’ ; N2 r N2’ ;・・・;
N n + N11′が差動増幅段としてのセンスアン
プSA0、SA2.・・・、SA、−0、SA、に接続
されている。この結果、たとえば、1対の電圧不確定に
なる時間を有する電圧部ノードN0、N、の微小電位差
がセンスアンプSA、に差動増幅される。なお、センス
アンプSA、〜SA、lはラッチイネーブル信号φ、に
よって動作する。これらの電圧不確定になる時間を有す
る電圧部ノード間には線間容量C,,,C,□、Cz□
Ic!3.・・・1cfl−□。
複数対の電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN
l + Nl’ ; N2 r N2’ ;・・・;
N n + N11′が差動増幅段としてのセンスアン
プSA0、SA2.・・・、SA、−0、SA、に接続
されている。この結果、たとえば、1対の電圧不確定に
なる時間を有する電圧部ノードN0、N、の微小電位差
がセンスアンプSA、に差動増幅される。なお、センス
アンプSA、〜SA、lはラッチイネーブル信号φ、に
よって動作する。これらの電圧不確定になる時間を有す
る電圧部ノード間には線間容量C,,,C,□、Cz□
Ic!3.・・・1cfl−□。
n−11C11−1+n−1+ C11−1+11
+ CFl+1、が存在する。
+ CFl+1、が存在する。
また、電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN
l + Nl’ + N2 + N2’ +
・・・r Nn−1+N n−+’ I Nn l
Nl’1′上には動作クロックφのための線が設けられ
、これらとの間には、線間容′量CI + CI’
+ Cz l C1’ + ・・・+ Cn−
1+ Cn−1’ ICn+Cn′が存在する。
l + Nl’ + N2 + N2’ +
・・・r Nn−1+N n−+’ I Nn l
Nl’1′上には動作クロックφのための線が設けられ
、これらとの間には、線間容′量CI + CI’
+ Cz l C1’ + ・・・+ Cn−
1+ Cn−1’ ICn+Cn′が存在する。
さらに、外側には、センスアンプSA0、SAD。
・・・、5Afi0、SA、の電源電圧供給用の確定電
圧部N6 、N、+、が設けられ、確定電圧部N。と電
圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN1との間に
は線間界ff1c0、が存在し、確定電圧部N7゜1と
電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN n l
との間には線間容量C11++I+1が存在する。
圧部N6 、N、+、が設けられ、確定電圧部N。と電
圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN1との間に
は線間界ff1c0、が存在し、確定電圧部N7゜1と
電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN n l
との間には線間容量C11++I+1が存在する。
〔発明が解決しようとする課題]
線間容量を無視した場合、電圧不確定になる時間を有す
る電圧部ノードたとえばN0、N、’の電圧不確定時の
動作は第6図に示すように、クロック信号φがハイレベ
ルからローレベルに変化しても電圧不確定になる時間を
有する電圧部ノードN0、N、’の電位は変化しない。
る電圧部ノードたとえばN0、N、’の電圧不確定時の
動作は第6図に示すように、クロック信号φがハイレベ
ルからローレベルに変化しても電圧不確定になる時間を
有する電圧部ノードN0、N、’の電位は変化しない。
しかし、実際は、第7図に示すように、クロック信号φ
がハイレベルからローレベルに変化した場合には、電圧
不確定になる時間を有する電圧部ノードN1゜N 、
Tは線間容量による雑音により共に低下する。
がハイレベルからローレベルに変化した場合には、電圧
不確定になる時間を有する電圧部ノードN1゜N 、
Tは線間容量による雑音により共に低下する。
この場合、最外側の電圧不確定になる時間を有する電圧
部ノードN1が受ける雑音vIは確定電圧部N0の線間
容量C01の影響を受けるのに対し、電圧不確定になる
時間を有する電圧部ノードN 、 1が受ける雑音■2
は電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN 、
L と電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN2
との線間容量の影響を受けるので、雑音■1は雑音■2
より小さい。この結果、電圧不確定になる時間を有する
電圧部ノードN0、N、’には電位差V2−V、が発生
し、正規の微小電位差■がV<V、−V、であるときも
しくは1 v2−v、−v 1がセンスアンプS A
Iのセンス能力より小さいときには、ラッチイネーブル
信号φ、によってセンスアンプSA、が動作した場合に
誤動作するという課題がある。このような課題は電圧不
確定になる時間を有する電圧部ノードN0、、N0、’
にも生ずるが、中間に位置する電圧不確定になる時間を
有する電圧部ノードN2゜N Z + ・・’ + N
n−1+ Nn−1′には生じない。
部ノードN1が受ける雑音vIは確定電圧部N0の線間
容量C01の影響を受けるのに対し、電圧不確定になる
時間を有する電圧部ノードN 、 1が受ける雑音■2
は電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN 、
L と電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードN2
との線間容量の影響を受けるので、雑音■1は雑音■2
より小さい。この結果、電圧不確定になる時間を有する
電圧部ノードN0、N、’には電位差V2−V、が発生
し、正規の微小電位差■がV<V、−V、であるときも
しくは1 v2−v、−v 1がセンスアンプS A
Iのセンス能力より小さいときには、ラッチイネーブル
信号φ、によってセンスアンプSA、が動作した場合に
誤動作するという課題がある。このような課題は電圧不
確定になる時間を有する電圧部ノードN0、、N0、’
にも生ずるが、中間に位置する電圧不確定になる時間を
有する電圧部ノードN2゜N Z + ・・’ + N
n−1+ Nn−1′には生じない。
したがって、本発明の目的は、線間容量による雑音によ
る誤動作を防止した半導体集積回路を提供することにあ
る。
る誤動作を防止した半導体集積回路を提供することにあ
る。
上述の課題を解決するための手段は第1図に示される。
すなわち、最外側の電圧不確定になる時間を有する電圧
部ノードN、と確定電圧部N0との間にクロック信号φ
、あるいはノードN、。
部ノードN、と確定電圧部N0との間にクロック信号φ
、あるいはノードN、。
N、′、・・・N0、、Nゎ′が電圧不確定である間、
クロック信号φと同等な内部信号線による雑音源N 、
lを設け、また、最外側の電圧不確定になる時間を有
する電圧部ノードN 、 Jと確定電圧部N n *
1 との間にクロック信号φ、あるいはノードN l
+ Nl’ + ・・・Nfi、N、’が電圧不確定で
ある間、クロック信号φと同等な内部信号線による雑音
源N fi11′を設けである。
クロック信号φと同等な内部信号線による雑音源N 、
lを設け、また、最外側の電圧不確定になる時間を有
する電圧部ノードN 、 Jと確定電圧部N n *
1 との間にクロック信号φ、あるいはノードN l
+ Nl’ + ・・・Nfi、N、’が電圧不確定で
ある間、クロック信号φと同等な内部信号線による雑音
源N fi11′を設けである。
〔作 用]
上述の手段によれば、最外側の電圧不確定になる時間を
有する電圧部ノードN、(もしくはN、l’ )と確定
電圧部No(もしくはNn、+)との容量結合が弱まり
、最外側の電圧不確定になる時間を有する電圧部ノード
N I(もしくはN1′)と付加された内部信号線によ
る雑音源N0′(もしくはNn+1’)との容量結合が
強まる。したがって、最外側の電圧不確定になる時間を
有する電圧部ノード対N1゜Nl’(もしくはN0、、
N0、’ )はクロック信号φによる等量の雑音を受け
、すなわち、第7図における雑音V、=V、となり、セ
ンスアンプSA。
有する電圧部ノードN、(もしくはN、l’ )と確定
電圧部No(もしくはNn、+)との容量結合が弱まり
、最外側の電圧不確定になる時間を有する電圧部ノード
N I(もしくはN1′)と付加された内部信号線によ
る雑音源N0′(もしくはNn+1’)との容量結合が
強まる。したがって、最外側の電圧不確定になる時間を
有する電圧部ノード対N1゜Nl’(もしくはN0、、
N0、’ )はクロック信号φによる等量の雑音を受け
、すなわち、第7図における雑音V、=V、となり、セ
ンスアンプSA。
(もしくはSA、)は誤動作しない。
〔実施例]
第2図は本発明に係る半導体集積回路の一実施例を示す
回路図、第3図は第2図の部分平面図である。第2図に
おいては、フォールデッドビット線型のMOSメモリを
示しである。すなわち、各センスアンプSA0、SA0
、・・・、5Afiにはビット線対BL0、’TT、i
BL0、ゴT2 ;・・・;BL0、、Bゴへがトラ
ンスファゲートQTII Qtzを介して接続され、
また、ビット線BL0、丁「l;B t、 z 、 T
T、 旨・・、BL0、8口はブリチャヤージ用ゲー
)QRを介して電源V ccに接続される。サラニ、各
ヒy HPAB L + 、丁U0、BL、。
回路図、第3図は第2図の部分平面図である。第2図に
おいては、フォールデッドビット線型のMOSメモリを
示しである。すなわち、各センスアンプSA0、SA0
、・・・、5Afiにはビット線対BL0、’TT、i
BL0、ゴT2 ;・・・;BL0、、Bゴへがトラ
ンスファゲートQTII Qtzを介して接続され、
また、ビット線BL0、丁「l;B t、 z 、 T
T、 旨・・、BL0、8口はブリチャヤージ用ゲー
)QRを介して電源V ccに接続される。サラニ、各
ヒy HPAB L + 、丁U0、BL、。
BLz、 ・・・、BL0、BLアとワード線WL、。
WL0、・・・WL、’ 、wt0、’ 、・・・には
1トランジスタ1キヤパシタ型メモリセルCL0、、C
L、□。
1トランジスタ1キヤパシタ型メモリセルCL0、、C
L、□。
・・・、 CL++’ 、 CL+□′、・・・が接
続されている。
続されている。
各ビット線BL0、TIN0、BL2.丁L2+・・・
、 B L、 、 1lff、は電圧不確定になる時間
を有する電圧部ノードとして作用する。
、 B L、 、 1lff、は電圧不確定になる時間
を有する電圧部ノードとして作用する。
また、センスアンプSA0、SA2.・・・、SA+。
用の電源線PL0、PL、が設けられており、これらは
確定電圧部として作用する。
確定電圧部として作用する。
本発明によれば、最外側のビット線(電圧不確定になる
時間を有する電圧部ノード)BL、と電源線(確定電圧
部)PL、との間には、雑音源x0、x、’を設け、最
外側のビット線(電圧不確定になる時間を有する電圧部
ノード)BL、と電源線(確定電圧部)PL2との間に
は、電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードx0、
x2’を設けである。
時間を有する電圧部ノード)BL、と電源線(確定電圧
部)PL、との間には、雑音源x0、x、’を設け、最
外側のビット線(電圧不確定になる時間を有する電圧部
ノード)BL、と電源線(確定電圧部)PL2との間に
は、電圧不確定になる時間を有する電圧部ノードx0、
x2’を設けである。
第4図は第2図の回路動作を説明するタイミング図であ
る。ただしビット線B L 、 、 TT:、について
のみ説明する。すなわち、初期時にはリセット信号φR
(ハイレベル)によってすべてのビット線BL0、BL
、は電源電圧V ccにプリチャージされる。しかる後
に、リセット信号φ8がローレベルとなると、ビット線
BL0、丁r、は電源V CCから切離され、電圧不確
定(フローティング状態)となる。次いで、クロック信
号(ローレベル)φ′、φのハイレベルからローレベル
にすることによってビット線B L 、 、 r、がセ
ンスアンプSA、から切離されるが、その際、各ビット
線BL0、BL、は同一レベルの雑音が生じてローレベ
ル化する。次いで、メモリセルCLz+を選択するため
に、クロック信号φはハイレベルとされ、ワード線WL
、がハイレベルとされる。この結果、微小電位差Δ■が
ビット線B L 、 、 T’U。
る。ただしビット線B L 、 、 TT:、について
のみ説明する。すなわち、初期時にはリセット信号φR
(ハイレベル)によってすべてのビット線BL0、BL
、は電源電圧V ccにプリチャージされる。しかる後
に、リセット信号φ8がローレベルとなると、ビット線
BL0、丁r、は電源V CCから切離され、電圧不確
定(フローティング状態)となる。次いで、クロック信
号(ローレベル)φ′、φのハイレベルからローレベル
にすることによってビット線B L 、 、 r、がセ
ンスアンプSA、から切離されるが、その際、各ビット
線BL0、BL、は同一レベルの雑音が生じてローレベ
ル化する。次いで、メモリセルCLz+を選択するため
に、クロック信号φはハイレベルとされ、ワード線WL
、がハイレベルとされる。この結果、微小電位差Δ■が
ビット線B L 、 、 T’U。
間に発生し、これがラッチイネーブル信号φ、Eのハイ
レベル化によるセンスアンプSA、によって差動増幅さ
れる。
レベル化によるセンスアンプSA、によって差動増幅さ
れる。
なお、従来のごとく、ビット線BL0、B丁。
にクロック信号φ′、φによる異なる雑音が生じると、
その段階で電位差Δ■2が生じてしまい、メモリセルC
2□が選択された段階ではビット線間電位差Δ■2′は
小さくなる又は、本来のセル情報とは逆の電位差を持つ
ことがあり、この結果、センスアンプSAIは誤動作す
る可能性があった。
その段階で電位差Δ■2が生じてしまい、メモリセルC
2□が選択された段階ではビット線間電位差Δ■2′は
小さくなる又は、本来のセル情報とは逆の電位差を持つ
ことがあり、この結果、センスアンプSAIは誤動作す
る可能性があった。
なお、上述の実施例では、雑音源としてクロック信号φ
、φ′を用いたが、実際には、ビット線B L 、 、
W、が電圧不確定状態時にクロック信号φ、φ′と等
価な信号ならよい。
、φ′を用いたが、実際には、ビット線B L 、 、
W、が電圧不確定状態時にクロック信号φ、φ′と等
価な信号ならよい。
以上説明したように本発明によれば、雑音によるセンス
アンプの両端の不均衡を解消し、センスアンプを正確に
動作させる事ができ、半導体装置回路の性能向上に寄与
できる。
アンプの両端の不均衡を解消し、センスアンプを正確に
動作させる事ができ、半導体装置回路の性能向上に寄与
できる。
雑音源に代わって予備のセンスアンプ、予備の電圧不確
定になる時間を有する電圧部ノードを挿入する方法に比
べて占有面積を著しく減少させることができる。
定になる時間を有する電圧部ノードを挿入する方法に比
べて占有面積を著しく減少させることができる。
第1図は本発明の基本構成を示す回路図、第2図は本発
明に係る半導体集積回路の一実施例を示す回路図、 第3図は第2図の部分平面図、 第4図は第2図の回路動作を示すタイミング図、第5図
は従来の半導体集積回路を示す回路図、第6図、第7図
は第5図の回路動作を示すタイミング図である。 N I + Nl’ + N2 r N2 ’
+ ・・・+ N11+ Nn’ :電圧不確定にな
る時間を有する電圧部ノード、N 0. N go 、
?確定電圧部、NO’+NM、I’:雑音源、 BL0、 ■r0、0、0、BL0、丁L:ビット線(
電圧不確しになる時間を有する電圧部)−ド)、 PL0、PL、?電源線(確定電圧部)、X l+ X
+’ * L I L’ :雑音源。
明に係る半導体集積回路の一実施例を示す回路図、 第3図は第2図の部分平面図、 第4図は第2図の回路動作を示すタイミング図、第5図
は従来の半導体集積回路を示す回路図、第6図、第7図
は第5図の回路動作を示すタイミング図である。 N I + Nl’ + N2 r N2 ’
+ ・・・+ N11+ Nn’ :電圧不確定にな
る時間を有する電圧部ノード、N 0. N go 、
?確定電圧部、NO’+NM、I’:雑音源、 BL0、 ■r0、0、0、BL0、丁L:ビット線(
電圧不確しになる時間を有する電圧部)−ド)、 PL0、PL、?電源線(確定電圧部)、X l+ X
+’ * L I L’ :雑音源。
Claims (1)
- 1、複数対の電圧不確定になる時間を有する電圧部ノー
ド(N_1、N_1′;N_2、N_2′;・・・;N
_n_−_1、N_n_−_1′;N_n、N_n′)
が配列され、その外側に確定電圧部(N_0、N_n_
+_1)が設けられ、該各対の電圧不確定になる時間を
有する電圧部ノードの微小電位差により動作する半導体
集積回路において、前記複数対の電圧不確定になる時間
を有する電圧部ノードと前記確定電圧部との間に雑音源
(N_0′、N_n_+_1′)を設けたことを特徴と
する半導体集積回路。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63312799A JP2650377B2 (ja) | 1988-12-13 | 1988-12-13 | 半導体集積回路 |
DE68925793T DE68925793T2 (de) | 1988-12-13 | 1989-12-12 | Integrierte Halbleiteranordnung mit Paaren von Teilen unbestimmter Spannung |
US07/449,204 US5140555A (en) | 1988-12-13 | 1989-12-12 | Semiconductor integrated device having uniform noise between a pair of undecided voltage portions |
EP89312971A EP0373885B1 (en) | 1988-12-13 | 1989-12-12 | Semiconductor integrated device having pairs of undecided voltage portions |
KR1019890018452A KR930011447B1 (ko) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | 반도체 집적회로 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63312799A JP2650377B2 (ja) | 1988-12-13 | 1988-12-13 | 半導体集積回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02158994A true JPH02158994A (ja) | 1990-06-19 |
JP2650377B2 JP2650377B2 (ja) | 1997-09-03 |
Family
ID=18033542
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63312799A Expired - Lifetime JP2650377B2 (ja) | 1988-12-13 | 1988-12-13 | 半導体集積回路 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5140555A (ja) |
EP (1) | EP0373885B1 (ja) |
JP (1) | JP2650377B2 (ja) |
KR (1) | KR930011447B1 (ja) |
DE (1) | DE68925793T2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07111083A (ja) * | 1993-08-20 | 1995-04-25 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63155493A (ja) * | 1986-11-24 | 1988-06-28 | サムサン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | ダイナミックランダムアクセスメモリアレイ |
JPS63249997A (ja) * | 1987-04-06 | 1988-10-17 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2553591C2 (de) * | 1975-11-28 | 1977-11-17 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Speichermatrix mit einem oder mehreren Ein-Transistor-Speicherelementen |
JPS5817998B2 (ja) * | 1978-10-26 | 1983-04-11 | 富士通株式会社 | 半導体メモリ |
JPS58111183A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-02 | Hitachi Ltd | ダイナミツクram集積回路装置 |
JPH0666442B2 (ja) * | 1985-03-08 | 1994-08-24 | 三菱電機株式会社 | 半導体メモリ装置 |
JPS62256297A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-07 | Hitachi Ltd | 半導体メモリ |
CA1305255C (en) * | 1986-08-25 | 1992-07-14 | Joseph Lebowitz | Marching interconnecting lines in semiconductor integrated circuits |
JPS63153792A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-27 | Sharp Corp | 半導体メモリ装置 |
JPH07105134B2 (ja) * | 1987-08-28 | 1995-11-13 | 三菱電機株式会社 | 半導体記憶装置 |
-
1988
- 1988-12-13 JP JP63312799A patent/JP2650377B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-12-12 EP EP89312971A patent/EP0373885B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-12 DE DE68925793T patent/DE68925793T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-12 US US07/449,204 patent/US5140555A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-13 KR KR1019890018452A patent/KR930011447B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63155493A (ja) * | 1986-11-24 | 1988-06-28 | サムサン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | ダイナミックランダムアクセスメモリアレイ |
JPS63249997A (ja) * | 1987-04-06 | 1988-10-17 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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