JPH02152219A - 複合基板の位置合せマーカー形成方法 - Google Patents
複合基板の位置合せマーカー形成方法Info
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- JPH02152219A JPH02152219A JP63306349A JP30634988A JPH02152219A JP H02152219 A JPH02152219 A JP H02152219A JP 63306349 A JP63306349 A JP 63306349A JP 30634988 A JP30634988 A JP 30634988A JP H02152219 A JPH02152219 A JP H02152219A
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔）既要〕
半導体製造プロセスや薄膜ヘッド製造プロセス等に使用
されるフォトリソグラフィ技術により作製される複合基
板の位置合せマーカー形成方法に関し、 マーカー用薄膜を成膜する時に、位置合せの基準となる
溝が見えるようにし、溝とマーカーの位置合せを容易に
した複合基板の位置合せマーカー形成方法を提供するこ
とを目的とし、 パターン形成面の溝に異種材料を埋め込んだ複合基板の
前記溝を基準にして、薄膜の位置合せマーカーを形成す
る工程であって、前記位置合わせの基準となる溝の一部
が露出するように、位置合せマーカー用薄膜を成膜する
ように構成する。
されるフォトリソグラフィ技術により作製される複合基
板の位置合せマーカー形成方法に関し、 マーカー用薄膜を成膜する時に、位置合せの基準となる
溝が見えるようにし、溝とマーカーの位置合せを容易に
した複合基板の位置合せマーカー形成方法を提供するこ
とを目的とし、 パターン形成面の溝に異種材料を埋め込んだ複合基板の
前記溝を基準にして、薄膜の位置合せマーカーを形成す
る工程であって、前記位置合わせの基準となる溝の一部
が露出するように、位置合せマーカー用薄膜を成膜する
ように構成する。
本発明は、半導体製造プロセスや薄膜ヘッド製造プロセ
スに利用されるフォトリソグラフィ技術により作製され
る複合基板の位置合せマーカー形成方法に関する。
スに利用されるフォトリソグラフィ技術により作製され
る複合基板の位置合せマーカー形成方法に関する。
最近、例えば、垂直磁気ヘッドの製造プロセスにおいて
、垂直磁気ヘッドの高記録密度化に伴い非磁性体を一部
に含む磁性基板（複合基板）を使用したヘッドが考案さ
れている。このため、複合基板の溝に対して前記ヘッド
用の位置合わせマーカーを精度よく形成する必要があっ
た。
、垂直磁気ヘッドの高記録密度化に伴い非磁性体を一部
に含む磁性基板（複合基板）を使用したヘッドが考案さ
れている。このため、複合基板の溝に対して前記ヘッド
用の位置合わせマーカーを精度よく形成する必要があっ
た。
非磁性体を一部に含む磁性基板（複合基板）を使用した
ヘッドとして、例えば第３図に示すような垂直磁気ヘッ
ドがある。
ヘッドとして、例えば第３図に示すような垂直磁気ヘッ
ドがある。
第３図において、１はフェライト基板、２はガラス等の
非磁性材が充填されている溝、３は銅、アルミ等の導体
よりなる多層化されたコイル、４はパーマロイ等の磁性
層、５は保護膜を示す。
非磁性材が充填されている溝、３は銅、アルミ等の導体
よりなる多層化されたコイル、４はパーマロイ等の磁性
層、５は保護膜を示す。
上記のように形成された垂直磁気ヘッドは、上記溝２が
キャップ部となり、対向して走行する媒体６の情報をリ
ード／ライトする。
キャップ部となり、対向して走行する媒体６の情報をリ
ード／ライトする。
従来、薄膜磁気ヘッドの製造プロセスにおいて、上記溝
２の上部にヘッドのコイル３、磁性層４を形成している
が、その場合の複合基板の位置合せマーカー形成工程は
次のようである。
２の上部にヘッドのコイル３、磁性層４を形成している
が、その場合の複合基板の位置合せマーカー形成工程は
次のようである。
第４図（ａ−ｆ）は従来の位置合せマーカー形成工程の
説明図である。
説明図である。
第４図（ａ）は前記複合基板の平面図、第４図（ｂ）は
複合基板の側面図であり、第４図（Ｃ〜ｆ）は側面図で
ある。
複合基板の側面図であり、第４図（Ｃ〜ｆ）は側面図で
ある。
第４図（ａ）（ｂ）はフェライト基板１に溝（溝にガラ
ス等の非磁性材を充填している）２を有する複合基板７
である。
ス等の非磁性材を充填している）２を有する複合基板７
である。
第４図（Ｃ）は複合基板７上に位置合せマーカー用薄膜
８を蒸着により成膜する。
８を蒸着により成膜する。
第４図（ｄ）は上記薄膜８上にフォトレジスト膜９を塗
布して設け、さらにその上にマーカー用フォトマスク１
０を位置合せする。
布して設け、さらにその上にマーカー用フォトマスク１
０を位置合せする。
第４図（ｅ）は露光、現像し、レジストパターン１１を
得る。
得る。
第４図（ｆ）はエツチングした後にレジストを除去して
マーカーパターン１２を得る。（マーカー完成状態） このマーカーパターン１２を基準にして、（第３図参照
）溝２上にヘッドのコイル、磁性層を複数個形成する。
マーカーパターン１２を得る。（マーカー完成状態） このマーカーパターン１２を基準にして、（第３図参照
）溝２上にヘッドのコイル、磁性層を複数個形成する。
［発明が解決しようとする課題〕
従来の工程においては、第４図（Ｃ）の工程で位置合せ
マーカー用薄膜８を基板ｌ上全面に付着させている。こ
のマーカー用薄膜８が金属で不透明であるため、第４図
（ｄ）の工程にて薄膜８の下にある溝２が見にくいので
、フォトマスクのマーカーＡを溝２に位置合せするのが
困難であった。
マーカー用薄膜８を基板ｌ上全面に付着させている。こ
のマーカー用薄膜８が金属で不透明であるため、第４図
（ｄ）の工程にて薄膜８の下にある溝２が見にくいので
、フォトマスクのマーカーＡを溝２に位置合せするのが
困難であった。
そこで、本発明はマーカー用薄膜を成膜する時に、位置
合せの基準となる溝が見えるようにし、溝とマーカーの
位置合せを容易にした複合基板の位置合せマーカー形成
方法を提供することを目的とする。
合せの基準となる溝が見えるようにし、溝とマーカーの
位置合せを容易にした複合基板の位置合せマーカー形成
方法を提供することを目的とする。
前記問題点は、第１図（ａ−ｒ）に示されるように、パ
ターン形成面の溝２に異種材料を埋め込んだ複合基板１
の前記溝２を基準にして、薄膜の位置合せマーカー１２
を形成する工程であって、位置合わせの基準となる溝２
の一部が露出するように、位置合せマーカー用薄膜８を
成膜する本発明の磁気ディスク装置によって解決される
。
ターン形成面の溝２に異種材料を埋め込んだ複合基板１
の前記溝２を基準にして、薄膜の位置合せマーカー１２
を形成する工程であって、位置合わせの基準となる溝２
の一部が露出するように、位置合せマーカー用薄膜８を
成膜する本発明の磁気ディスク装置によって解決される
。
即ち、第１図（ａ、ｂ）のように複合基板７の溝２の一
部を遮蔽したマスク蒸着治具を複合基板７に合わせ、第
１図（Ｃ）のようにマーカー用薄膜８を成膜することに
より位置合わせの基準となる溝２の一部が露出する。（
従来の第４図（ｄ）工程参照）マーカー用フォトマスク
１０の位置合せの際、位置合せの基準となる溝２の一部
が露出しているので、溝２とフォトマスク用マーカーの
位置合わせが容易で、且つ精度よく行える。その後は従
来と同じ工程であり、露光、現像、エツチングするごと
によりマーカー完成となる。
部を遮蔽したマスク蒸着治具を複合基板７に合わせ、第
１図（Ｃ）のようにマーカー用薄膜８を成膜することに
より位置合わせの基準となる溝２の一部が露出する。（
従来の第４図（ｄ）工程参照）マーカー用フォトマスク
１０の位置合せの際、位置合せの基準となる溝２の一部
が露出しているので、溝２とフォトマスク用マーカーの
位置合わせが容易で、且つ精度よく行える。その後は従
来と同じ工程であり、露光、現像、エツチングするごと
によりマーカー完成となる。
第１図（ａ−ｆ）は本発明のマスク蒸着方法による実施
例の説明図である。なお、全図を遥じて同一符号は同一
対象物を示す。
例の説明図である。なお、全図を遥じて同一符号は同一
対象物を示す。
第１図（ａ、ｂ）は複合基板（フェライト基板１とガラ
ス等の非磁性材を充填した溝２よりなる）７の基準とな
る溝２の一部を遮蔽するマスク蒸着治具１３を、複合基
板７上に載せて蒸着によりマーカー用薄膜８を形成する
〔第１図（Ｃ，ｄ））。
ス等の非磁性材を充填した溝２よりなる）７の基準とな
る溝２の一部を遮蔽するマスク蒸着治具１３を、複合基
板７上に載せて蒸着によりマーカー用薄膜８を形成する
〔第１図（Ｃ，ｄ））。
これによりマーカー用薄膜８は溝２の一部を露出して形
成される。
成される。
本発明の以下の工程は従来の第４図（ｄ 、 ｅ、ｆ）
と同じであり説明を省略するが、マーカー用薄膜を形成
する第４図（ｄ）のマーカー用フォトマスク位置合せの
際、従来は位置合せの基準となる溝２が薄膜の下になり
見にくかったが、本発明では溝２の一部が見えるので、
溝２とフォトマスク用マーカーの位置合わせが容易で精
度よいマーカー１２の完成が得られる。従−つで、精度
よく形成されたマーカーを基準に、溝２上にヘヅドのコ
イル、磁性層を複数個形成することができる。
と同じであり説明を省略するが、マーカー用薄膜を形成
する第４図（ｄ）のマーカー用フォトマスク位置合せの
際、従来は位置合せの基準となる溝２が薄膜の下になり
見にくかったが、本発明では溝２の一部が見えるので、
溝２とフォトマスク用マーカーの位置合わせが容易で精
度よいマーカー１２の完成が得られる。従−つで、精度
よく形成されたマーカーを基準に、溝２上にヘヅドのコ
イル、磁性層を複数個形成することができる。
また、第２図（ａ−ｆ）は本発明のりフトオフ方法によ
る実施例の説明図である。
る実施例の説明図である。
第２図（ａ、ｂ）は複合基板（前述の複合基板と同じ）
７の基準となる溝２の一部に、マーカー用薄膜が付着し
ないようにレジストのリフトオフパターン１４を形成す
る。その上に第２図（ｃ、ｄ）のように蒸着によりマー
カー用薄膜８を成膜する。次に、アセトン、超音波洗浄
によりリフトオフパターン１４とリフトオフパターン１
４上の薄膜８を除去し、複合基板７の溝２の一部を露出
する。
７の基準となる溝２の一部に、マーカー用薄膜が付着し
ないようにレジストのリフトオフパターン１４を形成す
る。その上に第２図（ｃ、ｄ）のように蒸着によりマー
カー用薄膜８を成膜する。次に、アセトン、超音波洗浄
によりリフトオフパターン１４とリフトオフパターン１
４上の薄膜８を除去し、複合基板７の溝２の一部を露出
する。
以下は従来の工程第４図（ｄ−ｆ）と同じ方法であり、
レジスｌ布し、マスク合わせして露光、現像、エツチン
グによりマーカーパターンＬ２を形成する。このリフト
オフ方法によっても、マスク蒸着方法と同じように基準
となる溝２が見えるので、溝２とマーカーの位置合わせ
が容易で、精度よくできる。
レジスｌ布し、マスク合わせして露光、現像、エツチン
グによりマーカーパターンＬ２を形成する。このリフト
オフ方法によっても、マスク蒸着方法と同じように基準
となる溝２が見えるので、溝２とマーカーの位置合わせ
が容易で、精度よくできる。
［発明の効果１
以上説明したように本発明によれば、位置合せマーカー
薄膜を形成する工程で、位置合わせの基準となる溝の一
部が見えることにより、溝とマーカーの位置合わせが容
易で、精度よくできる。この結果、精度よいマーカー完
成が得られる。
薄膜を形成する工程で、位置合わせの基準となる溝の一
部が見えることにより、溝とマーカーの位置合わせが容
易で、精度よくできる。この結果、精度よいマーカー完
成が得られる。
第１図（ａ７ｆ）は本発明のマスク蒸着方法による実施
例の説明図、 第２図（ａ−Ｎは本発明のリフトオフ方法による実施例
の説明図、 第３図は垂直磁気ヘッドの説明図、 第４図（ａ−ｆ）は従来の位置合せマーカー形成工程の
説明図である。 図において、 １はフェライト基板、 ２は非磁性材又は溝、 ７は複合基板、 ８は薄膜、 １２はマーカーパターン、 １３はマスク蒸着治具、
例の説明図、 第２図（ａ−Ｎは本発明のリフトオフ方法による実施例
の説明図、 第３図は垂直磁気ヘッドの説明図、 第４図（ａ−ｆ）は従来の位置合せマーカー形成工程の
説明図である。 図において、 １はフェライト基板、 ２は非磁性材又は溝、 ７は複合基板、 ８は薄膜、 １２はマーカーパターン、 １３はマスク蒸着治具、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 パターン形成面の溝（２）に異種材料を埋め込んだ複合
基板（７）の、前記溝（２）を基準にして薄膜の位置合
せマーカー（１２）を形成する工程であって、 前記位置合わせの基準となる溝（２）の一部が露出する
ように、位置合せマーカー用薄膜（８）を成膜すること
を特徴とした複合基板の位置合せマーカー形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63306349A JP2663589B2 (ja) | 1988-12-02 | 1988-12-02 | 複合基板の位置合せマーカー形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63306349A JP2663589B2 (ja) | 1988-12-02 | 1988-12-02 | 複合基板の位置合せマーカー形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02152219A true JPH02152219A (ja) | 1990-06-12 |
| JP2663589B2 JP2663589B2 (ja) | 1997-10-15 |
Family
ID=17956014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63306349A Expired - Lifetime JP2663589B2 (ja) | 1988-12-02 | 1988-12-02 | 複合基板の位置合せマーカー形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2663589B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6212761B1 (en) | 1997-10-28 | 2001-04-10 | Tdk Corporation | Method for manufacturing thin-film magnetic head |
| DE10225888A1 (de) * | 2002-06-11 | 2004-01-08 | Daimlerchrysler Ag | Modulares Fahrwerksystem |
-
1988
- 1988-12-02 JP JP63306349A patent/JP2663589B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6212761B1 (en) | 1997-10-28 | 2001-04-10 | Tdk Corporation | Method for manufacturing thin-film magnetic head |
| US6678939B2 (en) | 1997-10-28 | 2004-01-20 | Tdk Corporation | System for manufacturing a thin film magnetic head |
| DE10225888A1 (de) * | 2002-06-11 | 2004-01-08 | Daimlerchrysler Ag | Modulares Fahrwerksystem |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2663589B2 (ja) | 1997-10-15 |
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