JPS6098528A - 磁気転写用原盤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、磁気記録媒体に所定の磁気的信号パターンを
転写する磁気転写装置に係り、％ｌこ、非磁性領域と磁
性領域との境界が前記磁気記録媒体の膜面に垂直となっ
ている転写用原盤に係る。

従来、磁気的信号の転写の例としては、磁気テープ等が
よく知られている。これは、転写する磁気的信号が記録
されているテープ（以後マスタチー）と呼ぶ）及び、転
写するテープ（以後スレーブテープと呼ぶ）とを精度よ
く密着させ、交流磁界あるいは、直流磁界を印加してマ
スクテープの磁化をスレーブテープに転写する方法であ
る。

この技術はマスタテープ上ｔこ記録さｎている信号の部
分的喪失を生じさせ、これは以後の転写記録の質を悪化
させる欠点を有していた。またもう１つの問題は、信号
が磁気的に記録されているため、マスクテープが誤って
消去され易いという欠点を有していた。

これに対し非磁性領域と磁性領域とを有する原盤を形成
し、この原盤をあらかじめ一方向に磁化した磁気記録媒
体面に密着配置して、媒体の磁化されている方向と逆方
向に直流磁界を印加し、磁気シールドの効果を用いて前
記非磁性領域と磁性領域のパターンに応じた信号を転写
することが提案されている。

こｎは、原盤の転写パターンが物理的Ｆこ形成されてい
るため、非常に安定であるという利点を有している。さ
らに原盤が磁気的に記録されているわけでないため転写
ｌこよるパターンの劣化等の問題は生じない。

この場合、原盤の磁性領域はある程度厚いことが必要で
あるが、磁性材を厚く形成するζこは、圧延等の方法を
用いる必要がある。すなわち、スパッタリング等によっ
て膜厚を厚くした場合には、内部応力の歪等の問題から
、膜のそり返り、表面粗さの劣化を引き起こしてしまう
ためである。

したがって、原盤自体が非常に高価なものとなってしま
う。非磁性基板上の磁性領域と非磁性領域とをエツチン
グにより形成する方法が提案さｎ。

ている。エツチングとしては種々の方法が仰られている
が、いずれの場合ζこもアンダカットのためエツチング
だれと呼ばわる領域が残ってしまう。

このエツチングだれは転写した際の磁化遷移領域となり
、転写信号の劣化を引き起こしてしまう。

したがって、所望の磁気的信号を転写するには、エツチ
ングだれをなくし、磁性領域と非磁性領域との境界を原
盤面に垂直になるように形成することが必須である。ま
たエツチングでは、原盤全面を均一に処理するには非常
な困難を要し、再現性本発明の目的は、かかる点にかん
がみ磁性領域と非磁性領域との境界を原盤面に垂直に形
成し、所望の磁気的信号を高品質で転写を行う磁気転写
用原盤を提供することである。

本発明によｎば、薄い非磁性基板と前記非磁性基板上に
形成されたメタライズ層さ、前記メタライズ層上に形成
されたメッキ用フォトレジスト図形と、前記メッキ用フ
ォトレジスト図形間にメ。

キにより形成された磁性材とより構成された磁気転写用
原盤が得らｎる。

本発明により磁気記録媒体上に所望の磁気的信号を再現
性よく、高精度で転写を行うことが可能となり、その効
果は犬なるものがある。

以下、図面を用いて本発明の構成及び作用・効果を説明
する。

第１図は、本発明の磁気転写用原盤の実施例の転写方向
に平行な断面図である。

磁気転写用原盤１０は、薄く平坦な非磁性基板１４と、
その上に電気メッキの下地として形成された薄いメタラ
イズ層１３と、その上にメッキ用フォトレジスト図形１
２で仕切られ、メッキ用フォトレジスト図形さ上端面を
同一となるように電気メッキにより形成された磁性材１
１とより構成さｎ、てＧ）る。

非磁性基板１４は例えばポリエステルやポリイミドとい
った可撓性で薄い材質あるいはガラス薄膜シートのよう
な硬質の薄い平坦な材質のもＱ）である。

非磁性基板１４の上に、メタライズ層１３として、例え
ばクロム膜をスパッタリングあるいは、真空蒸着で形成
する。他の例としては、クロム膜Ｏ）上ｉこさらに磁性
材１１を０．０５〜０．１μｍ程度メッキして、メタラ
イズ層１３とする。

メタライズ層１３の上に形成するフォトレジストは、比
較的厚く形成さｎ、なければならない。フォトレジスト
は塗布により形成する方法と、ドライフィルム状フォト
レジストをメタライズ層】３上熱圧着する方法とがある
。このフォトレジスト上にフォトマスクを載せ露光を行
い、現像を行ってメッキ用フォトレジスト図形１２を形
成する。メッキ用フォトレジスト図形には原盤ｌＯの膜
面に対し垂直に近い境界を実現させることができる。メ
タライズ層１３を一方の電極として磁性材１１１例えば
Ｃｏ　、　Ｆｅ等を電気メッキによりて付着させると。

レジスト部分には絶縁材であるためにメタライズ層１３
の露出した部分のみに磁性材１１が選択的に付着する。

磁性材１１の付着量はフォトレジスト図形１２と上端面
が同一平面になるようメッキ時間を制御し。

磁性材１１．メッキ用フォトレジスト図形１２より成る
転写用原盤を形成する。

エツチングにより形成した場合のエツチングだれに相当
するものは、ここではフォトレジスト内での光の散乱角
度であり、平行光線を用いたりすることによりメッキ用
フォトレジスト図形】２と磁性材１１との境界を非常に
精度よく原盤１０の膜面に垂直に形成できるもので光の
散乱１回折等により境界面が乱ｎたとしても光の波長程
度で問題とはならない。

したがって、磁気転写用原盤１０の転写パターンの精度
はフォトマスクの精度に依存するため、フォトマスクを
形成する際に転写パターンを４００倍程変心拡大した図
形から写真縮小により、１０倍の中間原版を作り、次に
フォトレピータを用い、高解像力乾板に中間原版の像を
繰り返し露光することにより精度の高いフォトマスクが
得られる。

このようにして形成された磁気転写用原盤１０を用いて
磁気転写を行うと、磁化遷移領域の狭い理想的な転写記
録が可能となる。フォトレジストの厚さ、そして、メッ
キ時間の制御により、膜厚の異なる磁気転写用原盤１０
が容易に作成でき、微細なパターンや、大きいパターン
など自由に精度よく形成できる。したがって、転写する
磁気記録媒体には、比較的周波数の低いサーボ情報や、
周波数の高いデータ等あらゆる種類の磁化情報の転写が
可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気転写用マスクの実施例の転写方
向に平行な断面図を示す図である。 図において％１０・・・磁気転写用原盤、１１・・・磁
性材、１２・・・メッキ用フォトレジスト図形、１３・
・・メタライズ層、１４・・・非磁性基板。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 薄い非磁性基板と、前記非磁性基板上に形成されたメタ
   ライズ層と、前記メタライズ層上ｆこ形成されたメッキ
   用フォトレジスト図形と、前記メッキ用フォトレジスト
   図形間にメッキｆこより形成された磁性材とより構成さ
   れた磁気転写用原盤。