JP2759059B2 - 磁気記録装置 - Google Patents
磁気記録装置Info
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- JP2759059B2 JP2759059B2 JP7055658A JP5565895A JP2759059B2 JP 2759059 B2 JP2759059 B2 JP 2759059B2 JP 7055658 A JP7055658 A JP 7055658A JP 5565895 A JP5565895 A JP 5565895A JP 2759059 B2 JP2759059 B2 JP 2759059B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子計算機の周辺におい
て、計算に必要な多くの情報を磁気的に記録する磁気記
録装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】磁気記録装置における磁気記録ディスク
は、図１に示すように、基板１の表面にγ−Ｆｅ2Ｏ3あ
るいはＣｏ等の磁性物質２を樹脂と共に塗布したり、あ
るいは直接スパッタ法で固定したものである。 【０００３】従来の磁気記録ディスクの断面構造の一例
を図２に示す。Ａｌ合金の基板２１の表面（図では片面
のみ示す）に、酸化鉄（γ−Ｆｅ2Ｏ3）等の磁性物質２
２が樹脂２３で固定されている。これを磁性膜２４と呼
ぶことにする。しかし、磁性膜だけでは、信号を書き込
み・読み出しする一般に磁気ヘッドと呼ばれる摺動体が
磁性膜に強く接触すると磁性膜にキズがつき、記録情報
が破壊されてしまう。 【０００４】そこで、これを防止するため、例えば特開
昭４７−４６６号公報に記載のように、フィラと呼ばれ
るアルミナ等の硬度の大きな粒子２５を樹脂２３に混入
している。フィラ粒子２５の大きさは磁性膜２４の厚さ
の２倍程度に大きくしてあるので、フィラ粒子２５の一
部２６は磁性膜の表面から突き出ている。この部分は研
磨加工等で除去されて、ほぼ平らにされる。磁気ヘッド
が磁性膜２４に接触しようとすると、磁性膜表面よりも
わずかに上方に突出しているフィラ粒子２５の平らな上
面に当るので、磁気ヘッドが磁性膜２４に接触すること
がないとされていた。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかし、実際の従来の
磁気ディスクは、樹脂の中に、磁性物質と共に硬度の大
きい粒子（フィラ）を混合して基板に固定する方式を取
つているため、次のような問題点があった。 （１）樹脂と磁性物質とフィラをよく混合してもばらつ
きが生じ、フィラの密度が粗いところでは、磁気ヘッド
の接触が起きた場合磁性膜にキズがつき、磁気的記録が
壊され、一方、フィラの密度が密のところでは、磁性物
質の量が減るため、磁気的記録の誤差が生じ易かった。 （２）混入された状態のフィラは、その一部を磁性膜上
に突起として突出させている。磁気ヘッドが滑らかに浮
上し、かつ磁性膜には接触しないためには、フィラの突
起部分は平らで、一様な高さで磁性膜面から突出してい
なければならない。しかし、フィラは、磁気ヘッドが磁
性膜に接触するのを防ぐために非常に硬度が大きい。し
たがって、その突起部分を平らに、しかも一様な高さに
機械加工するのはきわめて困難であった。 【０００６】本発明の目的は、磁気ヘッドがディスク面
に接触しても磁性膜が破壊されず、かつディスク面全体
にわたって磁気記録特性が一様なすぐれた磁気記録を可
能ならしめる磁気記録装置、特にそれに適したディスク
構造を提供することにある。 【０００７】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の磁気記録装置に使用される磁気ディスクに
おいては、フィラ粒子を磁性物質と混合して樹脂によっ
て基板に固定し、しかる後に、フィラ粒子の突起部分を
平らに機械加工すると云う方法で得られる従来のディス
ク構造に代り、次のような方法によって得られる新規か
つ独自のディスク構造を採用している。 （１）基板にフォトレジスト膜を付け、マスクを使つた
露光または位置を制御できるレーザ光の露光等で、フォ
トレジスト膜にその大きさと分布が最適になるように小
孔をあける。ここを通じて、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2Ｏ3等の硬
い物質をスパッタリング等で基板に直接固定する。フォ
トレジストを洗い落すと、表面が平らでしかも高さが一
様な硬い微小固体が残る。この周辺に磁性物質を塗布ま
たはスパッタリングまたはメッキ等で固定し、次に硬い
微小固体の上に付いた磁性物質だけを除去する。 （２）まず初めに、基板上全面に磁性膜を塗布またはス
パッタリングまたはメッキ等で固定しておく。その後、
この上にフォトレジスト膜をつけ、（１）のように写真
製法で小孔をあける。ここに、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2Ｏ3等の
硬い物質をスパッタリング等で充填する。磁性膜上の硬
い物質はフォトレジストを洗い落すことによつて除去す
る。 【０００８】 【作用】以上に述べた（１）もしくは（２）の方法によ
って、磁性膜の周辺に、高さが一様で頭部に突起のない
硬い微小固体を最適の分布状態で配置することができ、
磁気特性にすぐれ、かつ、磁気ヘッドとの接触による磁
気記録情報の破壊の無い磁気記録ディスクが得られる。 【０００９】 【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細
に説明する。図３，図４は、本発明の磁気記録ディスク
の一部断面図である。図３は、γ−Ｆｅ2Ｏ3を磁性物質
として用いるものである。アルミナ合金等でできた基板
３１に、すでに述べたような写真製法を使つて、Ａｌ2
Ｏ3 ，ＳｉＯ2等の硬い微小固体３２を直接固定する。
写真製法のため、微小固体の高さは一定で、しかも頭部
は平らである。微小固体の周辺にはγ−Ｆｅ2Ｏ3の磁性
物質３３と樹脂３４を混合したものを基板上に塗布す
る。通常の状態では、微小固体は円柱形状をしていて、
基板上に一様に分布されるのが適切である。 【００１０】図４は、磁性物質としてＣｏ，Ｆｅ−Ｎ
ｉ，Ｆｅ−Ｃｏ，ＣｒＯ2 等を用いるものである。完成
構造そのものは、図３に示したものと殆ど違いは無い。
まず、基板４１上に、Ａｌ2Ｏ3 ，ＳｉＯ2等の硬い微小
固体４２を直接固定する。次いで、微小固体４２の周辺
の基板上に、Ｃｏ，Ｆｅ−Ｎｉ等の磁性物質４３をスパ
ッタリングまたはメッキ等により固定する。磁気ヘッド
との接触の際のすべりをよくするために、磁性膜と微小
固体の上にごく薄く潤滑膜をつけることも有効である
が、これは図示していない。また、基板４１の両面に磁
性膜と微小固体とを設けてもよいことは当然である。 【００１１】図５は、本発明の磁気記録ディスクの製造
過程を示したものである。 （ａ）基板５１表面上にフォトレジスト５２を塗布す
る。 （ｂ）マスクを使つた露光または照射位置を制御できる
レーザ光を使つた露光でフォトレジスト面に小孔５３を
あけた。この小孔は一般的にはディスク面全面にわた
り、一様に分布させるのが適当である。 （ｃ）スパッタリング等によりＡｌ2Ｏ3 ，ＳｉＯ2等の
硬い物質（５４，５５）を上面に付着させる。 （ｄ）フォトレジスト５２をレジスト除去液で除去する
と、レジスト上に付着している硬い物質５４はレジスト
と共に除去され、小孔５３を通じて基板面に直接固定さ
れている硬い物質（微小固体）５５のみが残る。 （ｅ）磁性物質５６，５７を樹脂と共に塗布するか、そ
のままをスパッタリングもしくはメッキによって上面に
付着させる。 （ｆ）最後に、砥粒のついたテープ等で上面を研磨加工
すると、微小固体５５の上に付着している磁性物質５７
だけが除去され、平らな頭部をもつ微小固体５５が周辺
の磁性物質５６の面からわずかに上方に突出している構
造が得られることになる。 【００１２】図６は基板上に先に磁性物質を固定した
後、微小固体を基板に固定する本発明の第二の製造過程
を示したものである。 （ａ）基板６１上にまず磁性物質６２を固定する。 （ｂ）磁性物質６２の上にフォトレジスト６３を塗布す
る。 （ｃ）マスクを使つた露光または照射位置を制御できる
レーザ光を使つた露光でフォトレジスト面に小孔６４を
あける。 （ｄ）イオンビーム等を使つて小孔の下の磁性物質に孔
６５をあけ、基板面まで貫通させる。 （ｅ）ＳｉＯ2 ，Ａｌ2Ｏ3等の硬い物質６６，６７をス
パッタリング等で付着させる。 （ｆ）レジスト除去液でフォトレジスト６３を除去する
とフォトレジスト上の硬い物質６６も一緒に除去され、
基板に固定された硬い物質（微小固体）６７が磁性膜６
２の上面から一部突出した状態のディスク構造が得られ
る。 【００１３】以上の様にして製造された磁気記録ディス
クは任意の記録密度の装置の用途に使用し得るが、予め
記録トラック・ピッチが知られている場合には、更に以
下の様な改良パターンが考えられる。すなわち、一つの
パターンとしては、高硬度微小固体を基板上に一定幅
（例えば、トラック・ピッチの２割）で一定間隔で同心
円状に形成し、この部分を各記録部分間に挟まれた非記
録部分とするものがある。これにより、全面を磁性体と
した時に従来問題となっていた磁気ヘッドの位置決め誤
差による雑音信号を大きく低減すること、更には、記録
部分にはフィラや微小固体等からなる非磁性部分を作る
必要がなくなり、雑音信号を低減することが可能となる
ため、前述のパターンを小円形状として基板面全面に均
一に分布させた場合よりも、電気的性能がさらに向上す
る。 【００１４】また、別のパターンとして、磁気ヘッドの
位置決め信号のパターンを上記した非記録部分における
高硬度微小固体の形成パターンに含ませるものがある。
この様にすることにより、耐摺動性向上のための高硬度
微小固体パターンの形成時に位置決め信号パターンもそ
れと同時に上記非記録部分内に形成されるため、磁気記
録ディスクを装置に組込後に位置決め信号を書き込む必
要が無くなって工程が簡素化される上に、位置決め信号
パターンの形成精度も向上する。 【００１５】本発明の上記実施例によれば、 （１）硬度の大きい微小固体の固定方法として写真製法
を用いた。これにより、高さが一定で頭部の平らな微小
固体をディスク面にわたって一様に分布させることがで
きた。その結果、磁気ヘッドが磁性膜に接触しようとし
ても、微小固体の頭部によって必ず妨害されるようにな
り、磁性膜の破壊事故が無くなった。 （２）微小固体を完全に一様に分布させることができる
ため、磁性物質の分布も一様となり、記録誤差が生じな
くなった。 （３）従来法では微小固体の突起を最終的には機械加工
しなければならないという問題があったが、本発明によ
れば、製造中に微小固体の頭部は平らとなるため、硬い
微小固体を機械加工する必要がなくなり、精度の高い磁
気記録ディスクの製造が可能となった。等の効果が得ら
れる。 【００１６】 【発明の効果】本発明によれば、磁気ヘッドがディスク
面に接触しても磁性膜が破壊されず、かつ、ディスク面
全体にわたって磁気記録特性が一様なすぐれた磁気記録
を可能ならしめ得る磁気記録装置が得られる。
て、計算に必要な多くの情報を磁気的に記録する磁気記
録装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】磁気記録装置における磁気記録ディスク
は、図１に示すように、基板１の表面にγ−Ｆｅ2Ｏ3あ
るいはＣｏ等の磁性物質２を樹脂と共に塗布したり、あ
るいは直接スパッタ法で固定したものである。 【０００３】従来の磁気記録ディスクの断面構造の一例
を図２に示す。Ａｌ合金の基板２１の表面（図では片面
のみ示す）に、酸化鉄（γ−Ｆｅ2Ｏ3）等の磁性物質２
２が樹脂２３で固定されている。これを磁性膜２４と呼
ぶことにする。しかし、磁性膜だけでは、信号を書き込
み・読み出しする一般に磁気ヘッドと呼ばれる摺動体が
磁性膜に強く接触すると磁性膜にキズがつき、記録情報
が破壊されてしまう。 【０００４】そこで、これを防止するため、例えば特開
昭４７−４６６号公報に記載のように、フィラと呼ばれ
るアルミナ等の硬度の大きな粒子２５を樹脂２３に混入
している。フィラ粒子２５の大きさは磁性膜２４の厚さ
の２倍程度に大きくしてあるので、フィラ粒子２５の一
部２６は磁性膜の表面から突き出ている。この部分は研
磨加工等で除去されて、ほぼ平らにされる。磁気ヘッド
が磁性膜２４に接触しようとすると、磁性膜表面よりも
わずかに上方に突出しているフィラ粒子２５の平らな上
面に当るので、磁気ヘッドが磁性膜２４に接触すること
がないとされていた。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかし、実際の従来の
磁気ディスクは、樹脂の中に、磁性物質と共に硬度の大
きい粒子（フィラ）を混合して基板に固定する方式を取
つているため、次のような問題点があった。 （１）樹脂と磁性物質とフィラをよく混合してもばらつ
きが生じ、フィラの密度が粗いところでは、磁気ヘッド
の接触が起きた場合磁性膜にキズがつき、磁気的記録が
壊され、一方、フィラの密度が密のところでは、磁性物
質の量が減るため、磁気的記録の誤差が生じ易かった。 （２）混入された状態のフィラは、その一部を磁性膜上
に突起として突出させている。磁気ヘッドが滑らかに浮
上し、かつ磁性膜には接触しないためには、フィラの突
起部分は平らで、一様な高さで磁性膜面から突出してい
なければならない。しかし、フィラは、磁気ヘッドが磁
性膜に接触するのを防ぐために非常に硬度が大きい。し
たがって、その突起部分を平らに、しかも一様な高さに
機械加工するのはきわめて困難であった。 【０００６】本発明の目的は、磁気ヘッドがディスク面
に接触しても磁性膜が破壊されず、かつディスク面全体
にわたって磁気記録特性が一様なすぐれた磁気記録を可
能ならしめる磁気記録装置、特にそれに適したディスク
構造を提供することにある。 【０００７】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の磁気記録装置に使用される磁気ディスクに
おいては、フィラ粒子を磁性物質と混合して樹脂によっ
て基板に固定し、しかる後に、フィラ粒子の突起部分を
平らに機械加工すると云う方法で得られる従来のディス
ク構造に代り、次のような方法によって得られる新規か
つ独自のディスク構造を採用している。 （１）基板にフォトレジスト膜を付け、マスクを使つた
露光または位置を制御できるレーザ光の露光等で、フォ
トレジスト膜にその大きさと分布が最適になるように小
孔をあける。ここを通じて、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2Ｏ3等の硬
い物質をスパッタリング等で基板に直接固定する。フォ
トレジストを洗い落すと、表面が平らでしかも高さが一
様な硬い微小固体が残る。この周辺に磁性物質を塗布ま
たはスパッタリングまたはメッキ等で固定し、次に硬い
微小固体の上に付いた磁性物質だけを除去する。 （２）まず初めに、基板上全面に磁性膜を塗布またはス
パッタリングまたはメッキ等で固定しておく。その後、
この上にフォトレジスト膜をつけ、（１）のように写真
製法で小孔をあける。ここに、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2Ｏ3等の
硬い物質をスパッタリング等で充填する。磁性膜上の硬
い物質はフォトレジストを洗い落すことによつて除去す
る。 【０００８】 【作用】以上に述べた（１）もしくは（２）の方法によ
って、磁性膜の周辺に、高さが一様で頭部に突起のない
硬い微小固体を最適の分布状態で配置することができ、
磁気特性にすぐれ、かつ、磁気ヘッドとの接触による磁
気記録情報の破壊の無い磁気記録ディスクが得られる。 【０００９】 【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細
に説明する。図３，図４は、本発明の磁気記録ディスク
の一部断面図である。図３は、γ−Ｆｅ2Ｏ3を磁性物質
として用いるものである。アルミナ合金等でできた基板
３１に、すでに述べたような写真製法を使つて、Ａｌ2
Ｏ3 ，ＳｉＯ2等の硬い微小固体３２を直接固定する。
写真製法のため、微小固体の高さは一定で、しかも頭部
は平らである。微小固体の周辺にはγ−Ｆｅ2Ｏ3の磁性
物質３３と樹脂３４を混合したものを基板上に塗布す
る。通常の状態では、微小固体は円柱形状をしていて、
基板上に一様に分布されるのが適切である。 【００１０】図４は、磁性物質としてＣｏ，Ｆｅ−Ｎ
ｉ，Ｆｅ−Ｃｏ，ＣｒＯ2 等を用いるものである。完成
構造そのものは、図３に示したものと殆ど違いは無い。
まず、基板４１上に、Ａｌ2Ｏ3 ，ＳｉＯ2等の硬い微小
固体４２を直接固定する。次いで、微小固体４２の周辺
の基板上に、Ｃｏ，Ｆｅ−Ｎｉ等の磁性物質４３をスパ
ッタリングまたはメッキ等により固定する。磁気ヘッド
との接触の際のすべりをよくするために、磁性膜と微小
固体の上にごく薄く潤滑膜をつけることも有効である
が、これは図示していない。また、基板４１の両面に磁
性膜と微小固体とを設けてもよいことは当然である。 【００１１】図５は、本発明の磁気記録ディスクの製造
過程を示したものである。 （ａ）基板５１表面上にフォトレジスト５２を塗布す
る。 （ｂ）マスクを使つた露光または照射位置を制御できる
レーザ光を使つた露光でフォトレジスト面に小孔５３を
あけた。この小孔は一般的にはディスク面全面にわた
り、一様に分布させるのが適当である。 （ｃ）スパッタリング等によりＡｌ2Ｏ3 ，ＳｉＯ2等の
硬い物質（５４，５５）を上面に付着させる。 （ｄ）フォトレジスト５２をレジスト除去液で除去する
と、レジスト上に付着している硬い物質５４はレジスト
と共に除去され、小孔５３を通じて基板面に直接固定さ
れている硬い物質（微小固体）５５のみが残る。 （ｅ）磁性物質５６，５７を樹脂と共に塗布するか、そ
のままをスパッタリングもしくはメッキによって上面に
付着させる。 （ｆ）最後に、砥粒のついたテープ等で上面を研磨加工
すると、微小固体５５の上に付着している磁性物質５７
だけが除去され、平らな頭部をもつ微小固体５５が周辺
の磁性物質５６の面からわずかに上方に突出している構
造が得られることになる。 【００１２】図６は基板上に先に磁性物質を固定した
後、微小固体を基板に固定する本発明の第二の製造過程
を示したものである。 （ａ）基板６１上にまず磁性物質６２を固定する。 （ｂ）磁性物質６２の上にフォトレジスト６３を塗布す
る。 （ｃ）マスクを使つた露光または照射位置を制御できる
レーザ光を使つた露光でフォトレジスト面に小孔６４を
あける。 （ｄ）イオンビーム等を使つて小孔の下の磁性物質に孔
６５をあけ、基板面まで貫通させる。 （ｅ）ＳｉＯ2 ，Ａｌ2Ｏ3等の硬い物質６６，６７をス
パッタリング等で付着させる。 （ｆ）レジスト除去液でフォトレジスト６３を除去する
とフォトレジスト上の硬い物質６６も一緒に除去され、
基板に固定された硬い物質（微小固体）６７が磁性膜６
２の上面から一部突出した状態のディスク構造が得られ
る。 【００１３】以上の様にして製造された磁気記録ディス
クは任意の記録密度の装置の用途に使用し得るが、予め
記録トラック・ピッチが知られている場合には、更に以
下の様な改良パターンが考えられる。すなわち、一つの
パターンとしては、高硬度微小固体を基板上に一定幅
（例えば、トラック・ピッチの２割）で一定間隔で同心
円状に形成し、この部分を各記録部分間に挟まれた非記
録部分とするものがある。これにより、全面を磁性体と
した時に従来問題となっていた磁気ヘッドの位置決め誤
差による雑音信号を大きく低減すること、更には、記録
部分にはフィラや微小固体等からなる非磁性部分を作る
必要がなくなり、雑音信号を低減することが可能となる
ため、前述のパターンを小円形状として基板面全面に均
一に分布させた場合よりも、電気的性能がさらに向上す
る。 【００１４】また、別のパターンとして、磁気ヘッドの
位置決め信号のパターンを上記した非記録部分における
高硬度微小固体の形成パターンに含ませるものがある。
この様にすることにより、耐摺動性向上のための高硬度
微小固体パターンの形成時に位置決め信号パターンもそ
れと同時に上記非記録部分内に形成されるため、磁気記
録ディスクを装置に組込後に位置決め信号を書き込む必
要が無くなって工程が簡素化される上に、位置決め信号
パターンの形成精度も向上する。 【００１５】本発明の上記実施例によれば、 （１）硬度の大きい微小固体の固定方法として写真製法
を用いた。これにより、高さが一定で頭部の平らな微小
固体をディスク面にわたって一様に分布させることがで
きた。その結果、磁気ヘッドが磁性膜に接触しようとし
ても、微小固体の頭部によって必ず妨害されるようにな
り、磁性膜の破壊事故が無くなった。 （２）微小固体を完全に一様に分布させることができる
ため、磁性物質の分布も一様となり、記録誤差が生じな
くなった。 （３）従来法では微小固体の突起を最終的には機械加工
しなければならないという問題があったが、本発明によ
れば、製造中に微小固体の頭部は平らとなるため、硬い
微小固体を機械加工する必要がなくなり、精度の高い磁
気記録ディスクの製造が可能となった。等の効果が得ら
れる。 【００１６】 【発明の効果】本発明によれば、磁気ヘッドがディスク
面に接触しても磁性膜が破壊されず、かつ、ディスク面
全体にわたって磁気記録特性が一様なすぐれた磁気記録
を可能ならしめ得る磁気記録装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】磁気記録ディスクの全体図。
【図２】従来の磁気記録ディスクの断面図。
【図３】本発明の一実施例になる磁気記録ディスクの断
面図。 【図４】本発明の他の一実施例になる磁気記録ディスク
の断面図。 【図５】本発明の磁気記録ディスクの製造過程の一例を
示す断面説明図。 【図６】本発明の磁気記録ディスクの製造過程の他の一
例を示す断面説明図。 【符号の説明】 ３１…基板、 ３２…微小固体、 ３３…磁性物
質、 ３４…樹脂、４１…基板、 ４２…微小固
体、 ４３…磁性物質。
面図。 【図４】本発明の他の一実施例になる磁気記録ディスク
の断面図。 【図５】本発明の磁気記録ディスクの製造過程の一例を
示す断面説明図。 【図６】本発明の磁気記録ディスクの製造過程の他の一
例を示す断面説明図。 【符号の説明】 ３１…基板、 ３２…微小固体、 ３３…磁性物
質、 ３４…樹脂、４１…基板、 ４２…微小固
体、 ４３…磁性物質。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．磁気記録ディスクと、該磁気記録ディスクに信号を
書き込むために上記磁気記録ディスク面に対向配置され
た磁気ヘッドとを有する磁気記録装置であって、上記磁
気記録ディスクは、基板上に形成された磁性材料薄膜か
らなる複数の記録領域と、該複数の記録領域の各間に設
けられた非磁性の高硬度微小固体からなる非記録領域
と、上記記録領域に対する上記磁気ヘッドの位置決め用
パターンとを有してなり、該位置決め用パターンは上記
非記録領域を該位置決め用パターンの非磁性部分として
使用したものであることを特徴とする磁気記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7055658A JP2759059B2 (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | 磁気記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7055658A JP2759059B2 (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | 磁気記録装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60120471A Division JPH0831207B2 (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | 磁気記録装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0887745A JPH0887745A (ja) | 1996-04-02 |
| JP2759059B2 true JP2759059B2 (ja) | 1998-05-28 |
Family
ID=13004950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7055658A Expired - Lifetime JP2759059B2 (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | 磁気記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2759059B2 (ja) |
-
1995
- 1995-03-15 JP JP7055658A patent/JP2759059B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0887745A (ja) | 1996-04-02 |
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