JPH0831207B2 - 磁気記録装置 - Google Patents
磁気記録装置Info
- Publication number
- JPH0831207B2 JPH0831207B2 JP60120471A JP12047185A JPH0831207B2 JP H0831207 B2 JPH0831207 B2 JP H0831207B2 JP 60120471 A JP60120471 A JP 60120471A JP 12047185 A JP12047185 A JP 12047185A JP H0831207 B2 JPH0831207 B2 JP H0831207B2
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- magnetic
- recording
- disk
- magnetic recording
- magnetic disk
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は電子計算機の周辺において、計算に必要な多
くの情報を磁気的に記録する磁気記録装置に関する。
くの情報を磁気的に記録する磁気記録装置に関する。
磁気記録装置における磁気記録デイスクは第１図に示
すように、基板１の表面にγ−Fe2O3あるいはCo等の磁
性物質２を樹脂とともに塗布したり、あるいは直接、ス
パツタ法で固定したものである。
すように、基板１の表面にγ−Fe2O3あるいはCo等の磁
性物質２を樹脂とともに塗布したり、あるいは直接、ス
パツタ法で固定したものである。
従来の磁気記録デイスクの断面図を第２図に示す。Al
合金の基板21の表面（図では片面のみ示す）に、酸化鉄
（γ−Fe2O3）22等の磁性物質が樹脂23で固定されてい
る。これを磁性膜24と呼ぶことにする。しかし、磁性膜
だけでは、信号を書き込み・読み出しする一般に磁気ヘ
ツドと呼ばれる摺動体が磁性膜に強く接触すると磁性膜
にキズがつき、磁気的な記録が破壊されてしまう。そこ
でこれを防止するため、例えば、特開昭47−466のよう
にフイラ25と呼ばれるアルミナ等の硬度の大きな粒子を
樹脂に混入している。フイラの大きさは磁性膜の厚さよ
りも２倍程度大きくしてあるので、フイラの一部26は磁
性膜の表面から突き出ている。この部分は研磨加工等で
除去されて、ほぼ平らにされる。磁気ヘツドが磁性膜に
接触しようとすると、磁性膜表面よりもわずかに上方に
突出しているフイラの平らな面に当るので、磁性膜に接
触することがないとされていた。
合金の基板21の表面（図では片面のみ示す）に、酸化鉄
（γ−Fe2O3）22等の磁性物質が樹脂23で固定されてい
る。これを磁性膜24と呼ぶことにする。しかし、磁性膜
だけでは、信号を書き込み・読み出しする一般に磁気ヘ
ツドと呼ばれる摺動体が磁性膜に強く接触すると磁性膜
にキズがつき、磁気的な記録が破壊されてしまう。そこ
でこれを防止するため、例えば、特開昭47−466のよう
にフイラ25と呼ばれるアルミナ等の硬度の大きな粒子を
樹脂に混入している。フイラの大きさは磁性膜の厚さよ
りも２倍程度大きくしてあるので、フイラの一部26は磁
性膜の表面から突き出ている。この部分は研磨加工等で
除去されて、ほぼ平らにされる。磁気ヘツドが磁性膜に
接触しようとすると、磁性膜表面よりもわずかに上方に
突出しているフイラの平らな面に当るので、磁性膜に接
触することがないとされていた。
しかし、実際の従来の磁気記録デイスクは、樹脂の中
に、磁性物質と共に硬度の大きい粒子（フイラ）を混合
して基板に固定する方式を取つているため、次のような
問題点があつた。
に、磁性物質と共に硬度の大きい粒子（フイラ）を混合
して基板に固定する方式を取つているため、次のような
問題点があつた。
（１）樹脂と磁性物質とフイラをよく混合してもばらつ
きが生じ、フイラの密度が粗いところでは磁気ヘツドの
接触が起きた場合、磁性膜にキズがつき、磁気的記録が
壊され、一方、フイラの密度が密のところでは、磁性物
質の量が減るため、磁気的記録の誤差が生じ易かつた。
きが生じ、フイラの密度が粗いところでは磁気ヘツドの
接触が起きた場合、磁性膜にキズがつき、磁気的記録が
壊され、一方、フイラの密度が密のところでは、磁性物
質の量が減るため、磁気的記録の誤差が生じ易かつた。
（２）混入された状態のフイラはその一部26を磁性膜上
に突起として突出している。磁気ヘツドが滑らかに浮上
し、かつ磁性膜には接触しないためには、フイラの突起
部分は平らで、一様な高さで磁性膜面から突出していな
ければならない。しかし、フイラは、磁気ヘツドが磁性
膜に接触するのを防ぐために非常に硬度が大きい。した
がつて、その突起部分を平らに、しかも一様な高さに機
械加工するのはきわめて困難であつた。
に突起として突出している。磁気ヘツドが滑らかに浮上
し、かつ磁性膜には接触しないためには、フイラの突起
部分は平らで、一様な高さで磁性膜面から突出していな
ければならない。しかし、フイラは、磁気ヘツドが磁性
膜に接触するのを防ぐために非常に硬度が大きい。した
がつて、その突起部分を平らに、しかも一様な高さに機
械加工するのはきわめて困難であつた。
本発明の目的は、磁気ヘツドがデイスク面に接触して
も磁性膜が破壊されず、かつ、デイスク面全体にわたつ
て磁気記録特性が一様なすぐれた磁気記録を可能ならし
める磁気記録装置、とくにそれに適したデイスク構造を
提供するにある。
も磁性膜が破壊されず、かつ、デイスク面全体にわたつ
て磁気記録特性が一様なすぐれた磁気記録を可能ならし
める磁気記録装置、とくにそれに適したデイスク構造を
提供するにある。
この目的を達成するために、本発明の磁気記録装置に
使用される磁気記録デイスクにおいては、フイラを磁性
物質と混合して樹脂によつて基板に固定し、しかる後
に、突起を機械加工すると云う方法で得られる従来のデ
イスク構造に代り、次のような方法によって得られる新
規かつ独自のデイスク構造を採用している。
使用される磁気記録デイスクにおいては、フイラを磁性
物質と混合して樹脂によつて基板に固定し、しかる後
に、突起を機械加工すると云う方法で得られる従来のデ
イスク構造に代り、次のような方法によって得られる新
規かつ独自のデイスク構造を採用している。
（１）基板にフオトレジスト膜を付け、マスクを使つた
露光または位置を制御できるレーザ光の露光等で、フオ
トレジスト膜にその大きさと分布が最適になるように小
孔をあける。ここを通じて、SiO2，Al2O3等の硬い物質
をスパツタリング等で、基板に直接固定する。フオトレ
ジストを洗い落すと、表面が平らでしかも高さが一様な
固い微小固体が残る。この周辺に磁性物質を塗布または
スパツタリングまたはメツキ等で固定し、次に固い微小
固体の上に付いた磁性物質を除去する。
露光または位置を制御できるレーザ光の露光等で、フオ
トレジスト膜にその大きさと分布が最適になるように小
孔をあける。ここを通じて、SiO2，Al2O3等の硬い物質
をスパツタリング等で、基板に直接固定する。フオトレ
ジストを洗い落すと、表面が平らでしかも高さが一様な
固い微小固体が残る。この周辺に磁性物質を塗布または
スパツタリングまたはメツキ等で固定し、次に固い微小
固体の上に付いた磁性物質を除去する。
（２）まず初めに、基板上全面に磁性膜を塗布またはス
パツタリングまたはメツキ等で固定しておく。この後、
この上にフオトレジスト膜をつけ、（１）のように写真
製法で小孔をあける。ここに、SiO2，Al2O3等の硬い物
質をスパツタリング等で充填する。磁性膜上の硬い物質
はフオトレジストを洗い落すことによつて除去する。
パツタリングまたはメツキ等で固定しておく。この後、
この上にフオトレジスト膜をつけ、（１）のように写真
製法で小孔をあける。ここに、SiO2，Al2O3等の硬い物
質をスパツタリング等で充填する。磁性膜上の硬い物質
はフオトレジストを洗い落すことによつて除去する。
以上に述べた（１）もしくは（２）の方法によつて、
磁性膜の周辺に、高さが一定で、頭部に突起のない硬い
微小固体を最適の分布状態で配置することができ、磁気
特性にすぐれ、かつ、磁気ヘツドとの接触による磁気記
録の破壊のない磁気記録デイスクが得られた。
磁性膜の周辺に、高さが一定で、頭部に突起のない硬い
微小固体を最適の分布状態で配置することができ、磁気
特性にすぐれ、かつ、磁気ヘツドとの接触による磁気記
録の破壊のない磁気記録デイスクが得られた。
以下、本発明の実施例を図によつて詳細に説明する。
第３図，第４図は本発明の磁気記録デイスクの一部断
面図である。
面図である。
第３図はγ−Fe2O3を磁性物質として用いるものであ
る。アルミナ合金等でできた基板31に、すでに述べたよ
うに写真製法を使つて、Al2O3，SiO2等の硬い微小固体3
2を直接固定する。写真製法のため、微小固体の高さは
一定で、しかも頭部は平らである。微小固体の周辺に
は、γ−Fe2O3の磁性物質33と樹脂34を混合したものを
基板上に塗布する。通常の状態では、微小固体は円柱形
状をしていて、基板上に一様に分布されるのが適切であ
る。
る。アルミナ合金等でできた基板31に、すでに述べたよ
うに写真製法を使つて、Al2O3，SiO2等の硬い微小固体3
2を直接固定する。写真製法のため、微小固体の高さは
一定で、しかも頭部は平らである。微小固体の周辺に
は、γ−Fe2O3の磁性物質33と樹脂34を混合したものを
基板上に塗布する。通常の状態では、微小固体は円柱形
状をしていて、基板上に一様に分布されるのが適切であ
る。
第４図は、磁性物質として、Co,Fe,Ni,Fe,Co,CrO2等
を用いるものである。その構造は第３図のものと違いは
ない。まず、基板41にAl2O3，SiO2等の硬い微小固体42
を直接固定する。次いで、微小固体の周辺にはCo,Fe,Ni
等の磁性物質43をスパツタリングまたはメツキ等で基板
上に固定する。磁気ヘツドとの接触の際のすべりをよく
するために、磁性膜と微小固体の上にごく薄く潤滑膜を
つけることは有効である。これは図示していない。ま
た、基板の両側に微小固体と磁性膜をつけてよいことも
当然である。
を用いるものである。その構造は第３図のものと違いは
ない。まず、基板41にAl2O3，SiO2等の硬い微小固体42
を直接固定する。次いで、微小固体の周辺にはCo,Fe,Ni
等の磁性物質43をスパツタリングまたはメツキ等で基板
上に固定する。磁気ヘツドとの接触の際のすべりをよく
するために、磁性膜と微小固体の上にごく薄く潤滑膜を
つけることは有効である。これは図示していない。ま
た、基板の両側に微小固体と磁性膜をつけてよいことも
当然である。
第５図は本発明の磁気記録デイスクの製造過程を示し
たものである。
たものである。
（ａ）基板51にフオトレジスト52を塗布する。
（ｂ）マスクを使つた露光または照射位置を制御できる
レーザ光を使つた露光でフオトレジスト面に小孔53をあ
けた。この小孔は一般的にはデイスク面全面にわたり、
一様に分布させるのが適当である。
レーザ光を使つた露光でフオトレジスト面に小孔53をあ
けた。この小孔は一般的にはデイスク面全面にわたり、
一様に分布させるのが適当である。
（ｃ）スパツタリング等をもちいて、Al2O3，SiO2等の
硬い物質（54,55）をデイスク面上に付着させる。
硬い物質（54,55）をデイスク面上に付着させる。
（ｄ）フオトレジスト52をレジスト除去液で除去する
と、レジスト上に付着していた硬い物質54はレジストと
ともに除去され、小孔53を通じて、基板に直接固定され
た硬い物質（微小固体）55のみが残る。
と、レジスト上に付着していた硬い物質54はレジストと
ともに除去され、小孔53を通じて、基板に直接固定され
た硬い物質（微小固体）55のみが残る。
（ｅ）磁性物質56,57を樹脂とともに塗布するか、その
まま、スパツタリングもしくはメツキによつて、デイス
ク上に固定する。
まま、スパツタリングもしくはメツキによつて、デイス
ク上に固定する。
（ｆ）砥粒のついたテープ等でデイスク面を加工すると
微小固体55の上に付着した磁性物質57が除去され、平ら
な頭部をもつ微小固体55が周辺の磁性物質56の面からわ
ずかに姿を見せることになる。
微小固体55の上に付着した磁性物質57が除去され、平ら
な頭部をもつ微小固体55が周辺の磁性物質56の面からわ
ずかに姿を見せることになる。
第６図は基板に先に磁性物質を固定した後、微小固体
を基板に固定する本発明の第二の製造過程を示したもの
である。
を基板に固定する本発明の第二の製造過程を示したもの
である。
（ａ）基板61にまず磁性物質62を固定する。
（ｂ）磁性物質の上にフオトレジスト63を塗布する。
（ｃ）マスクを使つた露光または照射位置を制御できる
レーザ光を使つた露光でフオトレジスト面に小孔64をあ
ける。
レーザ光を使つた露光でフオトレジスト面に小孔64をあ
ける。
（ｄ）イオンビーム等を使つて小孔の下の磁性物質に孔
65をあけ、基板まで貫通させる。
65をあけ、基板まで貫通させる。
（ｅ）SiO2，Al2O3等の硬い物質66,67をスパツタリング
等で付着させる。
等で付着させる。
（ｆ）レジスト除去液でフオトレジスト63を除去する
と、フオトレジスト上の硬い物質66も一緒に除去され、
基板に固定された硬い物質（微小固体）67が、磁性膜の
面から一部分姿を見せる格好となる。
と、フオトレジスト上の硬い物質66も一緒に除去され、
基板に固定された硬い物質（微小固体）67が、磁性膜の
面から一部分姿を見せる格好となる。
以上説明してきたように、本発明によれば、 （１）硬度の大きい微小固体の固定方法として、写真製
法を用いた。これにより、高さが一定で頭部の平らな微
小固体をデイスク面にわたつて一様に分布させることが
できた。その結果、磁気ヘツドが磁性膜に接触しようと
しても、微小固体の頭部によつて必ず防害されるように
なり、磁性膜の破壊事故がなくなつた。
法を用いた。これにより、高さが一定で頭部の平らな微
小固体をデイスク面にわたつて一様に分布させることが
できた。その結果、磁気ヘツドが磁性膜に接触しようと
しても、微小固体の頭部によつて必ず防害されるように
なり、磁性膜の破壊事故がなくなつた。
（２）微小固体を完全に一様に分布させることができる
ため、磁性物質の分布も一様となり、磁気記録の誤差が
生じなくなつた、 （３）従来法では微小固体の突起を最終的には機械加工
しなければならないという問題があつたが、製造中に微
小固体の頭部は平らとなるため、硬い微小固体を加工す
る必要がなくなり、精度の高い磁気記録デイスクの製造
がきわめて容易となつた、 等の効果が得られ、磁気ヘツドがでデイスク面に接触し
ても磁性膜が破壊されず、かつ、デイスク面全体にわた
つて磁気記録特性が一様なすぐれた磁気記録デイスクを
容易に製造できるようになつた。
ため、磁性物質の分布も一様となり、磁気記録の誤差が
生じなくなつた、 （３）従来法では微小固体の突起を最終的には機械加工
しなければならないという問題があつたが、製造中に微
小固体の頭部は平らとなるため、硬い微小固体を加工す
る必要がなくなり、精度の高い磁気記録デイスクの製造
がきわめて容易となつた、 等の効果が得られ、磁気ヘツドがでデイスク面に接触し
ても磁性膜が破壊されず、かつ、デイスク面全体にわた
つて磁気記録特性が一様なすぐれた磁気記録デイスクを
容易に製造できるようになつた。
以上の様にして製造された磁気記録デイスクは任意の
記録密度の装置の用途に使用し得るが、あらかじめ記録
トラツク・ピツチが知られている場合には更に以下の様
な改良されたパターンが考えられる。
記録密度の装置の用途に使用し得るが、あらかじめ記録
トラツク・ピツチが知られている場合には更に以下の様
な改良されたパターンが考えられる。
すなわち、一つのパターンとしては高硬度微小固体を
基板上に一定幅（たとえばトラツク・ピツチの２割）で
一定間隔で同心円状に形成するものがある。これにより
全面を磁性体とした時、従来問題となつていた磁気ヘツ
ドの位置決め誤差による雑音信号を大きく低減すること
更に記録部分には非磁性部分を作る必要がなく、雑音信
号を低減することが可能となるため、パターンを小円形
状として全面に均一に分布させた場合よりも、電気的性
能が向上する。
基板上に一定幅（たとえばトラツク・ピツチの２割）で
一定間隔で同心円状に形成するものがある。これにより
全面を磁性体とした時、従来問題となつていた磁気ヘツ
ドの位置決め誤差による雑音信号を大きく低減すること
更に記録部分には非磁性部分を作る必要がなく、雑音信
号を低減することが可能となるため、パターンを小円形
状として全面に均一に分布させた場合よりも、電気的性
能が向上する。
また別のパターンとして、位置決め信号のパターンを
高硬度微小固体の形成パターンに含ませるものがある。
この様にすることにより、耐摺動性向上のための高硬度
微小固体の形成時に位置決め信号も同時に形成されるた
め、磁気記録デイスクを装置に組込後に位置決め信号を
記録する必要がなくなり、工程が簡素化される。
高硬度微小固体の形成パターンに含ませるものがある。
この様にすることにより、耐摺動性向上のための高硬度
微小固体の形成時に位置決め信号も同時に形成されるた
め、磁気記録デイスクを装置に組込後に位置決め信号を
記録する必要がなくなり、工程が簡素化される。
第１図は磁気記録デイスクの全体図、第２図は従来の磁
気記録デイスクの断面図、第３図，第４図は本発明の磁
気記録デイスクの断面図、第５図，第６図は本発明の磁
気記録デイスクの製造過程を示す断面図である。 31……基板、32……微小固体、33……磁性物質、34……
樹脂、41……基板、42……微小固体、43……磁性物質。
気記録デイスクの断面図、第３図，第４図は本発明の磁
気記録デイスクの断面図、第５図，第６図は本発明の磁
気記録デイスクの製造過程を示す断面図である。 31……基板、32……微小固体、33……磁性物質、34……
樹脂、41……基板、42……微小固体、43……磁性物質。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−70935（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−3310（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−89896（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】磁気デイスクと、 該磁気デイスクに信号を書き込むために上記磁気デイス
ク面に対向配置された磁気ヘツドとを有する磁気記録装
置であって、 上記磁気デイスクは、一定間隔で同心円状に形成された
複数の記録領域と、 該複数の記録領域の各間に同心円状に形成された非記録
領域とを有してなり、 上記複数の記録領域は、磁性材料薄膜からなっており、 上記非記録領域は、上記磁性材料薄膜よりも硬度の大な
る固体物質からなっており、かつ該硬度の大なる固体物
質の表面が上記磁性材料薄膜の表面よりも上記磁気ヘツ
ド側に突出せしめられていることを特徴とする磁気記録
装置。 - 【請求項２】磁気デイスクと、 該磁気デイスクに信号を書き込むために上記磁気デイス
ク面に対向配置された磁気ヘツドとを有する磁気記録装
置であって、 上記磁気デイスクは、一定間隔で同心円状に形成された
複数の記録領域と、 該複数の記録領域の各間に同心円状に形成された非記録
領域とを有してなり、 上記複数の記録領域は、磁性材料薄膜からなっており、 上記非記録領域は、上記磁性材料薄膜よりも硬度の大な
る固体物質からなっていることを特徴とする磁気記録装
置。 - 【請求項３】磁気デイスクと、 該磁気デイスクに信号を書き込むために上記磁気デイス
ク面に対向配置された磁気ヘツドとを有する磁気記録装
置であって、 上記磁気デイスクは、一定間隔で同心円状に形成された
複数の記録領域と、 該複数の記録領域の各間に同心円状に形成された非記録
領域とを有してなり、 上記複数の記録領域は、磁性材料薄膜からなっており、 上記非記録領域は、その表面を上記磁性材料薄膜の表面
よりも上記磁気ヘツド側に突出せしめて形成されている
ことを特徴とする磁気記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60120471A JPH0831207B2 (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | 磁気記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60120471A JPH0831207B2 (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | 磁気記録装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7055658A Division JP2759059B2 (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | 磁気記録装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61280026A JPS61280026A (ja) | 1986-12-10 |
| JPH0831207B2 true JPH0831207B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=14786991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60120471A Expired - Lifetime JPH0831207B2 (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | 磁気記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0831207B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02199635A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-08 | Hitachi Ltd | 情報記録ディスクとその製造方法および記録装置 |
| EP1204097B1 (en) * | 1999-05-28 | 2007-07-25 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium, method of manufacture thereof, and magnetic disk apparatus |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5633843B2 (ja) * | 1972-12-29 | 1981-08-06 | ||
| JPS5534491B2 (ja) * | 1973-05-10 | 1980-09-06 | ||
| JPS5570935A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-28 | Toshiba Corp | Manufacture for magnetic recording media |
-
1985
- 1985-06-05 JP JP60120471A patent/JPH0831207B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61280026A (ja) | 1986-12-10 |
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