JPH117613A

JPH117613A - シールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JPH117613A
Application number: JP9176489A
Authority: JP
Inventors: Shigeru Shoji; 茂庄司; Yukio Wakui; 幸夫涌井; Toshihiro Nakajima; 敏博中嶋; Shin Yamashita; 伸山下
Original assignee: Yamaha Corp
Current assignee: Yamaha Corp
Priority date: 1997-06-17
Filing date: 1997-06-17
Publication date: 1999-01-12

Abstract

(57)【要約】【課題】ポール幅およびスロートハイトを高精度に形
成する。【解決手段】上コアのポール下面に突出部を形成する
ためのレジストパターンを二度に分けて形成する。すな
わち、最初にネガレジスト５２で奥行き方向形成用レジ
ストパターン５２ａを一直線状に形成する。次いで、幅
方向端面形成用レジストパターン５４ａ，５４ｂを互い
に平行にかつ奥行き方向形成用レジストパターン５２ａ
と直角に形成する。これにより、コーナー部がほぼ直角
の突出部形成用凹部３８が作成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、ハードディスク
装置等に用いられる狭トラック幅のシールド型磁気抵抗
効果薄膜磁気ヘッド（通常のＭＲ素子を用いたもののほ
かにＧＭＲ素子等各種磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘ
ッドを含む。以下「シールド型ＭＲヘッド」という。）
の製造方法に関し、高い書込能力を得るために書込上コ
アの下面に突出部を形成する場合に、ポール幅およびス
ロートハイトを精度よく作成できるようにしたものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】ハードディスク装置に用いられているシ
ールド型ＭＲヘッドは、下シールドと上シールドの間の
再生ギャップ内の記録媒体対向面を臨む位置にＭＲ素子
を配置した再生用ヘッドと、上シールドを下コアとして
兼用して下コアと上コアとの間にコイルを配置しかつ上
コアと下コアとの間の記録媒体対向面を臨む位置に書込
ギャップを形成した記録用ヘッドとを積層配置したＭＲ
型・誘導型複合磁気ヘッドとして構成される。

【０００３】シールド型ＭＲヘッドの書込能力を高める
ために、書込ポールの対向面に突出部を形成することが
考えられている。そのように構成したシールド型ＭＲヘ
ッドの一例を図２に示す。図２において（ａ）はポール
部分の平面図、（ｂ）は記録媒体対向面側から見た正面
図、（ｃ）は上コア３２のポール部分の側面図である。

【０００４】下シールド１８の上には再生ギャップ２０
を介して一定厚の上シールド２２が対向して配置されて
いる。再生ギャップ２０内の記録媒体対向面１６を臨む
位置にはＭＲ素子２４が埋め込まれている。ＭＲ素子２
４の左右両端部には、このＭＲ素子２４にセンス電流を
流すためのリード２３，２５が接続されている。以上で
再生用ヘッド２７（ＭＲ型ヘッド）が構成される。

【０００５】上シールド２２は書込下コアを兼用し、そ
の上にコイル（図示せず）が絶縁層内に埋め込まれた状
態で配置されている。このコイルおよび絶縁層の上には
上コア３２が配置されている。上シールド兼下コア２２
の先端の下ポール２２ｄと上コア３２の先端の上ポール
３２ａとは、記録媒体対向面１６に臨む位置で書込ギャ
ップ３４を形成して対向している。以上で記録用ヘッド
（誘導型ヘッド）２９が構成される。

【０００６】上ポール３２ａの下面の一部には、突出部
３３が形成されている。突出部３３は一定幅Ｂおよび一
定長さＡでほぼ矩形に形成されている。書込時に書込ギ
ャップ３４間に得られる書込磁束３５は突出部３３に集
中し、強い書込磁界が得られる。書込トラック幅（書込
ポール幅）はほぼ突出部３３の幅Ｂで定まり、スロート
ハイトはほぼ突出部３３の奥行き方向の長さＡで定ま
る。

【０００７】図２のシールド型ＭＲヘッド１０は、書込
ギャップ３４を構成する書込ギャップ層を作成後、上コ
ア３２のうち突出部３３を予め作成し、次いでコイルお
よび絶縁層を作成し、その上に上コア３２の残りの部分
を突出部３３につなげて作成することにより作られる。
このうち、書込ギャップ層の上に突出部３３を作成する
工程を図３により説明する。（１）書込ギャップ３４を構成する書込ギャップ層２
１の上に突出部３３を形成するパターンでレジストパタ
ーン３６を作成する。（２）レジストパターン３６で囲まれた凹部３８に磁
性材料を堆積させて突出部３３を作成する。（３）レジストパターン３６を除去して完成する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】図３の工程（１）のレ
ジストパターン３６を作成する場合、露光用の光は露光
面の端部において円弧状に広がるため、凹部３８の奥行
き方向のカット端面３８ａはそのコーナー部が円弧状に
カットされる。例えば、解像度が０．５μｍの場合、カ
ット端面３８ａのコーナー部はおおよそ０．５μｍ程度
の円弧となる。そして、トラック幅（ポール幅すなわち
突出部３３の幅）が１〜２μｍの狭トラックになると、
凹部３８の奥行き方向のカット端面３８ａは図４（ａ）
に示すように完全な円弧状になってしまう。凹部３８の
奥行き方向のカット端面３８ａは突出部３３の奥行き方
向の端面を転写作成しスロートハイトゼロ位置を決定す
るので、カット端面３８ａが円弧状であると、完成した
シールド型ＭＲヘッド１０の突出部３３の奥行き方向の
端面３３ａは図４（ｂ）に示すように円弧状となりスロ
ートハイトはトラック幅方向中央部で長くなり、トラッ
ク幅方向両側部で短くなる。

【０００９】このような磁気ヘッドで磁気ディスク上に
書込みを行うと、トラック幅方向中央部で突出部３３か
ら書込ギャップ層２１を貫いて上シールド兼下コア２２
に直接至る上下コア間漏洩磁束が増え、書込ギャップ３
４のトラック幅中央部から外部に放出されて書込に関与
する書込ギャップ漏れ磁束が少なくなるので、記録され
たトラックの磁化反転パターンがトラック幅方向中央部
で不安定になることがある。このような現象はスロート
ハイトが長くなるほど顕著である。また、凹部３８の奥
行き方向のカット端面３８ａが円弧状であると、スロー
トハイトが短い磁気ヘッドの場合、円弧状の部分が記録
媒体対向面に掛かり、図４（ｃ）のようにポール幅が規
定値より狭く形成されてしまう。

【００１０】また、図３の工程（１）に示すような凹部
３８を有するレジストパターン３６を形成するために、
レジストを露光後現像する場合、凹部３８は端部が袋小
路状に閉じているため、現像液は凹部３８内で移動を停
止されて淀むため、現像の速度が遅くなる。そこで、こ
の部分の現像不足によるレジスト残りを防ぐためには、
時間を十分にかけて現像しなければならず、現像が過度
になる傾向がある。そして、現像が過度になると凹部３
８の幅方向のカット端面３８ｂ，３８ｃの位置が後退し
てポール幅Ｂが広がり、それとともにポール幅Ｂのばら
つきも大きくなる。また、現像が過度になると、凹部３
８の奥行き方向のカット端面３８ａの位置も奥行き方向
に大きく変動する。

【００１１】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、書込上コアの下面に突出部を形成する場
合に、突出部を高精度に形成してポール幅およびスロー
トハイトを精度よく作成できるようにしたシールド型Ｍ
Ｒヘッドの製造方法を提供しようとするものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】この発明は、記録媒体対
向面に直角なほぼ直線状のカット端面を有し突出部の幅
方向の端面を転写作成する幅方向端面形成用レジストパ
ターンと、記録媒体対向面に平行なほぼ直線状のカット
端面を有し突出部の奥行き方向の端面を転写作成する奥
行き方向端面形成用レジストパターンを別々の工程で相
互に一部が重なり合った状態に作成し、これら２種類の
レジストパターンで囲まれた凹部に磁性材料を堆積させ
て突出部を作成するようにしたものである。

【００１３】これによれば、それぞれほぼ直線状のカッ
ト端面を有する縦方向のレジストパターンと横方向のレ
ジストパターンを重ね合わせて凹部を形成するので、凹
部のコーナー部が円弧状に形成されにくくなる。したが
って、凹部の奥行き方向のカット端面が直線状になり、
この凹部を転写して作成される突出部は奥行き方向の端
面が直線状になり、トラック幅方向の各位置でスロート
ハイトを一定に形成することができる。また、各レジス
トパターンは袋小路状に閉じて形成する必要がないた
め、現像時に現像液に淀みが生じるのを防止できる。し
たがって、過度に現像をすることがなくなり、凹部の幅
方向および奥行方向のカット端面位置を正確に形成する
ことができる。これにより突出部のポール幅およびスロ
ートハイトを精度よく形成することができる。

【００１４】なお、２種類のレジストパターンのうち、
先に形成する方のレジストパターンをネガレジストで形
成することにより、後に形成する方のレジストパターン
を形成する際の露光、現像によって先のレジストパター
ンが除去されるのを防止することができる。

【００１５】また、レジストパターン形成を２段階に分
けて行う場合、先に形成されたレジストパターンは次の
レジストパターン形成時に膜減りを生じることがある。
突出部は幅方向の寸法が特に重要であるので、２種類の
レジストパターンのうち幅方向端面形成用レジストパタ
ーンを後で形成することにより、幅方向端面形成用レジ
ストパターンの膜減りが防止され、突出部の幅方向の寸
法を高精度に形成することができる。

【００１６】また、２種類のレジストパターンで形成さ
れた凹部内に磁性材料を堆積させて突出部を作成する場
合、始めに高磁束密度磁性材料を堆積し、次いで非高磁
束密度磁性材料を堆積する２段階の工程で作成すること
により、書込磁束をより明確に突出部に集中させる効果
が得られ、より高い書込能力のシールド型ＭＲヘッドが
得られる。

【００１７】また、突出部形成用のレジストパターンの
作成時にスロートハイトモニタ形成用レジストパターン
を同時に作成し、突出部形成用のレジストパターンで囲
まれた凹部内に磁性材料を堆積させる際に、スロートハ
イトモニタ形成用レジストパターンで囲まれた凹部内に
当該磁性材料を堆積させてスロートハイトモニタを同時
に作成することにより、金属製で視認性のよい（コント
ラストのよい）スロートハイトモニタが得られる。特
に、奥行き方向端面形成用レジストパターンの作成と同
時にスロートハイト形成用レジストパターンを作成すれ
ば、これら両パターンを描いた１枚のマスクを用いて同
時に露光できるので、スロートハイトモニタと実際のス
ロートハイトとの相対精度がきわめて高くなり、スロー
トハイトを高精度に形成することができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】この発明によるシールド型磁気抵
抗効果薄膜磁気ヘッドの製造方法の実施の形態を以下説
明する。図５〜図１５はその全体の工程を示したもので
ある。各工程について説明する。（１）Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ（アルチック）等で作られ
た基板１２上にＡｌ₂Ｏ₃（アルミナ）等の非磁性絶縁
層１４を形成する。非磁性絶縁層１４の上部には記録媒
体対向面１６に先端面を露出させてパーマロイ等の磁性
材料で構成された下シールド１８が埋め込まれている。
下シールド１８の上にはアルミナ等の非磁性絶縁材で構
成された再生ギャップ層４０が成膜され、再生ギャップ
２０を構成している。再生ギャップ層４０内には、ＭＲ
素子２４およびこのＭＲ素子２４の左右両端部につなげ
てリード２３，２５が成膜されている。

【００１９】再生ギャップ層４０の上には、上シールド
兼下コア２２の下ポール以外の部分を構成する非高磁束
密度磁性材料層２２ｃとして、通常の８１Ｎｉ組成のパ
ーマロイ等が磁場中でのめっき等で成膜されている。非
高磁束密度磁性材料層２２ｃの上には、上シールド兼下
コア２２の下ポールを形成するための高磁束密度磁性材
料層２２ｂとして、４５Ｎｉ組成のパーマロイ等が磁場
中でのめっき等で成膜されている。

【００２０】（２）上シールド兼下コア２２の下ポー
ルの突出部を形成するために、高磁束密度磁性材料層２
２ｂ上にレジスト４２を堆積し、所定の平面形状にカッ
トする。（３）イオンミリングにより、レジスト４２が被さっ
ていない箇所の高磁束密度磁性材料層２２ｂを除去す
る。（４）レジスト４２を除去すると、上シールド兼下コ
ア２２の下ポール２２ａの突出部１９が完成する。

【００２１】（５）突出部１９にかからないようにリ
フトオフレジスト４４を堆積する。（６）書込ギャップを形成するための書込ギャップ層
２１として、アルミナ等の絶縁材をスパッタで堆積させ
る。

【００２２】（７）リフトオフレジスト４４を除去す
る。（８）全面にパーマロイ等の磁性材料をスパッタや蒸
着等で薄く堆積させてめっき下地層４７を成膜する。（９）上コア先端の上ポールの下面に突出部を形成す
るために、めっき下地層４７の上にレジストを堆積し、
突出部形成用レジストパターン４８とスロートハイトモ
ニタ形成用レジストパターン５０を同時にカットする。

【００２３】突出部形成用レジストパターン４８の形成
過程を図１を参照して説明する。ｉ）はじめに全面にネガレジスト５２を塗布する。ネ
ガレジストを用いるのは、幅方向端面形成用レジストパ
ターンの作成時の露光現像で除去されないようにするた
めである。粘度が１００〜２００ｃｐのネガレジスト５
２を３０００〜５０００ｒｐｍのコータで塗布すると４
〜５μｍの厚さに塗布することができる。また、ネガレ
ジスト５２は、合成ゴム系のレジストでは解像度が得ら
れないため、スチレン系、ノボラック系の、ｇ線あるい
はｉ線に感光する種類のものを用いる。このようなレジ
ストを用いることにより、塗膜厚４μｍでも解像度±
０．２μｍ程度のものが得られる（再現性は、±０．０
５μｍが可能である。）。

【００２４】ii）ネガレジスト５２をマスクを通して
露光し、現像して、スロートハイトゼロ位置ＴＨ₀で記
録媒体対向面１６と平行に一直線状にカットして、奥行
方向端面形成用レジストパターン５２ａを作成する。一
直線状にカットするだけでよいので、カット端面５２ｂ
はシャープに形成される。これで、突出部３３の奥行方
向の端面位置（すなわちスロートハイトゼロ位置Ｔ
Ｈ₀）が正確に定まる。尚、上記マスクにはスロートハ
イトモニタのパターンも一緒に描かれており、スロート
ハイトモニタ形成用レジストパターン５０も同時に作成
される。

【００２５】iii) 全面にレジストパターンを塗布し、
別のマスクを通して露光、現像して幅方向端面形成用レ
ジストパターン５４ａ，５４ｂを相互に平行にかつ記録
媒体対向面１６と直角に形成する。ここで使用するレジ
ストはネガでもポジでもよく、解像度を目安に選べばよ
い。この場合も一直線状にカットするだけでよいので、
カット端面５４ｃ，５４ｄはシャープに形成される。こ
れで、突出部３３の幅（ポール幅すなわち書込トラック
幅が正確に定まる。）なお、突出部形成用レジストパターン４８の手前側のカ
ット端面４８ａ（図９の工程（９）の平面図参照）を形
成するレジストパターンは、奥行方向端面形成用レジス
トパターン５２ａの作成と同時にまたは幅方向端面形成
用レジストパターン５４ａ，５４ｂの作成と同時に作成
することができる。

【００２６】このようにして作成した突出部形成用レジ
ストパターン４８によれば、凹部３８の幅が１μｍ以下
でも、凹部３８の奥行方向端部のコーナー部はほぼ直角
に形成される。したがって、スロートハイトゼロ位置Ｔ
Ｈ₀が正確に決まる。また、現像液の淀みも少なくなる
ので、過度の現像をしなくてすみ、ポール幅のばらつき
を±０．２μｍ以下に抑えることができる。

【００２７】（10）全面に高磁束密度磁性材層３３ｃ
として４５Ｎｉ組成のパーマロイ等が磁場中でめっき等
で成膜され、続いて非高磁束密度磁性材層３３ｂとして
８１Ｎｉ組成のパーマロイ等が磁場中でめっき等で成膜
される。これにより、突出部形成用レジストパターン４
８で囲まれた凹部３８およびスロートハイトモニタ形成
用レジストパターン５０で囲まれた凹部３８には、両磁
性層３３ｂ，３３ｃの積層体が構成される。

【００２８】（11）レジストパターン４８，５０を除
去する。これで、突出部３３とスロートハイトモニタ６
０が完成する。突出部３３の奥行き方向の端面３３ａは
記録媒体対向面１６と平行に直線状に形成され、幅方向
の端面３３ｄ，３３ｅは記録媒体対向面１６と直角に直
線状に形成される。尚、突出部３３は最終的には、スロ
ートハイト削り込み目標位置ＴＨ_tまで研削される。突
出部３３を予め大きく形成するのは、突出部３３の膜構
成や膜厚を均一に成膜するためである。（12）上シールド兼下コア２２の付加部分を作成する
ために、レジストを塗布し、マスクを通して露光し、現
像して、レジストパターン６２を作成する。

【００２９】（13）パーマロイ等の磁性材料をめっき
等で成膜して、上シールド兼下コア２２の付加部分２２
ｄを作成する。（14）レジストパターン６２を除去する。（15）露出しているめっき下地層４７をイオンミリン
グで除去する。（16）突出部３３を構成する部分以外の磁性材層３３
ｂ，３３ｃを除去するために、レジストパターン６４を
作成する。

【００３０】（17）エッチングして磁性材層３３ｂ，
３３ｃを除去する。（18）全面にアルミナ等の絶縁材６６を堆積させる。（19）表面を研磨して平坦化する。この研磨によって
突出部３３の表面が露出する。

【００３１】（20）絶縁材とコイル材を交互に積層し
てコイル６８および絶縁層７０を作成する。その上に非
高磁束密度磁性材料を所定形状に成膜して上コア３２を
作成する。突出部３３は上コア３２とつながって上コア
３２の上ポール３２ａを構成する。最後にアルミナ等の
保護膜を被せて完成する。

【００３２】ここで、突出部形成用レジストパターンを
一度で形成する従来方法（図３（１））で作成した場合
と、二度に分けて形成する図１の方法で作成した場合と
で、でき上がった磁気ヘッドの性能の違いについて説明
する。突出部形成用レジストパターンを一度で形成する
従来方法で作成した磁気ヘッドのスロートハイトとオー
バライト特性の関係を図１６に示す。図１６によれば、
３０ｄＢ以上のオーバライト特性を得るには、スロート
ハイトが１．６μｍ以下である必要がある。また、スロ
ートハイトが０．８μｍ以下では図４（ｃ）に示すよう
なトラック幅の減少が見られた。したがって、スロート
ハイトを０．８〜１．６μｍの範囲に設定する必要があ
る。

【００３３】これに対し、突出部形成用レジストパター
ンを二度に分けて形成する図１の方法で作成した磁気ヘ
ッドのスロートハイトとオーバライト特性の関係を図１
７に示す。図１７によれば、３０ｄＢ以上のオーバライ
ト特性は、２．０μｍ以上のスロートハイトで得られ
る。また、図４（ｃ）のようなトラック幅の減少は、ス
ロートハイトが０．４μｍまで観測されなかった。した
がって、スロートハイトは０．４〜２．０μｍの範囲に
設定すればよく、突出部形成用レジストパターンを一度
で形成する場合に比べてスロートハイト研磨の誤差の許
容値が２倍となり、歩留が向上した。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態を示す図で、図９の工
程（９）の突出部形成用レジストパターン４８の作成過
程を示す工程図である。

【図２】上下ポール対向面に突出部を形成したシール
ド型ＭＲヘッドを示す図である。

【図３】突出部を形成する従来方法を示す工程図であ
る。

【図４】図３の方法により形成される突出部を示す図
である。

【図５】この発明の実施の形態を示す工程図である。

【図６】図５の続きを示す工程図である。

【図７】図６の続きを示す工程図である。

【図８】図７の続きを示す工程図である。

【図９】図８の続きを示す工程図である。

【図１０】図９の続きを示す工程図である。

【図１１】図１０の続きを示す工程図である。

【図１２】図１１の続きを示す工程図である。

【図１３】図１２の続きを示す工程図である。

【図１４】図１３の続きを示す工程図である。

【図１５】図１４の続きを示す工程図である。

【図１６】突出部形成用レジストパターンを１度で形
成する従来方法で作成した磁気ヘッドのスロートハイト
とオーバライト特性の関係を示す特性図である。

【図１７】突出部形成用レジストパターンを１度で形
成する従来方法で作成した磁気ヘッドのスロートハイト
とオーバライト特性の関係を示す特性図である。

【符号の説明】

１０シールド型ＭＲヘッド１６記録媒体対向面１８下シールド２０再生ギャップ２２上シールド兼下コア２２ａ下ポール２４ＭＲ素子２７再生用ヘッド２９記録用ヘッド３２上コア３２ａ上ポール３３突出部３３ａ突出部の奥行方向の端面３３ｂ高磁束密度磁性材料３３ｃ非高磁束密度磁性材料３３ｄ，３３ｅ突出部の幅方向の端面３４書込ギャップ３８凹部４８突出部形成用レジストパターン５０スロートハイトモニタ形成用レジストパターン５２ネガレジスト５２ａ奥行き方向端面形成用レジストパターン５２ｂ奥行き方向端面形成用レジストパターンのカッ
ト端面５４ａ，５４ｂ幅方向端面形成用レジストパターン５４ｃ，５４ｄ幅方向端面形成用レジストパターンの
カット端面６０スロートハイトモニタ６８コイルＴＨ₀ スロートハイトゼロ位置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者山下伸静岡県浜松市中沢町10番１号ヤマハ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下シールドと上シールドの間の再生ギャッ
プ内の記録媒体対向面を臨む位置にＭＲ素子を配置した
再生用ヘッドと、前記上シールドを下コアとして兼用し
て当該下コアと上コアとの間にコイルを配置しかつ前記
記録媒体対向面を臨む位置で前記上コアの先端の上ポー
ルと前記下コアの先端の下ポールとの間に書込ギャップ
を形成した記録用ヘッドとを積層配置したシールド型磁
気抵抗効果薄膜磁気ヘッドであって、上ポールの下面の
一部または全部に一定幅および一定長さでほぼ矩形に形
成された突出部を下ポールの上面に対向して形成し、当
該突出部の幅で書込トラック幅を規定し、当該突出部の
奥行き方向の端面位置でスロートハイトゼロ位置を規定
し、当該突出部の奥行き方向の長さでスロートハイトを
規定するようにしたシールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘ
ッドを製造する方法において、前記記録媒体対向面に直
角なほぼ直線状のカット端面を有し前記突出部の幅方向
の両端面を転写作成する幅方向端面形成用レジストパタ
ーンと、前記記録媒体対向面に平行なほぼ直線状のカッ
ト端面を有し前記突出部の奥行き方向の端面を転写作成
する奥行き方向端面形成用レジストパターンを別々の工
程で相互に一部が重なり合った状態に作成し、当該２種
類のレジストパターンで囲まれた凹部に磁性材料を堆積
させて前記突出部を作成してなるシールド型磁気抵抗効
果薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】下シールドと上シールドの間の再生ギャッ
プ内の記録媒体対向面を臨む位置にＭＲ素子を配置した
再生用ヘッドと、前記上シールドを下コアとして兼用し
て当該下コアと上コアとの間にコイルを配置しかつ前記
記録媒体対向面を臨む位置で前記上コアの先端の上ポー
ルと前記下コアの先端の下ポールとの間に書込ギャップ
を形成した記録用ヘッドとを積層配置したシールド型磁
気抵抗効果薄膜磁気ヘッドであって、上ポールの下面の
一部または全部に一定幅および一定長さでほぼ矩形に形
成された突出部を下ポールの上面に対向して形成し、当
該突出部の幅で書込トラック幅を規定し、当該突出部の
奥行き方向の端面位置でスロートハイトゼロ位置を規定
し、当該突出部の奥行き方向の長さでスロートハイトを
規定するようにしたシールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘ
ッドを製造する方法において、前記記録媒体対向面に直
角なほぼ直線状のカット端面を有し前記突出部の幅方向
の両端面を転写作成する幅方向端面形成用レジストパタ
ーンを作成し、その後前記記録媒体対向面に平行なほぼ
直線状のカット端面を有し前記突出部の奥行き方向の端
面を転写作成する奥行き方向端面形成用レジストパター
ンを前記幅方向端面形成用レジストパターンと一部が重
なり合うように作成し、当該２種類のレジストパターン
で囲まれた凹部に磁性材料を堆積させて前記突出部を作
成してなるシールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッドの製
造方法。
【請求項３】前記磁性材料の堆積が、始めに高磁束密度
磁性材料を堆積し、次いで非高磁束密度磁性材料を堆積
する２段階の工程からなる請求項１または２記載のシー
ルド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】前記幅方向端面形成用レジストパターンと
前記奥行き方向端面形成用レジストパターンのうち先に
作成する方のレジストパターンをネガレジストで形成し
てなる請求項１から３のいずれかに記載のシールド型磁
気抵抗効果薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項５】前記突出部形成用のレジストパターンの作
成時にスロートハイトモニタ形成用レジストパターンを
同時に作成し、前記突出部形成用のレジストパターンで
囲まれた凹部内に前記磁性材料を堆積させる際に、前記
スロートハイトモニタ形成用レジストパターンで囲まれ
た凹部内に当該磁性材料を堆積させてスロートハイトモ
ニタを同時に作成することを特徴とする請求項１から４
のいずれかに記載のシールド型磁気抵抗効果薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。