JPH02149924A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number
JPH02149924A
JPH02149924A JP30449388A JP30449388A JPH02149924A JP H02149924 A JPH02149924 A JP H02149924A JP 30449388 A JP30449388 A JP 30449388A JP 30449388 A JP30449388 A JP 30449388A JP H02149924 A JPH02149924 A JP H02149924A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protective layer
layer
value
film thickness
surface roughness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP30449388A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0833987B2 (ja
Inventor
Katsumi Onodera
克己 小野寺
Teruhisa Yokozawa
横澤 照久
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP63304493A priority Critical patent/JPH0833987B2/ja
Publication of JPH02149924A publication Critical patent/JPH02149924A/ja
Publication of JPH0833987B2 publication Critical patent/JPH0833987B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 この発明は、磁性層の上に保護層、液体潤滑層が順次形
成されてなる磁気記録媒体の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
磁気記録媒体(以下、単に媒体とも称する)を磁気記録
装置に搭載し使用する場合、磁気ヘッドが媒体表面で停
止、摺動を繰り返す。従って、媒体表面の潤滑特性はそ
の使用寿命を左右することになり、媒体の重要な特性品
質の一つである。
媒体の潤滑特性を管理しようとする場合、一般には、液
体潤滑層の膜厚を所要の範囲に管理することによって行
われている。第2図は液体潤滑層膜厚と動摩擦係数、静
止摩擦係数との関係の一例を示す線図であるが、膜厚が
薄いと動摩擦係数が大きくなり、膜厚が厚いと静止摩擦
係数が大きくなる。動摩擦係数が大きいと媒体表面、磁
気ヘッドに損傷が生じ易くなり、また、静止摩擦係数が
大きいと媒体表面に磁気ヘッドが吸着する現象が起き易
くなる。これらの点を考慮して潤滑層膜厚の最適な範囲
を選択し管理することになるが、例えば、第2図に示し
た例の場合では、12人±2人という管理幅を設けて膜
厚を管理することが必要となる。
ところで、潤滑層膜厚に影響を与える要因として、環境
温湿度、潤滑剤濃度$よび塗布条件、塗布後の加熱処理
条件、下地の保護層表面形状などが考えられ、これらの
要因を管理して潤滑歴を形成していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、これらの要因を一定に管理して液体潤III
を形成しても、膜厚が人を(変動したり、あるいは充分
な潤滑特性が得られないという現象が発生していた。
上述の要因のうち、潤滑剤a度、塗布条件、塗布後の加
熱処理条件9あるいは環境条件などは、一般的な方法で
直接制御Qき、充分な精度で管理できる。一方、下地で
ある保護N表面形状は、媒体の基板の表面粗さを中心線
平均粗さRa 、最大高さR巾aX などで管理するこ
とにより間接的に管理j7ていた。これは、基板上に媒
体を構成する各層1例えば非磁性金属下地層、磁性層、
保護層を形成しても、各層とも数千Å以下の薄膜である
から、基板の表面形状をを一定に管理することにより、
保護層表面形状を一定にすることができる2−の考えに
基づいているが、実際には、これらの各層を形成すると
最終の保護層表面形状は基板表面形状より変化12、ま
た変化の度合も大きくばら一ついており、このばらつき
に起因して液体潤滑層の膜厚、潤滑特性にばらつきが発
生することが判−つだ。
さらに、従来は表面形状を中心線平均粗さRa。
最大高さRma++などで規定し管理しでいたが、膜厚
をより精度良く制御するためには、より微小領域の表面
形状を表現する表示法を用いて表面形状を微細に規定す
ることが必要であり、このことは、膜の密着性を管理す
るのにも望ましいことである。
この発明は、上述の諸点に鑑みてなされたものであって
、保護層りに液体潤滑層を所要の範囲の膜厚で安定して
量産的に形成することのできる6ル気記録媒体の製造方
法を提供するこ2・を目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記の目的は、この発明によれば、磁性層の十に保3i
層、液体潤滑層が順次形成されてなる磁気記録媒体の製
造方法において、保護層の段面を表面粗さの相対負荷曲
線に表目Jる相対負荷長さ10%に対応するカッティン
グ深さから相対負荷長さ1%に対応するカッティング深
さを差し引いた値が保護層上に形成される液体潤滑層の
膜厚に応じた所要の範囲内の値となるようにあらし、こ
の保護層上に液体潤滑層を形成することによって達成さ
れる。
〔作用〕
保護層の表面を所要の範囲内の表面粗3トにあらす、し
かも、その範囲をRa、  Rmaxなどで規定するの
ではなく、表面粗さの相対負荷曲線の相対負荷長さ10
%におけるカッティング深さから相対負荷長さ1%にお
1プるカッティング深さを差し引いた値(以下、単に[
10%−1%〕値と称する)tいう、より微小領域の表
面形状を表現する値で規定することにより、その上に形
成する液体潤滑層の膜厚を容易に所要の範囲内に制御す
るこきができる。
〔実施例〕
第1図は保護層表面のRa、〔10%−1%〕値とその
上に形成された液体潤滑層の膜厚との関係を示す線図で
あり、アモルフ1スカーボンからなる保護層表面にプロ
ロカーボン系の液体a滑層を形成、した媒体の場合の例
である。第1図に見られろとおり、膜厚と(10%〜 
1%〕値とは直線的な関係にあるのに対(7、膜厚とR
a との関係は直線的でなくランダムであり、膜厚管理
には〔10%1%〕値が適しており、この例では液体潤
滑層膜厚を12人±2人の範囲内となるように管理する
ためには、保護層表面の〔10%=1%〕値を75人以
1135Å以下の範囲に制御すれば良いことが判る1、
また、第3図は保護層表面の(10%−1%〕値とその
十に形成された液体潤滑層の動摩擦係数および表面の突
起個数との関係を示す線図である。第3図より〔10%
−1%〕値が小さくなると動摩擦係数が大きくなり充分
な潤滑特性が得られず、〔10%−1%〕値が大きくな
ると突起個数が多くなって磁気ヘッドの浮」−特性が悪
化ずン)ことが判る。これらの点からも保護層表面の(
10%−1%〕値の管理幅を105人±30人捏度に設
定する必要がある。
実施例1 アルミニウム合金基板の表面を研削し、その上に無電解
めっきでN1−P合金層を形成し、その表面に鏡面加工
、テクスチャ加工を施して表面粗さをRaで60人、〔
10%−1%〕値で70Aとする。
この基板上に、基板温度を150℃に設定して、膜厚1
500人〜2000人のクロム下地層、膜厚300人〜
500人のCo −Ni−Cr合金磁性層、膜厚400
人〜500人のアモルファスカーボン保護層をスパッタ
法で順次形成する。このようにして形成された保護層の
表面粗さは Ra 70人、〔10%−1%〕値250
人程度となる。この保護層表面を研磨テープ、バニッシ
ュヘッドなどで加工して、最終的に表面粗さをRaで6
5人、〔10%−1%〕で110A程度とする。
このように表面粗さが制御された保護層上にフロロカー
ボン系の液体潤滑剤を塗布することにより膜厚12人±
2人の範囲の液体潤滑層を形成することができ、潤滑特
性、浮上特性に優れた媒体を得ることができる。
実施例2 実施例1と同様にして、表面粗さがRaで65人。
(10%−1%〕値で100A程度の基板を作製し、こ
の基板上に、基板温度を250℃以上に変えたこと以外
は実施例1と同様にして下地層、磁性層。
保護層を形成した。このようにして形成された保護層の
表面粗さは基板表面粗さとほとんど同じで変化しておら
ず、最終的には、この面をバニッシュヘッドでかるくバ
ニッシュして異常突起を除去したが表面粗さがRa で
65人、〔10%−1%〕値で110A程度の保護層が
得られ、その上に膜厚12人±2人の範囲内の液体潤滑
層を形成することができた。
〔発明の効果〕
この発明によれば、保護層の表面粗さを〔10%−1%
〕値で所要の範囲内となるようにあらす。
このようにあらされた保護層表面に液体潤滑剤を塗布す
ることにより、所要の膜厚でばらつきの小さい液体潤滑
層を容易に形成することができ、潤滑特性、浮上特性の
優れた磁気記録媒体を安定して量産することが可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は保護層表面のRa、(10%−1%〕値と液体
潤滑層膜厚との関係を示す線図、第2図は液体潤滑層膜
厚と動摩擦係数、静止摩擦係数との関係を示す線図、第
3図は保護層表面の〔10%−1%〕値と液体潤滑層の
動摩擦係数および表面の突起個数との関係を示す線図で
ある。 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)磁性層の上に保護層、液体潤滑層が順次形成されて
    なる磁気記録媒体の製造方法において、保護層の表面を
    表面粗さの相対負荷曲線における相対負荷長さ10%に
    対応するカッティング深さから相対負荷長さ1%に対応
    するカッティング深さを差し引いた値が保護層上に形成
    される液体潤滑層の膜厚に応じた所要の範囲内の値とな
    るようにあらし、この保護層上に液体潤滑層を形成する
    ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
JP63304493A 1988-12-01 1988-12-01 磁気記録媒体及びその製造方法 Expired - Lifetime JPH0833987B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63304493A JPH0833987B2 (ja) 1988-12-01 1988-12-01 磁気記録媒体及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63304493A JPH0833987B2 (ja) 1988-12-01 1988-12-01 磁気記録媒体及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02149924A true JPH02149924A (ja) 1990-06-08
JPH0833987B2 JPH0833987B2 (ja) 1996-03-29

Family

ID=17933699

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63304493A Expired - Lifetime JPH0833987B2 (ja) 1988-12-01 1988-12-01 磁気記録媒体及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0833987B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6165582A (en) * 1992-11-19 2000-12-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium
US6805941B1 (en) 1992-11-19 2004-10-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61120344A (ja) * 1984-11-16 1986-06-07 Toshiba Corp 磁気記録媒体の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61120344A (ja) * 1984-11-16 1986-06-07 Toshiba Corp 磁気記録媒体の製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6165582A (en) * 1992-11-19 2000-12-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium
US6194047B1 (en) 1992-11-19 2001-02-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium
US6258434B1 (en) 1992-11-19 2001-07-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium
US6623836B1 (en) 1992-11-19 2003-09-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium
US6805941B1 (en) 1992-11-19 2004-10-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium
US7083873B2 (en) 1992-11-19 2006-08-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium including a diamond-like carbon protective film with hydrogen and at least two additional elements
US7391592B2 (en) 1992-11-19 2008-06-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium including a diamond-like carbon protective film and at least two additional elements

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0833987B2 (ja) 1996-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6565718B1 (en) Magnetic recording medium with high density, thin dual carbon overcoats
JPH09128732A (ja) 磁気記録媒体及びその製造方法
JPH01251308A (ja) 浮動型磁気ヘッド
JPH07114016B2 (ja) 磁気記録媒体及びその製造方法
JPH0660368A (ja) 磁気記録媒体およびその製造方法
JPH02149924A (ja) 磁気記録媒体及びその製造方法
JPS59227065A (ja) 磁気ヘツド
CA2102145C (en) Substrate for magnetic disk
JPH01192014A (ja) 磁気ディスク用基板及びその製造方法
JPH02208827A (ja) 磁気記録媒体の製造方法
JPS62109220A (ja) 磁気記録媒体
JPH01260627A (ja) 磁気デイスク
JP2546383B2 (ja) 磁気ディスク
KR100370759B1 (ko) 하드디스크드라이브의디스크장치
JPH0223517A (ja) 垂直磁気記録媒体
JPS6379230A (ja) 磁気記録媒体
JPS61220128A (ja) 磁気記録媒体
JP2764829B2 (ja) 磁気デイスク
JPS62159331A (ja) 磁気記録媒体およびその製造方法
JP3024769B2 (ja) 磁気ハードディスク
JP3038888B2 (ja) 磁気ディスク
JPH0490124A (ja) 磁気記録媒体およびその製造方法
JPH03176814A (ja) 磁気記録媒体
JPH02260126A (ja) 磁気ディスク
JPS6476422A (en) Magnetic disk