JPH02149924A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH02149924A JPH02149924A JP30449388A JP30449388A JPH02149924A JP H02149924 A JPH02149924 A JP H02149924A JP 30449388 A JP30449388 A JP 30449388A JP 30449388 A JP30449388 A JP 30449388A JP H02149924 A JPH02149924 A JP H02149924A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野〕
この発明は、磁性層の上に保護層、液体潤滑層が順次形
成されてなる磁気記録媒体の製造方法に関する。
成されてなる磁気記録媒体の製造方法に関する。
磁気記録媒体(以下、単に媒体とも称する)を磁気記録
装置に搭載し使用する場合、磁気ヘッドが媒体表面で停
止、摺動を繰り返す。従って、媒体表面の潤滑特性はそ
の使用寿命を左右することになり、媒体の重要な特性品
質の一つである。
装置に搭載し使用する場合、磁気ヘッドが媒体表面で停
止、摺動を繰り返す。従って、媒体表面の潤滑特性はそ
の使用寿命を左右することになり、媒体の重要な特性品
質の一つである。
媒体の潤滑特性を管理しようとする場合、一般には、液
体潤滑層の膜厚を所要の範囲に管理することによって行
われている。第2図は液体潤滑層膜厚と動摩擦係数、静
止摩擦係数との関係の一例を示す線図であるが、膜厚が
薄いと動摩擦係数が大きくなり、膜厚が厚いと静止摩擦
係数が大きくなる。動摩擦係数が大きいと媒体表面、磁
気ヘッドに損傷が生じ易くなり、また、静止摩擦係数が
大きいと媒体表面に磁気ヘッドが吸着する現象が起き易
くなる。これらの点を考慮して潤滑層膜厚の最適な範囲
を選択し管理することになるが、例えば、第2図に示し
た例の場合では、12人±2人という管理幅を設けて膜
厚を管理することが必要となる。
体潤滑層の膜厚を所要の範囲に管理することによって行
われている。第2図は液体潤滑層膜厚と動摩擦係数、静
止摩擦係数との関係の一例を示す線図であるが、膜厚が
薄いと動摩擦係数が大きくなり、膜厚が厚いと静止摩擦
係数が大きくなる。動摩擦係数が大きいと媒体表面、磁
気ヘッドに損傷が生じ易くなり、また、静止摩擦係数が
大きいと媒体表面に磁気ヘッドが吸着する現象が起き易
くなる。これらの点を考慮して潤滑層膜厚の最適な範囲
を選択し管理することになるが、例えば、第2図に示し
た例の場合では、12人±2人という管理幅を設けて膜
厚を管理することが必要となる。
ところで、潤滑層膜厚に影響を与える要因として、環境
温湿度、潤滑剤濃度$よび塗布条件、塗布後の加熱処理
条件、下地の保護層表面形状などが考えられ、これらの
要因を管理して潤滑歴を形成していた。
温湿度、潤滑剤濃度$よび塗布条件、塗布後の加熱処理
条件、下地の保護層表面形状などが考えられ、これらの
要因を管理して潤滑歴を形成していた。
ところが、これらの要因を一定に管理して液体潤III
を形成しても、膜厚が人を(変動したり、あるいは充分
な潤滑特性が得られないという現象が発生していた。
を形成しても、膜厚が人を(変動したり、あるいは充分
な潤滑特性が得られないという現象が発生していた。
上述の要因のうち、潤滑剤a度、塗布条件、塗布後の加
熱処理条件9あるいは環境条件などは、一般的な方法で
直接制御Qき、充分な精度で管理できる。一方、下地で
ある保護N表面形状は、媒体の基板の表面粗さを中心線
平均粗さRa 、最大高さR巾aX などで管理するこ
とにより間接的に管理j7ていた。これは、基板上に媒
体を構成する各層1例えば非磁性金属下地層、磁性層、
保護層を形成しても、各層とも数千Å以下の薄膜である
から、基板の表面形状をを一定に管理することにより、
保護層表面形状を一定にすることができる2−の考えに
基づいているが、実際には、これらの各層を形成すると
最終の保護層表面形状は基板表面形状より変化12、ま
た変化の度合も大きくばら一ついており、このばらつき
に起因して液体潤滑層の膜厚、潤滑特性にばらつきが発
生することが判−つだ。
熱処理条件9あるいは環境条件などは、一般的な方法で
直接制御Qき、充分な精度で管理できる。一方、下地で
ある保護N表面形状は、媒体の基板の表面粗さを中心線
平均粗さRa 、最大高さR巾aX などで管理するこ
とにより間接的に管理j7ていた。これは、基板上に媒
体を構成する各層1例えば非磁性金属下地層、磁性層、
保護層を形成しても、各層とも数千Å以下の薄膜である
から、基板の表面形状をを一定に管理することにより、
保護層表面形状を一定にすることができる2−の考えに
基づいているが、実際には、これらの各層を形成すると
最終の保護層表面形状は基板表面形状より変化12、ま
た変化の度合も大きくばら一ついており、このばらつき
に起因して液体潤滑層の膜厚、潤滑特性にばらつきが発
生することが判−つだ。
さらに、従来は表面形状を中心線平均粗さRa。
最大高さRma++などで規定し管理しでいたが、膜厚
をより精度良く制御するためには、より微小領域の表面
形状を表現する表示法を用いて表面形状を微細に規定す
ることが必要であり、このことは、膜の密着性を管理す
るのにも望ましいことである。
をより精度良く制御するためには、より微小領域の表面
形状を表現する表示法を用いて表面形状を微細に規定す
ることが必要であり、このことは、膜の密着性を管理す
るのにも望ましいことである。
この発明は、上述の諸点に鑑みてなされたものであって
、保護層りに液体潤滑層を所要の範囲の膜厚で安定して
量産的に形成することのできる6ル気記録媒体の製造方
法を提供するこ2・を目的とする。
、保護層りに液体潤滑層を所要の範囲の膜厚で安定して
量産的に形成することのできる6ル気記録媒体の製造方
法を提供するこ2・を目的とする。
上記の目的は、この発明によれば、磁性層の十に保3i
層、液体潤滑層が順次形成されてなる磁気記録媒体の製
造方法において、保護層の段面を表面粗さの相対負荷曲
線に表目Jる相対負荷長さ10%に対応するカッティン
グ深さから相対負荷長さ1%に対応するカッティング深
さを差し引いた値が保護層上に形成される液体潤滑層の
膜厚に応じた所要の範囲内の値となるようにあらし、こ
の保護層上に液体潤滑層を形成することによって達成さ
れる。
層、液体潤滑層が順次形成されてなる磁気記録媒体の製
造方法において、保護層の段面を表面粗さの相対負荷曲
線に表目Jる相対負荷長さ10%に対応するカッティン
グ深さから相対負荷長さ1%に対応するカッティング深
さを差し引いた値が保護層上に形成される液体潤滑層の
膜厚に応じた所要の範囲内の値となるようにあらし、こ
の保護層上に液体潤滑層を形成することによって達成さ
れる。
保護層の表面を所要の範囲内の表面粗3トにあらす、し
かも、その範囲をRa、 Rmaxなどで規定するの
ではなく、表面粗さの相対負荷曲線の相対負荷長さ10
%におけるカッティング深さから相対負荷長さ1%にお
1プるカッティング深さを差し引いた値(以下、単に[
10%−1%〕値と称する)tいう、より微小領域の表
面形状を表現する値で規定することにより、その上に形
成する液体潤滑層の膜厚を容易に所要の範囲内に制御す
るこきができる。
かも、その範囲をRa、 Rmaxなどで規定するの
ではなく、表面粗さの相対負荷曲線の相対負荷長さ10
%におけるカッティング深さから相対負荷長さ1%にお
1プるカッティング深さを差し引いた値(以下、単に[
10%−1%〕値と称する)tいう、より微小領域の表
面形状を表現する値で規定することにより、その上に形
成する液体潤滑層の膜厚を容易に所要の範囲内に制御す
るこきができる。
第1図は保護層表面のRa、〔10%−1%〕値とその
上に形成された液体潤滑層の膜厚との関係を示す線図で
あり、アモルフ1スカーボンからなる保護層表面にプロ
ロカーボン系の液体a滑層を形成、した媒体の場合の例
である。第1図に見られろとおり、膜厚と(10%〜
1%〕値とは直線的な関係にあるのに対(7、膜厚とR
a との関係は直線的でなくランダムであり、膜厚管理
には〔10%1%〕値が適しており、この例では液体潤
滑層膜厚を12人±2人の範囲内となるように管理する
ためには、保護層表面の〔10%=1%〕値を75人以
1135Å以下の範囲に制御すれば良いことが判る1、
また、第3図は保護層表面の(10%−1%〕値とその
十に形成された液体潤滑層の動摩擦係数および表面の突
起個数との関係を示す線図である。第3図より〔10%
−1%〕値が小さくなると動摩擦係数が大きくなり充分
な潤滑特性が得られず、〔10%−1%〕値が大きくな
ると突起個数が多くなって磁気ヘッドの浮」−特性が悪
化ずン)ことが判る。これらの点からも保護層表面の(
10%−1%〕値の管理幅を105人±30人捏度に設
定する必要がある。
上に形成された液体潤滑層の膜厚との関係を示す線図で
あり、アモルフ1スカーボンからなる保護層表面にプロ
ロカーボン系の液体a滑層を形成、した媒体の場合の例
である。第1図に見られろとおり、膜厚と(10%〜
1%〕値とは直線的な関係にあるのに対(7、膜厚とR
a との関係は直線的でなくランダムであり、膜厚管理
には〔10%1%〕値が適しており、この例では液体潤
滑層膜厚を12人±2人の範囲内となるように管理する
ためには、保護層表面の〔10%=1%〕値を75人以
1135Å以下の範囲に制御すれば良いことが判る1、
また、第3図は保護層表面の(10%−1%〕値とその
十に形成された液体潤滑層の動摩擦係数および表面の突
起個数との関係を示す線図である。第3図より〔10%
−1%〕値が小さくなると動摩擦係数が大きくなり充分
な潤滑特性が得られず、〔10%−1%〕値が大きくな
ると突起個数が多くなって磁気ヘッドの浮」−特性が悪
化ずン)ことが判る。これらの点からも保護層表面の(
10%−1%〕値の管理幅を105人±30人捏度に設
定する必要がある。
実施例1
アルミニウム合金基板の表面を研削し、その上に無電解
めっきでN1−P合金層を形成し、その表面に鏡面加工
、テクスチャ加工を施して表面粗さをRaで60人、〔
10%−1%〕値で70Aとする。
めっきでN1−P合金層を形成し、その表面に鏡面加工
、テクスチャ加工を施して表面粗さをRaで60人、〔
10%−1%〕値で70Aとする。
この基板上に、基板温度を150℃に設定して、膜厚1
500人〜2000人のクロム下地層、膜厚300人〜
500人のCo −Ni−Cr合金磁性層、膜厚400
人〜500人のアモルファスカーボン保護層をスパッタ
法で順次形成する。このようにして形成された保護層の
表面粗さは Ra 70人、〔10%−1%〕値250
人程度となる。この保護層表面を研磨テープ、バニッシ
ュヘッドなどで加工して、最終的に表面粗さをRaで6
5人、〔10%−1%〕で110A程度とする。
500人〜2000人のクロム下地層、膜厚300人〜
500人のCo −Ni−Cr合金磁性層、膜厚400
人〜500人のアモルファスカーボン保護層をスパッタ
法で順次形成する。このようにして形成された保護層の
表面粗さは Ra 70人、〔10%−1%〕値250
人程度となる。この保護層表面を研磨テープ、バニッシ
ュヘッドなどで加工して、最終的に表面粗さをRaで6
5人、〔10%−1%〕で110A程度とする。
このように表面粗さが制御された保護層上にフロロカー
ボン系の液体潤滑剤を塗布することにより膜厚12人±
2人の範囲の液体潤滑層を形成することができ、潤滑特
性、浮上特性に優れた媒体を得ることができる。
ボン系の液体潤滑剤を塗布することにより膜厚12人±
2人の範囲の液体潤滑層を形成することができ、潤滑特
性、浮上特性に優れた媒体を得ることができる。
実施例2
実施例1と同様にして、表面粗さがRaで65人。
(10%−1%〕値で100A程度の基板を作製し、こ
の基板上に、基板温度を250℃以上に変えたこと以外
は実施例1と同様にして下地層、磁性層。
の基板上に、基板温度を250℃以上に変えたこと以外
は実施例1と同様にして下地層、磁性層。
保護層を形成した。このようにして形成された保護層の
表面粗さは基板表面粗さとほとんど同じで変化しておら
ず、最終的には、この面をバニッシュヘッドでかるくバ
ニッシュして異常突起を除去したが表面粗さがRa で
65人、〔10%−1%〕値で110A程度の保護層が
得られ、その上に膜厚12人±2人の範囲内の液体潤滑
層を形成することができた。
表面粗さは基板表面粗さとほとんど同じで変化しておら
ず、最終的には、この面をバニッシュヘッドでかるくバ
ニッシュして異常突起を除去したが表面粗さがRa で
65人、〔10%−1%〕値で110A程度の保護層が
得られ、その上に膜厚12人±2人の範囲内の液体潤滑
層を形成することができた。
この発明によれば、保護層の表面粗さを〔10%−1%
〕値で所要の範囲内となるようにあらす。
〕値で所要の範囲内となるようにあらす。
このようにあらされた保護層表面に液体潤滑剤を塗布す
ることにより、所要の膜厚でばらつきの小さい液体潤滑
層を容易に形成することができ、潤滑特性、浮上特性の
優れた磁気記録媒体を安定して量産することが可能とな
る。
ることにより、所要の膜厚でばらつきの小さい液体潤滑
層を容易に形成することができ、潤滑特性、浮上特性の
優れた磁気記録媒体を安定して量産することが可能とな
る。
第1図は保護層表面のRa、(10%−1%〕値と液体
潤滑層膜厚との関係を示す線図、第2図は液体潤滑層膜
厚と動摩擦係数、静止摩擦係数との関係を示す線図、第
3図は保護層表面の〔10%−1%〕値と液体潤滑層の
動摩擦係数および表面の突起個数との関係を示す線図で
ある。 第1図 第2図
潤滑層膜厚との関係を示す線図、第2図は液体潤滑層膜
厚と動摩擦係数、静止摩擦係数との関係を示す線図、第
3図は保護層表面の〔10%−1%〕値と液体潤滑層の
動摩擦係数および表面の突起個数との関係を示す線図で
ある。 第1図 第2図
Claims (1)
- 1)磁性層の上に保護層、液体潤滑層が順次形成されて
なる磁気記録媒体の製造方法において、保護層の表面を
表面粗さの相対負荷曲線における相対負荷長さ10%に
対応するカッティング深さから相対負荷長さ1%に対応
するカッティング深さを差し引いた値が保護層上に形成
される液体潤滑層の膜厚に応じた所要の範囲内の値とな
るようにあらし、この保護層上に液体潤滑層を形成する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63304493A JPH0833987B2 (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63304493A JPH0833987B2 (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02149924A true JPH02149924A (ja) | 1990-06-08 |
JPH0833987B2 JPH0833987B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=17933699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63304493A Expired - Lifetime JPH0833987B2 (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0833987B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6165582A (en) * | 1992-11-19 | 2000-12-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
US6805941B1 (en) | 1992-11-19 | 2004-10-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61120344A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-07 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1988
- 1988-12-01 JP JP63304493A patent/JPH0833987B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61120344A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-07 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6165582A (en) * | 1992-11-19 | 2000-12-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
US6194047B1 (en) | 1992-11-19 | 2001-02-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
US6258434B1 (en) | 1992-11-19 | 2001-07-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
US6623836B1 (en) | 1992-11-19 | 2003-09-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
US6805941B1 (en) | 1992-11-19 | 2004-10-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
US7083873B2 (en) | 1992-11-19 | 2006-08-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium including a diamond-like carbon protective film with hydrogen and at least two additional elements |
US7391592B2 (en) | 1992-11-19 | 2008-06-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium including a diamond-like carbon protective film and at least two additional elements |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0833987B2 (ja) | 1996-03-29 |
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