JPH0490124A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH0490124A JPH0490124A JP20463590A JP20463590A JPH0490124A JP H0490124 A JPH0490124 A JP H0490124A JP 20463590 A JP20463590 A JP 20463590A JP 20463590 A JP20463590 A JP 20463590A JP H0490124 A JPH0490124 A JP H0490124A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 54
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 28
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 10
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 5
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 abstract description 23
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 abstract description 22
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 abstract description 22
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 abstract description 7
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229920006268 silicone film Polymers 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001362 Ta alloys Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、情報処理システムの補助記憶装置として用
いられる固定磁気ディスク装置に搭載される薄膜磁気デ
ィスクなどの磁気記録媒体およびその製造方法に関する
。
いられる固定磁気ディスク装置に搭載される薄膜磁気デ
ィスクなどの磁気記録媒体およびその製造方法に関する
。
薄膜磁気ディスクなどの磁気記録媒体（以下、単に媒体
とも称する）は、補助記憶装置の大容量化、小形化にと
もなう高記録密度化の要望に対応するためにｒ−Ｆｅ２
０．系の磁性粒子を樹脂バインダに分散した塗布膜を磁
性層とする塗布型媒体からスパッタ法などで形成された
強磁性金属薄膜を磁性層とする薄膜媒体へと移行してき
ている。
とも称する）は、補助記憶装置の大容量化、小形化にと
もなう高記録密度化の要望に対応するためにｒ−Ｆｅ２
０．系の磁性粒子を樹脂バインダに分散した塗布膜を磁
性層とする塗布型媒体からスパッタ法などで形成された
強磁性金属薄膜を磁性層とする薄膜媒体へと移行してき
ている。
薄膜媒体は、通常、Ａ１合金円板に無電解めっき法でＮ
１−Ｐ合金層を形成し、その表面を研磨しテクスチャア
リングした非磁性基板上に、スパッタ法で形成された磁
気特性を高めるため、また、基板との密着性を強化する
ための１例えばＣｒからなる非磁性金属下地層、Ｃｏ合
金磁性層、磁性層を外部環境から保護し、かつ、媒体表
面の潤滑性能を高めるための１例えばアモルファスカー
ボンからなる保護膜を備えた構成のものである。さらに
、媒体の潤滑性能を高めるために保護膜上に液体潤滑剤
層を形成した構成とすることもある。
１−Ｐ合金層を形成し、その表面を研磨しテクスチャア
リングした非磁性基板上に、スパッタ法で形成された磁
気特性を高めるため、また、基板との密着性を強化する
ための１例えばＣｒからなる非磁性金属下地層、Ｃｏ合
金磁性層、磁性層を外部環境から保護し、かつ、媒体表
面の潤滑性能を高めるための１例えばアモルファスカー
ボンからなる保護膜を備えた構成のものである。さらに
、媒体の潤滑性能を高めるために保護膜上に液体潤滑剤
層を形成した構成とすることもある。
しかしながら、上述のようなカーボン保護膜を表面とす
る媒体は、媒体表面の潤滑特性５磨耗特性がばらつき不
安定であるという欠点があり、また、磁気ヘッドとの摺
動により摩擦係数が短時間で上昇してしまうという問題
があった。
る媒体は、媒体表面の潤滑特性５磨耗特性がばらつき不
安定であるという欠点があり、また、磁気ヘッドとの摺
動により摩擦係数が短時間で上昇してしまうという問題
があった。
また、カーボン保護膜上に膜厚２０人〜３０人の液体潤
滑剤層を設けた媒体は、潤滑特性、磨耗特性に優れ摩擦
係数の変動も少なく良好であるが、磁気ヘッドの吸着が
発生するという問題があった。
滑剤層を設けた媒体は、潤滑特性、磨耗特性に優れ摩擦
係数の変動も少なく良好であるが、磁気ヘッドの吸着が
発生するという問題があった。
この発明は、上述の問題点を解消して、潤滑特性、磨耗
特性に優れ、磁気ヘッドとの摺動に際して摩擦係数の上
昇が少なく、かつ、磁気ヘッドの吸着が起きない媒体お
よびその製造方法を提供することを解決しようとする課
題とする。
特性に優れ、磁気ヘッドとの摺動に際して摩擦係数の上
昇が少なく、かつ、磁気ヘッドの吸着が起きない媒体お
よびその製造方法を提供することを解決しようとする課
題とする。
上記の課題は、この発明によれば、非磁性基板上に強磁
性金属薄膜磁性層とその上に形成されたカーボン保護膜
とを備えてなる磁気記録媒体において、前記カーボン保
護膜上に有機シリコン膜を備える磁気記録媒体とするこ
とによって解決される。
性金属薄膜磁性層とその上に形成されたカーボン保護膜
とを備えてなる磁気記録媒体において、前記カーボン保
護膜上に有機シリコン膜を備える磁気記録媒体とするこ
とによって解決される。
有機シリコンとしてはポリジメチルシロキサンが好適に
用いられる。また、有機シリコン膜の付着量はカーボン
保護膜上で５人程度でしかも５Å以下の厚さとなる量で
あることが望ましい。そして、上記有機シリコン膜は、
所定濃度の有機シリコンガス中に所定時間放置すること
によって形成することができる。
用いられる。また、有機シリコン膜の付着量はカーボン
保護膜上で５人程度でしかも５Å以下の厚さとなる量で
あることが望ましい。そして、上記有機シリコン膜は、
所定濃度の有機シリコンガス中に所定時間放置すること
によって形成することができる。
カーボン保護膜上に有機シリコン膜を付着させると、理
論的には必ずしも明らかではないが、有機シリコンとし
ての例えばポリジメチルシロキサンがカーボンと結合し
てカーボン表面に密着性良く強固に固着し、このポリジ
メチルシロキサンがカーボンの活性度を弱め大気中での
潤滑特性を安定化させると考えられる。かくして、カー
ボン保護膜上に有機シリコン膜を付着させることにより
、潤滑特性、磨耗特性に優れ、磁気ヘッドとの摺動に際
して摩擦係数の上昇が少なく、かつ、磁気ヘッドの吸着
の起きない媒体が得られることになる。
論的には必ずしも明らかではないが、有機シリコンとし
ての例えばポリジメチルシロキサンがカーボンと結合し
てカーボン表面に密着性良く強固に固着し、このポリジ
メチルシロキサンがカーボンの活性度を弱め大気中での
潤滑特性を安定化させると考えられる。かくして、カー
ボン保護膜上に有機シリコン膜を付着させることにより
、潤滑特性、磨耗特性に優れ、磁気ヘッドとの摺動に際
して摩擦係数の上昇が少なく、かつ、磁気ヘッドの吸着
の起きない媒体が得られることになる。
第１図は、この発明の媒体の一実施例の模式的断面図で
あり、へ１合金板１１上にＮ１−Ｐ合金層１２の形成さ
れた非磁性基板１上に、非磁性金属下地層としてのＣｒ
下地層２．ＣＯ合金磁性層３．カーボン保護膜４が形成
され、その上に有機シリコン膜としてポリジメチルシロ
キサン膜５が付着している。
あり、へ１合金板１１上にＮ１−Ｐ合金層１２の形成さ
れた非磁性基板１上に、非磁性金属下地層としてのＣｒ
下地層２．ＣＯ合金磁性層３．カーボン保護膜４が形成
され、その上に有機シリコン膜としてポリジメチルシロ
キサン膜５が付着している。
外径９５ｍｍ、 内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍの
ディスク状のへ！合金板の表面に無電解めっき法でＮ１
−Ｐ合金層を形成し、その表面を研磨して平滑にし、さ
らに研磨テープによりテクスチャアリングを施して、表
面粗さが中心線平均粗さＲａで６０人の非磁性基板とす
る。この基板を精密洗浄した後、温度２００℃に予備加
熱し、圧力１０ｍＴｏｒｒのＡｒガス雰囲気中でＣｒ下
地層（膜厚１５００人）、 Ｃｏ−３０８ｉ−７，５Ｃ
ｒ合金磁性層（膜厚５００人）、カーボン保護膜（膜厚
３００人）を順次スパッタ成膜した。次に、このカーボ
ン保護膜上に有機シリコンとしてのポリジメチルシロキ
サンを付着させて、第１図に示した構成の媒体を作製し
た。
ディスク状のへ！合金板の表面に無電解めっき法でＮ１
−Ｐ合金層を形成し、その表面を研磨して平滑にし、さ
らに研磨テープによりテクスチャアリングを施して、表
面粗さが中心線平均粗さＲａで６０人の非磁性基板とす
る。この基板を精密洗浄した後、温度２００℃に予備加
熱し、圧力１０ｍＴｏｒｒのＡｒガス雰囲気中でＣｒ下
地層（膜厚１５００人）、 Ｃｏ−３０８ｉ−７，５Ｃ
ｒ合金磁性層（膜厚５００人）、カーボン保護膜（膜厚
３００人）を順次スパッタ成膜した。次に、このカーボ
ン保護膜上に有機シリコンとしてのポリジメチルシロキ
サンを付着させて、第１図に示した構成の媒体を作製し
た。
第２図は有機シリコン膜の付着方法の一例の説明図であ
る。蓋１０２を備えた容器１０１中にポリジメチルシロ
キサンを主成分とするシリコンオイル１０３を入れ、容
器１０１内を濃度５０ｐｐｍ 〜５００ｐｐｍの範囲内
に制御されたポリジメチルシロキサンガス雰囲気１０４
とし、 このガス雰囲気中にカーボン保護膜まで形成さ
れた基板１０５を０．５時間〜１０時間放置して、カー
ボン保護膜上にポリジメチルシロキサンを付着させる。
る。蓋１０２を備えた容器１０１中にポリジメチルシロ
キサンを主成分とするシリコンオイル１０３を入れ、容
器１０１内を濃度５０ｐｐｍ 〜５００ｐｐｍの範囲内
に制御されたポリジメチルシロキサンガス雰囲気１０４
とし、 このガス雰囲気中にカーボン保護膜まで形成さ
れた基板１０５を０．５時間〜１０時間放置して、カー
ボン保護膜上にポリジメチルシロキサンを付着させる。
ポリジメチルシロキサンの付着量は、雰囲気のポリジメ
チルシロキサンガス濃度およびその雰囲気中への基板の
放置時間により制御することができる。
チルシロキサンガス濃度およびその雰囲気中への基板の
放置時間により制御することができる。
上述のようにしてカーボン保護膜上に厚さで５人を超え
ない程度の量のポリジメチルシロキサンを付着させた実
施例の媒体と、ポリジメチルシロキサンを付着させずそ
の他は実施例と同様にして作製した比較例の媒体とにつ
いて、媒体を磁気ヘッドが浮上しない程度の低速で回転
させ磁気ヘッドを媒体上で摺動させる摺動摩擦磨耗試験
を行って摩擦係数の変動を調べた。その結果を第３図に
示す。第３図に見られるように、比較例の媒体は摺動時
間２０分で摩擦係数μが市場より要望されている規格値
の０．７にまで上昇してしまうが、実施例の媒体は摩擦
係数μはほとんど上昇せず、有機シリコンを付着させる
ことにより潤滑特性、磨耗特性が非常に安定となること
は明らかである。
ない程度の量のポリジメチルシロキサンを付着させた実
施例の媒体と、ポリジメチルシロキサンを付着させずそ
の他は実施例と同様にして作製した比較例の媒体とにつ
いて、媒体を磁気ヘッドが浮上しない程度の低速で回転
させ磁気ヘッドを媒体上で摺動させる摺動摩擦磨耗試験
を行って摩擦係数の変動を調べた。その結果を第３図に
示す。第３図に見られるように、比較例の媒体は摺動時
間２０分で摩擦係数μが市場より要望されている規格値
の０．７にまで上昇してしまうが、実施例の媒体は摩擦
係数μはほとんど上昇せず、有機シリコンを付着させる
ことにより潤滑特性、磨耗特性が非常に安定となること
は明らかである。
ところが、ポリジメチルシロキサンの付着量を変化させ
て調査を進めた結果、付着量が厚さで５Å以上となると
摺動摩擦磨耗試験で摩擦係数μが上昇するようになるこ
とが判った。これは、付着量が厚さで５人程度になると
カーボン保護膜表面全面がほぼ一様にポリジメチルシロ
キサンの薄膜で被覆され、全面にポリジメチルシロキサ
ンが強固に固着した望ましい状態となるが、付着量が厚
さで５人を超える量になると、余分のポリジメチルシロ
キサンが離脱しやすくなり、この離脱したものが摩擦係
数μを上昇させることになると考えられる。従って、ポ
リジメチルシロキサンの付着量は厚さで５人程度でしか
も５Å以下が好適である。
て調査を進めた結果、付着量が厚さで５Å以上となると
摺動摩擦磨耗試験で摩擦係数μが上昇するようになるこ
とが判った。これは、付着量が厚さで５人程度になると
カーボン保護膜表面全面がほぼ一様にポリジメチルシロ
キサンの薄膜で被覆され、全面にポリジメチルシロキサ
ンが強固に固着した望ましい状態となるが、付着量が厚
さで５人を超える量になると、余分のポリジメチルシロ
キサンが離脱しやすくなり、この離脱したものが摩擦係
数μを上昇させることになると考えられる。従って、ポ
リジメチルシロキサンの付着量は厚さで５人程度でしか
も５Å以下が好適である。
基板上のポリジメチルシロキサンの付着量（厚さ）はフ
ーリエ変換赤外分光分析法（ＦＴ−ＩＲ）で高感度反射
法により調べることができる。しかしながら付着量が５
Å以下となるとこの方法では正確に測定することは困難
となるので、付着量の下限は正確に決めることはできな
い。ただ、厚さで５Å以下の付着量であっても、その存
在はカーボン保護膜表面のフレオン抽出液を顕微ＦＴ−
Ｉ Ｒ透過法で調べ、第４図に示すようなポリジメチル
シロキサンの吸収ピークの有無を知ることにより確認で
きる。
ーリエ変換赤外分光分析法（ＦＴ−ＩＲ）で高感度反射
法により調べることができる。しかしながら付着量が５
Å以下となるとこの方法では正確に測定することは困難
となるので、付着量の下限は正確に決めることはできな
い。ただ、厚さで５Å以下の付着量であっても、その存
在はカーボン保護膜表面のフレオン抽出液を顕微ＦＴ−
Ｉ Ｒ透過法で調べ、第４図に示すようなポリジメチル
シロキサンの吸収ピークの有無を知ることにより確認で
きる。
なお、非磁性基板のテクスチャアリフグ後の表面粗さは
Ｒａで６０人に限られるものではなく、３５人〜７０
人の範囲内であれば適用可能である。また、非磁性金属
下地層はＣＯ合金磁性層の磁気特性を制御するために設
けられるもので、Ｃｒ層に限られるものではなく、Ｃ＋
”Ｓｉ合金などのＣｒ合金層でもよい。また、磁性層材
料はＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金でもよ
い。さらに、スパッタ成膜時の基板の予備加熱温度は１
２０℃〜２５０℃の範囲内。
Ｒａで６０人に限られるものではなく、３５人〜７０
人の範囲内であれば適用可能である。また、非磁性金属
下地層はＣＯ合金磁性層の磁気特性を制御するために設
けられるもので、Ｃｒ層に限られるものではなく、Ｃ＋
”Ｓｉ合金などのＣｒ合金層でもよい。また、磁性層材
料はＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金でもよ
い。さらに、スパッタ成膜時の基板の予備加熱温度は１
２０℃〜２５０℃の範囲内。
＾ｒガス圧は１ｍＴｏｒｒ〜２０ｍＴｏｒｒの範囲内で
変えてもよい。また、カーボン保護膜はグラファイト焼
結ターゲットを用いて密度１．８８１０ｆｆ１以上とな
るようにスパッタ成膜することが望ましく、膜厚は２０
０人〜４００人の範囲内で変化させてもよい。
変えてもよい。また、カーボン保護膜はグラファイト焼
結ターゲットを用いて密度１．８８１０ｆｆ１以上とな
るようにスパッタ成膜することが望ましく、膜厚は２０
０人〜４００人の範囲内で変化させてもよい。
また、実施例ではカーボン保護膜上に有機シリコンを付
着させたが、カーボン保護膜上に液体潤滑剤層を塗布し
た上にさらに有機シリコンを付着させると、有機シリコ
ンはカーボンとの場合よりも強く液体潤滑剤と結合する
ため、潤滑特性が向上する。すなわち、この発明による
有機シリコンの付着はカーボン保護膜の場合だけでなく
、液体潤滑剤の場合にも同様に有効である。
着させたが、カーボン保護膜上に液体潤滑剤層を塗布し
た上にさらに有機シリコンを付着させると、有機シリコ
ンはカーボンとの場合よりも強く液体潤滑剤と結合する
ため、潤滑特性が向上する。すなわち、この発明による
有機シリコンの付着はカーボン保護膜の場合だけでなく
、液体潤滑剤の場合にも同様に有効である。
この発明によれば、非磁性基板上に強磁性金属薄膜磁性
層とその上に形成されたカーボン保護膜とを備えてなる
磁気記録媒体において、前記カーボン保護膜上に有機シ
リコン膜を備える磁気記録媒体とする。このように有機
シリコン膜を付着させることにより、カーボン保護膜の
潤滑特性、磨耗特性を安定化させることができ、潤滑特
性、磨耗特性に優れ、磁気ヘッドとの摺動に際して摩擦
係数の上昇が少なく、かつ、磁気ヘッドの吸着が起・き
ない磁気記録媒体が得られることになる。
層とその上に形成されたカーボン保護膜とを備えてなる
磁気記録媒体において、前記カーボン保護膜上に有機シ
リコン膜を備える磁気記録媒体とする。このように有機
シリコン膜を付着させることにより、カーボン保護膜の
潤滑特性、磨耗特性を安定化させることができ、潤滑特
性、磨耗特性に優れ、磁気ヘッドとの摺動に際して摩擦
係数の上昇が少なく、かつ、磁気ヘッドの吸着が起・き
ない磁気記録媒体が得られることになる。
第１図はこの発明の媒体の一実施例の模式的断面図、第
２図は有機シリコンの付着方法の一例の説明図、第３図
は実施例の媒体および比較例の媒体の摺動摩擦磨耗試験
における摺動時間と摩擦係数との関係を示す線図、第４
図はポリジメチルシロキサンの顕微ＦＴ−Ｉ Ｒ透過法
による分析チャート図である。 １ 非磁性基板、２ Ｃｒ下地層、３ ＣＯ合金磁性層
、４ カーボン保護層、５ ポリジメチルシ第 コ 図 第 図 摺動時間（分） 第 図
２図は有機シリコンの付着方法の一例の説明図、第３図
は実施例の媒体および比較例の媒体の摺動摩擦磨耗試験
における摺動時間と摩擦係数との関係を示す線図、第４
図はポリジメチルシロキサンの顕微ＦＴ−Ｉ Ｒ透過法
による分析チャート図である。 １ 非磁性基板、２ Ｃｒ下地層、３ ＣＯ合金磁性層
、４ カーボン保護層、５ ポリジメチルシ第 コ 図 第 図 摺動時間（分） 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）非磁性基板上に強磁性金属薄膜磁性層とその上に形
成されたカーボン保護膜とを備えてなる磁気記録媒体に
おいて、前記カーボン保護膜上に有機シリコン膜を備え
ることを特徴とする磁気記録媒体。 ２）前記有機シリコン膜の厚さが５Å以下であることを
特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 ３）非磁性基板上に、強磁性金属薄膜磁性層とその上の
カーボン保護膜とその上の有機シリコン膜とを備えた磁
気記録媒体の製造方法において、所定濃度の有機シリコ
ンガス中に所定時間放置することにより前記有機シリコ
ン膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20463590A JPH0490124A (ja) | 1990-08-01 | 1990-08-01 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20463590A JPH0490124A (ja) | 1990-08-01 | 1990-08-01 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0490124A true JPH0490124A (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=16493742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20463590A Pending JPH0490124A (ja) | 1990-08-01 | 1990-08-01 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0490124A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5577312A (en) * | 1994-01-21 | 1996-11-26 | Amada Mfg America Inc. | Method of separating micro-joint processed products |
-
1990
- 1990-08-01 JP JP20463590A patent/JPH0490124A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5577312A (en) * | 1994-01-21 | 1996-11-26 | Amada Mfg America Inc. | Method of separating micro-joint processed products |
| US5683023A (en) * | 1994-01-21 | 1997-11-04 | Amada Mfg America, Inc. | Apparatus for separating micro-joint processed products and die used therefor |
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