JPH021474A - １β―アルキルカルバペネム合成中間体の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の概要コ この発明は抗生物質として著効を示す１β−アルキルカ
ルバペネム化合物の合成中間体とその経済的合成法に関
する。特に、この発明は４−脱離基置換２−アゼチジノ
ン化合物（ＩＩＩ）にトランス−２−脱離基置換メチル
−３−アルキルアクリル酸化合物（Ｉ［［）と還元性金
属を作用きせて４β−（１β−アルキル−２−カルボキ
シ−２−プロペニル）−２−アゼチジノン化合物（ＩＩ
）を製造する方法と生成物である４β−（１β−アルキ
ル−２−カルボキシ−２−プロペニル）−２−アゼチジ
ノン化合物（Ｉ［）を提供するものである。

（式中、 Ｒ１は水素、アルキルまたは置換アルキノ呟Ｒ２は置換
基を有していてもよいアルキル、Ｒ３は水素またはカル
ボキシ保護基、 Ｒ４およびＲ５は脱離基、 をそれぞれ示す） ［立体異性体］ この明細書に記載したこの発明のアゼチジン化合物（Ｉ
［＞とそれから誘導きれるβ−ラクタム化合物後記（１
）〜（７）、（ａ）、（ｂ）なとにおけるアゼチジノン
環の３位と４位は、チェナマイシンと同し立体構造であ
る３α−炭素または水素、３β−水素、４α−水素、４
β−炭素の構造を持ち、また、本発明の方法で導入され
る４位側鎖内１−Ｒ’基はベネム環化後β体となるよう
な立体構造を持つ。

アクリル酸誘導体（Ｉ［［＞の幾何異性体を表わすシス
・トランスの表現は、そのＲ２基とＣ０ＯＲ’基の相対
的位置を示す。また、アゼチジノン中間体（ＩＩＩ）、
（ＩＩ）および後記（１）〜（７）などでアゼチジノン
環に結合する基の立体配置を示すαとβは各当該中間体
から製造できるカルバペネム化合物（ａ）および（ｂ）
における対応基の立体配置と同し表現を暫定的に用いる
。

なお、Ｒ１基が１−アセトキシエチル基である場合、そ
の絶対配置は　Ｒである。

［産業上の利用分野コ この発明の目的物（Ｉ［）から誘導きれる最終目的物で
ある１β−アルキルカルバペネム化合物（ｂ）は優れた
抗生物質で、ヒトおよび動物における感染症の予防およ
び治療などの目的に利用できる。

１β位にアルキル基を有するカルバペネム化合物（ｂな
と）は１β−無置換力ルバペネム化合物を分解する腎デ
ヒドロベブチデースエに対する抵抗力が強いので、近頃
活発に研究されている。

［従来技術］ 参考のために、１β−アルキルカルバペネム誘導体合成
のための代表的な先行技術を以下に例示する。

１）α、β−両両性性体製造し、各異性体を分離する方
法。テトラヘドロン・レターズ、２６巻、５８３頁（１
９８５年）、特開昭６０−１５８１６７号など。

２〉１位カルバニオンをメチル化し、その１α−メチル
基を反転させる方法。ヘテロサイクルス、２１巻、２９
頁（１９８４年）など。

３）４位−脱離基置換−２−アゼチジノンとの置換によ
り炭素−炭素結合を形成する方法。アルドリキミ力・ア
クタ、１８巻、９５頁（１９８５年）；欧文日本化学会
誌、５９巻、１３６３頁（１９８６年）；ジャーナル・
才ブ・オーガニック・ケミストリー、５０巻、３４３８
頁（１９８５年）；ケミストリー・レタース、１９８５
午、１３４３頁；テトラヘドロン・レターズ、２６巻、
４７３９頁（１９８，，５年）；同誌、２８巻、５０７
頁（１９８７年）なと。

４）アルドール反応により炭素−炭素結合を生成する方
法。米国化学会誌、１０８巻、４６７５頁（１９８６年
）；同誌、１０８巻、４６７３頁（１９８６年）、Ｊ、
Ｃ，Ｓ、ケミカル・コミュニケイションス、１９８６年
、６０２頁；テトラヘドロン・レタース、２７巻、５６
８７頁（１９８６年）など。

５）還元反応によりカルバペネム、環上の１−メチル基
をβ化する方法。テトラヘドロン・レターズ、２８巻、
５０７頁（１９８７年）−同ご、と、２７巻、２１４９
頁（１９８７年）；同誌、２８巻、１８５７頁（１９８
７年）；ジャーナル・才ブ・オーガニック・ケミストリ
ー、５２巻、２５６３頁（１９８７年）なと。

６）１βメチル基を不斉源から誘導する方法。

テトラヘドロン・レターズ、２７巻、２４７頁（１９８
６年）；同誌、２７巻、６２４１頁（１９８６年）；特
開昭６２−２９５７７号なと。

［この発明が解決すべき課題］ この発明を経て製造しうる最終目的化合物である１β−
アルキルカルバペネム化合物は優れた抗生物質であるが
、従来技術では多数の］工程を要し、低収率である上、
立体的に純粋な生成物を得るには各工程で分別再結晶、
分別クロマトグラフィーなど非工業的な方法で異性体分
隔をせざるを得なかった。そこで、立体特異的反応を利
用して、工業的に採用可能な経済性、操伶性が発揮され
うる方法が嘱望されていた。

［発明の効果］ 今回、発明者は立体的に純粋な工業原料（Ｉ＞と経済的
に製造可ず１社な試薬（Ｉ［［）とを温和な条件下に反
応すせて目的物とする１β−アルキルカルバペネム化合
物製造用中間体（１１＞を高収率で合成する下記反応を
見出した。この反応は立体特異性が高く反応混合物の立
体化学的純度が高いため、簡単な結晶化などによって立
体化学的に殆ど純粋な生成物を容易に単離できる。これ
によって合成工程操作の困難性と非経済性を解消できる
。

この単工程での成功の結果、以後の各工程も立体的に純
粋な状態で進行するため、各工程の操作性と生成物の収
率が著しく向上し、最終目的物質の工業化、経済化を促
進できる。

［課題を解決するだめの手段］ この発明によれば、４−脱離基置換−２−アゼチジノン
化合物（ＩＩＩ）にトランス−２−脱離基置換メチル−
３−アルキルアクリル酸化合物（ＩＩＩ）と還元性金属
を作用させて４β−（１β−アルキル−２−カルボキシ
−２−プロペニル）−２−アゼチジノン化合物（Ｉｔ）
を製造する。

（式中、 Ｒ１は水素、アルキルまたは置換アルキル、Ｒ２は置換
基を有していてもよいアルキル、Ｒ３は水素またはカル
ボキシ保護基、 Ｒ４およびＲ５は脱離基、 をそれぞれ示す） ［反応の新規性］ この発明の反応は還元的求核置換反応に属するが、文献
未記載である。この４β−（１β−アルキル−２−カル
ボキシ−２−プロペニル）−２−アゼチジノン化合物（
Ｉ［）を製造する立体特異的反応にはトランス−２−脱
離基置換メチル−３−アルキルアクリル酸化合物（ＩＩ
［）のカルボキシ基の存在が必要条件である。

下表Ｉは、これを立証する。すなわち、本発明反応と同
一の出発物質である４α−アセトキシ−３α−（１−第
３級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−２−アゼチ
ジノン（１）に対して、本発明のトランス−２−ブロモ
メチル−クロトン酸ツメチルエステルまたはエチルエス
テル（ＩＩＩ）の代わリニ、カルボキシ基を還元したト
ランス−２−ブロモメチル−２−ブチノールのアセテー
ト（ＩＶ）または同トリチルエーテル（Ｖ）を同一条件
下に反応表　　Ｉ 試　　　薬　　　　　収率　１β体比 （本発明方法） 酸φメチルエステル（Ｉ［［） 同・エチルエステル（１） （対照実験例） アルコール・アセテート（Ｉ’／）　　１３Ｘ同・トリ
チルエーテル（Ｖ）　　　３４Ｘ８０％ ６　ｚ 〉９５ｘ ＞９５Ｘ 約７０％ 約５０＠Ａ させると４β−（１−メチル−２−（アセトキシまたは
トリチルオキシ）メチル−２−プロペニル）−３α−（
１−第３級ブチルンメチルシリルオキシエチル）−２−
アゼチジノンの４β側鎖の１位におけるαとβ両立体異
性体の混合物が低収率で生成する。この対照反応は新反
応である。

［各基の説明］ 本明細書において　Ｒ１基はペネム系、カルバペネム系
化合物の６位置換基として公知の基も含む。殊に、水素
または１位にヒドロキシ基またはハロゲン原子を持つ炭
素数１〜１０のアルキル基が好適である。このヒドロキ
シ基は最終目的化合物に至るまでに除去できる保護基を
有していてもよい。代表的なＲ１基は炭素数１〜８のア
ルキル（例えば、メチル、エチル、プロピルなど）、炭
素数１〜８のヒドロキシアルキル（例えば、ヒドロキシ
メチル、１−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピ
ル、２−ヒドロキシインプロピルなど）、炭素数１〜８
のハロアルキル（例えば、フルオロメチル、クロロメチ
ル、１−フルオロエチル、２−フルオロイソプロピル、
トリフルオロメチルなど）、炭素数４〜８のジオキソレ
ニル（例えば、２−才キソー４−アルキル（イ列えば、
メチル、エチル、プロピル）ジオキソレニルなど）など
である。

前記ヒドロキシアルキル基中のヒドロキシ基は後記Ｒ６
などの保護基を有していてもよい。代表的なヒドロキシ
保護基は脱離容易なエステル形成基［炭素数１〜１５の
カルボン酸アシル（低級アルカノイル、アロイルなど）
、炭素数２〜１０の炭酸アシル（低級アルコキシカルボ
ニル、クロロアルコキシカルボニル、ベンジルオキシカ
ルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル５ｐ−
メトキシベンンルオキシカルポニル、０−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、アリルオキンカルポニル）など］
、炭素数２〜８のエーテル形成基（メトキシメチル、メ
トキシエトキシメチル、テトラヒドロフラニル、テトラ
ヒドロピラニルなど）、炭素数３〜１８の炭化水素化シ
リル（トリメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチル
フェニルンリル、ジフェニルメチルシリル、ジエチル第
３級ブチルシリル、ンメチル第３級ペンチルジノルなど
）、炭素数７〜１９の活性アラルキル（トリフェニルメ
チルなど）などである。

Ｒ２基はアルキル基または置換アルキル基である。殊に
、炭素数１〜８のアルキルが好適である。代表例には炭
素数１〜３のアルキル（例えば、メチル、エチノ呟プロ
ピル）、炭素数１〜５のハロアルキル（イ列えば、フル
オロアルキル、クロロアルキル、ブロモアルキル）、炭
１１１〜５の炭素置換アルキル（例えば、シアノアルキ
ル、カルバモイルアルキル 護カルボキシアルキル、アルケニル、アルキニルなど）
、炭素数１〜５の窒素置換アルキル（例えば、アミノア
ルキル、ウレイドアルキル、ホルムイミドイルアルキル
など）、炭素数１〜５の酸素置換アルキル（例えば、ヒ
ドロキシアルキノ呟アルカノイルオキシアルキル アルキル、ヒドロキシアルキルオキシアルキル、アミノ
アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキルなど）、
炭素数１〜５の硫黄置換アルキル（イ列えば、アルキル
チオアルキル、アミノアルキルチオアルキル、ヒドロキ
シアルキルチオアルキル、ハロアルキルチオアルキル、
アルキルスルフィニルアルキル、アミノアルキルスルフ
ィニルアルキル、ヒドロキシアルキルスルフィニルアル
キル、ハロアルキルスルフィニルアルキル、アルキルス
ルホニルアルキル、アミノアルキルスルホニルアルキル
、ヒドロキシアルキルスルホニルアルキル、ハロアルキ
ルスルホニルアルキルなど）などがある。前記ヒドロキ
シ基を有する誘導体はＲ１の項で説明したヒドロキシ保
護基を有していてもよい。

Ｒ３基は水素原子またはカルボキシ保護基である。この
カルボキシ保護基は１β−アルキル化カルバペネム化合
物合成のためにはアラナート還元の際に脱離する。従っ
て、複雑な構造のエステル基も利用できるが、一般には
構造の簡単な反応を阻害しないエステル基（炭素数８ま
でのアルキルなど）が好適である。

後述の式（４）〜（ｂ）におけるＲ７基は水素原子また
はカルボキシ保護基である。このカルボキシ保護基はペ
ニシリン、セファロスポリン化学の分野で公知の、例え
ば、分子中の他の部分に不都合な変化を起こさずに着脱
可能な炭素数１９までの反応用カルボキシ保護基および
医薬用カルボキシ保護基、すなわち医薬用塩形成基およ
び薬理学的活性エステル形成基も含む。

これらＲ３およびＲ７基の代表例には、例えば炭素数１
〜８のアルキル（メチル、メトキシメチル、エチル、エ
トキシメチル、ヨードエチル、プロピノ呟　イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、エトキシエチル、メチルチオ
エチノ呟　メタンスルホニルエチル、トリクロロエチ４
．第３級ブチルなと）、炭素数３〜８のアルケニル（プ
ロベニノ呟アリル、プレニル、ヘキセニル、フェニルプ
ロペニル、ジメチルへキシニルなど）、炭素数７〜１９
のアラルキル（ベンジＬ、　メチルヘンシル、ジメチル
ベンジル、メトキシベンジル、エトキシベンジＬ、ニト
ロベンジル、アミノベンジル、ジフェニルメチル、フェ
ニルエチル、トリチル、シ第３級ブチルヒドロキンヘン
シル、フタリシル、フェナ／ルなど）、炭素数６〜１２
のアリール（フェニル、トルイル、ノイソブロビルフェ
ニル、キシリル、トリクロロフェニル、ペンタクロロフ
ェニル、インダニルなど）、ＪＰ！１〜１２のアミン（
アセトンオキンム、アセトフェノンオキシム、アセトア
ルドキンム、Ｎ−ヒドロキンこはく酸イミド、Ｎ−ヒド
ロキンフタルイミドなどとのＮ−エステルを構成する基
）、炭素数３〜１２の次化水素化シリル（トリメチルシ
リル、ンメチルメ（・キシシリル、第３級ブチルジメチ
ルシリルなど）、炭素数３〜１２の炭化水素化スタニル
（トリメチルスタニルなど）などがある。このカルボキ
ン保護基は最終目的物までに脱離させるので、保護の目
的を達する限り、その構造は必ずしも重要ではなく、広
範囲な均等基（アミド、炭酸またはカルボン酸との酸無
水物など）も利用できる。

塩形成用カルボキシ保護基Ｒ７としてはベニジノン、セ
ファロスポリンの分野で公知の生理学的に受容しろるイ
オンとなりうる周期律表第１〜■属、第２〜４周期に属
する軽金属が好ましい。代表例にはリチウム、ナトリウ
ム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウ
ムなどがある。アンモニウム塩は合成用、保存用などに
好適である。代表例には炭素数１〜１２のアルキルアミ
ン（トリメチルアミン、トリエチルアミン、メチルモル
ホリンなど）や炭素数４〜９の芳香族塩基（ピリジン、
コリジン、ピコリン、キノリン、ジメチルアニリンなど
）などとの塩を構成するアンモニウム基がある。

薬理学的活性エステル形成基Ｒ７は経口または非経口投
与で抗菌作用を示すものである。代表例には、置換基を
有していてもよく、炭素数２〜１５の１−酸素置換アル
キル（例えば、直鎖、分枝、環状または部分環状のアル
カメイルオキシアルキル（アセトキシメチル、アセトキ
シエチル、プロピオニルオキシメチル、ピバロイルオキ
シメチル、ピバロイルオキシメチル呟　シクロヘキサン
アセトキシエチル、シクロヘキサン力ルポニルオキンシ
クロヘキシルメチルなど）、炭素数３〜１５のアルコキ
シカルポニルオキンアルキル（エトキシカルボニルオキ
シエチル、インブロポキシカルボニルオキンエチル、イ
ンブロボキシカルポニルオキシブロピル、第３級ブトキ
ン力ルボニルオキンエチル、イソペンチルオキンカルボ
ニルオキシブロビル、シクロへキシルオキン力ルポニル
オキジエチル、シクロヘキシルメトキシカルボニルオキ
シエチル イソブロビルなど）、炭素数２〜８のアルコキシアルキ
ル（メトキシメチル、メトキシエチルなど）、炭素数４
〜８の２−オキサンクロアルキル（テトラヒドロピラニ
ル、テトラヒドロフラニルなど）など）、炭素数８〜１
２の置換アラルキル（フェナシル、フタリジルなど）、
炭素数６〜１２のアリール（フェニル、キシリル、イン
ダニルなど）、炭素数２〜１２のアルケニル（アリル、
オキソンオキソレニルメチルなど）などがある。

Ｒ４およびＲ５基は脱離基である。代表例にはヒドロキ
シ、アシルオキシ［カルボン酸アシルオキシ（炭素数１
〜８のアルカノイルオキシ、炭素数１〜８の置換アルカ
ノイルオキシ、炭素数７〜１５のアロイルオキシなど）
、スルホン酸アシルオキシ（炭ｉｔ１〜８のアルキルス
ルホニルオキシ、炭素数１〜８の置換アルキルスルホニ
ルオキシ、炭素数６〜１０のアリールスルホニルオキジ
など）などコ、スルフィニル（炭素数１〜８のアルキル
スルフィニル、炭素数６〜１０のアリールスルフィニル
など）、ハロゲン（フッ素、　塩ｓ、臭素）などがある
。

なお、前記Ｒ・１〜Ｒ７各基の説明に記載した炭素数は
保護基ないし修飾基の炭素を含めた数値である。各基に
不都合な変化をする反応性基を持つ場合は事前に保護し
、後段階で脱保護するのが好ましい。

前記各基のアルキル部分は買換基を有していてもよい直
鎖、分校または環状のアルキルである。

代表的なアルキル基にはメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、シクロプロピル、ブチル、イソブチル、第
３級ブチル、シクロブチル、シクロプロピルメチル、ペ
ンチル、インペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル
、シクロプロピルエチル、ヘキシル、シクロヘキシル、
シクロペンチルメチル、ヘプチル、シクロへブチル、シ
クロペンチルエチル、シクロヘキシルメチル、オクチル
、シクロオクチル、シクロヘキシルメチル、ノニル、ド
デシルなどがある。

アラルキル部分はアルキル部分とアリール部分の結合し
たものである。代表的なアラルキル基には置換基を有し
ていてもよいベンジル、フェニルエチル、フェニルプロ
ピル、フェニルイソプロピル、ナフチルメチル、フリル
メチル、チエニルプロピル、オキサシリルメチル、チア
ゾリルメチル、イミダゾリルメチル、トリアゾリルメチ
ル、ピリジルメチル、インドリルメチル、ベンゾイミダ
ゾリルエチル、ベンゾチアゾリルメチル、キノノルメチ
ルなどがある。

アシル部分は置換基を有していてもよい直鎖、分枝また
は環状のアルカノイル、アルキルスルホニル、カルバモ
イル、カルボアルコキシなどおよび置換基を有していて
もよく、単環または双環で炭素環または異項環のアロイ
ル、アラルカッイル、アリールアルケノイル、アリール
スルホニル、カルボアラルコキシ アリール部分は置換基を有していてもよい各５〜６員環
の単環または双環で炭素環または異項環のアリール基で
ある。この異項環基は異原子として酸素、窒素、硫黄を
有しうる。代表的なアリール基にはフェニル、ナフチＬ
，　インデニノ呟　フリル、チエニル、ピロリル、オキ
サシリル、チアゾノル、イミダゾリル、オキサジアゾリ
ル、チアジアゾリル、トリアゾリル、デアトリアゾリル
、テトラゾリル、ピリジル、ピラニル、インドリル、ベ
ンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾイミダゾノル、ベ
ンゾチアゾリル、ベンゾピラジニル、キノリル、ピリド
ピリジル環基などがある。

ハロゲンにはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素の他にシュー
ドハロゲン（ンアルカンスルホニルオキシ、アリールス
ルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ
、トリフルオロアセトキシ、シアノ、チオシアナト、イ
ソチオシアナトなど）などの均等基も含む。

前記のような各基に結合できる置換基の代表例には炭素
官能基（直鎖、分枝または環状のアルキル、アルケニル
、アルキニル、アラルキル、アリール、異項環基、カル
ボン酸アシル、カルバモイル、カルボキシ、保護カルボ
キシ、シアンなど）；窒素官能基（アミノ、アシルアミ
ノ、グアニジル、ウレイド、アルキルアミノ、ジアルキ
ルアミノ、イソチオシアノ、イソシアノ、ニトロ、ニト
ロソなど）；酸素官能基（ヒドロキシ、アルコキシ、ア
リールオキシ、異項環オキシ、シアナト、オキソ、カル
ボン酸アシルオキシ、スルホン酸アシルオキシ、燐酸ア
シルオキシなど）；硫黄官能基（メルカプト、アルキル
チオ、アルキルスルホニル、アリールチオ、アリールス
ルホニル、異項環チオ、異項環スルホニル、アシルチオ
、チオキソ、スルホ、スルファモイルなど）；ハロゲン
（フッ素、塩素、臭素、ヨードなど）；シリル基（トリ
アルキルシリル、ジアルキルアルコキシジノルなト）；
スタニル基（トリアルキルスタニルなど）などがある。

［反応操作条件］ 前記の通り、この発明では下記反応式に従って４−脱離
基置換−２−アゼチジノン化合物（１）にトランス−２
−脱離基置換メチル−３−アルキルアクリル酸化合物（
ＩＩｆ）と還元性金属とを作用させて４β−（１β−ア
ルキル−２−カルボキシ−２−プロペニル）−２−アゼ
チジノン化合物（Ｉ［＞を製造する。

（式中、 Ｒ１は水素、アルキルまたは置換アルキノ呟Ｒ２は置換
基を有していてもよいアルキル、Ｒ３は水素またはカル
ボキシ保護基、 Ｒ４およびＲ５は脱離基、 をそれぞれ示ずｐ この反応は溶媒中で実施する。反応溶媒としては、詣肪
族炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エ
ーテル、エステル、ニトリル、アミド、スルホキシド、
芳香族塩基、アルコールなど原料を溶解でき、反応を阻
害しない有機溶媒またはその混合物を利用できる。特に
アミド系、エーテル系などの溶媒が好適である。

反応温度は一１０〜５０℃、とくに室温付近が好適であ
る。この場合、反応は通常０．５〜１０時間で経了する
。この反応には攪拌、脱水（分子篩など）、不活性気体
などを適用することもできる。生成物の粗収率は８５〜
９９％に達し、またその立体特異性は極めて高い。

［副原料］ ここに用いるトランス−２−脱離基置換メチル−３−ア
ルキルアクリル酸化合物（ＩＩＩ）は、例えばアクリル
酸エステル（Ｖｌ）とアルカナール第３級塩基（トリア
ルキルアミン、４−メチルモルホリン、キヌクリジン、
ジメチルアニリンなど）の存在下に縮合させて２−（１
−ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル（■）とし
、これに室温付近で濃硫酸などによる脱水条件下にハロ
ゲン化水素などによるハロゲン置換反応を施せば好収率
で製造できる。

ここに用いる還元性金属としては酸化還元電位が水素電
極に対して−０．１〜−０．８の金属（亜鉛、クロム、
ガリウム、鉄、カドミウム、インジウム、タリウム、コ
バルト、ニッケル、モリブデン、錫など）または塩を例
示できる。金属は常法により重金属塩（塩化第一銅、臭
化第一銅などの第一銅塩、塩化水銀、酢酸水銀などの水
銀塩など）、酸（塩酸、硫酸、臭化水素などのに酸、強
カルボン酸など）などで活性化できる。

［生成物の用途］ この発明により製造される化合物（Ｉ［）は１β−アル
キルカルバペネム化合物製造用の出発原料として有用で
ある。

例えば、下記反応ＡーＨｆ！：組合わせ、次頁以下に２
較する反応式の合成経路などによって１β−アルキル− 合物（ａ）を高収率で製造できる。この化合物（ａ）に
、例えば、異項環チオールによる求核置換と脱保護を施
せば強力な抗菌作用を示す最終目的化合物（ｂ）である
６α−（１−ヒドロキンエチル）−ｌβ−メチル−２−
興項環チオメチルカルハー２＝ベネム−３−カルボン酸
などを製造できる。要すれば、更に付加的処理を施して
更に強力な抗菌作用を示す化合物（ｂ）に誘導すること
もできる。

式中、Ｒ６はヒドロキシ基の保護基、Ｒ７はカルボキシ
基の保護基、Ａｒはアリール基、Ｈｅｔは複素環式基を
示す。

［後続工程説明コ 各工程の反応Ａ−Ｈは単位操作としては公知反応である
。従って、溶媒、試薬、温度、時間などの反応条件は文
献公知の単位操作法から適当なものを選択できる。

化合物（１）〜（６）は文献未知の新物質である。従っ
て各工程は新規類似反応である。

Ａ：カルボキシ還元　　　　　Ｅ：環化Ｂ：ヒドロキシ
保護・脱保護　Ｆ：求核置換Ｃ：２重結合開裂　　　　
Ｇ：力ルボキシ脱保護り：グリオキシル酸付加　Ｈ：付
加的処理反応Ａ−Ｈの反応条件を以下に例示する。

Ａ：カルボキシ還元 不活性溶媒（トルエンなど）中、−１０〜３０°Ｃで攪
拌しながら原料カルボン酸エステルに水素化アルミニウ
ム還元剤（水素化ジイソブチルアルミニウムなど）１〜
５当量を１〜５時間作用させれば第１級アルコールを得
る。

Ｂ：ヒドロキシ基保護と脱保護 ａ）酢酸エステル 不活性溶媒（ジクロロメタンなど）中、−１０〜３０℃
で攪拌しながら第３級塩基（トリエチルアミンなど）の
存在下、原料アルコールにハロゲン化アセチルまたは無
水酢酸を１〜２０時間作用させれば酢酸エステルを得る
。酢酸エステル型保護基は、例えばメタノール中ナトリ
ウム・メトキシドで脱保護できる。

ｂ）トリチルエーテル 不活性溶媒（ジクロロメタンなど）中、−１０〜５０°
Ｃで攪拌しながら第３級塩基（トリエチルアミンなど）
の存在下、原料アルコールにハロゲン化トリフェニルメ
チルを１〜２０時間作用きせればトリチルエーテルを得
る。トリチルエーテル型保護基は、例えばアセトニトリ
ノ呟酢酸または酢酸エチル中塩酸で脱保護できる。

Ｃ）第３級ブチルジメチルシリルエーテル不活性溶媒（
ジメチルホルムアミドなど）中、−１０〜５０℃で攪拌
しながら、原料アルコールに塩基（イミダゾールなど）
とハロゲン化第３級ブチルジメチルシリルを１〜２０時
間作用許せれば第３級ブチルジメデルシリルエーテルを
得る。

第３級ブチルジメチルシリルエーテル型保護基は例えば
アセトニトリル中塩酸で脱保護できる。

Ｃ：２重結合開裂 不活性溶媒（ジクロロメタン、メタノールなど）中、−
８０〜−５０°Ｃで攪拌しながら、要すれば酸（トリフ
ルオロ酢酸など）の存在下、原料アルケンにオゾンを１
〜２０時間作用させる０反応液に還元剤（ジメチルスル
フィド、亜鉛など）を加えた後、後処理すればケトンを
得る。

Ｄ：グリオキシル酸付加 ａ）グリオキシル酸付加 不活性溶媒（テトラヒドロフランなど）中、０〜５０°
Ｃで攪拌しながら要すれば塩基（トリエチルアミンなど
）の存在下、原料アゼチジノンにグツオキシル酸エステ
ル１〜２当量を１〜３０時間作用させればグリオキシル
酸付カロ物を得る。

ｂ）ハロゲン化 不活性溶媒（テトラヒドロフランなど）中、２０〜５０
″Ｃで攪拌しながら塩基（２，６−ルチジンなど）の存
在下、原料アルコールにハロゲン化剤（塩化チオニルな
ど）１〜２当量を１〜５時間作用させれば塩化物を得る
。

Ｃ）イリド化 不活性溶媒（テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）中
、０〜５０°Ｃで攪拌しながら塩基（２゜６−ルチン゛
ンなど）と反応促進剤（臭化ナトリウムなと）の存在下
、原料塩化物にトリアリールホスフィン１〜２当量を１
〜３０時間作用きせればイリドを得る。

Ｅ：ウィツテイヒ環化 原料イリドを不活性溶媒（ベンゼンなど）中、５０〜１
２０℃に１〜５時間加熱すれば１β−アルキルカルバペ
ネム化合物を得る。

Ｆ：求核置換 ａ）クロロまたはメンルオキンイ本 不活性溶媒（″、；クロロメタン、アセトニトリルなど
）中、−７０〜３０’Ｃで攪拌しながら塩基（ジメチル
アミノピリジン、トリエチルアミンなど）の存在下、原
料アルコールに求核試薬（塩化ジフェニルホスフェート
、四塩化炭素＋トリフェニルホスフィン、塩化メタンス
ルホニルなト）１〜２当量を１〜５時間作用させた後、
同温で塩化トリメチルシリル１〜５当量を加え、１〜８
時間反応させればクロロ体またはメソルオキシ体を得る
。

ｂ）（２または４）−ビリジルチオイネ不活性溶媒（ジ
クロロメタン、アセトニトリル、ツメチルホルムアミド
など）中、−１０〜−５０’Ｃで攪拌しながら塩基（ト
リエチルアミンなど）、反応促進剤（ヨウ化ナトリウム
など）の存在下、原料クロロ体またはメ〉ルオキン体に
（２または４−メルカプト）ピリジン１〜２当量を１〜
５時間作用許せれば（２または４−ビリノルチオ）体を
得る。

ｃ）（２または３）−ピリジルチオ体 不活性溶媒（ジクロ［７メタンなと）中、１０〜−７０
℃で攪拌しなからホスフィン（トリーｎ　−ブチルホス
フィンなと）の存在下、原料アルコールにジ（２または
３−ピリジル）ジスルフィド１〜２当量を１〜５時間作
用させれば（２または３−ビリジルチオ）体を得る。

Ｇ：カルボキシ脱保護 メトキシペンンルエステル型保護基は不活性溶媒（ジク
ロロメタンなど）中、１０〜−７０℃で攪拌しながらカ
ルボニウムイオン捕獲剤（アニソール、チオフェノール
など）存在下にルイス酸（塩化アルミニウムなど）０．
１〜２重量を１〜５時間作用許せれば脱保護され、アリ
ルエステル型保護基は水冷不活性溶媒中パラジウムテト
ラキストリフェニルホスフィン触媒量とエチルヘキサン
酸ナトリウム約１当量を加えて１〜５時間攪拌すれば脱
保護されてカルボン酸となり、中和すれば塩を得る。

［反応温度・時間］ 前記各合成法は通常−３０〜１００°Ｃ１殊に、−２０
〜５０℃の温度で１０分間〜１０時間かけて反応きせる
ことが多い。これらは溶媒中、要すれば無水条件下に実
施する。その他の常法はいずれも適用できる。

［反応溶媒］ この発明の反応と生成物の利用に用いる反応Ａ〜Ｈの反
応溶媒としては、炭化水素（ペンタン、ヘキサン、オク
タン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、ハロゲン
化炭化水素（ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロヘンゼ
ンなど）、エーテル（ジエチルエーテル、メチルイソブ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）
、ケトン（アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノンなど）、エステル（酢酸エチル、酢酸イソブチル
、安息香酸メチルなど）、ニドａ炭化水素にトロメタン
、ニトロベンゼンなど）、ニトリル（アセトニトリル、
ベンゾニトリルなど）、アミド（ホルムアミド、アセト
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルアセトアミド
、ヘキサメチルホスホロトリアミドなど）、スルホキシ
ド（ジメチルスルホキシド ボン酸（ギ酸、酢酸、プロピオン酸など）、有機塩基（
ジエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリ
ン、コリジン、キノリンなど）、アルコール（メタノー
ル、エタノール、プロパツール、ヘキサノール、オクタ
ツール、ベンジルアルコールなど）、水、その他の系列
に属する工業用溶媒またはその混合物を例示できる。

［後処理］ 目的とする反応生成物は反応液から夾雑物（未反応原料
、副生成物、溶媒など）を常法（抽出、蒸発、洗浄、濃
縮、沈殿、口過、乾燥など）により除去したのち、常用
の後処理（吸着、溶離、蒸留、沈殿、析出、クロマトグ
ラフィーなど）を組合せて処理すれば単離することかで
きる。

（以下余白） ［　本発明の反応　］ 実施例Ｉ−１ Ｒ’−１（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
　Ｒ　２　翼メデル　Ｒ　３−メチル、Ｒ４＃アセトキ
シ、Ｒ５，−ブロム。

亜鉛末６．０ｇをテトラヒドロフラン８０ｍ１中室温で
臭化第二銅１５０ｍｇと一時間攪拌する。次いでアセテ
ート（ＩＩＩ）１４．３５ｇのテトラヒビ０フ２２２０ 保ちつつメチル誘導体メチルエステルのブロム体（Ｉ［
［）１　２．０　ｇのテトラヒドロフラン４０ｍ１溶液
を２　５時間を要して滴下する。次いで同温度で１時間
攪拌する。反応液を酢酸エチルで稀釈し、飽和食塩水を
加え３０分間攪拌したのち、不溶物を濾去（セライト）
する。有機層は食塩水で洗い、ｌ’１ｇＳＯ　ａで乾燥
、溶媒留去すれば約２０ｇの結晶残渣を得る。これをｎ
−ヘキサンで洗えば目的とするメチル誘導体のメチルエ
ステル（Ｉ［＞１０５ｇを得る。洗液はシリカゲル１１
０ｇ上クロマトグラフ（トルエン：酢酸エチル９：１）
すれば、更に化合物（Ｉ［）５．８８ｇを分離できる。

合計１６．３８ｇ，ｍｐ．１００−１０１．５℃（エー
テル−ｎ−ヘキサンから再結晶）。

ＩＲ　Ｌ／　：　（Ｎｕｊｏｌ）　３１５５，　３０８
８．　１７５２．　１７１７．　１６２２１２５１、　
１１４０．　１０５０．　８２６　ａｍ−’ＮＭＲ（Ｖ
ＸＲ２００，　ｃｏｃｌｌ）Ｓ：　　０．０６（６Ｈ，
　ｓ）、　０．８７（９８。

ｓ）、　１．１４（３Ｈ．　ｄ．　Ｊ＝６．２Ｈｚ＞、
　１．１５（３１（、　ｄ，　Ｊ＝７．１Ｈｚ）、　２
．８４（ＬＨ．　ｍ）、　３．０４（ＬＨ，　ｑｕｉｎ
ｔｅｔ，　Ｊ＝７．７Ｈｚ）、　３．７４（１８，　ｄ
ｄ，　Ｊ＝６Ｈｚ．　２．２Ｈｚ）、　３．７６（ＩＨ
。

ｓ）、　４．１６（ＩＨ．　ｄｑ，　Ｊ：６．２）（ｚ
，　Ｊ：４．４Ｈｚ＞、　５．６５（ＩＨ。

ｓ）、　５．９１（ＬＨ，　ｂｒｓ）、　６．３２（Ｉ
Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝０．８Ｈｚ）。

実施例Ｉ−２ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ　２　＝メチル、Ｒ３−エチル、Ｒ４−アセトキ
ン、Ｒ’−ブロム。

前記メチル誘導体メチルニスデルの場合と同し条件下に
アセテート（ＩＩＩ）にメチル誘導体エチルエステルの
ブロム体（Ｉ［［）を反応許せれば目的とするメチル誘
導体のエチルエステル（Ｉ［）を得る。

収率：８７２％。

ｍｐ　９１．＋　−９２，５℃（ヘキサンから再結）。

ＩＲ：　ｖ　（ＣＨＣ１＋　＞　３３８０．１７５０．
１７００．１６１１　ｃｍＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤ
Ｃｌ、）δ：　　０．８３（９Ｈ，ｓ）、　１．０９（
３Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ＞、　１．１０＜３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６
．３Ｈｚ）、　１．２５（３Ｈ，ｔ。

Ｊ＝６．６Ｈｚ）、　２．８２（ＩＨ，ｍ）、　２．９
３−３．１３（ＩＨ，ｍ）。

３．７０＜１）！、　ｄｄ’、　Ｊ：６．０Ｈｚ、　Ｊ
：２．０Ｈｚ＞、　４．１７（２Ｈ，ｑ。

Ｊ＝６　６Ｈｚ＞、　　　４．０−４．２８（１，Ｈ，
ｍ）、　　　５．５８（１）１．　　　ｓ）、　　　６
．１５（ＩＨ，ｂｒｓ）、　　　６．２７＜１）１．　
　　ｓ）。

実施例ｌ−３ Ｒ’−１−（ｍ３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ２−エチル　Ｒ３−メチル　Ｒ４−アセトキシ、
Ｒ５−ブロム。

前記メチル誘導体のメチルエステルまたはエチルエステ
ルの場合と同し条件下にアセテート（１）１４．３５　
ｇに亜鉛と臭化第二銅の存在下、エチル誘導体メチルエ
ステルのブロム体（ＩＩＩ）を反応させれば目的とする
エチル誘導体のメチルエステル（Ｕ　）１４．０　ｇを
得る。収率：約８０％。

ｍｐ１０５．５−６℃。

ＩＲ：Ｌ／（Ｎｕｊｏｌ）　３１５０．　３１００．　
１，７６０．　１７２７．　１６２６゜１２５６　ｃｒ
ｎ−’ ＮＭＲ（ＶＸＲ２００，ＣＤＣ１，）、５’　：　　０
．０４２（約６８．　ｓ）、　０．８６（９Ｈ，ｓ＞、
　　　０．８７（３Ｈ，ｔ、　　　Ｊ＝４．５１（ｚ）
、　　　１．０９（３Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝６．３Ｈｚ）、
　　　１．４５−１．６９（２Ｈ，ｍ）、　　　２．７
１（ＬＨ，ｍ）、　　　２．７９（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝
２．９Ｈｚ、　Ｊ４．ＩＨｚ＞、　３．７５−３．７８
（ＬＨ。

ｍ）、　３．７５（３Ｈ，ｓ）、　４．１４（１）１．
　ｄｑ　Ｊ＝６．３Ｈｚ、　２．９Ｈｚ）、　５．６２
（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝０．７Ｈｚ＞、　５．８９（１）１
．　ｂｒｓ）。

６．３８（ｄ、　Ｊ＝０．９Ｈｚ）。

実施例Ｉ−，４ 前記実施例と同様の反応条件下、下記付加化合物（Ｔ１
）を製造できる。

ＣＨ。

ＣＨ。

ＦＣＨ。

ＣＨ，Ｃ００Ｃ）ｌ。

ＣＨｓＣＯＯＣＨ。

（ＣＨＩ）ＩＣ５ｉ（ＣＨｓ）＋ＯＣＨ＋Ｃ，）Ｉ。

Ｃｒ　Ｈａ Ｃ１Ｌ Ｃ＋Ｈ＋ Ｃ２）１１ ＦＣＨ（ＣＨ，） ＦＣＨ（ＣＩ（、） ＦＣＨ（ＣＨＩ） ＦＣＨ（ＣＨ，） ＣＩＣＩ（（ＣＨｓ） ＣＩＣＨ（ＣＨＩ） ＣＨ。

Ｃｒ　Ｈｉ ＣＨ。

ＨＩＣＩ ＣＨ、ＣＮ Ｃ）ＩＩＦ ＣＨ。

ＣＨ。

ＣＨ。

ＣＨ。

ＣＨ，Ｆ Ｃ１（３ ＣＨ）ｌ？ ＨＩＣＩ ＣＨ，Ｆ ２Ｈａ ＣＨ，Ｆ ＣＭ。

ＣＨ。

ＣＨ。

Ｃ，Ｈ。

ＣｔＨ９ ＣＨ３ ＣＨ。

Ｃ，Ｈ。

ＣＪ。

Ｃ，Ｈ。

ＣＨ。

Ｃ、Ｈｉ ＣＨ。

ｒＨｓ ＣＨＩ Ｃ，Ｈ。

ＣＨ。

ＣＩＣＨ（ＣＨｓ） ＣＨ，Ｃ００ＣＲ（ＣＨＩ　） ＣＨｓＣＯＯＣＲ（ＣＨｓ　） Ｃ）ｔｓｃＯＯｃ）Ｉ（Ｃ）ＩＩ） ｐ−０！ＮＣ５Ｈ，ＣＨｌ０ＣＯＯＣ）ｌ（ＣＨ３）ｐ
−０，ＮＣ，）（、ＣＨｌｏＣＯＯＣＨ（Ｃ）１３　）
（ＣＨｓ）＋５１０ＣＨ（ＣＨＩ） （ＣＪｓ　）ｓｓｉＯｃＨ（ＣＨｓ　）（ＣＩＨａ　）
＋５ｉＯＣＨ（ＣＨＩ　）（ＣＩＨａ　）ｓｓｉＯｃＨ
（ＣＨＩ　）（ＣＩＨａ　）ｓｓｉＯｃＨ（ＣＨＩ　）
＜ＣＨｓ　）ｓｃｓｉ（ＣＨｓ　）＋０ＣＨ（ＣＨｓ　
）（ＣＨｓ　）ｓｃｓＬ（ＣＨｓ　）＋０ＣＨ（ＣＨＩ
　＞（ＣＨｘ）ＩＣ３ｉ（ＣＨｓ）、０Ｃ１（（ＣＨａ
）（ＣＨＩ　）ｓｃｓｉ（ＣＨｍ　）＋０Ｃ１（（ＣＨ
ｓ　）（Ｃ）ｌ＋）ｓｃｓｉ（ＣＨｓ）ｔＯｃｌ（（Ｃ
）ｔｓ＞（ＣＩ、）ＩＣ５ｉ（ＣＨ，）、０ＣＨ（ＣＩ
、＞（ＣＨｘ）ＩＣ３ｉ（ＣＨｓ）ｔＯｃＨ（ＣＨｓ）
ＣＨ，ＣＮ ＣＨＩ ＣＨ，Ｆ Ｃ１（、ＣＮ ＣＨ，ＣＩ ＣＨ，ＣＮ ＣＨ。

ＣＨ。

ＣＪｓ ＣＨ，Ｆ Ｃ）１．ｔＣＩ ＣＨ。

Ｃｓ　Ｈｉ Ｃｌ。

ＣＨ。

ＣＨａ ＣＨ）１６ Ｃ）１．Ｆ ＣＨａ ｕｔ ＣＨ。

ＣＩ（。

ＣＪｓ ＣＨ。

ＣＩＨｓ ＣＨｌ ＣＩＨｓ ＣＨ。

ＣＪｓ ＣＨ。

Ｃ，Ｈ。

５Ｈｔ ｔｓｏｃｘＨｖ ｃｙｃｃｓＬ＋ Ｃ＝Ｈａ Ｃ１（。

Ｒ２ （ＣＨｓ）＋Ｃ３ｉ（ＣＨＩ＞ｔＯｃ）Ｉ（ＣＨＩ）（
ＣＨｘ）ｓｃｓｉ（ＣＨｓ）＊０ＣＨ（ＣＨｓ）（ＣＨ
ａ）＋Ｃ３ｉ（ＣＨｘ）ｔＯｃＨ（ＣＨｓ）（ＣＨｓ）
ｓｃｓｉ（ＣＨｓ）＊０ＣＨ（ＣＨＩ＞（ＣＨｓ）ｓｃ
ｓｉ（ＣＨｓ）＋０Ｃ）ｌ（Ｃ）Ｉ＋）（ＣＨ＝　）−
Ｃ５ｉ（ＣＨ−）、０ＣＲ（ＣＨｓ　＞（ＣＨｓ　）ｓ
ｃｓｔ（ＣＨｓ　）＊０ＣＨ（ＣＨｓ　）Ｃ１，（Ｃ）
Ｉ□Ｏ＞、Ｃ（ＣＨ，） （Ｃ１，）、５ｉＯＣ）ｌ（ＣＨＩ　）（ｃｕｓ　）Ｓ
ＳｉＯＣ）ｔ（Ｃ）ｌ！　＞（ＣＨｓ）ｓｓｉＯｃＨ（
Ｃ）Ｉｓ） （ＣＨ３）ｓｓｉＯｃＨ（ＣＨ＝） （ＣＨｓン５ｓｉＯｃＨ（ＣＨｓ） （ＣＪａ　）ｓｓｉＯｃＨ（ＣＨｘ　）（Ｃ，Ｈｇ）ｓ
ｓｉＯｃＨ（ＣＨｊ） （ＣｓＨｓ）＋５ｉＯＣＲ（ＣＨｓ） （ＣｓＨｓ　）ｓｓｉＯｃ）Ｉ（Ｃ）Ｉｓ　）（ＣｓＨ
ｓ　）ｓｓｉＯｃＨ（ＣＨｓンＣＨ，ＣＩ ＣＨ。

Ｃ，ＨＩ ＣＨ２Ｆ ＣＨ，Ｆ ＣＨ，Ｆ Ｃ１（、Ｃ１ ｃＨ、ＣＮ ＣＨ。

Ｃ，ト ＣＨ，Ｆ ＣＨ，ＣＩ ＣＨ，ＣＮ Ｃ８゜ Ｃ，ＨＩ ＣＨ，Ｆ Ｃ）１．ＣＮ ＣＨ，ＣＨ＝ＣＨ。

ＣｓＨｓ Ｃ３Ｈ７ ＣｓＨｓ ＣＨ。

ｃｙｃｃ　ｇ　Ｈ＊ ｃｙｃｃｇＨ＋＋ ＣｓＨｓ ＣＨ。

ＣＨ。

Ｃ，Ｈ。

ＣＨ。

ＣｓＨｓ Ｃｚ　Ｈｓ ｒａｂ Ｃｌ。

ＣｓＨｓ ＣｓＨｓ ＣｊＨ。

（ＣｉＨａ　）ｓｓｉＯｃｌ（（ＣＨｓ　）（ＣｓＨｓ
　）ｓｓＬＯｃＨ（ＣＨＩ　＞（ＣＨＩ６）ＳＳｉＯＣ
Ｈ（ＣＨＩ） （ＣＪｇ　）＋５ｉ０ＣＨ（ＣＨＩ　）Ｃｉ）Ｉｙ ｓＨｙ ５Ｈｙ Ｃ＝Ｈｙ ５Ｈｖ Ｃ）ＩｓＣＩ（（ＣＨｓ） ＣＨ，ＣＨ（ＣＨＩ＞ ＣＨ３Ｃｌ（ＣＬ） ＣＩ　Ｉ　ＣＨ（ＣＨ！　０ＯＣＯＣＨ、）ＣＨ，ＣＨ
（ＣＨｌ０ＯＣＯＣＨ１） Ｃｌ　ｓ　Ｃ１（（Ｃｌ　ｔ　０ＯＣＯＣＨｓ　）ＣＨ
ＩＣ（ＣＨｔＯＣ（Ｃ−Ｈｓ　＞ｓ　）Ｃ）ｌｔＣ（Ｃ
ＨｔＯＣ（ＣｓＨ−）−）ＣＨｊＣ（Ｃ）ＩｘＯＣ（Ｃ
ｓＨｓ　）ｓ　）ＣＨａＣＯＮＨ＋ ＣＨ，ＣＨ，ＳＣＨ。

ＣＨ、ＣＨ１０Ｈ ＣＨｚＣＨｔＯＣＯＣＨ＋ ＣＩ（。

ＣｓＨ６ ＣＨ，Ｆ ＣＨ，ＣＩ ＣＨ□ＣＮ Ｃ）ｌＩＣＨ＝ＣＨ。

ＣＨ＊Ｃ０Ｎ１（ｔ Ｃ）ＩＩｃＨＩｓｃＨＩ ＣＨＩＣ）１．０Ｈ ＣＨＩＣＨ＊０ＣＯＣＨＩ ＣＨｌ ＣＪａ ＣＨ，Ｆ ｌＩＣ１ Ｃ，Ｈ。

ＣＨ。

Ｃ，Ｈａ Ｃ＋Ｕａ Ｃ８゜ Ｃ，Ｈ。

Ｃｓ　Ｈｓ Ｃ，Ｈ。

ＣｊＨ。

Ｃ，Ｈ？ Ｃ，Ｈ。

ＣＭ。

Ｃ，Ｈ。

ＣｓＨｓ Ｃ，Ｈ６ ＣＨ。

ｔＨｉ ＣｓＨｓ ［ 副原料アク ノル酸化合物（Ｉｌｒ）製造　コ 製造例Ｉ Ｒ””　メｆＡ’、Ｒ３−メチル、Ｒ５−ブロム。

Ｓ、Ｅ・トリユース、Ｄ、エムスリーら：ジャーナル・
才ブ・ケミカル・ソサイエティー・パーキン・トランス
アクンヨン■、第２０７９頁と第２０７９頁（１９８２
年）記載の方法を準用し、メチルエステル（ＶＩ）８．
６ｇの濃ＨＢｒ１６．５ｍｌ溶液に、氷冷しっつアセト
アルデヒド（■）４，５ｇと濃硫酸１５ｍ１を滴下し、
次いで室温で一夜攪拌する。反応液はエーテルで３回抽
出し、抽出液を飽和食塩水で洗い、Ｍｇ５Ｏ＊で乾燥し
、溶媒留去し、残渣を減圧蒸留すればメチルエステル（
ＩＩ＞８．５９ｇを得る。８３〜ｂ ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣ１，）＆　：　１．９４
（３）１．　ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ＞。

３．８５（３Ｈ，ｓ）、　４．２７（２Ｈ，ｓ）、　７
．ＬＯ（ＩＨ，ｑ、　７＝６．５Ｈｚ）。

製造例２ Ｒ２，−メチル、Ｒ３−エチル、Ｒ５＝ブロム。

前記文献の方法を準用し、エチルエステル（ＶＩ）を前
記と同様にアルデヒド（■）で処理すればエチルエステ
ル（Ｉ［［）を得る。収率：５９％。ｂｐ　　６３−６
５℃／　１　ｍｍＨｇ。

ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣＩＩ）δ：　０．３３（
３Ｈ，ｔ、、　Ｊ＝６．６Ｈｚ＞。

０．９０（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５）１ｚ）、　４．２
５（２Ｈ，ｓ）、　４．２６（２Ｈ。

ｑ、　Ｊ＝６．６Ｈｚ＞、　７．０７（ＬＨ，ｑ、　Ｊ
＝６．５１（ｚ）。

製造例３ Ｒ２−エチル、Ｒ３＝メチル、Ｒ５＝ブロム。

前記文献の方法を準用し、メチルエステル（ＶＩ）を前
記と同様にアルデヒド（■）で処理すればメチルエステ
ル（Ｉ［［＞を５９％で得る。収率：約５０％。ｂｐ　
　ｇｏ℃／　７　ｍｍ１ｇ。

（以下余白） ［実験例　：　無カルボキシ体比較実験　］ｐ２ 参考例Ｉ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチル〉リルオキシ〉エテ
ノ呟　Ｒ２−メチル、Ｒ’−トリチル、Ｒ４−アセトキ
シ、Ｒ５−ブロム。

亜鉛末、ｏ、ｓ　ｏ　ｇをテトラヒドロフラン、２０ｍ
１に加え、室温でかきまぜながら臭化第二銅０１０ｇを
加え、同温で３０分かきまぜて亜鉛を活性化する。アセ
テート（ＩＩＩ）１．４４ｇのテトラヒドロフラン１０
ｍ１溶液を加え、次いで内温を約３５℃に保ちつつアリ
ルプロミドトリチルニーデル（ＶＩ）２．２０　ｇのテ
トラヒドロフラン１０ｍ１溶液を３０分間をかけて滴下
し、次いで同温で２５時間攪拌する。反応液は酢酸エチ
ルで希釈し、飽和食塩水を加え、攪拌したのも不溶物を
濾去する。濾液を食塩水で洗浄、乾燥（ＮａｚｓＯｔ　
）後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（ローパーカラムＢ×２、トルエン：酢酸エチル＝
４：１）で精製すれば、始めに流出する部分からトリチ
ルエーテル付加物（■）の１（Ｒ）−メチル異性体０．
４５　ｇ　（収率：１６％）を得る。

ｍｐ、８９−９１℃（アセトン−ｎ−ヘキサン再結）。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ν：　３４５２．３１７２．１７６
２．１７３３．１７２５ｍ 口αコ”、−３６，０±０．８（ｃ、　　１０１２．　
　ＣＨＣｌ５）。

ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣｌ３＞δ：０．０７（約
６８．　ｓ）、　０．８５（約９Ｈ，ｓ＞、　１１４（
３）１．　ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．１５（３）１．
　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　２．８３（１８，ｍ）、　２．
８６（１）！、　ｄｄ、　Ｊ＝４．８Ｈｚ、　１．７Ｈ
ｚ）、　３．４２（ＩＨ，ｂｒｓ）、　３．７７（ＬＨ
，ｄｄ、　Ｊ＝５．２Ｈｚ、　Ｊ＝１．７Ｈｚ＞、４．
１０（１８，ｑｄ、　Ｊ＝６．０．　Ｊ＝４．８Ｈｚ）
、　６．７２（１）１．　　ｂｒｓ）。

後に流出する部分から同付加物（■）の１（Ｓ）−メチ
ル異性体０．５０　＆　（収率：１８％）を得る。

ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣ１，）δ：　　０．８５
（９Ｈ，ｓ）、　１．１１（３８゜ｄ、　Ｊ＝５．４Ｈ
ｚ＞、　１．１７（３Ｈ，ｄ、　Ｊ：６．５Ｈｚ）、　
１．８８〜２．２３（ＩＨ，ｍ）、２．５５（ＬＨ，ｄ
、Ｊ：６Ｈｚ＞、３．４２（ＩＨ，ｄ、　　ｊ＝６．３
Ｈｚ）、３．５３（２Ｈ，ｂｒｓ）、３．９３−４．２
３（ＩＨ，ｍ＞。

４．９３（ＩＨ，ｓ）、　５．３２（ＩＨ，ｓ＞、　６
．１６（ＩＨ，ｓ）、　７．０ｆｒ７、４７（１５Ｌ　
ｍ）　（１β−メチルペネム体に対応）。

アリルプロミドトリチルエーテル（ＶＩ）は１−ブロモ
メチルクロトン酸メチルエステルを水１（１’イソブチ
ルアルミニウムで還元後、トリチル化して製造した。

参考例２ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ２＝メチル、Ｒ３−アセチル、Ｒ４−アセトキシ
、Ｒ５−ブロム。

亜鉛末ｏ、ｓ　ｏ　ｇと臭化鋼０．１０ｇをテトラヒド
ロフラン６ｍｌ中、室温で３０分間かきまぜる。

これにアセテート（ＩＩＩ）１．４４ｇのテトラヒドロ
フラン２ｍｌ溶液を加え、内温を３５〜３８°Ｃに保ち
つつアリルプロミドアセテート（ＶＩ）１．１０　ｇの
テトラヒドロフラン５ｍｌ溶液を滴下し、同温で２時間
攪拌する。反応液を前記同様に処理し、残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（ローバーカラムＢＸ２、トルエ
ン：酢酸エチル−４：１）で精製すればアセテート付加
物立体異性体（Ｒ，Ｓ−■）の混合物０．２３　ｇを得
る。合計収率：１３％。ＮＭＲスペクトルで定量すると
Ｒ１に関する両異性体の比はβ：α血５：２となる。

ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣｌ５）＆　：　　０．９
０（９Ｈ，ｓ）、　１．０９”１．２９（６）１．　ｍ
）、　２．２５−２．５５（ＩＨ，ｍ＞、　２．７１（
約２８／７゜ｄｄ、　Ｊ＝４．５）１ｚ、　Ｊ＝２Ｈｚ
＞、　２．８２（約５８／７．　ｄｄ、　Ｊ＝４．５Ｈ
ｚ、　Ｊ＝３Ｈｚ＞、　３．５４（約２Ｈ／７．　ｄｄ
、　Ｊ＝９．５Ｈｚ、　Ｊ＝２Ｈｚ＞、　３．７１（約
５１／７．　ｄｄ、、　Ｊ＝６．６Ｈｚ、　Ｊ：３Ｈｚ
＞、　４．０３〜４．３０（ＩＨ，ｍ）、　４．５６（
２Ｈ，ｓ）、　５．０４（ＩＨ，ｓ）、　５．１７（Ｌ
Ｈ，ｓ）、　６．２５（約２８／７．　ｂｒｓ）、　６
．４１（約５Ｈ／７゜ｂｒｓ　）。

アリルプロミドアセテート（ＶＩ）は１−ブロモメチル
クロトン酸メチルエステルを水素化ジイソブチルアルミ
ニウムで還元後、アセチル化して製造した。

［他種縮合反応との比較　コ 参考例３ Ｒ１−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ３−トリチル。

ナトリウムへキサジメチルシラザン５５０ｍｇ（３当量
）のテトラヒドロフラン５ｍｌ溶液に一７８°Ｃで攪拌
下、トリチルオキシメチルエチルケトン１．１当量のテ
トラヒドロフラン２５ｍｌ溶液を１５分間に滴下して加
え１０分攪拌する。次いでアセテート（Ｉ　）２８７ｍ
ｇ（１ミリモル）のテトラヒドロフラン２　、５　ｍｌ
溶液を滴下して加える。同温に５分放置後、反応液に飽
和塩化アンモニウム水を加え、酢酸エチルで抽出する。

抽出液を水洗、乾燥後減圧濃縮する。残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー（ローバーＢ、トルエン−酢酸エチ
ル２：１）で精製すれば低極性流出物より付加物（■）
のα−メチル体７９ｍｇ（収率：１４．９％）を得る。

ｍｐ１３０−１３１°Ｃ（ｎ−ヘキサン再結晶）。

元素分析：　（ＣｓｔＨ４＋Ｎ０ａＳｉ）計算値：Ｃ，
７３，２１；　Ｈ，７，７７；　Ｎ、２．５１実測値：
　Ｃ，７３，１９：　Ｒ１７，７５；　Ｎ、２．５３［
α］”　　−６，９±０．５　（ｃ、１．０１４　ｉｎ
　ＣＨＣｌ５）。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ν：　３０８０．３０６０．１７６
２．１７２７　ａｍ−’ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣ
Ｉｇ）＆　：　０．８７（９）１．　ｓ）、　１．１１
（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝６．９Ｈｚ）、　１．２０（３Ｈ，ｄ、　Ｊ
＝６．０Ｈｚ）、　２．５６〜２．９０（２Ｈ，ｍ）、
　３．６５（１）１．　ｄｄ、　Ｊ＝９．８．　Ｊ＝１
．８）１ｚ）、　３．９０（２Ｈ，ｓ）、　４．１１（
ＬＨ，ｑｕｉｒｔｔａｔ　Ｊ＝６）１ｚ＞、　５．７３
＜１８゜ｂｒ）、　７．０７〜７．５０（１５Ｈ，ｍ）
。

また、高極性流出物より付加物（■）のβ−メチル体１
３２ｍｇ（収率：２４．８％）を得る。

ｍｐ１３３−ｉ３４℃（ｎ−ヘキサン・アセトン再結晶
）。

［αコ”ｓｓｓ　　−１８，５±０．５　　（ｃ、１．
０００　　ｉｎ　　ＣＨＣＩｍ＞。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）Ｌ／　：　３２４０．　３０８０．
　１７６５．　１７２７．　１７１６Ｃｆｆｌ−’ ［反応Ａ：還元　］ 実施例Ａ−１ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ２＝メチル、Ｒ３−メチル。

メチルエステル＜１［＞１５．５　ｇをトルエン１５０
ｍ１に溶かし、内温を一２０°Ｃに保ちつつ水素化ジイ
ソブチルアルミニウムのトルエン溶液（ＩＮ）１４０ｍ
ｌを３０分間に滴下し、次いで水冷下３０分かきませる
。反応液を攪拌しつつ氷水に加え、３０分攪拌したのち
、不溶物を濾去する。トルエン居は水洗、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ，）、減圧濃縮すればアルコール（１）の粗結晶１６
０ｇを得る。ｍｐ、　８２−８３℃（エーテル−ｎ−ヘ
キサンから再結晶）。

ＩＲｌ／　（Ｎｕｊｏｌ）　：　　３３６４．３１６０
．３０８４．１７５６．１７２１゜１７１２、１６４９
．１６４５．１１３４．１０４３゜１０３０、　８３２
　ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＶＸＲ２００，ＣＤＣｌ５）＆　：　０．０７
（６Ｈ，ｓ）、０．８８（９Ｈ１ｓ）、　　１．１４（
３Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝７．０Ｈｚ）　　１．２０（３Ｈ，
ｄ、　　Ｊ＝６．２Ｈｚ＞、　１．８０（約ＩＨ，ｂｒ
ｓ）、　２．４５（ＬＨ，ｑｕｉｎｔｅｔ、　Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、　　２．８９（ＩＨ，ｍ）、　　３．６９＜ＬＨ
，ｄｄ　Ｊ＝６．０Ｈｚ、　　Ｊ＝１．９Ｈｚ＞、　　
４．１３（２Ｈ，ｓ）、　　４．１０−４．１９（ＬＨ
，ｍ）、　　４．９８（ＩＨ。

ｓ）、　　５．１７（ＬＨ，ｄ、　Ｊ：１．０）１ｚ）
、　　６．１０（ＩＨ，ｂｒｓ）。

［αコＰ　　−３３，２（ｃ、　　ｔ、ｏｔ４　ｉｎ　
　ＣＨＣｌ５）。

元素分析：　（Ｃ＋＋Ｈｓ＋ＮＯ＋５１）計算値：　　
Ｃ，６１，３０；　Ｈ，９，９７；　Ｎ、４．４７実測
値：　　Ｃ，６１，２３；　Ｈ，１０，０４；　Ｎ、４
．４６実施例Ａ−２ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ２冨メチル、Ｒ３−エチル。

前記メチル誘導体のメチルエステルと同様にしてメチル
誘導体のエチルエステル（［）を水素化ジイソブチルア
ルミニウムで還元すれば前記と同一のアルコール化合物
（１）を得る。

１Ｒν（Ｎｕｊｏｌ）：　　３３６４．３１６０，３０
８４．１７５６，１７２Ｌｂｒｓ）、７．１５〜７．４
８（１５Ｈ，ｍ）。

１７１２、　１６４９．１６４５．　１１３４．　１０
４３゜１０３０、　８３２　ａｍ ［反応Ｂ：アルコール保護・脱保護　コ実施例Ａ−３ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ２−エチル、Ｒ３−メチル、Ｒ６−トリチル。

前例メチル誘導体と同様の条件下、エチル誘導体のメチ
ルエステル（ＩＩ＞３．５４ｇ（１０ミリモル）を水素
化ンイソブチルアルミニウムで還元すればアルコール化
合物（１）を得る。これを塩化トリチル−トリエチルア
ミンで処理すればトリチルエーテル（２）結晶５００ｇ
を得る。収率：８７％６ＮＭＲ（ＶＸＲ２００，ＣＤＣ
ｌ、＞Ｓ：　０．０２（約６８．　ｓ）、　０．８３（
９Ｈ，ｓ）、　０．８６（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝４．５）、
　１．０１（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ）、　１．１
９−１．４８＜２Ｈ，ｍ）、　２．６４（ＩＨ，ｔ、　
Ｊ＝２．７Ｈｚ）、　３．４４　＆　３．５６（２）！
、　ＡＢｑ、　Ｊ４３Ｈｚ、　Ｊ＝４Ｈｚ＞。

３．５１ｒ３．５４（１１（、ｍ＞、　４．０９＜ＬＨ
，ｄｑ、　Ｊ＝６．４）＋ｚ、　Ｊ＝３．５Ｈｚ＞、　
　　５．０３（ＩＨ，ｂｒｓ）、　　　５．５４（ＬＨ
，ｂｒｓ）、　　　５．７５＜ＩＨ。

実施例Ｂ−１（トリチル化） Ｒ’＝１（第３級ブチルジメチルシリルオキン）エチル
、Ｒ２−メチノ呟　Ｒ６−トリチル。

アルコール（１）　１６　、０　ｇと塩化トリチル１５
．０ｇを塩化メチレン１２０ｍ１に溶かし、水冷下にト
エチルアミン２０ｍ１をカロえ、次いで室温に一夜放置
する。反応液を水洗、乾燥（Ｍｇ５Ｏ６）し、減圧濃縮
し、残留物をｎ−ヘキサンから結晶化すればトリチルエ
ーテル２０．７　ｇを得る。収率：８２％。ｍｐ、１４
７−１４８℃。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ））／　：　３２００．１７５４．１
７１３．１６５４．１６００゜１４９０　ａｍ−！ ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣｌ！＞δ：０．０３（
約６Ｈ，ｓ）、　０．８３（９Ｈ，ｓ）、１．０３（３
Ｈ，ｄ、、Ｃ７，ＯＨｚ＞、１．０８（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝
６．４Ｈｚ）、　　２．３０（１８，ｑｕｉｎｔｃｔ　
Ｊ＝６．６Ｈｚ＞、　　２．６９（ＩＨ。

ｄｄ、　　Ｊ＝４．３Ｈｚ、　　Ｊ：２．２Ｈｚ）、　
　３．５８（ＬＨ，ｄｄ　に６．２．　　Ｊ＝２．２Ｈ
ｚ）、　　３．５１　＆　３．６０（２Ｈ，ＡＢｑ　Ｊ
＝２０Ｈｚ＞、　　４．０９（ＩＨ，ｄｑ、　　Ｊ＝６
．４Ｈｚ、　　Ｊ＝４．３Ｈｚ）、　　５．０１（１８
，ｓ）５．４０（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ：１．４Ｈｚ＞、　
　５．６５（ＬＨ，ｓ）、　　７．２６〜７４７（１５
Ｈ，ｍ）。

［（Ｘ　１６ｓ−１１，５（ｃ　１．００８　ｉｎ　Ｃ
）ＩｃＩｓ）元素分析：　（Ｃｓ　ｓＨ＊　＋Ｎ０ｓＳ
１）計算値：　　Ｃ，７５，６３；　）１，８．１６；
　Ｎ、２．５２実測値：　　Ｃ，７５，７１；　Ｈ，８
，１５：　Ｎ、２．５４ル（２）の結晶５．００　ｇを
得る。収率：８７％。

ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣｌ５）Ｓ　　：　　０
．０２（約６Ｈ，ｓ）、　　　０．８３（９Ｈ，ｓ）、
　０．８６（３Ｈ，ｔ＋　Ｊ＝４．５＞、　１．０１（
３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ）、　　Ｌ、１９−１．４
８＜２Ｈ，ｍ）、　　２．６４（１）ｔ、　　ｔ、　　
Ｊ：２．７Ｈｚ）、　３．４４　＆　３．５６（２８，
ＡＢｑ、　Ｊ−１３Ｈｚ、　Ｊ＝４Ｈｚ＞。

３．５１〜３．５４（Ｈ（、ｍ）、　４．０９（ＬＨ，
ｄｑ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ、　Ｊ＝３．５Ｈｚ＞、５．０
３（ＬＨ，ｂｒｓ）、　５．５４（ＬＨ，ｂｒｓ）、　
５．７５（ＬＨ，ｂｒｓ）、７．１５−７．４８（１５
Ｈ，ｍ）。

実施例Ｂ−２（トリチル化） Ｒ’＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ〉エチ
ル、Ｒ２＝エチル、Ｒ６−トリチル。

エチルｌｉ　体のメチルエステル（ＩＩＩ）３．５４ｇ
から製造したアルコール（１）を塩化トリチルとトリエ
チルアミンでエーテル化すればトリチルエーテ実施例Ｂ
−３（アセチル化） Ｒ’−”１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル　Ｒ２−メチル　Ｒｅ−水素→アセチル。

ケトール０）またはそのメチル基における立体異性体を
塩化アセチル−トリエチルアミンと−３０〜−４０°Ｃ
で処理すれば、好収量でαメチル体のアセテート（３）
　（ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）Ｌ／　：　３４２０．３３６０
．１７７６゜１７６０、１７４０．１５８０．１２５２
．　Ｒ２０ｃｍ−’）またはβメチル体のアセテート（
３）を得る。

（元素分析） 計算値（Ｃ，７）１．、Ｎ０６Ｓｉ）　：　Ｃ，５７，
１１；　Ｈ，８，７４；　Ｎ、３．９２実験値：　Ｃ，
５７，０１；　Ｈ，８，８４；　Ｎ、４．０２［αコ”
、−１５，９±０．６　　（ｃ、０．９９６　　ｉｎ　
　ＣＨＣｌ５）。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）し：　３４４０．　３２００．　１
７６６、　１７５２．　１７３７゜１７３０、１２３０
　ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣ１，）Ｓ：　０．８３（
９Ｈ，ｓ）、　１．１１（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．１２（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７
．２Ｈｚ）、　２．０８（３Ｈ。

ｓ）、　２．６０−２．９６（ＩＨ，ｍ＞、　２．８４
（ＬＨ，□ｄｄ、　Ｊ＝４．８Ｈｚ。

、Ｃ２，０Ｈｚ）、　３．７′８（１１（、ｄｄ、　Ｊ
＝５．５）１ｚ、　Ｊ＝２．０Ｈｚ）。

４．０７（ＩＨ，ｑｕｉｎｔｅｔ、　Ｊ＝６）１ｚ）、
　４．６２（２１，ｓ）、　６．４７（１１，ｂｒｓ）
。

シリルヒドロキシイリド（４）４．４１　ｇ　（５，７
４ミリモル）のジクロロメタン２２ｍ１溶液を窒素中−
６０℃で塩化メタンスルホニル０．４９ｍ１（１゜１当
量）とトリエチルアミン１．８４ｍ１（２，３当りを滴
下、１時間攪拌すればシリルメシルオキシイリド（４）
を得る。これをアセトニトリル２２ｍ１中、４−メルカ
プトピリジン８０３ｍｇ（１，２５当量）と反応跡せて
シリルピリジルチオイリドとした後、０℃で濃塩酸３．
２ｍ１（６，５当量）と酢酸６ｍｌを加えて脱シリル化
すればヒドロキシピリジルチオイリド（７）３．５２ｇ
を得る。収率：８２％。

ＩＲ（ＣＨＣＩｓ　）ν　、　　３６２０〜３３００．
　　１７４５．　　１７２０ｓｈ、　　　１６１９゜１
５８２　ａｍ”’ 実施例Ｂ−４（メシル化） Ｒ’−１−（トリエチルシリルオキシ）エチル→１−ヒ
ドロキシエチル、Ｒ２−エチル、Ｒ３ｗｌＩｐ−メトキ
シベンジル、Ｒ”−Ｈ→メシル→Ｈｅｔ−５ｓ　Ａ　ｒ
諺フェニル、Ｈｅｔ＝　４−ピリジル。

実施例Ｂ−５（シリル化） Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル　Ｒ２−メチル、Ｒ６−水素→第３級ブチルジメチル
シリル。

ケトール（３）１８０ｍｇ（０，５７ミリモル）のジメ
チルホルムアミド０　、３　ｍｌ溶液に塩化第３級ブチ
ルジメチルシリル１３０ｍｇ（１，５当量）とイミダゾ
ール１００ｍｇ（２，５当量）を加えて室温に一晩放置
後、反応液を酢酸エチル−氷水中に注ぐ。有機層を分取
し、水洗、乾燥（Ｍｇ５Ｏ，）後減圧濃縮する。得られ
た結晶性残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ローバ
ー°Ｂ１　トルエン−酢酸エチル４：１）で精製すれば
第３級ブチルジメチルシリルエーテル（３）の結晶２２
５ｍｇを得る。収率：　９１．８％。

ＩＲ：　しくＣＣ１，）し：　３４２０．　３２００．
　１７７７、　１７１８．　１５８０ａｍ−’ ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣＩＩ）δ：　０．８６（
９Ｈ，ｓ）、　０．９３（９Ｈ。

ｓ）、　１．１４（３Ｈ，ｄ、　Ｊ−７，３Ｈｚ＞、　
１．１８（３Ｈ，ｄ、　Ｊ−６Ｈｚ）、　２．８９（１
Ｂ、　ｄｄ、　Ｊ：４．８Ｈｚ、　Ｊ＝２．３）１ｚ）
、　３．２０（ＬＨ，ｑｄ、　Ｊ＝７．３Ｈｚ、　Ｊ＝
４．５Ｈｚ）、　３．８２（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ４４．５
Ｈｚ、　Ｊ＝２．３Ｈｚ＞、　４．１６（ＩＨ，ｑｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ、　Ｊ＝２．３Ｈｚ）、　５．９３（ＬＨ，
ｂｒｓ）。

（以下余白） 実施例Ｂ−６（アセチル化、シリル化）Ｒ’−１−ヒド
ロキシエチル→１−（トリエチルシリルオキシ）エチル
　Ｒ２＝メチル　Ｒ３−ｐ−メトキシベンジル、Ｒ６＝
水素→アセチル−水素、Ａｒ掌フェニル。

（１）アセチル化ニジヒドロキシイリド（→６．９７ｇ
（１０，９ミリモル）のジクロロメタン溶液に一４０℃
冷却下トリエチルアミン２．３ｍ１（１，５当量）と塩
化アセチル１．２ｍ１（１，５当量）を滴下し、３時間
攪拌すればイリドモノアセテート（荀の溶液を得る。

■シリル化：この溶液に塩化トリエチルシリル４．６ｍ
１（２，５当量）とトリエチルアミン３．８ｍ１（２，
５当量）を加え、０℃で３時間攪拌する。

反応液を氷水中に注ぐ。有機層を分取し、常法通り処理
すればモノトリエチルシリルイリドモノアセテート（４
）を得る。

（３）脱アセチル化：このモノトリエチルシリルイノド
モノアセテート（４）のメタノール３０ｍ１溶液に一５
０℃で５．２Ｎナトリウムメチレートのメタノール溶液
１．２ｍ１（０，５７当量）を滴下、３時間攪拌後、Ｉ
Ｎ塩酸７　、３　ｍｌで中和する。反応液を酢酸エチル
−水中に注ぎ抽出する。抽出液を水洗、乾燥し減圧濃縮
すればシリルケトールイリド（４）を得る。このシリル
ケトールイリド（４）をトルエン３００ｍ１中、１１０
℃に１５分加温すればシリルヒドロキシカルバペネム（
ａ）３．７ｇを得る。

ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣＬｓ　）δ：　０．５
３−０．６５（６）１．、　ｍ＞。

０．９０−０．９９（９Ｈ１ｍ）、　１．１８（３Ｈ，
ｄ、　Ｊ＝７．４Ｈｚ）、　１．２７（３Ｈ，ｄ、　Ｊ
＝６Ｈｚ）、　３．１０−３．２８（ＩＨ，ｍ＞、　３
．２２（ＩＨ。

ｄｄ、　Ｊ＝６．４）１ｚ、　Ｊ＝３．０Ｈｚ）、　３
．８０（３Ｈ，ｓ）、４．１５（ＬＨ。

ｄｄ、　Ｊ＝１０Ｈｚ、　、Ｊ＝３Ｈｚ）、　４．３６
．４．４８（２Ｈ，ＡＢｑｄ、　ＪＡＷ”１２Ｈｚ、　
ＪｃＨｘ、ｏｇ”６）（ｚ）、　５．２３（２Ｈ，ｓ）
、　６．８９．７．３９（４Ｈ，ＡＪｔｑ−Ｊ＝８．８
）１ｚ）一実施例Ｂ−７（塩素置換） Ｒ１−１−ヒドロキシエチル、Ｒ２−メチル、Ｒ３ｌ１
ｌ１７　’Ｊ　）呟Ｒ８−水ｉ→塩ＪＦ、Ａｒ−フェニ
ル。

ジヒドロキシイリド（４）９．５２　ｇ　（ｔ　７ミリ
モル）のアセトニトリル８５ｍ１溶液に四塩化炭素３４
ｍ１を加え、水冷下撹拌しながらトリフェニルホスフィ
ン５．４ｇ（１，２当量）を少量づつ２時間かけて添加
すればクロロケトンの溶液を得る。これに４−メルカプ
トピリジン（４）２．４５　ｇ　（１，３当量）と炭酸
ナトリウム１．８　ｇ　（１当量）で求核置換反応すれ
ばピリジルチオヒドロキシイリド（カフ　８７ｇを得る
。収率ニア１％。

ＩＲ（ＣＨＣＩ、）ν　：　　３１００〜２９００．　
　１７３５．　　１７０７．　　１６１０１４３０　ａ
ｍ−’ 実施例Ｂ−８（シリル化） Ｒ１！１−ヒドロキシエチル→１−（第３級ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル、Ｒ２４エチル　Ｒ３−ｐ−
メトキシベンジル、１ｅｔ−４−ピリジル。

アルコール（７）１．００　ｇ　（１，３４ミリモル）
の〉クロロメタン１０ｍ１溶液を０℃で攪拌下、これに
塩化トリエチルシラン０．３２ｍ１（１，４当量）とト
リエチルアミン０．２８ｍ１（１，５ｍ１）のジクロロ
メタン５ｍｌ溶液を２０分間に滴下して加える。同温度
で２時間攪拌後、反応液を氷水中に注ぐ。有機層を分取
、水洗、乾燥後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー（ローバーＢ、トルエン−酢酸エチル１
：１）で精製スれはトリエチルシリルエーテル（７）９
８４ｍｇを得る。収率：８５．３％。

ＩＲ（Ｃ）ＩＣＩｓ）Ｌ／　：　１７４０．１７１５．
１６１０．１５７６　ｃｍ−’チル　Ｒ２，メチル　Ｒ
３＝　ｐ−メトキシペンジノ呟　Ｒ’−ト’Ｊチル→水
素、Ａｒ−フェニル。

トリエチルエーテル体（４）６２０ｍｇ（０，６２２ミ
リモル）のジクロロメタン６　、２　ｍｌ溶液を窒素気
流下−２５℃に冷却し、これに２．８Ｎ塩化水素−酢酸
エチル溶液０．２８ｍ１（１，２６当量）をカロえた後
、−晩装置する。反応液を炭酸水素ナトリウム中に注ぐ
。有＃ａ届を分取し、乾燥、減圧濃縮し、残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィー（ローバーＢ、酢酸エチル）で
精製すればケトール（４）３３１ｍｇを得る。収率ニア
１％。

ＩＲ（ＣＨＣ１＋）ν：　３２７０ｂｒ、　１７６４．
１７５０．１７２４ｓｈ。

１６１０、１５８４．１５１５　ｃｒｎ−’実施例Ｂ−
９（脱トリチル化） Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）工実
施例Ｂ−１０（脱トリチル化、脱シリル化）Ｒ’−１−
（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル→１−ヒ
ドロキシエテノ呟　Ｒ２−メチＬ、Ｒ３ｍｐ−メトキシ
ベンジ”　％　Ｒ’　”　ｈリチル→水素、　Ａｒ！フ
ェニル。

イリド体（４）２２．５　ｇ　（２２，５８ミリモル）
のアセトニトリル７０ｍ１懸濁液に水冷攪拌下漬塩酸９
．４ｍ１（５当量）を滴下して加える。同温度で１時間
後、反応液をトルエン−水中に注ぎ、水層を分取する。

これを冷戻酸水素ナトリウムボー酢酸エチル中に注ぎ、
有機層を分取する。これを水洗、乾燥（Ｍｇ５Ｏ□）し
減圧濃縮すればジオール体（４）１３．９８ｇを無色泡
状物として得る。収率：９６．９％。

ＩＲ（Ｃ）ＩＣＩｓ）１／　：　３５００〜３２５０．
１７６０．１７４０．１５８０Ｃｍ−’ 実施例Ｂ−１’ｌ（脱トリチル化） Ｒ’＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ノ呟　Ｒ２篇エチル　Ｒ３−ｐ−メトキシベンジＬ。

Ｒ’−ｈｌＪチル→水素、Ａｒ＝フェニル。

トリチルオキシイリド（４）１２．７　ｇ　（１２，５
７ミリモル）のジクロロメタン５５ｍ１ｉ液に一２０℃
で３Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液１０．５ｍ１（２，５
当量）を加える。混合物を氷水冷却下４時間攪拌する６
反応液を炭酸水素ナトリウム水に注ぐ。有機層を分取、
乾燥後、減圧濃縮する。残ン査をシリカゲルりロマトフ
ィ−（ローバーｃ、アセトニトリル）で精製すればヒド
ロキシイリド（４）５．８７ｇ（６０，９％）を得る。

ｍｐ９Ｂ−１０１℃（ベンゼン−ｎ−ヘキサン）。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）し：　３４４０．　１７４０．　１
７２８．　１５９５．　１５１１゜１２４０　　ｃｍ−
’ ［α］”Ｄ−４０，５±０．８（ｃ　１．０１２　ｉｎ
　ＣＨＣｌ５）。

元素分析：　（Ｃ４４ＨＡＩＮＯｔＰＳｉ）計算値：　
Ｃ，６５，７３ｉ　Ｈ，７，２７：　Ｎ、１．７４；Ｐ
、　３．８５＝Ｓｉ、　３．４９ 実測値：　ｃ、６ｓ、１ｏ：　Ｈ，６，７９；　Ｎ、１
．８０；Ｐ、４．１４；実施例Ｂ−１２（脱トリチル化
、脱シリル化）Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリ
ルオキシ）エチル→１−ヒドロキシエチル　Ｒ２，メチ
ノ呟Ｒ３＝アリＪ呟　Ｒ６−トリチル→水素、Ａｒ−フ
ェニル。

イリド（４）７．２２　ｇ　（７，８８ミリモル）のア
セトニトリル２４ｍ１懸濁液に水冷、攪拌下、濃塩酸２
ｍ１（３当量）を滴下して溶液とする。１時間後反応液
をトルエンで洗浄後、炭酸水素ナトリウム水で塩基性と
し、トルエンで抽出する。抽出液を常法処理すればジオ
ールイリド（４）４．３２ｇを得る。収率９８％６ ＩＲ（ＣＨＣｌ、）Ｌ／　：　３６００〜３２００．２
９８０．１７４０．１７０５゜１６２０、１４４０．１
１０８．９０８　ｃｍ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）ｌ／　：
　０．９６（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．０Ｈｚ＞、１．４６
（３Ｈ１ｄ、　　Ｊ＝６．８Ｈｚ）、　　５．８２−６
．０５（ＬＨ，ｍ＞、　　７．１〜７．９（ｍ）。

実施例Ｂ−１３（脱アセチル化） Ｒ’−１−（トリエチルシリルオキシ）エチル　Ｒ２＃
メチル、Ｒ３ｌ１ｌＩｐ−メトキシベンジル、Ｒ６＝ア
セチル→水素、Ａｒ−フェニル。

モノトリエチルシリルイリドモノアセテート（句のメタ
ノール３０ｍ１溶液に一５０℃で５．２Ｎナトリウムメ
チレートのメタノール溶液１　、２　ｍｌ（０，５７当
量）を滴下、３時間攪拌後、ＩＮ塩酸７　、３　ｍｌで
中和する。反応液を酢酸エチル−水中に注ぎ抽出する。

抽出液を水洗、乾燥し減圧濃縮すればシリルケトールイ
リド（４）を得る。このシノルケトールイリド（荀をト
ルエン３００ｍ１中、１１０℃に１５分加温すればシリ
ルヒドロキシカルバペネム（ａ）３．７ｇを得る。

ＮＭＲ（ＶＸＲ２００，ＣＤＣｌ５）Ｓ：　０．５３−
０．６５（６Ｈ１ｍ）。

０．９（１〜０．９９（９Ｈ，ｍ）、　１．１８（３Ｈ
，ｄ、　Ｊニア、４Ｈｚ＞、　１．２７（３Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１０−３．２８（ＬＨ，ｍ）、　
３．２２（ＬＨ。

ｄｄ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ、　Ｊ＝３．０Ｈｚ）、　３．
８０（３Ｈ，ｓ）、　４．１５（ＬＨ。

ｄｄ、　Ｊ＝１０７（ｚ、　Ｊ＝３Ｈｚ）、　４．３６
．４．４８（２Ｈ，ＡＢｑｄ、　ＪＡＭ＝１２Ｈｚ、　
Ｊｃｏｔｏｏ”６Ｈｚ）、　５．２３（２Ｈ，ｓ）、６
’、８９．７．３９（４Ｈ，ＡＩＬｑ、　Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ）。

実施例Ｂ−１４（脱トリチル化、脱シリル化）Ｒ’−１
−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル→１−
ヒドロキシエチル　Ｒ２−メチル　Ｒ３−ｐ−メトキシ
ペンジノ呟Ｒ”−トリチル→水素シリル化トリチルエー
テル（６）１．０５　ｇ（１，０６ミリモル）のアセト
ニトリル５ｍｌ懸濁液に水冷下漬塩酸０．４４ｍ１（約
５当量）及び酢酸０　、２　ｍｌを加え１時間攪拌する
。反応液を冷戻酸水素ナトノウムー酢酸エチル中に注ぎ
、抽出する。抽出液を水洗、乾燥後減圧濃縮する。残渣
をシリカゲルりロマトグラフイー（ローバーカラムＢ１
酢酸エチル）で精製すればジオール（６）６７６ｍｇを
得る。

ｍｐ９０−９２℃（エーテル−石油エーテルから再結）
。収率：１００％。

ＩＲ＜Ｎｕｊｏｌ）Ｍ　：　３３５０（ｂｒ）、　１７
３６．１７２８（ｓｈ）、　１６１１ｂｒ、４５１２．
１２４０　ｃｍ−’ 元素分析二（ｃｓａｕａａＮｏｇｐ・Ｘｕｘｏ）計算値
、　Ｃ，７０，５７７）！、６．３９；　Ｎ、２．１７
；　Ｐ、４．７９実Ｊり値：　Ｃ，７０，４１；　）１
．６．４５；　Ｎ、２．４０；　Ｐ、５．０２実施例Ｂ
−１５（脱トリチル化） Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ２−メチル、Ｒ’−トリチル→水素。

シリル化トリチルエーテル（３）１１０ｍｇ（０，２０
７ミリモル）の塩化メチレン１．１ｍｌ溶液を０℃に冷
却下、これに２．８Ｎ塩化水素の酢酸エチル溶液０．１
１ｍ１（１，５当量）を加えて３０分攪拌する。反応液
を冷炭酸水素ナトリウム水に注ぐ。有機層を分取し、水
洗、乾燥後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー（ローフ＜　　Ａ％酢酸エチル）で精製すれ
ばシリルケトールＧ）を得る。収率ニア０％。　ｍｐ、
　８９−９１℃（アセトン−ｎ−ヘキサンから再結）。

実施例Ｂ−１６（脱トリチル、脱シリル）Ｒ’−１−（
第３級ブチルジメ升ルシリルオキジ）エチル→１−ヒド
ロキシエチル　Ｒ２−メチル、Ｒ６−トリチル→水素。

シリル化トリチルエーテル（３）１１０ｍｇ（０，２０
７ミリモル）の塩化メチレン１　、１　ｍｌ溶液をＯｏ
Ｃに冷却下、これに２．８Ｎ塩化水素の酢酸エチル溶液
０．１１ｍ１（１，５当量）を加えて一晩放置ｒる。反
応液を冷炭酸水素ナトリウム水に注ぐ。

有機層を分取、水洗、乾燥後、減圧濃縮する。残渣をシ
リカゲルりロマトグラフイー（ローバーＡ、酢酸エチル
）で精製すればジオール０）を得る。収率：６５％。

ＩＲ（ＣＨＣＩｓ）Ｌ／　：　３５００〜３２５０ｂｒ
、　１７６０，１７４０．１５８０゜１５８０　ｃｍ−
’ 実施例Ｂ−１７（脱アセチル化） Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル　Ｒ２−メチノ呟Ｒ６−アセチル→水素。

アセテート（３）１９０ｍｇ（０，５３ミリモル）のメ
タノ−Ｌ　１　、９　ｍｌ溶液に一２０℃で５．１８Ｎ
ナトリウムメチレ一ト２０μｍ（０，２当量）を加えて
一２０’Ｃで一晩放置する。次いで２゜８Ｎ塩化水素−
酢酸溶液４０μｍ（０，２当量）を加えて減圧濃縮し、
得られた残渣をシリカゲルクロマ）・グラフィー（ロー
バーＣ１酢酸エチル−アセトニドノル９：１）にて精製
すれはケトール（３）１６０■を得る。収率：９５．２
％。ｍｐ８９−９１℃（アセトン−ｎ・ヘキサンから再
結晶）。

同様な方法でα−メチル体のケトールを得る。

収率ニア０％。ｍｐ１０５−１０７．５℃（ｎ−ヘキサ
ンから再結晶）。

元素分析：　（Ｃ１Ｂ）１！ｌＮ０ＩＳｉ−八、Ｃ，）
Ｉ、、）計算値：Ｃ，５６，４６；　Ｈ，９，２９；　
Ｎ、４．３９実Ｗり値：　Ｃ，５６，４５：　Ｈ，９，
５４：　Ｎ、４．５０［ａ］２′（６，７±１．１（ｃ
、　０．５０９　ｉｎ　ＣＨＣｌ、）ＮＭＲ（ＥＭ−３
９０，ＣＤＣ１，＞Ｓ：　０．８７（９Ｈ，ｓ）、　１
．１７＜３Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ＞、　１．１９（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝２
Ｈｚ＞、　２．４４−２．８７＜２Ｈ。

ｍ）、　３．２１（ＩＨ，ｂｒｓ）、　３．７７（ＩＨ
，ｄｄ、　Ｊ＝９．６Ｈｚ、　Ｊ＝２．１Ｈｚ）、　４
．１６（ＬＨ，ｍ）、　４．３０（２１（、ｂｒｓ）、
　６．３２（ＩＨ。

ｂｒｓ）。

実施例Ｂ−１８（脱シリル化） Ｒ’−１−（トリエチルシリルオキシ）エチル→１−ヒ
ドロキシエチＪ呟　Ｒ２−エチル　Ｒ３−ｐ−メトキシ
ベン、ジル、Ｈｅｔ＝４−ピリジル。

トリエチルシリルエーテル（ｂ　）５８２ｍｇ（１ミノ
モル）のテトラヒドロフラン３ｍｌ溶液に窒Ｉ中０℃で
酢酸０．３４ｍ１（６当量）とＩＭ−７フ化テトラブチ
ルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液４．５ｍ１（
４，５当量）を加えて一晩放置する。

反応液を炭酸水素ナトリウム水−酢酸エチル中に注ぐ。

有機層を水洗、乾燥後、減圧濃縮する。残ン査をシリカ
ゲ・ルクロマトグラフィ−（ローバーＢ、アセトニトリ
ル−酢酸エチル１：１）で精製すればアルコール（ｂ）
４４６ｍｇを得る。収率：９５．３％。

ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣ１，）δ：　１．０４
（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．４Ｈｚ）、　１．３５（３Ｈ，
ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　１．３９−１．７７（２Ｈ
，ｍ＞。

２．０３（ＬＨ，ｂｒｍ）、　３．１０（ＬＨ，ｄｔ、
　Ｊ＝１０．４Ｈｚ、　Ｊ＝２．９Ｈｚ）、　３．２５
（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ、　Ｊ＝３．１Ｈｚ）
、　３．５１゜４．９２（２）１．　ＡＢｑ、　Ｊ＝１
４．８Ｈｚ）、　３．７９（３Ｈ，ｓ）、　４．１３（
ＬＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝１０．２Ｈｚ、　　Ｊ＝３．１Ｈ
ｚ＞、　　４．０７〜４．２６（１８゜ｍ＞、　　５．
２１．　５．２８（２Ｈ，ＡＢｑ、　　Ｊ＝１２Ｈｚ＞
、　　６．８７．　７．３９＜４８．　　Ａ２Ｂ！ｑ、
　　Ｊ＝８．８Ｈ２）、　　７．０５．　８．３０（４
Ｈ，Ａ＊Ｂｘｑ。

Ｊ＝６．２Ｈｚ）。

ＩＲ（ＣＨＣｌ、）ν：　３６８０．　３６０４．　１
７７２．　１７１２．　１６１２゜１５８６ｃｍ−’ ［反応Ｃ：　オゾン酸化　コ 実施例Ｃ−１ Ｒ’−１（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
、Ｒ２−メチル、Ｒ６−１トリチル。

エキソメチレン体（Ｚ１２０．７ｇをジクロロメタン１
２０ｍ１とメタノール３０ｍ１の混液に溶解し、ドライ
アイス−アセトン浴で冷却しつつ、オゾンガスを通じる
。反応液が青色を示せば、ガスの導入を止め、３０分放
置後、過剰のオゾンを窒素ガスで追出し、ジメチルスル
フィド１０ｍ１を加え、反応液を室温で１時間放置した
のち、溶媒留去する。残留物はシリカゲル１１０ｇ上ク
ロマトグラフし、トルエン：酢酸エチル９：１で展開す
る部分をｎ−ヘキサンで結晶化すればケトン体０）１４
．６ｇを得る。ｍｐ１３３−１３４℃（アセトン−ヘキ
サンから再結）。アセテート（ＩＩＩ）から通算収率：
５２％。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｌ／　：　３２４０．３０８０．１
７６５．１７２７．１７１６Ｑｍ−’ ［α　コ　Ａ’　　Ｏ（Ｃ，１，０００，ＣＨＣｌ、）
　。

［α　コ　ｉ：ｇ　　−１８，５（ｃ、　　１，０００
．　　ＣＨＣｌ３）　。

元素分析：　（ＣｍａＨａｓＮＯ４Ｓｉ）計算値：　Ｃ
，７３，２１；　Ｈ，７，７７；　Ｎ、２．５１実測値
、　Ｃ，７３，２０；　Ｈ，７，０８；　Ｎ、２．５Ｏ
ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣ１３）δ　：　　０．
０４　　＆　　０．０６（約６Ｈ，２Ｘｓ）、　０．８
６（９Ｈ，ｓ）、　１．０９（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．Ｌ
Ｈｚ＞、　１．１５（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．７）１ｚ）
、　２．８３（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝４．９Ｈｚ、　Ｊ＝
２．２Ｈｚ）、　３．１５（ＬＨ，ｄｑ、　Ｊ＝７．１
Ｈｚ、　Ｊ＝４．６Ｈｚ）、　３．７９（ＩＨ，ｄｄ、
　、Ｃ４，６Ｈｚ、　Ｊ＝２．２Ｈｚ）、　　３．８５
（２Ｈ，ｓ）。

４．０５〜４．１８（ＬＨ，ｍ）、　　５．８１（ＩＨ
，ｂｒｓ）、　　７．２５〜７．４５（約１５Ｈ，ｍ）
。

実施例Ｃ−２ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ２＝１メチル、Ｒｅ＝”　Ｈ＠前記トリチルエキ
ソメチレン体と同様にしてヒドロキシエキソメチレン体
■をジクロロメタン−メタノール混液中、反応液が青色
を示すまでオゾン酸化し、残留物をシリカゲルクロマト
グラフィーで精製ケトール体（３）を得る。ｍｐ、　８
９−９１℃（アセトン−ｎ−ヘキサンから再結）。

元素分析：　（Ｃ＋　ａＨｔ−ＮＯａＳｉ　）計算値：
Ｃ，５７，１１；　Ｈ，９，２７ｉ　Ｎ、４．４４実測
値：　Ｃ，５７，１３ｉ　Ｈ，８，９６；　Ｎ、４．５
５ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ν：　３４５２．３１７２．１７
６２．１７３３．１７２５ａｍ−’ ［α］　”　’　、−３６，０±０．８（ｃ、　１．０
１２．　ＣＨＣｌａ）。

ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣ１ｊ）δ：０．０７（約
６Ｈ，ｓ）、　０．８５（約９Ｈ，ｓ）、　　　１．１
４（３Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝６Ｈｚ）、　　　１．１５（３
Ｈ，Ｊ−７，２Ｈｚ）、　　２．８３（ＩＨ，ｍ）、　
　２．８６（ＩＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝４．８Ｈｚ、　　１
．７８Ｚ）、　　３．４２（ＬＨ，ｂｒｓ）、　　３．
７７（ＬＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝５．２Ｈｚ、　　Ｊ：１．
７Ｈｚ＞、　　４．１０（ＬＨ，ｑｄ、　　Ｊ＝６．０
．　　Ｊ＝４．８Ｈｚ）、　　６．７２（１）！、ｂｒ
ｓ）。

ｂｒｓ）、　　７．１！１１〜７．５３（１５）１．　
　ｍ）。

実施例Ｃ−３ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ２＝エチル、Ｒａ−１−リチル。

トリチルエキソメチレン体（２）５．００　ｇヲ−７０
℃でオゾン酸化後、ジメチルサルファイドで処理すれば
トリチルケトール体（３）４．ＯＯｇを得る。収率：約
８０％。ｍｐ１５３−１５５°Ｃ（ｎ−ヘキサンから再
結）。

ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）ｌ／　：　３４００．１７６０．１
７４０ｓｈ、　１６８０ｃｍ−’ＮＭＲ（ＥＭ−３９０
，ＣＤＣ１，）Ｓ：　０．８５（９Ｈ，ｓ）、　０．８
０−１．０１（３Ｈ，ｍ＞、　１．０４（３Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６．５Ｈｚ＞、　１．３３〜１．９０（２Ｈ。

ｍ）、　２．８１（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝４．５Ｈｚ、　
Ｊ＝１．８Ｈｚ＞、　２．９４〜３．１７（ＬＨ，ｍ）
、　３．７０（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝６．０Ｈｚ、　Ｊ＝
１．８Ｈｚ）。

３．７６（２Ｈ，ｓ）、　　４．０７（ＬＨ，ｑｕｉｎ
ｔｅｔ型＞、　　６．００（ＬＨ。

実施例Ｃ−４ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル　Ｒ２−メチル　Ｒ３ｘ　ｐ−メトキシベンジル、Ｒ
θ−トリチル、Ａｒ＝フェニル。

イリドエキソメチレン体（６）１１０＋ｎｇ（０，１１
ミリモル）の無水ジクロルメタン−メタノール（１０：
１）３．３ｍ１．溶液を窒素気流中、−７０°Ｃ冷却下
にトリフルオロ酢酸７０μｍ（８当量）を加え、次にオ
ゾンガスを１０分間通じ３０分間放置する。これにジメ
チルスルフィド０．１５ｍ１を加えて一７０°Ｃで１時
間攪拌後、希炭酸水素ナトリウム水中に注ぐ。有機層を
水洗、乾燥、減圧濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ
ーで精製すればイリドケトン（４）　１０８ｍｇを得る
。収率：９３％。トリチルオキシアセトンとアセテート
（１）の縮合物から合成した化合物と一致する。ｍｐ、
１７８〜１７９５℃（エーテル再結晶量）。

実施例Ｃ−５ Ｒ１−１−ヒドロキシエチル、Ｒ２＝メチノ呟　Ｒ３−
ｐ−メトキシヘンジ”　％　Ｒ’　−）１％　Ａ　ｒ　
＝フェニル。

イリドエキソメチレン体（６）１５０ｍｇ（０，２３ミ
リモル）の塩化メチレン−メタノール（１０：１）３ｍ
ｌ溶液を一７８℃冷却下、これにトリフルオロ酢酸９２
μｍ（５当量）を加え、次いでオシ／ガスを１５分通し
更に３０分放置する。これにジメチルスルフィド０　、
１　ｍｌを加え、３０分攪拌後、炭酸水素ナトリウム溶
液中に注ぎ有機層を分取し、乾燥する。減圧濃縮し、残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー　（シリカゲル１５
ｇ、トルエン−酢酸１：１）で精製すればイリドケトン
（４）の粉末７２ｍｇを得る。収率：４９％。トリチル
オキシアセトンとアセテート（ＩＩＩ）の縮合物から合
成した化合物と一致する。

ＩＲ（ＣＨＣＩ、）Ｌ／　：　３４６０ｂｒ、　　１７
４０．　１７１６（ｓｈ）、　　１６０２ｓｈｍ−Ｉ ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣｌ５）＆　：　０．９
６（３Ｈ，ｂｒｄ、　Ｊ＝６．２Ｈｚ）、　１．２２（
３Ｈ，ｂｒｄ、　Ｊ＝６．８Ｈｚ＞、　３．７４（３）
１．　ｓ）。

３゜８３（３Ｈ，ｓ）、　６．５７．６．５８（３）１
．２ｘｓ）、　６．９１（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝８．８）１ｚ）、　７．２６〜７．８０（１
７Ｈ，ｍ）。

（以下余白） ［反応Ｄ：グリオキシ酸付加→イリド化　コ実施例Ｄ−
１ Ｒ””１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル　Ｒ２＝メチノｂ　、　Ｒ３−ｐ−メトキシベンジＬ
。

Ｒ８−トリチルｓ　Ａ　ｒ−フェニル。

（１）アゼチジノンＧ）７．８　ｇ　（１３，９８ミリ
モル）のテトラヒドロフラン５０ｍ１溶液にグリオキシ
ル酸ｐ−メトキシベンジルエステル−水和物３．８５ｇ
（１，３当量）とトリエチルアミン１　ｍｌ（０５当量
）を加え、室温で４時間攪拌する。

反応液を２Ｎ−塩酸−酢酸エチル冷温液中に注ぎ抽出す
る。抽出液を酸性亜硫酸ナトリウム水、炭酸水素ナトリ
ウム水と水で洗浄し、乾燥後、減圧濃縮すれば付加物ア
ルコールの泡状残渣を得る。

（り付加物アルコールをテトラヒドロフラン５０ｍ１に
溶かし一７０℃で冷却し、２．６−ルチジン７ｍ１（４
当量）と塩化チオニル１．３ｍ１（１，２８当量）を滴
下し、４０分間攪拌する。反応液を洗浄、乾燥後、減圧
濃縮すれば粗塩化物を得る。

（３）この塩化物をジオキサン５０ｍ１にとかし、トノ
フェニルホスフィン１１．１　ｇ（３当Ｊｔ）と臭化ナ
トリウム１．５　ｇ　（１当量）を加えて１７時間攪拌
する。反応液を冷２Ｎ塩酸−酢酸エチル混液中に注ぎ抽
出する。抽出液を炭酸水素ナトリウム水と水で洗い、乾
燥後、１或圧濃縮する。結晶残渣をエーテルで結晶化す
ればイリド体（４）　１０　、４ｇを得る。収率ニア４
．８％。ｍｐ、１７Ｂ−１７９５℃（エーテルから再結
晶）。

［α　］］６’−３９．６　＊　　０．８（ｃ、　　　
１．０１４．　　ＣＨＣｌ５）。

ＩＲニジ（Ｎｕｊｏｌ）　３０６４．１７４２．１７４
０．１６２１．１５１２゜１２４５　ａｍ−’ 元素分析：（ＣｓＪｓ。Ｎｏｒｐｓｉ）計算値、Ｃ，７
４，７５；　Ｈ，６，６８；Ｎ、１．４１；　Ｐ、３．
１１実測値、　ｃ、７４．ｓｔ；　Ｈ，６，７０；Ｎ、
１．４４；　Ｐ、３．４０実施例Ｄ−２ Ｒ’ｆｉｉ（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
４．Ｒ２ｗｍエチル、Ｒ６ｌ−トリチル。Ａｒ−フェニ
ル、Ｒ３，、ｐ−メトキシベンジル。

（１）前記同様にアゼチジノン体（３）１４．７ｇ（２
２，６２ミリモル）のテトラヒドロフラン５０ｍ１溶液
をグリオキシル酸ｐ−メトキシベンジルエステル６．５
ｇ（１，３５当量）とトリエチルアミン１．８ｍ１（０
，５当量）で−晩処理すれば付加物アルコール１７２ｇ
を得る。

（りこの付加物アルコールをテトラヒドロフラン１００
ｍ１に溶解し、−５０℃にて２．６−ルチジン１２．９
ｇ（４，６当量）及び塩化チオニル２゜２ｍ１（約１．
３当量）と３０分反応すれば塩化物の溶液を得る。

０）この塩化物の溶液にトリフェニルホスフィン２９．
７４　ｇ　（５当量）、臭化ナトリウム２．５ｇ（１，
１当量）及びジオキサン１００ｍ１を加えて２０時間攪
拌する。生成物をアセトン−酢酸エチル−エーテル混液
から再結晶すればイリド（４）の結晶１２．８４　ｇを
得る。収率：　５６．２％。ｍｐ　１８４〜５℃。

ＩＲニジ（Ｎｕｊｏｌ）１７４５．　１７３０．　１６
２１．　１５１２．　１２５２ｃｍ−’ ［α］”、−３６，８±０．８（ｃ　１．００３　ｉｎ
　ＣＨＣ１＝）元素分析：　（Ｃｓ　ｓＨａ　ＪＯｙＰ
Ｓｉ　）計算値：　Ｃ，７４，９０；　Ｈ，６，７８；
　Ｎ、１．３９；　Ｐ、３．０７；　Ｓｉ。

２．７８ 実測値：　Ｃ，７４，８２；　Ｈ，６，９４；　Ｎ、１
．４２ｉ　ｐ、３．ａｔ；実施例Ｄ−３ Ｒ’＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ２＝メチル、Ｒ３−アリル、Ｒ６：トリチル、Ａ
ｒ−フェニル。

（１）アゼチジノン（３）１７．２２ｇ（８７ミリモル
）のテトラヒドロフラン６２ｍ１溶液にグリオキンル酸
アリルエステルー水和物４．９ｇ（１，２当量）とトリ
エチルアミン２．２ｍ１（０，５当量）を刃口え、室温
に２０時間放置する。反応液を酢酸エチルで薄め、水洗
する。酢酸エチル者を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウ
ムで乾燥、減圧濃縮ずれよ付加物アルコールの残渣１８
．６６　ｇを得る。

収率：９０％。

（りこの付加物アルコール（２７，７６ミリモル）をテ
トラヒドロフラン８３ｍ１に溶かし、この溶液に一４５
℃に冷却下２．６−ルチジン（１２７ｍｌ、４当量）と
塩化チオニル２．６ｍ１（１，３当量）を滴下する。同
温で３０分間攪拌後、反応液に水と酢酸エチルを加え、
攪拌後、分液する。酢酸エチル考を水洗後、常法に従っ
て処理すれば塩化物を得る。

（３）この塩化物をジオキサン５０ｍ１に溶かし、トノ
フェニルホスフィン１０．９　＆（１，５当４ｆ）、２
．６−ルチジン６．４ｍ１（２当量）と臭化ナトリウム
４ｇを加え、室温で一晩攪拌する。反応液を１α圧ａ縮
し、ジオキサンを陳去後残渣を酢酸エチルで抽出する。

抽出液をシリカゲルクロマトグラクイ−（トルエン：酢
酸エチル−２：１）で精製すれはイリド（４）　２１　
、８　ｇを得る。ｍ、ｐ、　１５８〜１５９°Ｃ（ベン
ゼン−ヘキサンより再結）。収率＝　８６％。

元素分析：　（Ｃｓ　ｔＨ＊　ｔＮＯｓＰｓｉ　）計算
値＋　Ｃ，７４，７３；　）１，６．８２；　Ｎ、１．
５３実測値：Ｃ９７５，１８ｉ　Ｈ，６，８７ｉ　Ｎ、
１．６２ＩＲ（ＣＨＣＩ３）ｌ／　　：　　３３００〜
２９２０，１７３０．］、７１０ｓｈ、１６４０ｓｈ、
　　１６０５ｓｈ、　　１４３５．　１１００　ｃｍ”
’実施例Ｄ−４ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、Ｒ２−メチル、Ｒ６−トリチル、Ａｒ謬フェニル、
Ｒ３＝　ｐ−メトキシベンジル。

（１）トリチルエキソメチレン体（り１．７９　ｇ　（
３２２ミリモル）とグリオキシル酸ｐ−メトキシベンジ
ルエステル−水和物８２０ｍｇ（１，２当量）のテトラ
ヒドロフラン６ｍｌ溶液に、トリエチルアミン０．２２
ｍ１（０，５当量）を加えて室温で一晩放亙する。反応
液を冷水−酢酸エチル中にあけ抽出する。抽出液を冷塩
酸、炭酸水素ナトリウム水と塩水で順次洗い、乾燥、減
圧濃縮後、シリカゲＪｕ（２４ｇ）上クロマトグラフィ
ー（トルエン−酢酸エチルで展開）で精製すれば付加物
アルコール２１７ｇを得る。収率：８２５％。

ＩＲ（ＣＨＣＩ、）１／　：　１７４０．１７１０．１
６０４　ｃｍ−’（２）付加物アルコールのテトラヒド
ロフラン１２ｍ１１・容液を一４０°Ｃに冷却攪拌下、
２．６−ルチジン１．６ｍ１（４当量）と塩化チオニル
０　、２９　ｍｌ（１２当量）を滴下して加え１時間攪
拌すれば塩化物の溶液を得る。

（３）この塩化物溶液にトリフェニルホスフィン８４５
ｍｇ（３当量）、臭化ナトリウム３３２ｍｇ（１肖敬）
とジオキサン１２ｍ１を加え、室温で一晩攪拌する。こ
れを氷水−酢酸エチル中に注ぎ、抽出する。抽出液を希
塩酸、希炭酸水素ナトリウム水と塩水で洗浄し、乾燥（
ＭｇＳＯ，）後減圧濃縮する。

残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製すれはイ
リドｒ６）　１　、５８　ｇを得る。収率：４９４％。

ｍｐ、１７１．５−１７３℃（エーテル−石油エーテル
から再結）。

［αコ”’、−２２．０±１２（ｃ、　　０．５０９．
　　ＣＨＣｌ、）。

ＩＲ：　Ｖ　（Ｎｕｊｏｌ）１７４０．１６２２．１５
１２．１２４８　ａｍ−’元素分析：　（Ｃｓ＋Ｈｓｓ
ＮＯａＰＳｉ）計算値：　Ｃ，７６，１０；　Ｈ，６，
８９；　Ｎ、１．４１；　Ｐ、３．１２実測値：　Ｃ，
７６，１９；　Ｈ，６，９９；　Ｎ、１．４０；　Ｐ、
３．３８［反応　Ｅ　：　環化　コ 実施例Ｅ−１ Ｒ１−１−ヒドロキシエチル、Ｒ２−メチル、Ｒ３＝ｐ
−メトキシヘンシル　Ｒ８−水素、Ａｒ−フェニル。

ジヒドロキシイリド体（４）　１３　、９８　ｇのトル
エン溶液を１１０°Ｃに１時間加熱する。反応液を濃縮
する。残渣を酢酸エチルに溶かし、水洗、乾燥（Ｍｇ５
Ｏ，）後、減圧濃縮すればカルバペネムジオール体（ａ
）を得る。収率ニア４％。

ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣｌ−＞６’　：　１．
１９（３Ｈ１ｄ、Ｊ＝７．４Ｈｚ）。

１．３２（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．２Ｈｚ）、　１．７（
１〜２．７０（２Ｈ，ｂｒｍ）。

３．１５〜３．３２（ＬＨ，ｍ）、　３．２６（ＬＨ，
ｄｄ、　Ｊ＝２．９Ｈｚ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ）、　３．
７９（３Ｈ，ｓ）、　４．１７−４．２８（ＬＨ，ｍ＞
、　４．１８（ＬＨ，ｄｄ、　　Ｊ：ｌＯ，ＯＨｚ、　
　２．９Ｈｚ）、　　５．１９．　５．２６（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ、　Ｊ＝１２．２Ｈｚ）、　６．８８．７．３８（
４Ｈ，ＡＩＢ！ｑ、　Ｊ＝８．６Ｈｚ）。

実施例Ｅ−２ Ｒ’−１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル　Ｒ２−メチル、Ｒ３−ｐ−メトキシベンジル、Ｒ６
＝水素、Ａｒ冨フェニル。

シリルイリド（４）のトルエン溶液を１００℃に１時間
加熱すればシリルヒドロキシカルバペネム体（ａ）を得
る。収率ニア４％。

ＩＲ（ＣＣ１，）ν：　３４２０ｂｒ、　１７８０．１
７００．１６１６．１５８２゜１５１２、１２４４　ｃ
ｍ−’ ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣｌ５）Ｓ：　１．１６（
３Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝７．０Ｈｚ）。

１．２３（３）１．　　ｄ、　　Ｊ＝６．２Ｈｚ）、　
　３．０〜３．４１（２Ｈ，ｍ）、　　３．２０（ＬＨ
，ｄｄ、　　Ｊ：３．０Ｈｚ、　　Ｊ＝５．５Ｈｚ）、
　　３．７７（３Ｈ，ｓ）。

４．１２（ＬＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝６．０Ｈｚ、　　３．
０Ｈｚ）、　　４．２０（ＬＨ，ｍ＞。

４．４０＜２８．　　ｔ、、　　Ｊ＝６Ｈｚ＞、　　５
．２０（２Ｈ，ｓ）、　　６．８７．　７．３７（４Ｈ
，Ａ、Ｂ＊ｑ、　　Ｊ＝６ｉＨｚ＞。

実施例Ｅ−３ Ｒ’−１（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
　Ｒ２−メチル、Ｒ３−ｐ−メトキシベンジル、Ｒ６−
トリチル、Ａｒ＝フェニル。

シリルトリチルイリド（４）１．０８　ｇ　（１，０８
４ミリモル）のトルエン５０　ｍｌＱ、Ａｉ＆　ヲ１１
０℃で加温溶解する。７５分後、溶媒を留去し、残渣を
クロマトグラフィー（ローバーＢ１　トルエン−酢酸エ
チル、２：１）で精製すればカルバペネムトノチルエー
テル７５０ｍｇを泡状物として得る。収率：９６％。

ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣｌ５）　：　ｌ；　：　
０．０３（約６１．　ｓ）、　０．８３（９Ｈ，ｓ）、
　０．９５＜３８．　ｄ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ）、　１．
１３（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６．２Ｈｚ）、　　３．０５（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝
５．４．　　Ｊ＝３）１ｚ）、　　３．３８（ＩＨ，ｄ
ｑ、　Ｊ＝１０．５Ｈｚ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ）、　　３
．６９．　４．６８（２８，ＡＢｑ、　　Ｊ＝１５Ｈｚ
＞、　　３．７０（３Ｈ，ｓ）、　　４．０１（ＬＨ，
ｄｄ、　　Ｊ＝１０゜５Ｈｚ、　　３Ｈｚ＞、　　４．
１４（１８，ｍ）、　　４．９７（２Ｈ，ｓ）、　　６
．７２（２Ｈ，ＡＩＢｙ、Ｊ＝９．０Ｈｚ、　　７．０
５〜７．４０（１７Ｈ，ｍ＞。

ＩＲ（ＣＨＣＩ、）し：　１７７０．　１７１５．　１
６１５．　１５８８．　１５１２Ｑｍ−’ 実施例Ｅ−４ Ｒ’−１−ヒドロキシエチル→１−（トリエチルシリル
オキシ）エチル、Ｒ２−メチル　Ｒ３−ｐ−メトキシベ
ンジル　Ｒ６−水素、Ａｒ−フェニル。

（１）モノアセテートの製造ニジヒドロキシイリド（４
）６．９７　ｇ　（１０，９ミリモル）のジクロロメタ
ン溶液に一４０℃冷却下トリエチルアミン２．３ｍ１（
１，５当量）と塩化アセチル１．２ｍ１（１，５当量）
を滴下し、３時間攪拌すればイリドモノアセテート（４
）の溶液を得る。

（２）シリルアセテートの製造：この溶液に塩化トノエ
チルシリル４．６ｍ１（２，５当量）とトリエチルアミ
ン３．８ｍ１（２，５当量）を加え、０°Ｃで３時間攪
拌する。反応液を氷水中に注ぐ。有機洛を分取し、常法
通り処理すればモノトリエチルシリルイリドモノアセテ
ート（４）を得る。

０）アセチル脱離：このモノトリエチルシリルイリドモ
ノアセテート（４）のメタノール３０ｍ１溶液に一５０
℃で５．２Ｎナトリウムメチラートのメタノール溶液１
．２ｍ１（０，５７当量）を滴下し、３時間攪拌後、Ｉ
Ｎ塩酸７　、３　ｍｌで中和する。反応液を酢酸エチル
−水中に注ぎ抽出する。抽出液を水洗、乾燥し減圧濃縮
すればシリルケトールイリド（４）を得る。

（４）環化：このシリルケトールイリド（４）をトルエ
ン３００ｍ１に溶解し、１１０℃に１５分加温する。反
応液を濃縮後、残渣をクロマトグラフィー（ローバーＢ
、２本：トルエンー酢酸エチル９：１）で精製スればシ
リルヒドロキシカルバペネム（ａ）３．７ｇを得る。収
率ニア１％。

ＮＭＲ（ＶＸＲ２００．　ＣＤＣＩｓ）＆　：　０．５
３−０．６５（６Ｈ．　ｍ＞。

０、９０−０．９９（９Ｈ．　ｍ＞、　１．１８（３Ｈ
，　ｄ．　Ｊ＝７．４Ｈｚ）、　１、２７（３Ｈ，ｄ、
　　Ｊ：６Ｈｚ）、　　３．１０−３．２８（１）１．
　　ｍ＞、　　３．２２（１）１゜ｄｄ、　　Ｊ＝６．
４Ｈｚ、　　Ｊ＝３．０Ｈｚ＞、　　３．８０（３Ｈ，
ｓ＞、　　４．１５（ＬＨ。

ｄｄ、　　Ｊ＝１０Ｈｚ、　　Ｊ：３Ｈｚ）、　　４．
３６．　４．４８（２Ｈ，ＡＢｑｄ、　　ＪＡｌｌｌ、
２Ｈｚ、　　ＪｃＨｔ：ｏｇ＝６ｔ（ｚ）、　　５．２
３（２Ｈ，ｓ＞、　　６．８９．　７．３９（４Ｈ，Ａ
Ｊｔｑ、　　Ｊ＝８．８Ｈｚ）。

２．９１（ｚ）、　　　３．２５（１）！、　　　ｍ＞
、　　　３．７５（３Ｈ，ｓ）、　　　４．０８（ＩＨ
。

ｄｄ、　　　Ｊ＝ＬＯ，ＯＨｚ、　　Ｊ＝２．９Ｈｚ＞
、　　　４．１４−４．２３（１）１．　　　ｍ）。

４．３０．　７．３３　（４Ｈ，Ａ、Ｂ＋ｑ、　　Ｊ４
．８Ｈｚ）。

ＩＲ（ＣＨＣＩＩ）ν　：　３６０５．　１７７２．　
１７００．　１６１５．　１５８９゜１５１５　ｃｍ−
’ 実施例Ｅ−５ Ｒ’＝ｉ（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
　Ｒ２−エチル　Ｒ３＝　ｐ−メトキシベンジル、Ｒ６
−水素、Ａｒ−フェニル。

ノリルイリドケトール（４）３００ｍｇ（０，３９ミリ
モル）のトルエン３０ｍ１溶液を１０５℃に５０分加温
後減圧濃縮する。残渣をクロマトグラフィー（ローバー
Ｂ、ｈルエンー酢酸エチル１：１）で精製ずれば１−エ
チルカルバペネム（ａＨ６３ｎ’＋ｇを得る。収率：８
５．３％。

ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣ１，）　Ｓ　：　０．
０２（約６Ｈ，ｓ）、　０．８０（９Ｈ，ｓ）、０．９
６（３Ｈ，ｔ、　　Ｊ＝７．４Ｈｚ）、　　１．２４（
３Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝６．１Ｈｚ）、　１．３０−１．７
３（２Ｈ，ｍ）、　２．８９（ＬＨ，ｄｔ、　Ｊ＝１０
．６Ｈｚ、　　　Ｊ：３．３Ｈｚ）、　　　３．１６（
ＬＨ，ｄｄ、　　　Ｊ＝６．７Ｈｚ、　　　Ｊ＝実施例
Ｅ−６ Ｒ’−１−ヒドロキシエチル、Ｒ２−エチル、Ｒ３〜ｐ
−メトキシベンジル、Ｒ’＝Ｈ，Ａｒ−フェニル。

ンヒドロキシイリド（４）　１　、７　ｇのトルエン１
７０ｍ１溶液を１１０°Ｃで１．６時間加温後、減圧濃
縮する。残渣をシリカゲルクロマドグフィー（ローバー
Ｂ、酢酸エチル−アセトニトリル１：１）で精製すれば
ジヒドロキシカルバペネム（ａ）８２０ｍｇを得る。収
率、８４．１％。

ＩＲ（ＣＨＣｌｍ　）ν：　３６０８．１７７５．１７
０２．１６１５．１５９０゜１５１５　　ｃｍ− ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣ１，）　Ｓ　：　１．
０１（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．３８Ｚ）、　１．３６（３
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　１．３１（，８０（４
Ｈ，ｍ）。

１．９−２．２（ＬＨ，ｂｒｍ）、２．９９（ＬＨ，ｄ
ｔ、Ｊ：１１Ｈｚ、Ｊ＝３．３ｔ（ｚ）、　　３．２６
（ＩＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝６．８）１ｚ、　　Ｊ＝３．０
Ｈｚ＞、　　３．７９（３Ｈ，ｓ）、　　　４．２０（
ＩＨ，ｄｄ、　　　Ｊ４２Ｈｚ、　　　Ｊ：３Ｈｚ＞、
　　　４．１３−４．２４（ＬＨ，ｍ＞、　　４．３５
．　４．４６　（２Ｈ，ＡＢｑ、　　Ｊ＝１４）１ｚ）
。

６．８８．　７．３８（４）１．　　Ａ！Ｂ！Ｑ、　　
Ｊ＝８．８Ｈｚ）。

実施例Ｅ−７ Ｒ’−１−（トリエチルシリルオキシ）エチル　Ｒ２−
エチル、Ｒ３＝　ｐ−メトキシベンジル、Ｈｅｔ−４−
ピリジル。

シリルピリジルチオイリド（７）１．３５ｇ（１，５６
ミリモル）のトルエン１４０ｍ１溶液を１０８℃に１時
間加温する。反応液を減圧濃縮し、残渣をンリカゲルク
ロマトグラフイ−（ローバーＢ１　トルエン−酢酸エチ
ル１：１）で精製すれば、アメ状のシリルピリジルチオ
カルバベネム（ｂ）６０２ｍｇを得る。収率：　６６．
２％。

ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣ１＋　）δ　：　０．
６１（９１（、ｔ＋　　Ｊ＝７．６Ｈｚ＞、　　０．８
ｆｌｒ１．０２（９Ｈ，ｍ）、　　１．３１（３Ｈ，ｄ
、Ｊ＝５．９Ｈｚ）。

１．３５〜１．８５（４Ｈ，ｍ＞、　３．０６〜３．１
５（ＩＨ，ｔｄ型＞、　３．２２（］、Ｈ，ｄｄ、　　
Ｊ＝７．０Ｈｚ、　　Ｊ＝３．１Ｈｚ）、　　３．５４
　＆　４．９４（２Ｈ。

ＡＢｑ、　　Ｊ＝１４１（ｚ）、　　３．８２（３Ｈ，
ｓ）、　　４．０８（ＩＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝１０．２Ｈ
ｚ、　Ｊ＝３．１Ｈｚ）、　　４．１５〜４．２８（Ｉ
Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ型）。

６．８９．　７．４０（４）１．Ａ、Ｂｒｑ、　　Ｊ＝
８．３Ｈｚ）、　　７．０９．　８．３５（４Ｈ，Ａ２
ＢＩＱ、　　Ｊ＝５．１Ｈｚ＞。

ＩＲ（ＣＣ１，）ν　：　１７８０，１７１３．１６１
４，１５７２．１２４７Ｑｍ−’ 実施例Ｅ−８ Ｒ’−１−ヒドロキシエチル　Ｒ２−エチル　Ｒｆｆ　
−ｐ−メトキシベンジル、Ｒ８＝Ｈ，）ｌｅｔ−４−ピ
リジル。

（１）メシルオキシイリド経由ピリジルチオイリドの製
造ニジヒドロキシイリド（４）　６００　ｍｇ（約０８
１ミリモル）の塩化メチレン４ｍｌ溶液を窒素中−５０
℃に冷却し、これに塩化メタンスルホニル０．０８ｍ１
（約１．３当量）とトリエチルアミン０．３ｍ１（２，
６当量）を滴下する。３０分後、生成するメシレートの
溶液に４−メルカプトピリジン１２９ｍｇ（１，４当量
）とアセトニトリル２　ｍｌを加えて水冷下１時間攪拌
する。反応液を氷水中に注ぎ、ｐＨを６．０とする。有
機層を取り、炭酸水素ナトリウム水と水で洗浄、乾燥し
、減圧濃縮すればピリジルチオイリド（７）の泡状残渣
を得る。

（クビリジルチオイリド（７１をトルエン３５ｍ１に溶
解し、１１０°Ｃで１時間加温する。反応液を減圧濃縮
し、残渣をクロマトグラフィー（ローバーＢ、酢酸エチ
ル−アセトニトリル−塩化メチレン−ヘキサン１：１：
１）で精製すれば初めの流出、夜より６α−（１−ヒド
ロキシエチル）−１−エテル−２−（４−ピリジルチオ
）メチリデン−１カルバペナム−３−カルボン酸ｐ−メ
トキシベンジルエステル７５　ｍｇ　（ＩＲ（ＣＨＣｌ
ｓ）ν：　３４００〜３１５０ｂｒ、　１７５０．１６
０４．１５７５　ｃｍ−’。収率：１９．８％）、次い
で６α−（１−ヒドロキシエチル）−１−エチル−２−
（４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム
−３−カルボン酸ｐ−メトキンベンジルエステル（ｂ　
）　８６　ｍｇ　（ＩＲ（ＣＨＣＩ　ｓ）し：　３６８
０．３６０４．１７７２．１７１２．１６１２．１５８
６ｃｍ−’収率：２２．８％）、次いで６α−（１−（
４−ピリジルチオ）エチル）−１−エチル−２−（４ピ
リジルチオ）メチル−１−カルバー２−ペネム−３−カ
ルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル１２８　ｍｇ［
ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣ１，）＆　：　０．９７
（３１（。

ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０．１．３３（３Ｈ，２
ｘｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．４５〜１．８０（２Ｈ，
ｍ）、　３．１７（ＩＨ，ｄｔ、　Ｊ＝３Ｈｚ、　Ｊ＝
９Ｈｚ）。

３．５３．４．８８（２Ｈ，ＡＢｑ、　Ｊ＝１４Ｈｚ）
、　３．７６（３８，ｓ）。

３．９３〜４．２６（３８，ｍ）、　５．２５（２Ｈ，
ｓ）、　６．８３（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ＞、　７．０−８．４０（約１０Ｈ，ｍ）コ
を得る。

実施例Ｅ−９ Ｒ１！１−ヒドロキシエチル、Ｒ２−エチノ呟　Ｒ３＝
ｌｌｐ−メトキシベンジ＆、１（ｅｔ”　４−ピリジル
。

ヒドロキシピリジルチオイリド（７１２，１０ｇ（２，
８１ミリモル）のトルエン２００ｍ１溶液を１１０°Ｃ
に７０分加温後、減圧濃縮する。残渣をクロマトグラフ
ィーで精製すればヒドロキシピリシルチオ力ルハペネム
（ｂ）９７５ｍｇを得る。収率、７３．９％。

ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣｌ５　）　ｆ；　：　
１．０４（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．４Ｈｚ）、　１．３５
（３Ｈ，ｄ、　Ｊ−６，３Ｈｚ＞、　１．３９−１．７
７（２Ｈ，ｍ）。

２．０３（ＬＨ，ｂｒｍ）、　３．１０（ＩＨ，ｄｔ、
　Ｊ：１０．４Ｈｚ、　Ｊ＝２．９Ｈｚ＞、　　　３．
２５＜ＬＨ，ｄｄ、　　　Ｊ−７，０Ｈｚ、　　　Ｊ＝
３．１Ｈｚ）、　　　３．５Ｌ４．９２（２Ｈ，ＡＢｑ
、　Ｊ＝４４゜８Ｈｚ）、　３．７９（３Ｈ，ｓ）、　
４．１３（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１０．２Ｈｚ、　Ｊ：３
．１Ｈｚ）、　４．０７〜４．２６（ＩＨ。

ｍ）、　５．２１．５．２８（２８，ＡＢＱ、　Ｊ＝１
２Ｈｚ＞、　６．８７．７．３９（４Ｈ，ＡＪｔｑ、　
Ｊ＝８．８Ｈｚ＞、７．０５．８．３０（４Ｈ１Ａ！Ｂ
！Ｑ。

、Ｃ６，２）１ｚ）。

ＩＲ（ＣＩ（ＣＬ、）し：　３６８０．　３６０４．　
１７７２．　１７１２．　１６１２゜１５８６ｃｍ−’ 実施例Ｅ−１０ Ｒ１＝１−ヒドロキシエチル、Ｒ２−メチル、Ｒ３−ア
リル、Ａｒ＝フェニル、Ｈｅｔ＝　４−ピリジル。

ヒドロキシピリジルチオイリド（７）１．７ｇ（２゜６
ミリモル）のヘンゼン溶液（１８０ｍｌ）を４時間環流
後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（トルエン：酢酸エチル！１：１とヘキサン：ジクロ
ロメタン：酢酸エチル：アセトニトリル−１：１：１：
１で展開）で精製すればヒドロキシピリジルチオカルバ
ペネム（　０．７　５　ｇ、収率７７％）を得る。

ＩＲ（ＣＨＣＩりし：　３６００−３１００．　　２９
６５，　　１７７０，　　１７１２。

１５７５、　１２８５　ｃｍ−’ ＵＶ（ＣＨ．ＣＮ）μ：　２５４．　２７８ｎｍ。

ＮＭＲ（ＶＸＲ２００．　ＣＤＣ１３）δ：　１．１８
（３Ｈ．　ｄ，　Ｊ＝７Ｈｚ）。

１、３１（３８，　ｄ，　、Ｃ６．３Ｈｚ）、　３．２
６（ＩＨ，　ｄｄ．　Ｊ＝３．１）１ｚ。

に６、６Ｈｚ）、　３．３５（ＩＨ．　ｍ）、　３．５
３．　４．９９（２Ｈ．　ＡＢｑ。

Ｊ＝１４．３Ｈｚ）、　４．１９（２Ｈ．　ｍ）、　４
．７７（２Ｈ，　ｍ）、　５．２５〜５、０５および５
．　８５〜６。１０（３Ｈ．　２ｚｍ）、　７．１４，
　８．３７（４Ｈ。

Ａ＊Ｂ＊ｑ，　Ｊ＝６．４Ｈｚ）。

［　反応Ｆ：求核基導入　コ 実施例Ｆ−１ Ｒ’−１−（１−リエチルシリルオキジ）エチル　Ｒ２
；メチル、Ｒコ＝ｐ−メトキシベンジル、Ｈｅｔ＝４ビ
リンル。

（１）　ｌｉ　素化：シリルヒドロキシカルバペネム（
ａ）８００ｍｇ（１，６８ミリモル）のジクロロメタン
１０ｍ１溶液に一６０℃で攪拌下４−（ジメチルアミノ
）ピリジン４０・ｍｇ（０，２当量）とトリエチルアミ
ン０．２８ｍ１（１，２当量）、次いで塩化ジフェニル
ホスフェート０．４２ｍ１（１，２当量）を滴下する。

同温に３０分放置後、塩化トリエチルアミン０．７５．
ｍｌ（３，ｇ当量）を加えて１時間攪拌すれば＜ａ）の
２−塩素置換体の溶液を得る。

（２）ピリジルチオ化：この溶液に４−メルカプトピリ
ジン２８０ｍｇ（１，５当量）、アセトニトリル１０ｍ
１及びトリエチルアミン０．３５ｍ１（１，５当量）を
加え一２０°Ｃで１時間放置する。反応液をジクロロメ
タンで希め、炭酸水素ナトリウム水に注ぐ。有機層を分
取し、塩化アンモニウム水と水で洗い、乾燥（Ｍｇ５Ｏ
，）後減圧濃縮する。残渣をンリ力ゲル６０ｇ上クロマ
トグラフィー（トルエン−酢酸エチル１：２）で精製す
れば２−（４−ピリジルチオ）メチルシリルカルバペネ
ム（ｂ）６８０ｍｇを得る。収率：　７１．６％。

ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣ１，）δ：　０．５２〜
０．６８（６）１．　ｍ＞、　０．８５−１．００（９
Ｈ，ｍ）、　　　１．１５（３Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝８．７
Ｈｚ＞、　　　１．２３（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１８（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝
６．０Ｈｚ、　Ｊ＝２．２Ｈｚ）。

３．０９−３．３０（ＩＨ，ｍ）、　３．４６．４．９
１（２Ｈ，ＡＢｑ、　Ｊ：１４．４Ｈｚ＞、　３．７８
（３Ｈ，ｓ）、　４．０９（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１３Ｈ
ｚ、　Ｊ＝２．２）１ｚ）、　４．３−４．１（ＬＨ，
ｍ＞、　５．２１（２Ｈ，ｓ）、　６．８５．７．３０
（４）１．　ＡＢｑ、　Ｊ＝９Ｈｚ＞、　７．０６　＆
　８．３０（４Ｈ，ＡＢｑ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。

実施例Ｆ−２ Ｒ’＝１−ヒドロキシエチノ呟　Ｒ２−メチル、Ｒ３−
ｐ−メトキシベンジＪ呟Ｈｅｔ＝　４−ピリジル。

（１）ジフェニル燐酸エステル化ニジヒドロキシカルバ
ペネム（ａ）５．４２　ｇ　（１５，０ミリモル）とジ
メチルアミノピリジン５５０ｍｇ（０，３当量）のジク
ロロメタン２０ｍ１溶液を一７０℃で攪拌下、これにト
リエチルアミン２．１ｍ１（１，１当］）、！：［化ジ
フェニルホスブエート３　、１　ｍｌのジクロロメタン
１０ｍ１溶液を１５分で滴下し、１時間攪拌すれば（ａ
）の２−燐酸シフェニル混合ニスデルの溶液を得る。

（２）ピリジルチオ化：この溶液に４−メルカプトピリ
ジン２゜ＯＯｇ（１，２当量）、トリエチルアミン２．
１ｍ１（１，１当量）、よう化ナトリウム２．７ｇ（＋
　　２当量）とジメチルホルムアミド３０ｍ１を加え、
室温まで昇温しで２時間攪拌する。

これを炭酸水素ナトリウム水−酢酸エチル中にあｉ−ｊ
る。有機層を分取し、水洗、乾燥、減圧濃縮する。残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー（ローバーＢ、酢酸エ
チルで展開）で精製すれば２−（４−ピリジルチオ）メ
チルヒドロキシカルバペネム（ｂ）２．３０　ｇを得る
。収率：　３３．７％。

ＩＲ（ＣＨＣｌ、）！／　：　３３７０〜３１３０ｂｒ
、　１７６６、１７０８．１６１４゜１５８０　ｃｍ−
’ ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣｌ、）Ｓ：　１．１８
（３Ｈ，ｄ、　７．２Ｈｚ＞１．３２＜３Ｈ，ｄ、　Ｊ
＝６．４Ｈｚ）、　１．７６（＞ＬＨ，ｂｒｑ）、　３
．２５（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ、Ｊ＝３．０Ｈｚ
）、３．３υ〜３．３９（ＬＨ。

ｍ）、　　３．４８（１）１．　　ＡＢｑ、　　Ｊ＝１
４．４）１ｚ）、　　３．８０（３Ｈ，ｓ）。

４．１３（ＬＨ，ｄｄ、　　１０．２Ｈｚ、　Ｊ＝３．
０Ｈｚ＞、　　４．２２（ＬＨ，を型。

Ｊ＝６．３Ｈｚ＞、　　４．９４（ＬＨ，ＡＢｑ、　　
Ｊ＝１４．４Ｈｚ＞、　　５．２２゜５．２８（２Ｍ、
　　ｄ、　　Ｊ＝１１．８Ｈｚ）、６．８８．　７．３
９（４Ｈ１Ａ、Ｂ、ｑＪ＝８．８Ｈｚ＞、　　７．０６
．　８．３１（４８，ｄＡａＢ＋ｑ、　　Ｊ＝４．６Ｈ
ｚ、　　Ｊ＝１．６）１ｚ）。

実施例Ｆ−３ Ｒ’＝１−（１３級プチルジメチルシリルオキン）エチ
ル、Ｒ２！メチル　Ｒ３−ｐ−メトキシベンジル、）（
ｅｔ＝　４−ピリジル。

（１）ジフェニル燐酸エステル化：ジヒドロキシカルハ
ベネム（ａ）４．２８　ｇ（９，０ミリモル）とジメチ
ルアミノピリジン５５０ｍｇ（０，３当量）のンメチル
ホルムアミド溶液を一７０℃で攪拌下、これにトリエチ
ルアミン２．１ｍ１（１，１当量）と塩化ジフェニルホ
スフェート３　、１　ｍｌのジクロロメタン１０ｍ１溶
液を１５分で滴下し、１時間攪拌すれば（ａ）の２−燐
酸ジフェニル混合エステルの溶液を得る。

（２）ビリジルチオ化：この溶液に４−メルカプトピリ
・ジン１．２当量、トリエチルアミン１６１当量、よう
化ナトリウム１．２当量とジメチルホルムアミドを加え
、室温まで昇温して２時間攪拌する。これを炭酸水素ナ
トリウム水−酢酸エチル中にあける。有機層を分取し、
水洗、乾燥、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー（ローバーＢ、酢酸エチルで展開）で精製す
れば２−（４−ピリジルチオ）メチルシリルカルバペネ
ム（ｂ）４．４ｇを得る。収率：８５％。

０）　次いで、このシリルエーテル体２．１ｇ（３，６
９ミリモル）をテトラヒドロフラン１０ｎ＋１に溶解し
、酢酸０．８ｍｌ及びテトラブチルアンモニウムフロオ
ライド三水和物２．７８ｇ（，２，４当肴）を加えて室
温２晩放置する。これを炭酸水素ナトリウム水−酢酸エ
チル中に注ぐ。有機層を分取し、水洗、乾燥、減圧濃縮
後カラムクロマトグラフィー（ローバーＢ、酢酸エチル
）で精製すれば極性部より６α−（１−ヒドロキシエチ
ル）−１−メチル−２−（４−ピリジルチオ）メチル−
１−カルバ−２−ベネム−３−カルリボン酸ｐ−メト・
キシベンジルエステル（ｂ）４５５ｍｇ（物性後記、収
率：２７．１％）を、低極性留出部より６α−（１−ヒ
ドロキシエチル）−１−メチル−２−（４−ピリジルチ
オ）メチリデン−１−カルバベナム−３−カルボン酸ｐ
−メートキシベンジルエステル１００ｍｇを得る。収率
：６．０％。

ＩＲ（ＣＨＣ１＝）Ｌ＋　：　３４００〜３１２０ｂｒ
、　１７５０ｂｒ、　１６０４．１５７５ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＥＭ−３９０，ＣＤＣ１，）Ｓ：　１．１１（
３Ｂ、　ｄ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ）。

１．３５（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ＞、　３．０５
〜３．４０（約３Ｈ，ｍ）。

４．０２（ＩＨ，ｄｄ、　、Ｃ６，３Ｈｚ、　Ｊ＝２Ｈ
ｚ）、　４．２３（１）１゜ｑｕｉｎｔｅｔ、　Ｊ＝６
．３Ｈｚ）、　４゜９８（ＬＨ，ｂｒｓ）、　５．０９
．５．２４（２Ｈ，ＡＢｑ、　Ｊ＝１１．３Ｈｚ）、　
６．３３（１１（、ｂｒｓ）、　６．８Ｌ７．２８（４
８，ＡＢｑ、　Ｊ＝８．４Ｈｚ）、　６．９１．８．３
５（４８，ＡＢｑ。

Ｊ＝５．５Ｈｚ）。

実施例Ｆ−４ Ｒ’−１−（トリエチルシリルオキシ）エチル　Ｒ２＝
メチル、Ｒ３−ｐ−メトキシベンジル、Ｎｅｔ冨３−ビ
リジル。

シリルヒドロキシメチル力ルバペネム（ａ）２゜４５ｇ
（ｓ、ｔｓミリモル）と３−メルカプトピノジン・ジス
ルフィド１．３６ｇ（１，ｚ当量）のンクロロメタン溶
液を一３０℃冷却下これにトリブチルホスフィン１．５
ｍ１（１，２当量）を加えて２時間攪拌する。次いでエ
タノール０．１５ｍ１を加えて更に１５分攪拌後氷水中
に注ぐ。有機層を分取し、減圧濃縮し、残渣をクロマト
グラフィー（ローバーＢ、２本、トルエン−酢酸エチル
４：１）で精製すれば６α−（１−１−リエチルシリル
オキシエチル）−１−メチル−２−（３−ピリジルチオ
）メチル−１−カルバー２−ペネム−３−カルボンｖｐ
−メトキシヘンシルエステル（ｂ）１．８６　ｇを得る
。収率：６４％。

ＮＭＲ（ＶＸＲ２００，ＣＤＣ１ｘ　）　Ｓ　：　０．
５３〜０．６４（６Ｈ，ｍ＞。

０．９０−０．９８（９Ｈ，ｍ＞、　　１．１４（３Ｈ
，ｄ、　　Ｊ＝７．４Ｈ２）、　　１．２５（３Ｈ，ｄ
、　　Ｊ＝６．２）１ｚ）、　　３．１９（ＬＨ，ｄｄ
、　　Ｊ＝６．５Ｈｚ、　　Ｊ＝３Ｈｚ）、　　３．２
４〜３．３９（ＬＨ，ｍ）、　　３．３６．　４．８０
（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１４Ｈｚ）、　　３．８１（３Ｈ，ｓ）、　　４．
０８（ＬＨ，ｄｄ、　　、Ｃ１０，２Ｈｚ。

Ｊ＝３Ｈｚ）、　４．１９（ＬＨ，ｑｕｉｎｔｅｔ型、
　Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　５．１０（２Ｈ，ｓ）、　　６
．８８　＆　７．３４（４Ｈ，ＡＪ＊ｑ、　　Ｊ＝８．
８Ｈｚ）。

７．０９（ＩＨ，ｄｄ、　　Ｊ：８．０Ｈｚ、　　Ｊ＝
４．８Ｈｚ）、　　７．６０（ＬＨ。

ｄｄｄ、　　Ｊ＝８．０Ｈｚ、　　Ｊ＝２．３Ｈｚ、　
　Ｊ＝１．７）１ｚ）、　　８．４２（ＩＨ。

ｄｄ、　　Ｊ＝４．８Ｈｚ、　　Ｊ＝１５Ｈｚ）、　　
８．５７（ＬＨ，ｄ、　　Ｊ＝１．７Ｈｚ）。

ＩＲ（ＣＨＣ１＋）ｌ／　：　１７７６．１７１７．　
１６２０．　１５２０　ａｍ−’実施例Ｆ−５ Ｒ’−１−（１−リエチルシリルオキシ）エチル　Ｒ２
＝メチル、Ｒ３，ｐ−メトキシベンジル、Ｈｅｔ篇２−
ピリジル。

４−ピリジル化合物と同様にして、２−ヒドロキシメチ
ル体（ａ）に２−メルカプトピリジン或いはそのジスル
フィドを反応許せれば対応する２一ピリジルシリル力ル
バペネム化合物（ｂ）を得る。

収率：４０−６０％。

ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣ１ｊ）Ｓ　：　　０．
５１〜０．６３（６Ｈ，ｍ＞。

０．８８〜０．９６（９Ｍ、　ｍ）、　１．１７＜３）
１．　ｄ、　Ｊ＝７．４Ｈｚ）、　１．２４（３Ｈ，ｄ
、　Ｊ：６．２Ｈｚ）、　３．１４−３．３０（ＬＨ，
ｍ＞、　３．２０（ＬＨ。

Ｊ＝３．０Ｈｚ）、　　３．７９（３Ｈ，ｓ）、　　４
．０９（ＬＨ。

Ｊ：３Ｈｚ）、　４．１６（ＬＨ，ｑｕｉｎｔｅｔ型、
　Ｊ＝４．８１（２Ｈ，ＡＢｑ　Ｊ＝１３．８Ｈｚ）、
　　５．２４７．３９（４Ｈ，ＡＩＬｑ、　　Ｊ＝８．
６Ｈｚ）。

ｍ）、８．３２（ＬＨ，ｄｄ型）。

１７７０、　１７１２．　１６１５．　１５８０　　ｃ
ｍ−ｄｄ、　　Ｊ＝６．４Ｈｚ。

ｄｄ　　　Ｊ：１０．２Ｈｚ。

６．２Ｈ７）、４．０７゜ （２Ｈ，ｓ）、　　６．８７゜ ６９２〜７．４７（３Ｈ。

ＩＲ（ＣＨＣｌ、）ν　： 実施例Ｆ−，６ Ｒ’＝１−（トリエチルシリルオキシ）エチル→１−ヒ
ドロキシエチル　Ｒ２−エチル、Ｒ’　”　ｐ−メトキ
ンヘンシル、Ｒ６−Ｈ→メシル→ＨｅｔＳ、　Ａ　ｒ　
−フェニル、Ｈｅｔフ４−ピリジル。

（１）メシル化：シリルヒドロキシイリド（４）　４　
、４１　ｇ　（５，７４ミリモル）のジクロロメタン２
２ｍ１溶液を窒素中−６０°Ｃで塩化メタンスルホニル
０．４９ｍ１（１，１当量）とトリエチルアミン１゜８
４ｍ１（２，３当量）を滴下、１時間攪拌すればシリル
メシルオキシイリド（４）を得る。

（２）これに４−メルカプトピリジン８０３■（１，２
５当量）とアセトニトリル２２ｍ１を加え、室温まで昇
温し、２時間攪拌すれはシリルピノシルチオイリド（′
ｒ）の溶液を得る。

（３）この溶液を０°Ｃとし、濃塩酸３．２ｍ１（６，
５当量）と酢酸６ｍｌを加えて２時間攪拌する。反応液
を炭酸水素ナトリウム水に注ぎ、ｐＨ６、５でジクロロ
メタンで抽出する。抽出液を乾燥、減圧濃縮する。残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー（ローバーＢ、ｌｌエ
チル−アセトニトリル９：１−１　：　１）で精製すれ
ばヒドロキジビリシルチオイリド（７）３．５２ｇを得
る。収率：８２％。

ＩＲ（Ｃ）（Ｃ１＋）！／　：　３６２０−３３００．
１７４５．１．７２０ｓｈ１６１９、１５８２　ｃｍ− 実施例Ｆ−７ Ｒ１−１−ヒドロキシエチル　Ｒ２−メチル　Ｒ３−ア
リノ呟　Ｒ８＝Ｈ→塩素、Ａｒ−フェニル、ｌｅｔ　＝
４−ピリジル。

（１）塩素化：ンヒドロキシイリド（４）　９　、５２
　ｇ（１７ミリモル）のアセトニトリル８５ｍ１溶液に
四塩化戻素３４ｍ１を加え、水冷下撹拌しながらトノフ
ェニルホスフィン５．４　ｇ　（１，２当ｉＬ）を少量
うつ２時間かけて添加すればクロロケトイリド（４）の
溶液を得る。

（２）異項環チオ化：これに４−メルカプＩ・ピリジン
２．４５　ｇ　（１，３当量）と炭酸ナトリウム１゜８
ｇ（１当量）を加え、攪拌する。反応液を減圧濃縮する
。残渣をトルエ〉に溶解し、不溶物を濾去する。トルエ
ン溶液を２Ｎ塩酸で抽出する。抽出液を炭酸水素ナトリ
ウム水で塩基性としたのら、トルエンで再抽出して常法
通り後処理すれば４−ピリジルチオヒドロキシイリド（
７）７．８７ｇを得る。収率ニア１％。

ＩＲ（ＣＨＣｌ、）ν：　３１００〜２９００．１７３
５．１７０７．、１６１０゜１４３０　ｃｍ−’ 実施例Ｇ−１ ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−（
４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム−
３−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）の
スルホキシド９０ｍｇ（ｏ、９ミリモル）のジクロロメ
タン−アニソール（４：１）ｊ、０ｍｌ溶液を一４５°
Ｃ冷却し、これに塩化アルミニウム１５０ｍｇ（約６当
量）を加え１時間攪拌する。反応液に炭酸水素ナトリウ
ム２８４ｍｇの水溶液を加え、不溶液を濾去し、濾液を
ＨＰ−２０（約５０ｍ１）を用いてクロマ）・グラフィ
ーすれば６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル
−２−（４−ピノシルチオ）メチル−１−カルバー２−
ペネム−３−カルボン酸ナトリウム（ｂ）のスルホキシ
ド３５ｍｇを得る。収率：４９％。

ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＤＩＯ−ＤＳＳ）Ｓ：　１．
０８（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．６Ｈｚ）、　１．２５．１
．２６（３Ｈ，２ｘｄ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ）、　２．８
７〜３．２０（１８，ｍ）、　３．３８．３．４０（約
１）１．２ｘｄｄ、　Ｊ：６Ｈｚ、　Ｊ＝３Ｈｚ）、　
３．９４−４．２４（約２Ｈ，ｍ）、　４．１５　＆　
４．６９（２Ｈ，ＡＢ［反応Ｇ　：　カルボキシ脱保護
　］ ｑ、　　Ｊ＝１３．６Ｈｚ）、　　７．６４．　７．６
９（２Ｈ，２ｘｄ、　　Ｊ＝６．２）（ｚ）。

８．７２　　（２Ｈ，ｂｒｓ）。

実施例Ｇ−２ ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−エチル−２−（
４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム−
３−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）２
　０　０ｍｇ（　０．４　２　７ミリモル）の塩化メチ
レン８ｍｌ及びアニソール２ｍｌ溶液に一５０℃で攪拌
下に塩化アルミニウム２７０ｍｇ（４．７当量）を加え
て１時間攪拌する。反応液に炭酸水素ナトノウムロ１５
ｍｇの１０ｍｌ水溶液を加え、不溶物を濾去、濾液をＨ
Ｐ−２０（約３０ｃｃ）クロマトグラフィーで精製し、
１０％メタノール水での留出液を凍結乾燥すれば６β−
（１−ヒドロキシエチル）−１−エチル−２−（４−ピ
リジルチオ）メチル−１−カルバー２−ペネム−３−カ
ルボン酸ナトリウム（ｂＨ２５ｍｇを得る。収率ニア９
％。

元素分析：　（ａ．、ｕ．、Ｎ．ｏ．ｓＮａ−ｔ’／．
ｕｇｏ）計算値：　Ｃ，５１．９７；　Ｈ．５．５２；
　Ｎ，７．Ｌ３；Ｓ．８．１６；　Ｎａ，５．８５ 実測値：　Ｃ．５１．８２ｉ　Ｈ，５．４４；　Ｎ．７
．１４ｉＳ．７．７１ｉ　　Ｎａ．６．５５ ＮＭＲ（　ＶＸＲ−２００．　　０１０．　　ｉｎｔｅ
ｒ　ｒｅｆ：ＤＳＳ）　Ｓ　：　０．９１（３Ｈ．　　
ｔ．　　Ｊ＝７Ｈｚ）、　　１．２７（３Ｈ．　　ｄ．
　　Ｊ＝６．２Ｈｚ）、　　１３２〜１、８２＜２Ｈ．
　　ｍ＞、　　３．１３（ＬＨ．　　ｍ）、　　３．３
８（１１．　　ｄｄ．　　Ｊ＝６．２Ｈｚ．　Ｊ＝２．
６Ｈｚ）、　３．６３（ＬＨ．　ＡＢｑ−Ａ部分，　Ｊ
：１４．５Ｈｚ）。

４、００＜ＩＨ．　　ｄｄ．　　Ｊ＝９．５Ｈｚ．　　
Ｊ＝２．５Ｈｚ）、　　４．１９（ＬＨ。

Ｌ型，　Ｊ＝６Ｈｚ）、　４．８１１１（ＩＨ．　ＡＢ
ｑ．　Ｂ部分，　Ｊ＝１４．　５Ｈｚ）。

７、３１（２Ｈ．　Ａ１Ｂ２Ｑ−Ａ部分．　Ｊ＝５）１
ｚ）、８．３０（２Ｈ，　ＡＪｔｑ−Ｂ部分．　Ｊ＝５
Ｈｚ）。

実施例Ｇ−３ ６β−（１−とドロキシエチル）−１−メチル−２−（
１−カルバモイルメチル−４−ピリジニオチオ）−メチ
ル−１−カルバー２−ペネム−３−カルボン酸アリルエ
ステル（ｂ）・ヨウ化物５６０ｍｇ（１ミリモル）をニ
トロメタン（　２　０　ｍｌ）　−酢酸エチル（４０ｍ
ｌ）−ジクロロメタン（６０ｍｌ）の混合溶媒に溶解し
トリフェニルホスフィン（２６２ｍｇ，ｌ当ｉｔ）を添
加し、次いで、水冷下エチルヘキサン酸ナトリウム（１
モル−酢酸エチル溶液、１ｍｌ、１当量）を加え、攪拌
する。同温度で反応液にパラジウムテトラキストリフェ
ニルホスフィン１２０ｍｇ（０．１当量）を添加し１．
５時間攪拌する。反応液ヲジクロロメタン１００ｍｌで
薄め、水で抽出する。水層をジクロロメタンで洗い、Ｈ
Ｐ２０ＡＧカラムクロマトグラフィー（水、２０％メタ
ツル水）で精製すれば６β−（１−ヒドロキシエチル）
−１−メチル−２−（１−カルバモイルメチル−＝ピリ
ンニオチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム−４−カ
ルボキシレート（ｂＨ６３ｍｇを得る。収率：４２％。

ＮＭＲ　（　ＶＸＲ−２００．　Ｄ！Ｏ，内部基準：Ｏ
ＳＳ）δ：１．１０（３Ｌ　ｔ．　Ｊ＝７．４１（ｚ＞
、　１．２６（３）１，　ｄ．　Ｊ＝６．６１（ｚ）、
　３、２７−３．３９（ＬＨ．　　　ｍ＞、　　　３．
４３（ＬＨ．　　　ｄｄ．　　　Ｊ＝６．１Ｈｚ，　　
　Ｊ＝２．９）１ｚ）、　３．８９．　５．１０（２Ｈ
．　ＡＢｑ，　Ｊ＝１５．０Ｈｚ）、　４．０８（ＬＨ
。

ｄｄ．　Ｊ４０．ＯＨｚ．　Ｊ＝２．６）１ｚ）、　４
．１３＝４．２７（ＩＨ．　ｍ）。

５、３０（２Ｈ，　ｓ）、　７．８２．　８．３９（２
Ｈ，　ＡＪｔＱ，Ｊ＝５Ｈｚ）。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｌ／　：　３４００ｂｒ，　１７５０．
　１７００．　１５９０　ｃｍ−’［　反応Ｈ　：　付
加的修飾　コ 実施例Ｈ−１（スルホキシド化） ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−（
４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバー２−ペネム−
３−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）と
６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−（
４−ピリジルチオ）メチリデン−１−カルバベナム−３
−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステルの混合物（
約１：１）１．００ｇ（２．２ミリモル）のジクロロメ
タン１０ｍ１溶液に水冷攪拌下、炭酸水素ナトリウム２
９０ｍｇとｍ−クロル過安息香酸７１０ｍｇ（７０％、
１．３当量）を加え３時間攪拌する。反応液に水を加え
る。ジクロロメタン層を分取し、酸性亜硫酸ナトリウム
と水で洗い、乾燥、減圧濃縮する。残渣をシリカゲル（
２０ｇ）上クロマトグラフィー（酢酸エチル：アセトニ
トリル１：１）で精製すれば６β−（１−ヒドロキシエ
チル）−１−メチル−２−（４−ピリジルチオ）メチル
−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸ｐ−メトキ
シベンジルエステル（ｂ）スルホキンド３７０ｍｇ（ス
ルホキンド立体異性体の約１：１混合物）を得る。合計
収率：３５８％。

ＩＲ（ＣＨＣＩ、）ν：　１７７４．１７１０．１６１
６．１５７４．１０５５ｍ ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ＣＤＣＩｇ）＆　：　１．１
２．１．１７（３Ｈ，２ｘｄ。

Ｊ＝７．４Ｈｚ＞、　１．３０．１．３３（３Ｈ，２ｘ
ｄ、　Ｊ＝５．８Ｈｚ、　Ｊ＝６．２Ｈｚ）、　１．８
０−２．７５（約ＬＨ，ｍ）、　３．２３〜３．５４（
２Ｈ，ｍ＞。

３．３７．４．５９（約１８．　ＡＢｑ、　Ｊ＝１２．
４Ｈｚ＞、　３．８０．３．８１（３Ｈ，２ｘｓ）、　
３．８９．４．５０（約ＩＨ，ＡＢｑ、　Ｊ＝１３．４
Ｈｚ）。

４．１０〜４．５４（２Ｈ，ｍ）、　５．０３．５．１
２（約ＩＨ，ＡＢｑ、　Ｊ＝１２Ｈｚ）、　５．１７．
５．２７（約１）１．　ＡＢｑ、　Ｊ４２Ｈｚ）、　６
．９０゜６．９２（２Ｈ，ｄｄ、　Ｊ：８．８Ｈｚ）、
　７．３３−７．４４（４Ｈ，ｍ＞。

８．６４．８．７３（２Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝５．８Ｈｚ＞
。

実施例Ｈ−２（スルホキシド還元） ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２＝（
４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ベネム−
３−カルボン酸ｐ−メトキシペンシルエステル（ｂ）ス
ルホキシド１３０ｍｇ（０，２７６ミリモル）のアセト
ン１　、３　ｍｌ溶液を一３０°Ｃ冷却し、これにヨウ
化カリウム１９０ｍｇ（４当母）と塩化アセチル０．０
８ｍ１（４当量）を加えて１時間攪１？する。反応液を
冷ハイポ水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、戻酸水
素ナトリウム水と水で洗い、乾燥、減圧濃縮する。残渣
をシリカゲル５ｇ上クロマトグラフィー（酢酸エチル）
で精製すれは６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メ
チル−２−（４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−
２−ペネム−３−カルボン酸ｐ−メトキシペンシルエス
テル（ｂ）４９ｍｇを得る。収率：３９％。

実施例Ｈ−３（Ｎ−メチル化） ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−エチル−２・−
（１−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ベネム
−３−カルボン酸ｐ−メトキンヘンシルエステル（ｂ）
３４５ｍｇ（０，７４ミリモル）の塩化メチレン１ｍｌ
溶液に、窒素中ヨウ化メチル０　、２３　ｍｌ（５当量
）を加えて室温−晩装置すると結晶が析出する。これを
濾取し、アセトンで洗浄後乾燥すれば６β−（１−ヒド
ロキシエチル）−１−エチル−２−（１−メチル−４−
ピリジニオチオ）メチル−１−カルバー２−ベネム−３
−カルリボン酸ｐ−メトキシベンンルエステル・ヨウ化
物（ｂ）３６４ｍｇを得る。

収率：８１８％。分解点１３９−１４０’Ｃ０ＩＲ（Ｎ
ｕｊｏｌ）ｌ／　：　３５１６．　３４７２．　３３７
２．　３１２０．　１７７０゜１６９９、１６３０．１
６１０．１５５５．１５１９゜１４９７、１２５２．８
１５０＝桐 元素分析：　（Ｃｘ５ＨｚａＮｚＯａＳ−ＣＨｓＩ　）
計算値：　ｃ、ｓｔ、１５；　Ｈ，５，１２；　Ｎ、４
．５９；ｓ、ｓ、ｚｓ；　１．２０．７９ 実測値：Ｃ，５０゜４７；　Ｈ，５，１４；　Ｎ、４．
６１；Ｓ、　５．７１゜ ＮＭＲ（ＶＸＲ−２００，ｄ、−ＤＭＳＯ）　　６　　
　：　　０．９２（３Ｈ，ｔ、　　　Ｊ＝７．５）１ｚ
＞、　１．１６（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、１．３
０−１．８８（２Ｈ，ｍ＞。

２．９６−３．０８（１）１．　　　ｍ）、　　３．７
５（３Ｈ，ｓ）、　　　３．９１−４．０５（１）１．
。

ｍ）、　４．１０−４．２１（ＩＨ，ｍ）、　４．１８
（３Ｈ，ｓ）、　４．２４゜４．６５＜２Ｈ，ＡＢｑ、
　Ｊ＝１０．５Ｈｚ＞、　５．１３．５．１９（２Ｈ，
ＡＢＱ。

Ｊ＝４．８Ｈｚ＞、　　６．８８．　７．３５（４Ｈ，
ＡＪ＋ｑ、　Ｊ＝８．１Ｈｚ）７．８４．８．５６（４
Ｈ，ＡｔＢｚｑ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ＞。

実施例Ｈ−４（Ｎ−アルキル化） ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−（
４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ベネム−
３−カルボン酸アリルエステル （２．６４ミリモル）のアセトニトリル１３ｍ１溶、夜
にヨードアセトアミド１．４　７　ｇ　（　３当量）を
加え、室温で８時間攪拌する。反応液を酢酸エチルで薄
め、生成する沈澱を酢酸エチルで洗い、真空乾燥すれば
６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−スチル−２−（
１−カルバモイルメチル−４−ピリジニオチオ）メチル
−１−カルバー２−ベネム−３−カルボン酸アリルエス
テル（ｂ）ヨウ化物１．２　７　ｇを得る。収率：８６
％。

ＩＲ（ＣＨＣＩｓ）Ｌ／　：　３６００〜３１００．　
　１７３５ｓｈ，　　１７２８。

１７１５ｓｈ，　１３７５．　１２６０−１１６０　ｃ
ｍ−’ＵＶ（ＣＨ．ＣＮ）μ　：　　２４６，　　　３
０７ｎｍ。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）式（II）で表わされる４β−（１β−アルキル−
   ２−カルボキシ−２−プロペニル）−２−アゼチジノン
   化合物。
2. （２）４−脱離基置換−２−アゼチジノン化合物（ I
   ）にトランス−２−脱離基置換メチル−３−アルキルア
   クリル酸化合物（III）と還元性金属を作用させること
   を特徴とする４β−（１β−アルキル−２−カルボキシ
   −２−プロペニル）−２−アゼチジノン化合物（II）の
   製法。 ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼ （ I ）（II）（III） （式中、 Ｒ＾１は水素、アルキルまたは置換アルキル、Ｒ＾２は
   置換基を有していてもよいアルキル、Ｒ＾３は水素また
   はカルボキシ保護基、 Ｒ＾４およびＲ＾５は脱離基、 をそれぞれ示す）