JP2893186B2 - １β―アルキルカルバペネム合成中間体の製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の概要］ この発明は抗生物質として著効を示す１β−アルキル
カルバペネム化合物の合成中間体とその経済的合成法に
関する。特に、この発明は４−脱離基置換２−アゼチジ
ノン化合物（Ｉ）にトランス−２−脱離基置換メチル−
３−アルキルアクリル酸化合物（III）と還元性金属を
作用させて４β−（１β−アルキル−２−カルボキシ−
２−プロペニル）−２−アゼチジノン化合物（II）を製
造する方法と生成物である４β−（１β−アルキル−２
−カルボキシ−２−プロペニル）−２−アゼチジノン化
合物（II）を提供するものである。

（式中、 R¹は水素、アルキルまたは置換アルキル、 R²は置換基を有していてもよいアルキル、 R³は水素またはカルボキシ保護基、 R⁴およびR⁵は、それぞれヒドロキシ、アシルオキシ、
スルフィニルおよびハロゲンからなる群から選択される
脱離基、 をそれぞれ示す） ［立体異性体］ この明細書に記載したこの発明のアゼチジン化合物
（II）とそれから誘導されるβ−ラクタム化合物後記
（１）〜（７）、（ａ）、（ｂ）などにおけるアゼチジ
ノン環の３位と４位は、チエナマイシンと同じ立体構造
である。３α−炭素または水素、３β−水素、４α−水
素、４β−炭素の構造を持ち、また、本発明の方法で導
入される４位側鎖内１−R²基はペネム環化後β体となる
ような立体構造を持つ。

アクリル酸誘導体（III）の幾何異性体を表わすシス
・トランスの表現は、そのR²基とCOOR³基の相対的位置
を示す。また、アゼチジノン中間体（Ｉ）、（II）およ
び後記（１）〜（７）などでアゼチジノン環に結合する
基の立体配置を示すαとβは各当該中間体から製造でき
るカルバペネム化合物（ａ）および（ｂ）における対応
基の立体配置と同じ表現を暫定的に用いる。

なお、R¹基が１−アセトキシエチル基である場合、そ
の絶対配置はＲである。

［産業上の利用分野］ この発明の目的物（II）から誘導される最終目的物で
ある１β−アルキルカルバペネム化合物（ｂ）は優れた
抗生物質で、ヒトおよび動物における感染症の予防およ
び治療などの目的に利用できる。

１β位にアルキル基を有するカルバペネム化合物（ｂ
など）は１β−無置換カルバペネム化合物を分解する腎
デヒドロペプチデースＩに対する抵抗力が強いので、近
頃活発に研究されている。

［従来技術］ 参考のために、１β−アルキルカルバペネム誘導体合
成のための代表的な先行技術を以下に例示する。

１）α、β−両異性体を製造し、各異性体を分離する方
法。テトラヘドロン・レターズ、26巻、583頁（1985
年）、特開昭60−158167号など。

２）１位カルバニオンをメチル化し、その１α−メチル
基を反転させる方法。ヘテロサイクルス、21巻、29頁
（1984年）など。

４）４位−脱離基置換−２−アゼチジノンとの置換によ
り炭素−炭素結合を形成する方法。アルドリキミカ・ア
クタ、18巻、95頁（1985年）；欧文日本化学会誌、59
巻、1363頁（1986年）；ジャーナル・オブ・オーガニッ
ク・ケミストリー、50巻、3438頁（1985年）；ケミスト
リー・レターズ、1985年、1343頁；テトラヘドロン・レ
ターズ、26環、4739頁（1985年）；同誌、28巻、507頁
（1987年）など。

４）アルドール反応により炭素−炭素結合を生成する方
法。米国化学会誌、108巻、4675頁（1986年）；同誌、1
08巻、4673頁（1986年）;J.C.S.ケミカル・コミューニ
ケイションズ、1986年、602頁；テトラヘドロン・レタ
ーズ、27巻、5687頁（1986年）など。

５）還元反応によりカルバペネム環上の１−メチル基を
β化する方法。テトラヘドロン・レターズ、28巻、507
頁（1987年）；同誌、27巻、2149頁（1987年）；同誌、
28巻、1857頁（1987年）；ジャーナル・オブ・オーガニ
ック・ケミストリー、52巻、2563頁（1987年）など。

６）１βメチル基を不斉源から誘導する方法。テトラヘ
ドロン・レターズ、27巻、247頁（1986年）；同誌、27
巻、6241頁（1986年）；特開昭62−29577号など。

［この発明が解決すべき課題］ この発明を経て製造しうる最終目的化合物である１β
−アルキルカルバペネム化合物は優れた抗生物質である
が、従来技術では多数の工程を要し、低収率である上、
立体的に純粋な生成物を得るには各工程で分別再結晶、
分別クロマトグラフィーなど非工業的な方法で異性体分
離をせざるを得なかった。そこで、立体特異的反応を利
用して、工業的に採用可能な経済性、操作性が発揮され
うる方法が嘱望されていた。

［発明の効果］ 今回、発明者は立体的に純粋な工業原料（Ｉ）と経済
的に製造可能な試薬（III）とを温和な条件下に反応さ
せて目的物とする１β−アルキルカルバペネム化合物製
造用中間体（II）を高収率で構成する下記反応を見出し
た。この反応は立体特異性が高く反応混合物の立体化学
的純度が高いため、簡単な結晶化などによって立体化学
的に殆ど純粋な生成物を容易に単離できる。これによっ
て合成工程操作の困難性と非経済性を解消できる。

この単工程での成功の結果、以後の各工程も立体的に
純粋な状態で進行するため、各工程の操作性と生成物の
収率が著しく向上し、最終目的物質の工業化、経済化を
促進できる。

［課題を解決するための手段］ この発明によれば、４−脱離基置換−２−アゼチジノ
ン化合物（Ｉ）にトランス−２−脱離基置換メチル−３
−アルキルアクリル酸化合物（III）と還元性金属を作
用させて４β−（１β−アルキル−２−カルボキシ−２
−プロペニル）−２−アゼチジノン化合物（II）を製造
する。

（式中、 R¹は水素、アルキルまたは置換アルキル、 R²は置換基を有していてもよいアルキル、 R³は水素またはカルボキシ保護基、 R⁴およびR⁵は、それぞれヒドロキシ、アシルオキシ、
スルフィニルおよびハロゲンからなる群から選択される
脱離基、 をそれぞれ示す） ［反応の新規性］ この発明の反応は還元的求核置換反応に属するが、文
献未記載である。この４β−（１β−アルキル−２−カ
ルボキシ−２−プロペニル）−２−アゼチジノン化合物
（II）を製造する立体特異的反応にはトランス−２−脱
離基置換メチル−３−アルキルアクリル酸化合物（II
I）のカルボキシ基の存在が必要条件である。

下表Ｉは、これを立証する。すなわち、本発明反応と
同一の出発物質である４α−アセトキシ−３α（１−第
３級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−２−アゼチ
ジノン（Ｉ）に対して、本発明のトランス−２−ブロモ
メチル−クロトン酸のメチルエステルまたはエチルエス
テル（III）の代わりに、カルボキシ基を還元したトラ
ンス−２−ブロモメチル−２−ブテノールのアセテート
（IV）または同トリチルエーテル（Ｖ）を同一条件下に
反応 させると４β−（１−メチル−２−（アセトキシまたは
トリチルオキシ）メチル−２−プロペニル）−３α−
（１−第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−２
−アゼチジノンの４β側鎖の１位におけるαとβ両立体
異性体の混合物が低収率で生成する。この対照反応は新
反応である。

［各基の説明］ 本明細書において、R¹基はペネム系、カルバペネム系
化合物の６位置換基として公知の基も含む。殊に、水素
または１位にヒドロキシ基またはハロゲン原子を持つ炭
素数１〜10のアルキル基が好適である。このヒドロキシ
基は最終目的化合物に至るまでに除去できる保護基を有
していてもよい。代表的なR¹基は炭素数１〜８のアルキ
ル（例えば、メチル、エチル、プロピルなど）、炭素数
１〜８のヒドロキシアルキル（例えば、ヒドロキシメチ
ル、１−ヒドロキシエチル−１−ヒドロキシプロピル、
２−ヒドロキシイソプロピルなど）、炭素数１〜８のハ
ロアルキル（例えば、フルオロメチル、クロロメチル、
１−フルオロエチル、２−フルオロイソプロピル、トリ
フルオロメチルなど）、炭素数４〜８のジオキソレニル
｛例えば、２−オキソ−４−アルキル（例えば、メチ
ル、エチル、プロピル）ジオキソレニルなど｝などであ
る。

前記ヒドロキシアルキル基中のヒドロキシ基は後記R⁶
の保護基を有していてもよい。代表的なヒドロキシ保護
基は脱離容易なエステル形成基［炭素数１〜15のカルボ
ン酸アシル（低級アルカノイル、アロイルなど）、炭素
数２〜10の炭酸アシル（低級アルコキシカルボニル、ク
ロロアルコキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル、ｏ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、アリルオキシカルボニル）など］、炭素
数２〜８のエーテル形成基（メトキシメチル、メトキシ
エトキシメチル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロ
ピラニルなど）、炭素数３〜18の炭化水素化シリル（ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニル
シリル、ジフェニルメチルシリル、ジエチル第３級ブチ
ルシリル、ジメチル第３級ペンチルシリルなど）、炭素
数７〜19の活性アラルキル（トリフェニルメチルなど）
などである。

R²基はアルキル基または置換アルキル基である。殊
に、炭素数１〜８のアルキルが好適である。代表例には
炭素数１〜３のアルキル（例えば、メチル、エチル、プ
ロピル）、炭素数１〜５のハロアルキル（例えば、フル
オロアルキル、クロロアルキル、ブロモアルキル）、炭
素数１〜５の炭素置換アルキル（例えば、シアノアルキ
ル、カルバモイルアルキル、カルボキシアルキル、保護
カルボキシアルキル、アルケニル、アルキニルなど）、
炭素数１〜５の窒素置換アルキル（例えば、アミノアル
キル、ウレイドアルキル、ホルムイミドイルアルキルな
ど）、炭素数１〜５の酸素置換アルキル（炭素数、ヒド
ロキシアルキル、アルカノイルオキシアルキル、カルバ
モイルオキシアルキル、ヒドロキシアルキルオキシアル
キル、アミノアルコキシアルキル、ハロアルコキシアル
キルなど）、炭素数１〜５の硫黄置換アルキル（例え
ば、アルキルチオアルキル、アミノアルキルチオアルキ
ル、ヒドロキシアルキルチオアルキル、ハロアルキルチ
オアルキル、アルキルスルフィニルアルキル、アミノア
ルキルスルフィニルアルキル、ヒドロキシアルキルスル
フィニルアルキル、ハロアルキルスルフィニルアルキ
ル、アルキルスルホニルアルキル、アミノアルキルスル
ホニルアルキル、ヒドロキシアルキルスルホニルアルキ
ル、ハロアルキルスルホニルアルキルなど）などがあ
る。前記ヒドロキシ基を有する誘導体はR¹の項で説明し
たヒドロキシ保護基を有していてもよい。

R³基は水素原子またはカルボキシル保護基である。こ
のカルボキシ保護基は１β−アルキル化カルバペネム化
合物合成のためにはアラナート還元の際に脱離する。従
って、複雑な構造のエステル基も利用できるが、一般に
は構造の簡単な反応を阻害しないエステル基（炭素数８
までのアルキルなど）が好適である。

後述の式（４）〜（ｂ）におけるR⁷基は水素原子また
はカルボキシ保護基である。このカルボキシル保護基は
ペニシリン、セファロスポリン化学の分野で公知の、例
えば、分子中の他の部分に不都合な変化を起こさずに着
脱可能な炭素数19までの反応用カルボキシ保護基および
医薬用カルボキシ保護基、すなわち医薬用塩形成基およ
び薬理学的活性エステル形成基も含む。

これらR³およびR⁷基の代表例には、例えば炭素数１〜
８のアルキル（メチル、メトキシメチル、エチル、エト
キシメチル、ヨードエチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、エトキシエチル、メチルチオエチ
ル、メタンスルホニルエチル、トリクロロエチル、第３
級ブチルなど）、炭素数３〜８のアルケニル（プロペニ
ル、アリル、プレニル、ヘキセニル、フェニルプロペニ
ル、ジメチルヘキセニルなど）、炭素数７〜19のアラル
キル（ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、
メトキシベンジル、エトキシベンジル、ニトロベンジ
ル、アミノベンジル、ジフェニルメチル、フェニルエチ
ル、トリチル、ジ第３級ブチルヒドロキシベンジル、フ
タリジル、フェナシルなど）、炭素数６〜12のアリール
（フェニル、トルイル、ジイソプロピルフェニル、キシ
リル、トリクロロフェニル、ペンタクロロフェニル、イ
ンダニルなど）、炭素数１〜12のアミノ（アセトンオキ
シム、アセトフェノンオキシム、アセトアルドキシム、
Ｎ−ヒドロキシこはく酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル
イミドなどとのＮ−エステルを構成する基）、炭素数３
〜12の炭化水素化シリル（トリメチルシリル、ジメチル
メトキシシリル、第３級ブチルジメチルシリルなど）、
炭素数３〜12の炭化水素化スタニル（トリメチルスタニ
ルなど）などがある。このカルボキシル保護基は最終目
的物までに脱離させるので、保護の目的を達する限り、
その構造は必ずしも重要ではなく、広範囲な均等基（ア
ミド、炭酸またはカルボン酸との酸無水物など）も利用
できる。

塩形成用カルボキシル保護基R⁷としてはペニシリン、
セファロスポリンの分野で公知の生理学的に受容しうる
イオンとなりうる周期律表第Ｉ〜III属、第２〜４周期
に属する軽金属が好ましい。代表例にはリチウム、ナト
リウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミ
ニウムなどがある。アンモニウム塩は合成用、保存用な
どに好適である。代表例には炭素数１〜12のアルキルア
ミン（トリメチルアミン、トリエチルアミン、メチルモ
ルホリンなど）や炭素数４〜９の芳香族塩基（ピリジ
ン、コリジン、ピコリン、キノリン、ジメチルアニリン
など）などとの塩を構成するアンモニウム基がある。

薬理学的活性エステル形成基R⁷は経口または非経口投
与で抗菌作用を示すものである。代表例には、置換基を
有していてもよく、炭素数２〜15の１−酸素置換アルキ
ル｛例えば、直鎖、分枝、環状または部分環状のアルカ
ノイルオキシアルキル（アセトキシメチル、アセトキシ
エチル、プロピオニルオキシメチル、ピバロイルオキシ
メチル、ピバロイルオキシエチル、シクロヘキサンアセ
トキシエチル、シクロヘキサンカルボニルアキシシクロ
ヘキシルメチルなど）、炭素数３〜15のアルコキシカル
ボニルオキシアルキル（エトキシカルボニルオキシエチ
ル、イソプロポキシカルボニルオキシエチル、イソプロ
ポキシカルボニルオキシプロピル、第３級ブトキシカル
ボニルオキシエチル、イソペンチルオキシカルボニルオ
キシプロピル、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ
エチル、シクロヘキシルメトキシカルボニルオキシエチ
ル、ボルニルオキシカルボニルオキシイソプロピルな
ど）、炭素数２〜８のアルコキシアルキル（メトキシメ
チル、メトキシエチルなど）、炭素数４〜８の２−オキ
サシクロアルキル（テトラヒドロピラニル、テトラヒド
ロフラニルなど）など｝、炭素数８〜12の置換アラルキ
ル（フェナシル、フタリジルなど）、炭素数６〜12のア
リール（フェニル、キシリル、インダニルなど）、炭素
数２〜12のアルケニル（アリル、オキソジオキソレニル
メチルなど）などがある。

R⁴およびR⁵基は脱離基である。代表例にはヒドロキ
シ、アシルオキシ［カルボン酸アシルオキシ（炭素数１
〜８のアルカノイルオキシ、炭素数１〜８の置換アルカ
ノイルオキシ、炭素数７〜15のアロイルオキシなど）、
スルホン酸アシルオキシ（炭素数１〜８のアルキルスル
ホニルオキシ、炭素数１〜８の置換アルキルスルホニル
オキシ、炭素数６〜10のアリールスルホニルオキシな
ど）など］、スルフィニル（炭素数１〜８のアルキルス
ルフィニル、炭素数６〜10のアリールスルフィニルな
ど）、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素）などがある。

なお、前記R¹〜R⁷各基の説明に記載した炭素数は保護
基ないし修飾基の炭素を含めた数値である。各基に不都
合な変化をする反応性基を持つ場合は事前に保護し、後
段階で脱保護するのが好ましい。

前記各基のアルキル部分は置換基を有していてもよい
直鎖、分枝または環状のアルキルである。代表的なアル
キル基にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
シクロプロピル、ブチル、イソブチル、第３級ブチル、
シクロブチル、シクロプロピルメチル、ペンチル、イソ
ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、シクロプロ
ピルエチル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロペンチ
ルメチル、ヘプチル、シクロヘプチル、シクロペンチル
エチル、シクロヘキシルメチル、オクチル、シクロオク
チル、シクロヘキシルエチル、ノニル、ドデシルなどが
ある。

アラルキル部分はアルキル部分とアリール部分の結合
したものである。代表的なアラルキル基には置換基を有
していてもよいベンジル、フェニルエチル、フェニルプ
ロピル、フェニルイソプロピル、ナフチルメチル、フリ
ルメチル、チエニルプロピル、オキサゾリルメチル、チ
アゾリルメチル、イミダゾリルメチル、トリアゾリルメ
チル、ピリジルメチル、インドリルメチル、ベンゾイミ
ダゾリルエチル、ベンゾチアゾリルメチル、キノリルメ
チルなどがある。

アシル部分は置換基を有していてもよい直鎖、分枝ま
たは環状のアルカノイル、アルキルスルホニル、カルバ
モイル、カルボアルコキシ、スルホなどおよび置換基を
有していてもよく、単環または双環で炭素環または異項
環のアロイル、アラルカノイル、アリールアルケノイ
ル、アリールスルホニル、カルボアラルコキシなどであ
る。

アリール部分は置換基を有していてもよい各５〜６員
環の単環または双環で炭素環または異項環のアリール基
である。この異項環は異原子として酸素、窒素、硫黄を
有しうる。代表的なアリール基にはフェニル、ナフチ
ル、インデニル、フリル、チエニル、ピロリル、オキサ
ゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、オキサジアゾリ
ル、チアジアゾリル、トリアゾリル、チアトリアゾリ
ル、テトラゾリル、ピリジル、ピラニル、インドリル、
ベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾイミダゾリル、
ベンゾチアゾリル、ベンゾピラジニル、キノリル、ピリ
ドピリジル環基などがある。

ハロゲンにはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素の他にシュ
ードハロゲン（アルカンスルホニルオキシ、アリールス
ルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ、トリフルオロアセトキシ、シアノ、チオシアナト、
イソチオシアナトなど）などの均等基も含む。

前記のような各基に結合できる置換基の代表例には炭
素官能基（直鎖、分枝または環状のアルキル、アルケニ
ル、アルキニル、アラルキル、アリール、異項環基、カ
ルボン酸アシル、カルバモイル、カルボキシ、保護カル
ボキシ、シアノなど）；窒素官能基（アミノ、アシルア
ミノ、グアニジル、ウレイド、アルキルアミノ、ジアル
キルアミノ、イソチオシアノ、イソシアノ、ニトロ、ニ
トロソなど）；酸素官能基（ヒドロキシ、アルコキシ、
アリールオキシ、異項環オキシ、シアナト、オキソ、カ
ルボン酸アシルオキシ、スルホン酸アシルオキシ、燐酸
アシルオキシなど）；硫黄官能基（メルカプト、アルキ
ルチオ、アルキルスルホニル、アリールチオ、アリール
スルホニル、異項環チオ、異項環スルホニル、アシルチ
オ、チオキソ、スルホ、スルファモイルなど）；ハロゲ
ン（フッ素、塩素、臭素、ヨードなど）；シリル基（ト
リアルキルシリル、ジアルキルアルコキシシリルな
ど）；スタニル基（トリアルキルスタニルなど）などが
ある。

［反応操作条件］ 前記の通り、この発明では下記反応式に従って４−脱
離基置換−２−アゼチジノン化合物（Ｉ）にトランス−
２−脱離基置換メチル−３−アルキルアクリル酸化合物
（III）と還元性金属とを作用させて４β−（１β−ア
ルキル−２−カルボキシ−２−プロペニル）−２−アゼ
チジノン化合物（II）を製造する。

（式中、 R¹は水素、アルキルまたは置換アルキル、 R²は置換基を有していてもよいアルキル、 R³は水素またはカルボキシ保護基、 R⁴およびR⁵は、脱離基、 をそれぞれ示す） この反応は溶媒中で実施する。反応溶媒としては、脂
肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、
エーテル、エステル、ニトリル、アミド、スルホキシ
ド、芳香族塩基、アルコールなど原料を溶解でき、反応
を阻害しない有機溶媒またはその混合物を利用できる。
特にアミド系、エーテル系などの溶媒が好適である。

反応温度は−10〜50℃、とくに室温付近が好適であ
る。この場合、反応は通常0.5〜10時間で終了する。こ
の反応には攪拌、脱水（分子篩など）、不活性気体など
を適用することもできる。生成物の粗収率は85〜99％に
達し、またその立体特異性は極めて高い。

［副原料］ ここに用いるトランス−２−脱離基置換メチル−３−
アルキルアクリル酸化合物（III）は、例えばアクリル
酸エステル（VI）とアルカナール（VII）とを第３級塩
基（トリアルキルアミン、４−メチルモルホリン、キヌ
クリジン、ジメチルアニリンなど）の存在下に縮合させ
て２−（１−ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル
（VIII）とし、これに室温付近で濃硫酸などによる脱水
条件下にハロゲン化水素などによるハロゲン置換反応を
施せば好収率で製造できる。

ここに用いる還元性金属としては酸化還元電位が水素
電極に対して−0.1〜−0.8の金属（亜鉛、クロム、ガリ
ウム、鉄、カドミウム、イ ンジウム、タリウム、コバルト、ニッケル、モリブデ
ン、錫など）または塩を例示できる。金属は常法により
重金属塩（塩化第一銅、臭化第一銅などの第一銅塩、塩
化水銀、酢酸水銀などの水銀塩など）、酸（塩酸、硫
酸、臭化水素などの鉱酸、強カルボン酸など）などで活
性化できる。

［生成物の用途］ この発明により製造される化合物（II）は１β−アル
キルカルバペネム化合物製造用の出発原料として有用で
ある。

例えば、下記反応Ａ〜Ｈを組合わせ、次頁以下に記載
する反応式の合成経路などによって１β−アルキル−２
−ヒドロキシメチルカルバペネム化合物（ａ）を高収率
で製造できる。この化合物（ａ）に、例えば、異項環チ
オールによる求核置換と脱保護を施せば強力な抗菌作用
を示す最終目的化合物（ｂ）である６α−（１−ヒドロ
キシエチル）−１β−メチル−２−異項環チオメチルカ
ルバ−２−ペネム−３−カルボン酸などを製造できる。
要すれば、更に付加的処理を施して更に強力な抗菌作用
を示す化合物（ｂ）に誘導することもできる。

式中、R⁶はヒドロキシ基の保護基、R⁷はカルボキシ基
の保護基、Arはアリール基、Hetは複素環式基を示す。

［後続工程説明］ 各工程の反応Ａ〜Ｈは単位操作としては公知反応であ
る。従って、溶媒、試薬、温度、時間などの反応条件は
文献公知の単位操作法からも適当なも のを選択できる。

化合物（１）〜（６）は文献未知の新物質である。従
って各工程は新規類似反応である。

A:カルボキシ還元 E:環化 B:ヒドロキシ保護・脱保護 F:求核置換 C:2重結合開裂 G:カルボキシ脱保護 D:グリオキシル酸付加 H:付加的処理 反応Ａ〜Ｈの反応条件を以下に例示する。

A:カルボキシ還元 不活性溶媒（トルエンなど）中、−10〜30℃で攪拌し
ながら原料カルボン酸エステルに水素化アルミニウム還
元剤（水素化ジイソブチルアルミニウムなど）１〜５当
量を１〜５時間作用させれば第１級アルコールを得る。

B:ヒドロキシ基保護と脱保護 ａ）酢酸エステル 不活性溶媒（ジクロロメタンなど）中、−10〜30℃で
攪拌しながら第３級塩基（トリエチルアミンなど）の存
在下、原料アルコールにハロゲン化アセチルまたは無水
酢酸を１〜20時間作用させれば酢酸エステルを得る。酢
酸エステル型保護基は、例えばメタノール中ナトリウム
・メトキシドで脱保護できる。

ｂ）トリチルエーテル 不活性溶媒（ジクロロメタンなど）中、−10〜50℃で
攪拌しながら第３級塩基（トリエチルアミンなど）の存
在下、原料アルコールにハロゲン化トリフェニルメチル
を１〜20時間作用させればトリチルエーテルを得る。ト
リチルエーテル型保護基は、例えばアセトニトリル、酢
酸または酢酸エチル中塩酸で脱保護できる。

ｃ）第３級ブチルジメチルシリルエーテル 不活性溶媒（ジメチルホルムアミドなど）中、−10〜
50℃で攪拌しながら、原料アルコールに塩基（イミダゾ
ールなど）とハロゲン化第３級ブチルジメチルシリルを
１〜20時間作用させれば第３級ブチルジメチルシリルエ
ーテルを得る。第３級ブチルジメチルシリルエーテル型
保護基は、例えばアセトニトリル中塩酸で脱保護でき
る。

C:2重結合開裂 不活性溶媒（ジクロロメタン、メタノールなど）中、
−80〜−50℃で攪拌しながら要すれば酸（トリフルオロ
酢酸など）の存在下、原料アルケンにオゾンを１〜20時
間作用させる。反応液に還元剤（ジメチルスルフィド、
亜鉛など）を加えた後、後処理すればケトンを得る。

D:グリオキシル酸付加 ａ）グリオキシル酸付加 不活性溶媒（テトラヒドロフランなど）中、０〜50℃
で攪拌しながら要すれば塩基（トリエチルアミンなど）
の存在下、原料アゼチジノンにグリオキシル酸エステル
１〜２当量を１〜30時間作用させればグリオキシル酸付
加物を得る。

ｂ）ハロゲン化 不活性溶媒（テトラヒドロフランなど）中、−20〜50
℃で攪拌しながら塩基（2,6−ルチジンなど）の存在
下、原料アルコールにハロスゲン化剤（塩化チオニルな
ど）１〜２当量を１〜５時間作用させれば塩化物を得
る。

ｃ）イリド化 不活性溶媒（テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）
中、０〜50℃で攪拌しながら塩基（2,6−ルチジンな
ど）と反応促進剤（臭化ナトリウムなど）の存在下、原
料塩化物にトリアリールホスフィン１〜２当量を１〜30
時間作用させればイリドを得る。

E:ウィッティヒ環化 原料イリドを不活性溶媒（ベンゼンなど）中、50〜12
0℃に１〜５時間加熱すれば１β−アルキルカルバペネ
ム化合物を得る。

F:求核置換 ａ）クロロまたはメシルオキシ体 不活性溶媒（ジクロロメタン、アセトニトリルなど）
中、−70〜30℃で攪拌しながら塩基（ジメチルアミノピ
リジン、トリエチルアミンなど）の存在下、原料アルコ
ールに求核試薬（塩化ジフェニルホスフェート、四塩化
炭素＋トリフェニルホスフィン、塩化メタンスルホニル
など）１〜２当量を１〜５時間作用させた後、同温で塩
化トリメチルシリル１〜５当量を加え、１〜８時間反応
させればクロロ体またはメシルオキシ体を得る。

ｂ）（２または４）−ピリジルチオ体 不活性溶媒（ジクロロメタン、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミドなど）中、−10〜50℃で攪拌しながら
塩基（トリエチルアミンなど）、反応促進剤（ヨウ化ナ
トリウムなど）の存在下、原料クロロ体またはメシルオ
キシ体に（２または４−メルカプト）ピリジン１〜２当
量を１〜５時間作用させれば（２または４−ピリジルチ
オ）体を得る。

ｃ）（２または３）−ピリジルチオ体 不活性溶媒（ジクロロメタンなど）中、10〜−70℃で
攪拌しながらホスフィン（トリ−ｎ−ブチルホスフィン
など）の存在下、原料アルコール（２または３−ピリジ
ル）ジスルフィド１〜２当量を１〜５時間作用させれば
（２または３−ピリジルチオ）体を得る。

G:カルボキシル脱保護 メトキシベンジルエステル型保護基は不活性溶媒（ジ
クロロメタンなど）中、10〜−70℃で攪拌しながらカル
ボニウムイオン捕獲剤（アニソール、チオフェノールな
ど）存在下にルイス酸（塩化アルミニウムなど）0.1〜
２重量を１〜５時間作用させれば脱保護され、アリルエ
ステル型保護基は氷冷不活性溶媒中パラジウムテトラキ
ストリフェニルホスフィン触媒量とエチルヘキサン酸ナ
トリウム約１当量を加えて１〜５時間攪拌すれば脱保護
されてカルボン酸となり、中和すれば塩を得る。

［反応温度・時間］ 前記各合成法は通常−30〜100℃、殊に、−20〜50℃
の温度で10分間〜10時間かけて反応させることが多い。
これらは溶媒中、要すれば無水条件下に実施する。その
他の常法はいずれも適用できる。

［反応溶媒］ この発明の反応と生成物の利用に用いる反応Ａ〜Ｈの
反応溶媒としては、炭化水素（ペンタン、ヘキサン、オ
クタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、ハロゲ
ン化炭化水素（ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベン
ゼンなど）、エーテル（ジエチルエーテル、メチルイソ
ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランな
ど）、ケトン（アセトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノンなど）、エステル（酢酸エチル、酢酸イソブ
チル、安息香酸メチルなど）、ニトロ炭化水素（ニトロ
メタン、ニトロベンゼンなど）、ニトリル（アセトニト
リル、ベンゾニトリルなど）、アミド（ホルムアミド、
アセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドなど）、スル
ホキシド（ジメチルスルホキシドなど）、カルボン酸
（ギ酸、酢酸、プロピオン酸など）、有機塩基（ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、コ
リジン、キノリンなど）、アルコール（メタノール、エ
タノール、プロパノール、ヘキサノール、オキタノー
ル、ベンジルアルコールなど）、水、その他の系列に属
する工業用溶媒またはその混合物を例示できる。

［後処理］ 目的とする反応生成物は反応液から夾雑物（未反応原
料、副生成物、溶媒など）を常法（抽出、蒸発、洗浄、
濃縮、沈殿、ロ過、乾燥など）により除去したのち、常
用の後処理（吸着、溶離、蒸留、沈殿、析出、クロマト
グラフィーなど）を組合せて処理すれば単離することが
できる。

［本発明の反応］ 実施例Ｉ−１ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝メチル、R⁴＝アセトキシ、R⁵＝ブ
ロム。

亜鉛末6.0gをテトラヒドロフラン80ml中室温で臭化第
二銅150mgと一時間攪拌する。次いでアセテート（Ｉ）1
4.35gのテトラヒドロフラン20ml溶液を加え、内温を30
〜35℃に保ちつつメチル誘導体メチルエステルのブロム
体（III）12.0gのテトラヒドロフラン40ml溶液を2.5時
間を要して滴下する。次いで同温度で１時間攪拌する。
反応液を酢酸エチルで稀釈し、飽和食塩水を加え30分間
攪拌したのち、不溶物を濾去（セライト）する。有機層
は食塩水で洗い、MgSO₄で乾燥、溶媒留去すれば約20gの
結晶残渣を得る。これをｎ−ヘキサンで洗えば目的とす
るメチル誘導体のメチルエステル（II）10.5gを得る。
洗液はシリカゲル110g上クロマトグラフ（トルエン：酢
酸エチル9:1）すれば、更に化合物（II）5.88gを分離で
きる。合計16.38g。mp.100−101.5℃（エーテル−ｎ−
ヘキサンから再結晶）。

IRν：（Nujol）3155,3088,1752,1717,1622 1251,1140,
1050,826cm^-1。

NMR（VXR200,CDCl₃）δ:0.06（6H,s）,0.87（9H,s）,1.
14（3H,d,J＝6.2Hz）,1.15（3H,d,J＝7.1Hz）,2.84（1
H,m）,3.04（1H,quintet,J＝7.7Hz）,3.74（1H,dd,J＝6
Hz,2.2Hz）,3.76（1H,s）,4.16（1H,dq,J＝6.2Hz,J＝4.
4Hz）,5.65（1H,s）,5.91（1H,brs）,6.32（1H,d,J＝0.
8Hz）。

実施例Ｉ−２ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝エチル、R⁴＝アセトキシ、R⁵＝ブ
ロム。

前記メチル誘導体メチルエステルの場合と同じ条件下
にアセテート（Ｉ）にメチル誘導体エチルエステルのブ
ロム体（III）を反応させれば目的とするメチル誘導体
のエチルエステル（II）を得る。収率:87.2％。

mp 91.5−92.5℃（ヘキサンから再結）。

IR:ν（CHCl₃）3380,1750,1700,1611cm^-1。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.83（9H,s）,1.09（3H,J＝5H
z）,1.10（3H,d,J＝6.3Hz）,1.25（3H,t,J＝6.6Hz）,2.
82（1H,m）,2.93−3.13（1H,m）,3.70（1H,dd,J＝6.0H
z,J＝2.0Hz）,4.17（2H,q,J＝6.6Hz）,4.0〜4.28（1H,
m）,5.58（1H,s）,6.15（1H,brs）,6.27（1H,s）。

実施例Ｉ−３ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝エチル、R³＝メチル、R⁴＝アセトキシ、R⁵＝ブ
ロム。

前記メチル誘導体のメチルエステルまたはエチルエス
テルの場合と同じ条件下にアセテート（Ｉ）14.35gに亜
鉛と臭化第二銅の存在下、エチル誘導体メチルエステル
のブロム体（III）を反応させれば目的とするエチル誘
導体のメチルエステル（II）を得る。収率：約80％。

mp 105.5−６℃。

IR:ν（Nujol）3150,3100,1760,1727,1626,1256cm^-1。

NMR（VXR200,CDCl₃）δ:0.042（約6H,s）,0.86（9H,
s）,0.87（3H,t,J＝4.5Hz）,1.09（3H,d,J＝6.3Hz）,1.
45〜1.69（2H,m）,2.71（1H,m）,2.79（1H,dd,J＝2.9H
z,J＝1.1Hz）,3.75〜3.78（1H,m）,3.75（1H,s）,4.14
（1H,dq,J＝6.3Hz,2.9Hz）,5.62（1H,d,J＝0.7Hz）、5.
89（1H,brs）,6.38（d,J＝0.9Hz）。

実施例Ｉ−４ 前記実施例と同様の反応条件下、下記付加化合物（I
I）を製造できる。

［副原料アクリル酸化合物（III）製造］ 製造例１ R²＝メチル、R³＝メチル、R⁵＝ブロム。

S.E.ドリュース、D.エムスリーら：ジャーナル・オブ
・ケミカル・ソサイエティー・パーキン・トランスアク
ションＩ、第2079頁と第2079頁（1982年）記載の方法を
準用し、メチルエステル（VI）8.6gの濃HBr16.5ml溶液
に、氷冷しつつアセトアルデヒド（VII）4.5gと濃硫酸1
5mlを滴下し、次いで室温で一夜攪拌する。反応液はエ
ーテルで３回抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗い、MgSO
₄で乾燥し、溶媒留去し、残渣を減圧蒸留すればメチル
エステル（III）8.59gを得る。83〜85℃/10mmHg。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:1.94（3H,d,J＝6.5Hz）,3.85
（3H,s）,4.27（2H,s）,7.10（1H,q,7＝6.5Hz）。

製造例２ R²＝メチル、R³＝エチル、R⁵＝ブロム。

前記文献の方法を準用し、エチルエステル（VI）を前
記と同様にアルデヒド（VII）で処理すればエチルエス
テル（III）を得る。収率:59％。bp 63−65℃/1mmHg。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.33（3H,t,J＝6.6Hz）,0.90
（3H,d,J＝6.5Hz）,4.25（2H,s）,4.26（2H,q,J＝6.6H
z）,7.07（1H,q,J＝6.5Hz）。

製造例３ R²＝エチル、R³＝メチル、R⁵＝ブロム。

前記文献の方法を準用し、メチルエステル（VI）を前
記と同様にアルデヒド（VII）で処理すればメチルエス
テル（III）を59％で得る。収率：約50％。bp 80℃/7mm
Hg。

［実験例：無カルボキシ体比較実験］ 参考例１ R¹＝１（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル、
R²＝メチル、R³＝トリチル、R⁴＝アセトキシ、R⁵＝ブロ
ム。

亜鉛末、0.80gをテトラヒドロフラン、20mlに加え、
室温でかきまぜながら臭化第二銅0.10gを加え、同温で3
0分かきまぜて亜鉛を活性化する。アセテート（Ｉ）1.4
4gのテトラヒドロフラン10ml溶液を加え、ついで内温を
約35℃に保ちつつアリルブロミドトリチルエーテル（V
I）2.20gのテトラヒドロフラン10ml溶液を30分間をかけ
て滴下し、次いで同温で2.5時間攪拌する。反応液は酢
酸エチルで稀釈し、飽和食塩水を加え、攪拌したのち不
溶物を濾去する。濾液を食塩水で洗浄、乾燥（Na₂SO₄）
後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ローバーカラムＢ×２、トルエン：酢酸エチル＝4:
1）で精製すれば、始めに流出する部分からトリチルエ
ーテル付加物（VII）の１（Ｒ）−メチル異性体0.45g
（収率:16％）を得る。

mp.89−91℃（アセトン−ｎ−ヘキサン再結）。

IR（Nujol）ν:3452,3172,1762,1733,1725,cm^-1。

［α］²⁴ _D−36.0±0.8（c,1.012,CHCl₃）。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.07（約6H,s）,0.85（約9H,
s）,1.14（3H,d,J＝6Hz）,1.15（3H,J＝7.2Hz）,2.83
（1H,m）,2.86（1H,dd,J＝4.8Hz,1.7Hz）,3.42（1H,br
s）,3.77（1H,dd,J＝5.2Hz,J＝1.7Hz）,4.10（1H,qd,J
＝6.0,J＝4.8Hz）,6.72（1H,brs）。

後に流出する部分から同付加物（VII）の１（Ｓ）−
メチル異性体0.50g（収率:18％）を得る。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.85（9H,s）,1.11（3H,d,J＝
5.4Hz）,1.17（3H,d,J＝6.5Hz）,1.88〜2.23（1H,m）,
2.55（1H,d,J＝6Hz）,3.42（1H,d,J＝6.3Hz）,3.53（2
H,brs）,3.93〜4.23（1H,m）,4.93（1H,s）,5.32（1H,
s）,6.16（1H,s）,7.06〜7.47（15H,m）（１β−メチル
ベネム体に対応）。

アリルブロミドトリチルエーテル（VI）は１−ブロモ
メチルクロトン酸メチルエステルを水素化ジイソブチル
アルミニウムで還元後、トリチル化して製造した。

参考例２ R¹＝（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル、R²
＝メチル、R³＝アセチル、R⁴＝アセトキシ、R⁵＝ブロ
ム。

亜鉛末0.80gと臭化銅0.10gをテトラヒドロフラン6ml
中、室温で30分間かきまぜる。これにアセテート（Ｉ）
1.44gのテトラヒドロフラン2ml溶液を加え、内温を35〜
38℃に保ちつつアリルブロミドアセテート（VI）1.10g
のテトラヒドロフラン5ml溶液を滴下し、同温で２時間
攪拌する。反応液を前記同様に処理し、残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（ローバーカラムＢ×２、トリエ
ン：酢酸エチル＝4:1）で精製すればアセテート付加物
立体異性体（R,S−VII）の混合物0.23gを得る。合計収
率:13％。NMRスペクトルで定量するとR²に関する両異性
体の比はβ：α≒5:2となる。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.90（9H,s）,1.09〜1.29（6
H,m）,2.25〜2.55（1H,m）,2.71（約2H/7,dd,J＝4.5Hz,
J＝2Hz）,2.82（約5H/7,dd,J＝4.5Hz,J＝3Hz）,3.54
（約2H/7,dd,J＝9.5Hz,J＝2Hz）,3.71（約5H/7,dd,J＝
6.6Hz,J＝3Hz）,4.03〜4.30（1H,m）,4.56（2H,s）,5.0
4（1H,s）,5.17（1H,s）,6.25（約2H/7,brs）,6.41（約
5H/7,brs）。

アリルブロミドアセテート（VI）は１−ブロモメチル
クロトン酸メチルエステルを水素化ジイソブチルアルミ
ニウムで還元後、アセチル化して製造した。

［他種縮合反応との比較］ 参考例３ R¹＝（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル、R³
＝トリチル。

ナトリウムヘキサジメチルシラザン550mg（３当量）
のテトラヒドロフラン5ml溶液に−78℃で攪拌下、トリ
チルオキシメチルエチルケトン1.1当量のテトラヒドロ
フラン2.5ml溶液を15分間に滴下して加え10分間攪拌す
る。次いでアセテート（Ｉ）287mg（１ミリモル）のテ
トラヒドロフラン2.5ml溶液を滴下して加える。同温に
５分放置後、反応液に飽和塩化アンモニウム水を加え、
酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後減圧濃縮
する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ（ローバー
Ｂ、トリエン−酢酸エチル＝2:1）で精製すれば低極性
流出物より付加物（VII）のα−メチル体79mg（収率:1
4.9％）を得る。

mp 130−131℃（ｎ−ヘキサン再結晶）。

元素分析：（C₃₄H₄₃NO₄Si） 計算値:C,73.21;H,7.77;N,2.51 実測値:C,73.19;H,7.75;N,2.53 ［α］²³ _D−6.9±0.5（c,1.014 in CHCl₃）。

IR（Nujol）ν:3080,3060,1762,1727cm^-1。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.87（9H,s）,1.11（3H,d,J＝
6.9Hz）,1.20（3H,d,J＝6.0Hz）,2.56〜2.90（2H,m）,
3.65（1H,dd,J＝9.8,J＝1.8Hz）,3.90（2H,s）,4.11（1
H,quintet J＝6Hz）,5.73（1H,br）,7.07〜7.50（15H,
m）。

また、高極性流出物より付加物（VII）のβ−メチル
体132mg（収率:24.8％）を得る。

mp 133−134℃（ｎ−ヘキサン／アセトン再結晶）。

［α］²³ ₃₆₅−18.5±0.5（c,1.000 in CHCl₃）。

IR（Nujol）ν:3240,3080,1765,1727,1716cm^-1。

［反応A:還元］ 実施例Ａ−１ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝メチル。

メチルエステル（II）15.5gをトルエン150mlに溶か
し、内温を−20℃に保ちつつ水素化ジイソブチルアルミ
ニウムのトルエン溶液（1N）140mlを30分間に滴下し、
次いで氷冷下30分かきまぜる。反応液を攪拌しつつ氷水
に加え、30分攪拌したのち、不溶物を濾去する。トルエ
ン層は水洗、乾燥（MgSO₄）、減圧濃縮すればアルコー
ル（１）の粗結晶16.0gを得る。mp.82−83℃（エーテル
−ｎ−ヘキサンから再結品）。

IRν（Nujol）:3364,3160,3084,1756,1721,1712,1649,1
645,1134,1043,1030,832cm^-1。

NMR（VXR200,CDCl₃）δ:0.07（6H,s）,0.88（9H,s）,1.
14（3H,d,J＝7.0Hz）,1.20（3H,d,J＝6.2Hz）,1.80（約
1H,brs）,2.45（1H,quintet,J＝7Hz）,2.89（1H,m）,3.
69（1H,dd,J＝6.0Hz,J＝1.9Hz）,4.13（2H,s）,4.10〜
4.19（1H,m）,4.98（1H,s）,5.17（1H,d,J＝1.0Hz）,6.
10（1H,brs）。

▲［α］²³ _D▼−33.2（c,1.014 in CHCl₃）。

元素分析：（C₁₆H₃₁NO₃Si） 計算値:C,61.30;H,9.97;N,4.47 実測値:C,61.23;H,10.04;N,4.46 実施例Ａ−２ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝エチル。

前記メチル誘導体のメチルエステルと同様にしてメチ
ル誘導体のエチルエステル（II）を水素化ジイソブチル
アルミニウムで還元すれば前記と同一のアルコール化合
物（１）を得る。

IRν（Nujol）:3364,3160,3084,1756,1721,1712,1649,1
645,1134,1043,1030,832cm^-1。

実施例Ａ−３ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝エチル、R³＝メチル、R⁶＝トリチル。

前記メチル誘導体と同様の条件下、エチル誘導体のメ
チルエステル（II）3.54g（10ミリモル）を水素化ジイ
ソブチルアルミニウムで還元すればアルコール化合物
（１）を得る。これを塩化トリチル−トリエチルアミン
で処理すればトリチルエーテル（２）結晶5.00gを得
る。収率:87％。

NMR（VXR200,CDCl₃）δ:0.02（約6H,s）,0.83（9H,s）,
0.86（3H,t,J＝4.5）,1.01（3H,d,J＝6.4Hz）,1.19〜1.
48（2H,m）,2.64（1H,t,J＝2.7Hz）,3.44 ＆ 3.56（2H,
ABq,J＝13Hz,J＝4Hz）,3.51〜3.54（1H,m）,4.09（1H,d
q,J＝6.4Hz,J＝3.5Hz）,5.03（1H,brs）,5.54（1H,br
s）,5.75（1H,brs）,7.15〜7.48（15H,m）。

［反応B:アルコール保護・脱保護］ 実施例Ｂ−１（トリチル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R⁶＝トリチル。

アルコール（１）16.0gと塩化トリチル15.0gを塩化メ
チレン120mlに溶かし、氷冷下にトリエチルアミン20ml
を加え、次いで室温に一夜放置する。反応液を水洗、乾
燥（MgSO₄）し、減圧濃縮し、残留物をｎ−ヘキサンか
ら結晶化すればトリチルエーテル20.7gを得る。収率:82
％。mp.147−148℃。

IR（Nujol）ν:3200,1754,1713,1654,1600,1490cm^-1。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.03（約6H,s）,0.83（9H,
s）,1.03（3H,d,J＝7.0Hz）,1.08（3H,d,J＝6.4Hz）,2.
30（1H,quintct J＝6.6Hz）,2.69（1H,dd,J＝4.3Hz,J＝
2.2Hz）,3.58（1H,dd,J＝6.2,J＝2.2Hz）,3.51 ＆ 3.60
（2H,ABq J＝20Hz）,4.09（1H,dq,J＝6.4Hz,J＝4.3H
z）,5.01（1H,s）,5.40（1H,d,J＝1.4Hz）,5.65（1H,
s）,7.26〜7.47（15H,m）。

▲［α］²³ _D▼−11.5（c,1.008 in CHCl₃）。

元素分析：（C₃₅H₄₅NO₃Si） 計算値:C,75.63;H,8.16;N,2.52 実測値:C,75.71;H,8.15;N,2.54 実施例Ｂ−２（トリチル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝エチル、R⁶＝トリチル。

エチル誘導体のメチルエステル（II）3.54gから製造
したアルコール（１）を塩化トリチルとトリエチルアミ
ンでエーテル化すればトリチルエーテル（２）の結晶5.
00gを得る。収率:87％。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.02（約6H,s）,0.83（9H,
s）,0.86（3H,t,J＝4.5）,1.01（3H,d,J＝6.4Hz）,1.19
〜1.48（2H,m）,2.64（1H,t,J＝2.7Hz）,3.44 ＆ 3.56
（2H,ABq,J＝13Hz,J＝4Hz）,3.51〜3.54（1H,m）,4.09
（1H,dq,J＝6.4Hz,J＝3.5Hz）,5.03（1H,brs）,5.54（1
H,brs）,5.75（1H,brs）,7.15−7.48（15H,m）。

実施例Ｂ−３（アセチル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R⁶＝水素→アセチル。

ケトール（３）またはそのメチル基における立体異性
体を塩化アセチル−トリエチルアミンと−30〜−40℃で
処理すれば、好収量でαメチル体のアセテート（３）
（IR（Nujol）ν:3420,3360,1776,1760,1740,1580,125
2,1220cm^-1）またはβメチル体のアセテート（３）を得
る。

（元素分析） 計算値（C₁₇H₃₁NO₅Si）:C,57.11;H,8.74;N,3.92 実験値:C,57.01;H,8.84;N,4.02 ［α］²⁴ _D−15.9±0.6（c,0.996 in CHCl₃）。

IR（Nujol）ν:3440,3200,1766,1752,1737,1730,1230cm
^-1。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.83（9H,s）,1.11（3H,d,J＝
6Hz）,1.12（3H,d,J＝7.2Hz）、2.08（3H,s）2.60〜2.9
6（1H,m）,2.84（1H,dd,J＝4.8Hz,J＝2.0Hz）,3.78（1
H,dd,J＝5.5Hz,J＝2.0Hz）,4.07（1H,quintet,J＝6H
z）,4.62（2H,s）,6.47（1H,brs）。

実施例Ｂ−４（メシル化） R¹＝１−（トリエチルシリルオキシ）エチル→１−ヒド
ロキシエチル、R²＝エチル、R³＝ｐ−メトキシベンジ
ル、R⁶＝Ｈ→メシル→HetS、Ar＝フェニル、Het＝４−
ピリジル。

シリルヒドロキシイリド（４）4.41g（5.74ミリモ
ル）のジクロロメタン22ml溶液を窒素中−60℃で塩化メ
タンスルホニル0.49ml（1.1当量）とトリエチルアミン
1.84ml（2.3当量）を滴下、１時間攪拌すればシリルメ
シルオキシイリド（４）を得る。これをアセトニトリル
22ml中、４−メルカプトピリジン803mg（1.25当量）と
反応させてシリルピリジルチオイリドとした後、０℃で
濃塩酸3.2ml（6.5当量）と酢酸6mlを加えて脱シリル化
すればヒドロキシピリジルチオイリド（７）3.52gを得
る。収率:82％。

IR（CHCl₃）ν:3620〜3300,1745,1720sh,1619,1582c
m^-1。

実施例Ｂ−５（シリル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R⁶＝水素→第３級ブチルジメチルシリ
ル。

ケトール（３）180mg（0.57ミリモル）のジメチルホ
ルムアミド0.3ml溶液に塩化第３級ブチルジメチルシリ
ル130mg（1.5当量）とイミダゾール100mg（2.5当量）を
加えて室温に一晩放置後、反応液を酢酸エチル−氷水中
に注ぐ。有機層を分取し、水洗、乾燥（MgSO₄）後減圧
濃縮する。得られた結晶性残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフイー（ローバーＢ、トルエン−酢酸エチル4:1）で
精製すれば第３級ブチルジメチルシリルエーテル（３）
の結晶225mgを得る。収率:91.8％。

IR:ν（CCl₄）ν:3420,3200,1777,1718,1580cm^-1。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.86（9H,s）,0.93（9H,s）,
1.14（3H,d,J＝7.3Hz）,1.18（3H,d,J＝6Hz）,2.89（1
H,dd,J＝4.8Hz,J＝2.3Hz）,3.20（1H,qd,J＝7.3Hz,J＝
4.5Hz）,3.82（1H,dd,J＝4.5Hz,J＝2.3Hz）,4.16（1H,q
d,J＝6Hz,J＝2.3Hz）,5.93（1H,brs）。

実施例Ｂ−６（アセチル化、シリル化） R¹＝１−ヒドロキシエチル→１−（トリエチルシリルオ
キシ）エチル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メトキシベンジ
ル、R⁶＝水素→アセチル→水素、Ar＝フェニル。

（１）アセチル化：ジヒドロキシイリド（４）6.97g（1
0.9ミリモル）のジクロロメタン溶液に−40℃冷却下ト
リエチルアミン2.3ml（1.5当量）と塩化アセチル1.2ml
（1.5当量）を滴下し、３時間攪拌すればイリドモノア
セテート（４）の溶液を得る。

（２）シリル化：この溶液に塩化トリエチルシリル4.6m
l（2.5当量）とトリエチルアミン3.8ml（2.5当量）を加
え、０℃で３時間攪拌する。反応液を氷水中に注ぐ。有
機層を分取し、常法通り処理すればモノトリエチルシリ
ルイリドモノアセテート（４）を得る。

（３）脱アセチル化：このモノトリエチルシリルイリド
モノアセテート（４）のメタノール30ml溶液に−50℃で
5.2Nナトリウムメチレートのメタノール溶液1.2ml（0.5
7当量）を滴下、３時間攪拌後、1N塩酸7.3mlで中和す
る。反応液を酢酸エチル−水中に注ぎ抽出する。抽出液
を水洗、乾燥し減圧濃縮すればシリルケトールイリド
（４）を得る。このシリルケトールイリド（４）をトル
エン300ml中、110℃に15分加温すればシリルヒドロキシ
カルバペネム（ａ）3.7gを得る。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.53−0.65（6H,m）,0.90〜
0.99（9H,m）,1.18（3H,d,J＝7.4Hz）,1.27（3H,d,J＝6
Hz）,3.10−3.28（1H,m）,3.22（1H,dd,J＝6.4Hz,J＝3.
0Hz）,3.80（3H,s）,4.15（1H,dd,J＝10Hz,J＝3Hz）,4.
36,4.48（2H,ABqd,J_AB＝12Hz,J_CH2:OH＝6Hz）,5.23（2
H,s）,6.89,7.39（2H,A₂B₂q,J＝8.8Hz）。

実施例Ｂ−７（塩素置換） R¹＝１−ヒドロキシエチル、R²＝メチル、R³＝アリル、
R⁶＝水素→塩素、Ar＝フェニル。

ジヒドロキシイリド（４）9.52g（17ミリモル）のア
セトニトリル85ml溶液に四塩化炭素34mlを加え、氷冷下
攪拌しながらトリフェニルホスフィン5.4g（1.2当量）
を少量づつ２時間かけて添加すればクロロケトンの溶液
を得る。これに４−メルカプトピリジン（４）2.45g
（1.3当量）と炭酸ナトリウム1.8g（１当量）で求核置
換反応すればピリジルチオヒドロキシイリド（７）7.87
gを得る。収率:71％。

IR（CHCl₃）ν:3100〜2900,1735,1707,1610,1430cm^-1。

実施例Ｂ−８（シリル化） R¹＝１−ヒドロキシエチル→１−（第３級ブチルジメチ
ルシリルオキシ）エチル、R²＝エチル、R³＝ｐ−メトキ
シベンジル、Het＝４−ピリジル。

アルコール（７）1.00g（1.34ミリモル）のジクロロ
メタン10ml溶液を０℃で攪拌下、これに塩化トリエチル
シラン0.32ml（1.4当量）とトリエチルアミン0.28ml
（1.5ml）のジクロロメタン5ml溶液を20分間に滴下して
加える。同温度で２時間攪拌後、反応液を氷水中に注
ぐ。有機層を分取、水洗、乾燥後、減圧濃縮する。残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー（ローバーＢ、トルエ
ン−酢酸エチル1:1）で精製すればトリエチルシリルエ
ーテル（７）984mgを得る。収率:85.3％。

IR（CHCl₃）ν:1740,1715,1610,1576cm^-1。

実施例Ｂ−９（脱トリチル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、R⁶＝トリ
チル→水素、Ar＝フェニル。

トリエチルエーテル体（４）620mg（0.622ミリモル）
のジクロロメタン6.2ml溶液を窒素気流下−25℃に冷却
し、これに2.8N塩化水素−酢酸エチル溶液0.28ml（1.26
当量）を加えた後、一晩放置する。反応液を炭酸水素ナ
トリウム中に注ぐ。有機層を分取し、乾燥、減圧濃縮
し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ローバー
Ｂ、酢酸エチル）で精製すればケトール（４）331mgを
得る。収率:71％。

IR（CHCl₃）ν:3270br,1764,1750,1724sh,1610,1584,15
15cm^-1。

実施例Ｂ−10（脱トリチル化、脱シリル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
→１−ヒドロキシエチル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メトキ
シベンジル、R⁶＝トリチル→水素、Ar＝フェニル。

イリド体（４）22.5g（22.58ミリモル）のアセトニト
リル70ml懸濁液に氷冷攪拌下濃塩酸9.4ml（５当量）を
滴下して加える。同温度で１時間後、反応液をトルエン
−水中に注ぎ、水層を分取する。これを冷炭酸水素ナト
リウム水−酢酸エチル中に注ぎ、有機層を分取する。こ
れを水洗、乾燥（MgSO₄）し、減圧濃縮すればジオール
体（４）13.98gを無色泡状物として得る。収率:96.9
％。

IR（CHCl₃）ν:3500〜3250,1760,1740,1580cm^-1。

実施例Ｂ−11（脱トリチル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝エチル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、R⁶＝トリ
チル→水素、Ar＝フェニル。

トリチルオキシイリド（４）12.7g（12.57ミリモル）
のジクロロメタン55ml溶液に−20℃で3N塩化水素−酢酸
エチル溶液10.5ml（2.5当量）を加える。混合物を氷水
冷却下４時間攪拌する。反応液を炭酸水素ナトリウム水
に注ぐ。有機層を分取、乾燥後、減圧濃縮する。残渣を
シリカゲルクロマトフィー（ローバーｃ、アセトニトリ
ル）で精製すればヒドロキシイリド（４）5.87g（60.9
％）を得る。mp 98−101℃（ベンゼン−ｎ−ヘキサ
ン）。

IR（Nujol）ν:3440,1740,1728,1595,1511,1240cm^-1。

［α］²³ _D−40.5±0.8（c,1.012 in CHCl₃）。

元素分析：（C₄₄H₅₄NO₇PSi） 計算値:C,65.73;H,7.27;N,1.74; P,3.85;Si,3.49 実測値:C,66.10;H,6.79;N,1.80;P,4.14; 実施例Ｂ−12（脱トリチル化、脱シリル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
→１−ヒドロキシエチル、R²＝メチル、R³＝アリル、R⁶
＝トリチル→水素、Ar＝フェニル。

イリド（４）7.22g（7.88ミリモル）のアセトニトリ
ル24ml懸濁液に氷冷、攪拌下、濃塩酸2ml（３当量）を
滴下して溶液とする。１時間後反応液をトルエンで洗浄
後、炭酸水素ナトリウム水で塩基性とし、トルエンで抽
出する。抽出液を常法処理すればジオールイリド（４）
4.32gを得る。収率98％。

IR（CHCl₃）ν:3600〜3200,2980,1740,1705,1620,1440,
1108,908cm^-1。

NMR（CDCl₃）ν:0.96（3H,d,J＝6.0Hz）,1.46（3H,d,J
＝6.8Hz）,5.82−6.05（1H,m）,7.1〜7.9（ｍ）。

実施例Ｂ−13（脱アセチル化） R¹＝１−（トリエチルシリルオキシ）エチル、R²＝メチ
ル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、R⁶＝アセチル→水素、
Ar＝フェニル。

モノトリエチルシリルイリドモノアセテート（４）の
メタノール30ml溶液に−50℃で5.2Nナトリウムメチレー
トのメタノール溶液1.2ml（0.57当量）を滴下、３時間
攪拌後、1N塩酸7.3mlで中和する。反応液を酢酸エチル
−水中に注ぎ抽出する。抽出液を水洗、乾燥し減圧濃縮
すればシリルケトールイリド（４）を得る。このシリル
ケトールイリド（４）をトルエン300ml中、110℃に15分
加温すればシリルヒドロキシカルバペネム（ａ）3.7gを
得る。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.53−0.65（6H,m）,0.90〜
0.99（9H,m）,1.18（3H,d,J＝7.4Hz）,1.27（3H,d,J＝6
Hz）,3.10−3.28（1H,m）,3.22（1H,dd,J＝6.4Hz,J＝3.
0Hz）,3.80（3H,s）,4.15（1H,dd,J＝10Hz,J＝3Hz）,4.
36,4.48（2H,ABqd,J_AB＝12Hz,J_CH2:OH＝6Hz）,5.23（2
H,s）,6.89,7.39（4H,A₂B₂q,J＝8.8Hz）。

実施例Ｂ−14（脱トリチル化、脱シリル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
→１−ヒドロキシエチル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メトキ
シベンジル、R⁶＝トリチル→水素 シリル化トリチルエーテル（６）1.05g（1.06ミリモ
ル）のアセトニトリル5ml懸濁液に氷冷下濃塩酸0.44ml
（約５当量）及び酢酸0.2mlを加え１時間攪拌する。反
応液を冷炭酸水素ナトリウム−酢酸エチル中に注ぎ、抽
出する。抽出液を水洗、乾燥後減圧濃縮する。残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー（ローバーカラムＢ、酢酸
エチル）で精製すればジオール（６）676mgを得る。mp
90−92℃（エーテル−石油エーテルから再結）。収率:1
00％。

IR（Nujol）ν:3350（br）,1736,1728（sh）,1611br,15
12,1240cm^-1。

元素分析：（C₃₈H₄₀NO₆P・1/2H₂O） 計算値:C,70.57;H,6.39;N,2.17;P,4.79 実測値:C,70.41;H,6.45;N,2.40;P,5.02 実施例Ｂ−15（脱トリチル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R⁶＝トリチル→水素。

シリル化トリチルエーテル（３）110mg（0.207ミリモ
ル）の塩化メチレン1.1ml溶液を０℃に冷却下、これに
2.8N塩化水素の酢酸エチル溶液0.11ml（1.5当量）を加
えて30分攪拌する。反応液を冷炭酸水素ナトリウム水に
注ぐ。有機層を分取し、水洗、乾燥後、減圧濃縮する。
残渣をシリカゲルクロマトグラフイー（ローバーＡ、酢
酸エチル）で精製すればシリルケトール（３）を得る。
収率:70％。mp 89−91℃（アセトン−ｎ−ヘキサンから
再結）。

実施例Ｂ−16（脱トリチル、脱シリル） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
→１−ヒドロキシエチル、R²＝メチル、R⁶＝トリチル→
水素。

シリル化トリチルエーテル（３）110mg（0.207ミリモ
ル）の塩化メチレン1.1ml溶液を０℃に冷却下、これに
2.8N塩化水素の酢酸エチル溶液0.11ml（1.5当量）を加
えて一晩放置する。反応液を冷炭酸水素ナトリウム水に
注ぐ。有機層を分取、水洗、乾燥後、減圧濃縮する。残
渣をシリカゲルクロマトグラフイー（ローバーＡ、酢酸
エチル）で精製すればジオール（３）を得る。収率:65
％。

IR（CHCl₃）ν:3500〜3250br,1760,1740,1580,1580c
m^-1。

実施例Ｂ−17（脱アセチル化） R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R⁶＝アセチル→水素。

アセテート（３）190mg（0.53ミリモル）のメタノー
ル1.9ml溶液に−20℃で5.18Nナトリウムメチレート20μ
ｌ（0.2当量）を加えて−20℃で一晩放置する。次いで
2.8N塩化水素−酢酸溶液40μｌ（0.2当量）を加えて減
圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ローバーＣ、酢酸エチル−アセトニトリル9:1）に
て精製すればケトール（３）160mgを得る。収率:95.2
％。mp 89−91℃（アセトン−ｎ・ヘキサンから再結
晶）。

同様な方法でα−メチル体のケトールを得る。収率:7
0％。mp 105−107.5℃（ｎ−ヘキサンから再結晶）。

元素分析：（C₁₆H₂₉NO₄Si・1/10C₆H₁₄） 計算値:C,56.46;H,9.29;N,4.39 実測値:C,56.45;H,9.54;N,4.50 ［α］²⁴ _D−16.7±1.1（c,0.509 in CHCl₃）。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.87（9H,s）,1.17（3H,d,J＝
3Hz）,1.19（3H,d,J＝2Hz）,2.44−2.87（2H,m）,3.21
（1H,brs）、3.77（1H,dd,J＝9.6Hz,J＝2.1Hz）,4.16
（1H,m）,4.30（2H,brs）,6.32（1H,brs）。

実施例Ｂ−18（脱シリル化） R¹＝１−（トリエチルシリルオキシ）エチル→１−ヒド
ロキシエチル、R²＝エチル、R³＝ｐ−メトキシベンジ
ル、Het＝４−ピリジル。

トリエチルシリルエーテル（ｂ）582mg（１ミリモ
ル）のテトラヒドロフラン3ml溶液に窒素中０℃で酢酸
0.34ml（６当量）と1M−フッ化テトラブチルアンモニウ
ムのテトラヒドロフラン溶液4.5ml（4.5当量）を加えて
一晩放置する。反応液を炭酸水素ナトリウム水−酢酸エ
チル中に注ぐ。有機層を水洗、乾燥後、減圧濃縮する。
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ローバーＢ、ア
セトニトリル−酢酸エチル1:1）で精製すればアルコー
ル（ｂ）446mgを得る。収率:95.3％。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:1.04（3H,t,J＝7.4Hz）、1.3
5（3H,d,J＝6.3Hz）,1.39−1.77（2H,m）,2.03（1H,br
m）,3.10（1H,dt,J＝10.4Hz,J＝2.9Hz）,3.25（1H,dd,J
＝7.0Hz,J＝3.1Hz）,3.51,4.92（2H,ABq,J＝14.8Hz）,
3.79（3H,s）,4.13（1H,dd,J＝10.2Hz,J＝3.1Hz）,4.07
〜4.26（1H,m）,5.21,5.28（2H,ABq,J＝12Hz）,6.87,7.
39（4H,A₂B₂q,J＝8.8Hz）,7.05,8.30（4H,A₂B₂q,J＝6.2
Hz）。

IR（CHCl₃）ν:3680,3604,1772,1712,1612,1586cm^-1。

［反応C:オゾン酸化］ 実施例Ｃ−１ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R⁶＝トリチル。

エキソメチレン体（２）20.7gをジクロロメタン120ml
とメタノール30mlの混液に溶解し、ドライアイス−アセ
トン浴で冷却しつつ、オゾンガスを通じる。反応液が青
色を示せば、ガスの導入を止め、30分放置後、過剰のオ
ゾンを窒素ガスで追出し、ジメチルスルフイド10mlを加
え、反応液を室温で１時間放置したのち、溶媒留去す
る。残留物はシリカゲル110g上クロマトグラフし、トル
エン：酢酸エチル9:1で展開する部分をｎ−ヘキサンで
結晶化すればケトン体（３）14.6gを得る。mp133−134
℃（アセトン−ヘキサンから再結）。アセテート（Ｉ）
から通算収率:52％。

IR（Nujol）ν:3240,3080,1765,1727,1716cm^-1。

▲［α］²³ _D▼０（c,1,000,CHCl₃）。

▲［α］²³ ₃₆₅▼−18.5（c,1,000,CHCl₃）。

元素分析：（C₃₄H₄₃NO₄Si） 計算値:C,73.21;H,7.77;N,2.51 実測値:C,73.20;H,7.08;N,2.50 NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.04 ＆ 0.06（約6H,2×
ｓ）,0.86（9H,s）,1.09（3H,d,J＝7.1Hz）,1.15（3H,
d,J＝6.7Hz）,2.83（1H,dd,J＝4.9Hz,J＝2.2Hz）,3.15
（1H,dq,J＝7.1Hz,J＝4.6Hz）,3.79（1H,dd,J＝4.6Hz,J
＝2.2Hz）、3.85（2H,s）,4.05〜4.18（1H,m）,5.81（1
H,brs）,7.25〜7.45（約15H,m）。

実施例Ｃ−２ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R⁶＝Ｈ。

前記トリチルエキソメチレン体と同様にしてヒドロキ
シエキソメチレン体（２）をジクロロメタン−メタノー
ル混液中、反応液が青色を示すまでオゾン酸化し、残留
物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製ケトール体
（３）を得る。mp.89−91℃（アセトン−ｎ−ヘキサン
から再結）。

元素分析：（C₁₅H₂₉NO₄Si） 計算値:C,57.11;H,9.27;N,4.44 実測値:C,57.13;H,8.96;N,4.55 IR（Nujol）ν:3452,3172,1762,1733,1725cm^-1。

［α］²⁴ _D−36.0±0.8（c,1.012,CHCl₃）。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.07（約6H,s）,0.85（約9H,
s）,1.14（3H,d,J＝6Hz）,1.15（3H,J＝7.2Hz）,2.83
（1H,m）,2.86（1H,dd,J＝4.8Hz,1.7Hz）,3.42（1H,br
s）,3.77（1H,dd,J＝5.2Hz,J＝1.7Hz）,4.10（1H,qd,J
＝6.0,J＝4.8Hz）,6.72（1H,brs）。

実施例Ｃ−３ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝エチル、R⁶＝トリチル。

トリチルエキソメチレン体（２）5.00gを−70℃でオ
ゾン酸化後、ジメチルサルフアイドで処理すればトリチ
ルケトール体（３）4.00gを得る。収率：約80％。mp 15
3−155℃（ｎ−ヘキサンから再結）。

IR（Nujol）ν:3400,1760,1740sh,1680cm^-1。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.85（9H,s）,0.80〜1.01（3
H,m）,1.04（3H,d,J＝6.5Hz）,1.33〜1.90（2H,m）,2.8
1（1H,dd,J＝4.5Hz,J＝1.8Hz）,2.94〜3.17（1H,m）,3.
70（1H,dd,J＝6.0Hz,J＝1.8Hz）,3.76（2H,s）,4.07（1
H,quintet型）,6.00（1H,brs）,7.19〜7.53（15H,m）。

実施例Ｃ−４ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、R⁶＝トリ
チル、Ar＝フェニル。

イリドエキソメチレン体（６）110mg（0.11ミリモ
ル）の無水ジクロルメタン−メタノール（10:1）3.3ml
溶液を窒素気流中、−70℃に冷却下にトリフルオロ酢酸
70μｌ（８当量）を加え、次にオゾンガスを10分間通じ
30分間放置する。これにジメチルスルフイド 0.15mlを
加えて−70℃で１時間攪拌後、希炭酸水素ナトリウム水
中に注ぐ。有機層を水洗、乾燥、減圧濃縮後、シリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製すればイリドケトン（４）
108mgを得る。収率:93％。トリチルオキシアセトンとア
セテート（Ｉ）の縮合物から合成した化合物と一致す
る。mp.178〜179.5℃（エーテル再結晶品）。

実施例Ｃ−５ R¹＝１−ヒドロキシエチル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メト
キシベンジル、R⁶＝Ｈ、Ar＝フェニル。

イリドエキソメチレン体（６）150mg（0.23ミリモ
ル）の塩化メチレン−メタノール（10:1）3ml溶液を−7
8℃冷却した、これにトリフメオロ酢酸92μｌ（５当
量）を加え、次いでオゾンガスを15分通じ更に30分放置
する。これにジメチルスルフイド0.1mlを加え、30分攪
拌後、炭酸水素ナトリウム溶液中に注ぎ有機層を分取
し、乾燥する。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフイー（シリカゲル15g、トルエン−酢酸1:1）で精
製すればイリドケトン（４）の粉末72mgを得る。収率:4
9％。トリチルオキシアセトンとアセテート（Ｉ）の縮
合物から合成した化合物と一致する。

IR（CHCl₃）ν:3460br,1740,1716（sh）,1602shcm^-1。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.96（3H,brd,J＝6.2Hz）,1.
22（3H,brd,J＝6.8Hz）,3.74（3H,s）,3.83（3H,s）,6.
57,6.58（3H,2×ｓ）,6.91（1H,d,J＝8.8Hz）,7.26〜7.
80（17H,m）。

［反応D:グリオキシ酸付加→イリド化］ 実施例Ｄ−１ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、R⁶＝トリ
チル。Ar＝フェニル。

（１）アゼチヂノン（３）7.8g（13.98ミリモル）のテ
トラヒドロフラン24ml溶液にグリオキシル酸ｐ−メトキ
シベンジルエステル−水和物3.85g（1.3当量）とトリエ
チルアミン1ml（0.5当量）を加え、室温で４時間攪拌す
る。反応液を2N−塩酸−酢酸エチル冷混液中に注ぎ抽出
する。抽出液を酸性亜硫酸ナトリウム水、炭酸水素ナト
リウム水と水で洗浄し、乾燥後、減圧濃縮すれば付加物
アルコールの泡状残渣を得る。

（２）付加物アルコールをテトラヒドロフラン50mlに溶
かし−70℃で冷却し、2,6−ルチジン7ml（４当量）と塩
化チオニル1.3ml（1.28当量）を滴下し、40分間攪拌す
る。反応液を洗浄、乾燥後、減圧濃縮すれば粗塩化物を
得る。

（３）この塩化物をジオキサン50mlにとかし、トリフェ
ニルホスフイン11.1g（３当量）と臭化ナトリウム1.5g
（１当量）を加えて17時間攪拌する。反応液を冷2N塩酸
−酢酸エチル混液中に注ぎ抽出する。抽出液を炭酸水素
ナトリウム水と水で洗い、乾燥後、減圧濃縮する。結晶
残渣をエーテルで結晶化すればイリド体（４）10.4gを
得る。収率:74.8％。mp.178−179.5℃（エーテルから再
結品）。

▲［α］²³ _D▼−39.6±0.8（c,1.014 in CHCl₃）。

IR:ν（Nujol）3064,1742,1740,1621,1512,1245cm^-1。

元素分析：（C₆₂H₆₆NO₇PSi） 計算値:C,74.75;H,6.68;N,1.41;P,3.11 実測値:C,74.51;H,6.70;N,1.44;P,3.40 実施例Ｄ−２ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝エチル、R⁶＝トリチル。Ar＝フェニル、R³＝ｐ
−メトキシベンジル。

（１）前記同様にアゼチジノン体（３）14.7g（22.62ミ
リモル）のテトラヒドロフラン50ml溶液をグリオキシル
酸ｐ−メトキシベンジルエステル6.5g（1.35当量）とト
リエチルアミン1.8ml（0.5当量）で一晩処理すれば付加
物アルコール17.2gを得る。

（２）この付加物アルコールをテトラヒドロフラン100m
lに溶解し、−50℃にて2,6−ルチジン12.9g（4.6当量）
及び塩化チオニル2.2ml（約1.3当量）と30分反応すれば
塩化物の溶液を得る。

（３）この塩化物の溶液にトリフェニルホスフィン29.7
4g（５当量）、臭化ナトリウム2.5g（1.1当量）及びジ
オキサン100mlを加えて20時間攪拌する。生成物をアセ
トン−酢酸エチル−エーテル混液から再結晶すればイリ
ド（４）の結晶12.84gを得る。収率:56.2％。mp 184〜
５℃。

IR:ν（Nujol）1745,1730,1621,1512,1252cm^-1。

［α］²³ _D−36.8±0.8（c 1.003 in CHCl₃） 元素分析：（C₆₃H₆₈NO₇PSi） 計算値:C,74.90;H,6.78;N,1.39;P,3.07;Si,2.78 実測値:C,74.82;H,6.94;N,1.42;P,3.41; 実施例Ｄ−３ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝アリル、R⁶＝トリチル、Ar＝フェ
ニル。

（１）アゼチジノン（３）17.22g（87ミリモル）のテト
ラヒドロフラン62ml溶液にグリオキシル酸アリルエステ
ル−水和物4.9g（1.2当量）とトリエチルアミン2.2ml
（0.5当量）を加え、室温に20時間放置する。反応液を
酢酸エチルで薄め、水洗する。酢酸エチル層を飽和食塩
水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮すれば付加
物アルコールの残渣18.66gを得る。収率:90％。

（２）この付加物アルコール（27.76ミリモル）をテト
ラヒドロフラン83mlに溶かし、この溶液に−45℃に冷却
下2,6−ルチジン（12.7ml,4当量）と塩化チオニル2.6ml
（1.3当量）を滴下する。同温で30分間攪拌後、反応液
に水と酢酸エチルを加え、攪拌後、分液する。酢酸エチ
ル層を水洗後、常法に従って処理すれば塩化物を得る。

（３）この塩化物をジオキサン50mlに溶かし、トリフェ
ニルホスフイン10.9g（1.5当量）、2,6−ルチジン6.4ml
（２当量）と臭化ナトリウム4gを加え、室温で一晩攪拌
する。反応液を減圧濃縮し、ジオキサンを除去後残渣を
酢酸エチルで抽出する。抽出液をシリカゲルクロマトグ
ラフィー（トルエン：酢酸エチル＝2:1）で精製すれば
イリド（４）21.8gを得る。m.p.158〜159℃（ベンゼン
−ヘキサンより再結）。収率:86％。

元素分析：（C₅₇H₆₂NO₆PSi） 計算値:C,74.73;H,6.82;N,1.53 実測値:C,75.18;H,6.87;N,1.62 IR（CHCl₃）ν:3300〜2920,1730,1710sh,1640sh,1605s
h,1435,1100cm^-1。

実施例Ｄ−４ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R⁶＝トリチル、Ar＝フェニル、R³＝ｐ
−メトキシベンジル。

（１）トリチルエキソメチレン体（２）1.79g（3.22ミ
リモル）とグリオキシル酸ｐ−メトキシベンジルエステ
ル−水和物820mg（1.2当量）のテトラヒドロフラン6ml
溶液に、トリエチルアミン0.22ml（0.5当量）を加えて
室温で一晩放置する。反応液を冷水−酢酸エチル中にあ
け抽出する。抽出液を冷塩酸、炭酸水素ナトリウム水と
塩水で順次洗い、乾燥、減圧濃縮後、シリカゲル（24
g）上クロマトグラフィー（トルエン−酢酸エチルで展
開）で精製すれば付加物アルコール2.17gを得る。収率:
82.5％。

IR（CHCl₃）ν:1740,1710,1604cm^-1。

（２）付加物アルコールのテトラヒドロフラン12ml溶液
を−40℃に冷却攪拌下、2,6−ルチジン1.6ml（４当量）
と塩化チオニル0.29ml（1.2当量）を滴下して加え１時
間攪拌すれば塩化物の溶液を得る。

（３）この塩化物溶液にトリフェニルホスフイン845mg
（３当量）、臭化ナトリウム332mg（１当量）とジオキ
サン12mlを加え、室温で一晩攪拌する。これを氷水−酢
酸エチル中に注ぎ、抽出する。抽出液を希塩酸、希炭酸
水素ナトリウム水と塩水で洗浄し、乾燥（MgSO₄）後減
圧濃縮する。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで
精製すればイリド（６）1.58gを得る。収率:49.4％。m
p.171.5−173℃（エーテル−石油エーテルから再結）。

［α］²³ _D−22.0±1.2（c,0.509,CHCl₃）。

IR:ν（Nujol）1740,1622,1512,1248cm^-1。

元素分析：（C₆₃H₆₈NO₆PSi） 計算値:C,76.10;H,6.89;N,1.41;P,3.12 実測値:C,76.19;H,6.99;N,1.40;P,3.38 ［反応E:環化］ 実施例Ｅ−１ R¹＝１−ヒドロキシエチル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メト
キシベンジル、R⁶＝水素、Ar＝フェニル。

ジヒドロキシイリド体（４）13.98gのトリエン溶液を
110℃に１時間加熱する。反応液を濃縮する。残渣を酢
酸エチルに溶かし、水洗、乾燥（MgSO₄）後、減圧濃縮
すればカルバペネムジオール体（ａ）を得る。収率:74
％。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:1.19（3H,d,J＝7.4Hz）,1.32
（3H,d,J＝6.2Hz）,1.70〜2.70（1H,brm）,3.15〜3.32
（1H,m）,3.26（1H,dd,J＝2.9Hz,J＝6.4Hz）,3.79（3H,
s）,4.17〜4.28（1H,m）,4.18（1H,dd,J＝10.0Hz,J＝2.
9Hz）,5.19,5.26（2H,ABq,J＝12.2Hz）,6.88,7.38（4H,
A₂B₂q,J＝8.6Hz）。

実施例Ｅ−２ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、R⁶＝水
素、Ar＝フェニル。

シリルイリド（４）のトルエン溶液を100℃に１時間
加熱すればシリルヒドロキシカルバペネム体（ａ）を得
る。収率:74％。

IR（CHCl₄）ν:3420br,1780,1700,1616、1582,1512,124
4cm^-1。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:1.16（3H,d,J＝7.0Hz）,1.23
（3H,d,J＝6.2Hz）,3.0〜3.41（2H,m）,3.20（1H,dd,J
＝3.0Hz,J＝5.5Hz）,3.77（3H,s）,4.12（1H,dd,J＝6.0
Hz,J＝3.0Hz）,4.20（1H,m）,4.40（2H,t,J＝6Hz）,5.2
0（2H,s）,6.87,7.37（4H,A₂B₂q,J＝6Hz）。

実施例Ｅ−３ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、R⁶＝トリ
チル、Ar＝フェニル。

シリルトリチルイリド（４）1.08g（1.084ミリモル）
のトルエン50ml懸濁液を110℃で加温溶解する。75分
後、溶媒を留去し、残渣をクロマトグラフィー（ローバ
ーＢ、トルエン−酢酸エチル、2:1）で精製すればカル
バペネムトリチルエーテル750mgを泡状物として得る。
収率:96％。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.03（約6H,s）,0.83（9H,
s）,0.95（3H,d,J＝7.5Hz）,1.13（3H,d,J＝6.2Hz）,3.
05（1H,dd,J＝5.4,J＝3Hz）,3.38（1H,dq,J＝10.5Hz,J
＝7.5Hz）,3.69,4.68（2H,ABq,J＝15Hz）,3.70（3H,
s）,4.01（1H,dd,J＝10.5Hz,3Hz）,4.14（1H,m）,4.97
（2H,s）,6.72（2H,A₂B₂,J＝9.0Hz,7.05〜7.04（17H,
m）。

IR（CHCl₃）ν:1770,1715,1615,1588,1512cm^-1。

実施例Ｅ−４ R¹＝１−ヒドロキシエチル→１−（トリエチルシリルオ
キシ）エチル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メトキシベンジ
ル、R⁶＝水素、Ar＝フェニル。

（１）モノアセテートの製造：ジヒドロキシイリド
（４）6.97g（10.9ミリモル）のジクロロメタン溶液に
−40℃冷却下トリエチルアミン2.3ml（1.5当量）と塩化
アセチル1.2ml（1.5当量）を滴下し、３時間攪拌すれば
イリドモノアセテート（４）の溶液を得る。

（２）シリルアセテートの製造：この溶液に塩化トリエ
チルシリル4.6ml（2.5当量）とトリエチルアミン3.8ml
（2.5当量）を加え、０℃で３時間攪拌する。反応液を
氷水中に注ぐ。有機層を分取し、常法通り処理すればモ
ノトリエチルシリルイリドモノアセテート（４）を得
る。

（３）アセチル脱離：このモノトリエチルシリルイリド
モノアセテート（４）のメタノール30ml溶液に−50℃で
5.2Nナトリウムメチラートのメタノール溶液1.2ml（0.5
7当量）を滴下し、３時間攪拌後、1N塩酸7.3mlで中和す
る。反応液を酢酸エチル−水中に注ぎ抽出する。抽出液
を水洗、乾燥し減圧濃縮すればシリルケトールイリド
（４）を得る。

（４）環化：このシリルケトールイリド（４）をトルエ
ン300mlに溶解し、110℃に15分加温する。反応液を濃縮
後、残渣をクロマトグラフィー（ローバーＢ、２本：ト
ルエン−酢酸エチル9:1）で精製すればシリルヒドロキ
シカルバペネム（ａ）3.7gを得る。収率:71％。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.53−0.65（6H,m）,0.90〜
0.99（9H,m）,1.18（3H,d,J＝7.4Hz）,1.27（3H,d,J＝6
Hz）,3.10−3.28（1H,m）,3.22（1H,dd,J＝6.4Hz,J＝3.
0Hz）,3.80（3H,s）,4.15（1H,dd,J＝10Hz,J＝3Hz）,4.
36,4.48（2H,ABqd,J_AB＝12Hz,J_CH2:OH＝6Hz）,5.23（2
H,s）,6.89,7.39（4H,A₂B₂q,J＝8.8Hz）。

実施例Ｅ−５ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝エチル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、R⁶＝水
素、Ar＝フェニル。

シリルイリドケトール（４）300mg（0.39ミリモル）
のトルエン30ml溶液を105℃に50分加温後減圧濃縮す
る。残渣をクロマトグラフィー（ローバーＢ、トルエン
−酢酸エチル1:1）で精製すれば１−エチルカルバペネ
ム（ａ）163mgを得る。収率:85.3％。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.02（約6H,s）,0.80（9H,
s）,0.96（3H,t,J＝7.4Hz）,1.24（3H,d,J＝6.1Hz）,1.
30−1.73（2H,m）,2.89（1H,dt,J＝10.6Hz,J＝3.3Hz）,
3.16（1H,dd,J＝6.7Hz,J＝2.9Hz）,3.25（1H,m）,3.75
（3H,s）,4.08（1H,dd,J＝10.0Hz,J＝2.9Hz）,4.14−4.
23（1H,m）,4.30,7.33（4H,A₂B₂q,J＝8.8Hz）。

IR（CHCl₃）ν:3605,1772,1700,1615,1589,1515cm^-1。

実施例Ｅ−６ R¹＝１−ヒドロキシエチル、R²＝エチル、R³＝ｐ−メト
キシベンジル、R⁶＝Ｈ、Ar＝フェニル。

ジヒドロキシイリド（４）1.7gのトルエン170ml溶液
を110℃で1.6時間加温後、減圧濃縮する。残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィー（ローバーＢ、酢酸エチル−ア
セトニトリル1:1）で精製すればジヒドロキシカルバペ
ネム（ａ）820mgを得る。収率:84.1％。

IR（CHCl₃）ν:3608,1775,1702,1615,1590,1515cm^-1。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:1.01（3H,t,J＝7.3Hz）,1.36
（3H,d,J＝6.3Hz）,1.31−1.80（4H,m）,1.9〜2.2（1H,
brs）,2.99（1H,dt,J＝11Hz,J＝3.3Hz）,3.26（1H,dd,J
＝6.8Hz,J＝3.0Hz）,3.79（3H,s）,4.20（1H,dd,J＝12H
z,J＝3Hz）,4.13〜4.24（1H,m）,4.35,4.46（2H,ABq,J
＝14Hz）,6.88,7.38（4H,A₂B₂q,J＝8.8Hz）。

実施例Ｅ−７ R¹＝１−（トリエチルシリルオキシ）エチル、R²＝エチ
ル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、Het＝４−ピリジル。

シリルピリジルチオイリド（７）1.35g（1.56ミリモ
ル）のトルエン140ml溶液を108℃に１時間加温する。反
応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ローバーＢ、トルエン−酢酸エチル1:1）で精製す
れば、アメ状のシリルピリジルチオカルバペネム（ｂ）
602mgを得る。収率:66.2％。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.61（9H,t,J＝7.6Hz）,0.86
〜1.02（9H,m）,1.31（3H,d,J＝5.9Hz）,1.35〜1.85（4
H,m）,3.06〜3.15（1H,td型）,3.22（1H,dd,J＝7.0Hz,J
＝3.1Hz）,3.54 ＆ 4.94（2H,ABq,J＝14Hz）,3.82（3H,
s）,4.08（1H,dd,J＝10.2Hz,J＝3.1Hz）,4.15〜4.28（1
H,quintet型）,6.89,7.40（4H,A₂B₂q,J＝8.3Hz）,7.09,
8.35（4H,A₂B₂q,J＝5.1Hz）。

IR（CCl₄）ν:1780,1713,1614,1572,1247cm^-1。

実施例Ｅ−８ R¹＝１−ヒドロキシエチル、R²＝エチル、R³＝ｐ−メト
キシベンジル、R⁶＝Ｈ、Het＝４−ピリジル。

（１）メシルオキシイリド経由ピリジルチオイリドの製
造：ジヒドロキシイリド（４）600mg（約0.81ミリモ
ル）の塩化メチレン4ml溶液を窒素中−50℃に冷却し、
これに塩化メタンスルホニル0.08ml（約1.3当量）とト
リエチルアミン0.3ml（2.6当量）を滴下する。30分後、
生成するメシレートの溶液に４−メルカプトピリジン12
9mg（1.4当量）とアセトニトリル2mgを加えて氷冷下１
時間攪拌する。反応液を氷水中に注ぎ、pHを6.0とす
る。有機層を取り、炭酸水素ナトリウム水と水で洗浄、
乾燥し、減圧濃縮すればピリジルチオイリド（７）の泡
状残渣を得る。

（２）ピリジルチオイリド（７）をトルエン35mlに溶解
し、110℃で１時間加温する。反応液を減圧濃縮し、残
渣をクロマトグラフィー（ローバーＢ、酢酸エチル−ア
セトニトリル−塩化メチレン−ヘキサン1:1:1）で精製
すれば初めの流出液より６α−（１−ヒドロキシエチ
ル）−１−エチル−２−（４−ピリジルチオ）メチリデ
ン−１−カルバペナム−３−カルボン酸ｐ−メトキシベ
ンジルエスタテル75mg（IR（CHCl₃）ν:3400〜3150br,1
750,1604,1575cm^-1。収率:19.8％）、次いで６α−（１
−ヒドロキシエチル）−１−エチル−２−（４−ピリジ
ルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボ
ン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）86mg（IR（CH
Cl₃）ν:3680,3604,1772,1712,1612,1586cm^-1、収率:2
2.8％）、次いで６α（１−（４−ピリジルチオ）エチ
ル）−１−エチル−２−（４−ピリジルチオ）メチル−
１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸ｐ−メトキシ
ベンジルエステル128mg［NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.97
（3H,t,J＝7Hz）,1.30,1.33（3H,2×d,J＝6Hz）,1.45〜
1.80（2H,m）,3.17（1H,dt,J＝3Hz,J＝9Hz）,3.53,4.88
（2H,ABq,J＝14Hz）,3.76（3H,s）,3.93〜4.26（3H,
m）,5.25（2H,s）,6.83（2H,d,J＝6Hz）,7.0〜8.40（約
10H,m）］を得る。

実施例Ｅ−９ R¹＝１−ヒドロキシエチル、R²＝エチル、R³＝ｐ−メト
キシベンジル、Het＝４−ピリジル。

ヒドロキシピリジルチオイリド（７）2.10g（2.81ミ
リモル）のトルエン200ml溶液を110℃に70分加温後、減
圧濃縮する。残渣をクロマトグラフィーで精製すればヒ
ドロキシピリジルチオカルバペネム（ｂ）975mgを得
る。収率:73.9％。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:1.04（3H,t,J＝7.4Hz）,1.35
（3H,d,J＝6.3Hz）,1.39〜1.77（2H,m）,2.03（1H,br
m）,3.10（1H,dt,J＝10.4Hz,J＝2.9Hz）,3.25（1H,dd,J
＝7.0Hz,J＝3.1Hz）,3.51,4.92（2H,ABq,J＝14.8Hz）,
3.79（3H,s）,4.13（1H,dd,J＝10.2Hz,J＝3.1Hz）,4.07
〜4.26（1H,m）,5.21,5.28（2H,ABq,J＝12Hz）,6.87,7.
39（4H,A₂B₂q,J＝8.8Hz）,7.05,8.30（4H,A₂B₂q,J＝6.2
Hz）。

IR（CHCl₃）ν:3680,3604,1772,1712,1612,1586cm^-1。

実施例Ｅ−10 R¹＝１−ヒドロキシエチル、R²＝メチル、R³＝アリル、
Ar＝フェニル、Het＝４−ピリジル。

ヒドロキシピリジルチオイリド（７）1.7g（2.6ミリ
モル）のベンゼン溶液（180ml）を４時間還流後、減圧
濃縮する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トル
エン：酢酸エチル＝1:1とヘキサン：ジクロロメタン：
酢酸エチル：アセトニトリル＝1:1:1:1で展開）で精製
すればヒドロキシピリジルチオカルバペネム（ｂ）（0.
75g、収率77％）を得る。

IR（CH₃CN）ν:3600−3100,2965,1770,1712,1575,1285c
m^-1。

UV（CHCl₃）μ:254,278nm. NMR（VXR200,CDCl₃）δ:1.18（3H,d,J＝7Hz）,1.31（3
H,d,J＝6.3Hz）,3.26（1H,dd,J＝3.1Hz,J＝6.6Hz）,3.3
5（1H,m）,3.53,4.99（2H,ABq,J＝14.3Hz）,4.19（2H,
m）,4.77（2H,m）,5.25〜5.05および5.85〜6.10（3H,2
×ｍ）,7.14,8.37（4H,A₂B₂q,J＝6.4Hz）。

［反応F:求核基導入］ 実施例Ｆ−１ R¹＝１−（トリエチルシリルオキシ）エチル、R²＝メチ
ル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、Het＝４−ピリジル。

（１）塩素化：シリルヒドロキシカルバペネム（ａ）80
0mg（1.68ミリモル）のジクロロメタン10ml溶液に−60
℃で攪拌下４−（ジメチルアミノ）ピリジン40mg（0.2
当量）とトリエチルアミン0.28ml（1.2当量）、次いで
塩化ジフェニルホスフェート0.42ml（1.2当量）を滴下
する。同温に30分放置後、塩化トリメチルシラン0.75ml
（3.9当量）を加えて１時間攪拌すれば（ａ）の２−塩
素置換体の溶液を得る。

（２）ピリジルチオ化：この溶液に４−メルカプトピリ
ジン280mg（1.5当量）、アセトニトリル10ml及びトリエ
チルアミン0.35ml（1.5当量）を加え−20℃で１時間放
置する。反応液をジクロロメタンで希め、炭酸水素ナト
リウム水に注ぐ。有機層を分取し、塩化アンモニウム水
と水で洗い、乾燥（MgSO₄）後減圧濃縮する。残渣をシ
リカゲル60g上クロマトグラフィー（トルエン−酢酸エ
チル1:2）で精製すれば２−（４−ピリジルチオ）メチ
ルシリルカルバペネム（ｂ）680mgを得る。収率:71.6
％。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:0.52〜0.68（6H,m）,0.85〜1.
00（9H,m）,1.15（3H,d,J＝8.7Hz）,1.23（3H,d,J＝6H
z）,3.18（1H,dd,J＝6.0Hz,J＝2.2Hz）,3.09−3.30（1
H,m）,3.46,4.91（2H,ABq,J＝14.4Hz）,3.78（3H,s）,
4.09（1H,dd,J＝13Hz,J＝2.2Hz）,4.3〜4.1（1H,m）,5.
21（2H,s）,6.85,7.30（4H,ABq,J＝9Hz）,7.06 ＆ 8.30
（4H,ABq,J＝6Hz）。

実施例Ｆ−２ R¹＝１−ヒドロキシエチル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メト
キシベンジル、Het＝４−ピリジル。

（１）ジフェニル燐酸エステル化：ジヒドロキシカルバ
ペネム（ａ）5.42g（15.0ミリモル）とジメチルアミノ
ピリジン550mg（0.3当量）のジクロロメタン20ml溶液を
−70℃で攪拌下、これにトリエチルアミン2.1ml（1.1当
量）と塩化ジフェニルホスフェート3.1mlのジクロロメ
タン10ml溶液を15分で滴下し、１時間攪拌すれば（ａ）
の２−燐酸ジフェニル混合エステルの溶液を得る。

（２）ピリジルチオ化：この溶液に４−メルカプトピリ
ジン2.00g（1.2当量）、トリエチルアミン2.1ml（1.1当
量）、よう化ナトリウム2.7g（1.2当量）とジメチルホ
ルムアミド30mlを加え、室温まで昇温して２時間攪拌す
る。これを炭酸水素ナトリウム水−酢酸エチル中にあけ
る。有機層を分取し、水洗、乾燥、減圧濃縮する。残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー（ローバーＢ、酢酸エ
チルで展開）で精製すれば２−（４−ピリジルチオ）メ
チルヒドロキシカルバペネム（ｂ）2.30gを得る。収率3
3.7％。

IR（CHCl₃）ν:3370〜3130br,1766,1708,1614,1580c
m^-1。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:1.18（3H,d,7.2Hz）,1.32（3
H,d,J＝6.4Hz）,1.76（＞1H,brs）,3.25（1H,dd,J＝6.5
Hz,J＝3.0Hz）,3.30〜3.39（1H,m）,3.48（1H,ABq,J＝1
4.4Hz）,3.80（3H,s）,4.13（1H,dd,10.2Hz,J＝3.0H
z）,4.22（1H,t型,J＝6.3Hz）,4.94（1H,ABq,J＝14.4H
z）,5.22,5.28（2H,d,J＝11.8Hz）,6.88,7.39（4H,A₂B₂
q,J＝88Hz）,7.06,8.31（4H,dA₂B₂q,J＝4.6Hz,J＝1.6H
z）。

実施例Ｆ−３ R¹＝１−（第３級ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル、R²＝メチル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、Het＝４
−ピリジル。

（１）ジフェニル燐酸エステル化：ジヒドロキシカルバ
ペネム（ａ）4.28g（9.0ミリモル）とジメチルアミノピ
リジン550mg（0.3当量）のジメチルホルムアミド溶液を
−70℃で攪拌下、これにトリエチルアミン2.1ml（1.1当
量）と塩化ジフェニルホスフェート3.1mlのジクロロメ
タン10ml溶液を15分で滴下し、１時間攪拌すれば（ａ）
の２−燐酸ジフェニル混合エステルの溶液を得る。

（２）ピリジルチオ化：この溶液に４−メルカプトピリ
ジン1.2当量、トリエチルアミン1.1当量、よう化ナトリ
ウム1.2当量とジメチルホルムアミドを加え、室温まで
昇温して２時間攪拌する。これを炭酸水素ナトリウム水
−酢酸エチル中にあける。有機層を分取し、水洗、乾
燥、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（ローバーＢ、酢酸エチルで展開）で精製すれば２−
（４−ピリジルチオ）メチルシリルカルバペネム（ｂ）
4.4gを得る。収率:85％。

（３）次いで、このシリルエーテル体2.1g（3.69ミリモ
ル）をテトラヒドロフラン10mlに溶解し、酢酸0.8ml及
びテトラブチルアンモニウムフロオライド三水和物2.78
g（2.4当量）を加えて室温２晩放置する。これを炭酸水
素ナトリウム水−酢酸エチル中に注ぐ。有機層を分取
し、水洗、乾燥、減圧濃縮後カラムクロマトグラフィー
（ローバーＢ、酢酸エチル）で精製すれば極性部より６
α−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−（４
−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム−３
−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）455m
g（物性後記、収率:27.1％）を、低極性留出部より６α
−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−（４−
ピリジルチオ）メチリデン−１−カルバベナム−３−カ
ルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル100mgを得る。
収率:6.0％。

IR（CHCl₃）ν:3400〜3120br,1750br,1604,1575cm^-1。

NMR（EM−390,CDCl₃）δ:1.11（3H,d,J＝7.5Hz）,1.35
（3H,d,J＝6.3Hz）,3.05〜3.40（約3H,m）,4.02（1H,d
d,J＝6.3Hz,J＝2Hz）,4.23（1H,quintet,J＝6.3Hz）,4.
98（1H,brs）,5.09,5.24（2H,ABq,J＝11.3Hz）,6.33（1
H,brs）,6.81,7.28（4H,ABq,J＝8.4Hz）,6.91,8.35（4
H,ABq,J＝5.5Hz）。

実施例Ｆ−４ R¹＝１−（トリエチルシリルオキシ）エチル、R²＝メチ
ル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、Het＝３−ピリジル。

シリルヒドロキシメチルカルバペネム（ａ）2.45g
（5.15ミリモル）と３−メルカプトピリジン・ジスルフ
ィド1.36g（1.2当量）のジクロロメタン溶液を−30℃冷
却下これにトリブチルホスフィン1.5ml（1.2当量）を加
えて２時間攪拌する。次いでエタノール0.15mlを加えて
更に15分攪拌後氷水中に注ぐ。有機層を分取し、減圧濃
縮し、残渣をクロマトグラフィー（ローバーＢ、２本、
トルエン−酢酸エチル4:1）で精製すれば６α−（１−
トリエチルシリルオキシエチル）−１−メチル−２−
（３−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム
−３−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）
1.86gを得る。収率:64％。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.53〜0.64（6H,m）,0.90−
0.98（9H,m）,1.14（3H,d,J＝7.4Hz）,1.25（3H,d,J＝
6.2Hz）,3.19（1H,dd,J＝6.5Hz,J＝3Hz）,3.24〜3.39
（1H,m）,3.36,4.80（2H,ABq,J＝14Hz）,3.81（3H,s）,
4.08（1H,dd,J＝10.2Hz,J＝3Hz）,4.19（1H,quintet型,
J＝6.3Hz）,5.10（2H,s）,6.88 ＆ 7.34（4H,A₂B₂q,J＝
8.8Hz）,7.09（1H,dd,J＝8.0Hz,J＝4.8Hz）,7.60（1H,d
dd,J＝8.0Hz,J＝2.3Hz,J＝1.7Hz）,8.42（1H,dd,J＝4.8
Hz,J＝15Hz）,8.57（1H,d,J＝1.7Hz）。

IR（CHCl₃）ν:1776,1717,1620,1520cm^-1。

実施例Ｆ−５ R¹＝１−（トリエチルシリルオキシ）エチル、R²＝メチ
ル、R³＝ｐ−メトキシベンジル、Het＝２−ピリジル。

４−ピリジル化合物と同様にして、２−ヒドロキシメ
チル体（ａ）に２−メルカプトピリジン或いはそのジス
ルフィドを反応させれば反応する２−ピリジルシリルカ
ルバペネム化合物（ｂ）を得る。収率:40−60％。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:0.51〜0.63（6H,m）,0.88〜
0.98（9H,m）,1.17（3H,d,J＝7.4Hz）,1.24（3H,d,J＝
6.2Hz）,3.14−3.30（1H,m）,3.20（1H,dd,J＝6.4Hz,J
＝3.0Hz）,3.79（3H,s）,4.09（1H,dd,J＝10.2Hz,J＝3H
z）、4.16（1H,quintet型,J＝6.2Hz）,4.07,4.81（2H,A
Bq J＝13.8Hz）,5.24（2H,s）,6.87,7.39（4H,A₂B₂q,J
＝8.6Hz）,6.92〜7.47（3H,m）,8.32（1H,dd型）。

IR（CHCl₃）ν:1770,1712,1615,1580cm^-1。

実施例Ｆ−６ R¹＝１−（トリエチルシリルオキシ）エチル→１−ヒド
ロキシエチル、R²＝エチル、R³＝ｐ−メトキシベンジ
ル、R⁶＝Ｈ→メシル→HetS,Ar＝フェニル、Het＝４−ピ
リジル。

（１）メシル化：シリルヒドロキシイリド（４）4.41g
（5.74ミリモル）のジクロロメタン22ml溶液を窒素中−
60℃で塩化メタンスルホニル0.49ml（1.1当量）とトリ
エチルアミン1.84ml（2.3当量）を滴下、１時間攪拌す
ればシリルメシルオキシイリド（４）を得る。

（２）これに４−メルカプトピリジン803mg（1.25当
量）とアセトニトリル22mlを加え、室温まで昇温し、２
時間攪拌すればシリルピリジルチオイリド（７）の溶液
を得る。

（３）この溶液を０℃とし、濃塩酸3.2ml（6.5当量）と
酢酸6mlを加えて２時間攪拌する。反応液を炭酸水素ナ
トリウム水に注ぎ、pH6.5でジクロロメタンで抽出す
る。抽出液を乾燥、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー（ローバーＢ、酢酸エチル−アセトニ
トリル9:1−1:1）で精製すればヒドロキシピリジルチオ
イリド（７）3.52gを得る。収率:82％。

IR（CHCl₃）ν:3620〜3300,1745,1720sh,1619,1582c
m^-1。

実施例Ｆ−７ R¹＝１−ヒドロキシエチル、R²＝メチル、R³＝アリル、
R⁶＝Ｈ→塩素、Ar＝フェニル、Het＝４−ピリジル。

（１）塩素化：ジヒドロキシイリド（４）9.52g（17ミ
リモル）のアセトニトリル85ml溶液に四塩化炭素34mlを
加え、氷冷下攪拌しながらトリフェニルホスフィン5.4g
（1.2当量）を少量づつ２時間かけて添加すればクロロ
ケトイリド（４）の溶液を得る。

（２）異項環チオ化：これに４−メルカプトピリジン2.
45g（1.3当量）と炭酸ナトリウム1.8g（１当量）を加
え、攪拌する。反応液を減圧濃縮する。残渣をトルエン
に溶解し、不溶物を濾去する。トルエン溶液を2N塩酸で
抽出する。抽出液を炭酸水素ナトリウム水で塩基性とし
たのち、トルエンで再抽出して常法通り後処理すれば４
−ピリジルチオヒドロキシイリド（７）7.87gを得る。
収率:71％。

IR（CHCl₃）ν:3100〜2900,1735,1707,1610,1430cm^-1。

［反応G:カルボキシ脱保護］ 実施例Ｇ−１ ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−
（４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム
−３−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）
のスルホキシド90mg（0.9ミリモル）のジクロロメタン
−アニソール（4:1）10ml溶液を−45℃に冷却し、これ
に塩化アルミニウム150mg（約６当量）を加え１時間攪
拌する。反応液に炭酸水素ナトリウム284mgの水溶液を
加え、不溶液を濾去し、濾液をHP−20（約50ml）を用い
てクロマトグラフィーすれば６β−（１−ヒドロキシエ
チル）−１−メチル−２−（４−ピリジルチオ）メチル
−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸ナトリウム
（ｂ）のスルホキシド35mgを得る。収率:49％。

NMR（VXR−200,D₂O−DSS）δ:1.08（3H,d,J＝6.6Hz）,
1.25,1.26（3H,2×d,J＝6.4Hz）,2.87〜3.20（1H,m）,
3.38,3.40（約1H,2×dd,J＝6Hz,J＝3Hz）,3.94−4.24
（約2H,m）,4.15 ＆ 4.69（1H,ABq,J＝13.6Hz）,7.64,
7.69（2H,2×d,J＝6.2Hz）,8.72（2H,brs）。

実施例Ｇ−２ ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−エチル−２−
（４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム
−３−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）
200mg（0.427ミリモル）の塩化メチレン8ml及びアニソ
ール2ml溶液に−50℃で攪拌下に塩化アルミニウム270mg
（4.7当量）を加えて１時間攪拌する。反応液に炭酸水
素ナトリウム615mgの10ml水溶液を加え、不溶物を濾
去、濾液をHP−20（約30cc）クロマトグラフィーで精製
し、10％メタノール水での留出液を凍結乾燥すれば６β
−（１−ヒドロキシエチル）−１−エチル−２−（４−
ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−
カルボン酸ナトリウム（ｂ）125mgを得る。収率:79％。

元素分析：（C₁₇H₁₉N₂O₄SNa・1 1/4H₂O） 計算値:C,51.97;H,5.52;N,7.13; S,8.16;Na,5.85 実測値:C,51.82;H,5.44;N,7.14; S,7.71;Na,6.55 NMR（VXR−200,D₂O,inter ref:DSS）δ:0.91（3H,t,J＝
7Hz）,1.27（3H,d,J＝6.2Hz）,1.32〜1.82（2H,m）,3.1
3（1H,m）,3.38（1H,dd,J＝6.2Hz,J＝2.6Hz）,3.63（1
H,ABq−Ａ部分,J＝14.5Hz）,4.00（1H,dd,J＝9.5Hz,J＝
2.6Hz）,4.19（1H,t型,J＝6Hz）,4.88（1H,ABq,B部分,J
＝14.5Hz）,7.31（2H,A₂B₂q−Ａ部分,J＝5Hz）,8.30（2
H,A₂B₂q−Ｂ部分,J＝5Hz）。

実施例Ｇ−３ ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−
（１−カルバモイルメチル−４−ピリジニオチオ）−メ
チル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸アリル
エステル（ｂ）・ヨウ化物560mg（１ミリモル）をニト
ロメタン（20ml）−酢酸エチル（40ml）−ジクロロメタ
ン（60ml）の混合溶媒に溶解しトリフェニルホスフイン
（262mg,1当量）を添加し、次いで、氷冷下エチルヘキ
サン酸ナトリウム（１モル−酢酸エチル溶液、1ml、１
当量）を加え、攪拌する。同温度で反応液にパラジウム
テトラキストリフェニルホスフィン120mg（0.1当量）を
添加し1.5時間攪拌する。反応液をジクロロメタン100ml
で薄め、水で抽出する。水層をジクロロメタンで洗い、
HP20AGカラムクロマトグラフイー（水、20％メタノール
水）で精製すれば６β−（１−ヒドロキシエチル）−１
−メチル−２−（１−カルバモイルメチル−４−ピリジ
ニオチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム−４−カル
ボキシレート（ｂ）163mgを得る。収率:42％。

NMR（VXR−200,D₂O，内部基準:DSS）δ:1.10（3H,t,J＝
7.4Hz）,1.26（3H,d,J＝6.6Hz）,3.27〜3.39（1H,m）,
3.43（1H,dd,J＝6.1Hz,J＝2.9Hz）,3.89,5.10（2H,ABq,
J＝15.0Hz）,4.08（1H,dd,J＝10.0Hz,J＝2.6Hz）,4.13
〜4.27（1H,m）,5.30（2H,s）,7.82,8.39（2H,A₂B₂q,J
＝5Hz）。

IR（KBr）ν:3400br,1750,1700,1590cm^-1。

［反応H:付加的修飾］ 実施例Ｈ−１（スルホキシド化） ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−
（４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム
−３−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）
と６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−
（４−ピリジルチオ）メチリデン−１−カルバベナム−
３−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステルの混合物
（約1:1）1.00g（2.2ミリモル）のジクロロメタン10ml
溶液に氷冷攪拌下、炭酸水素ナトリウム290mgとｍ−ク
ロル過安息香酸70mg（70％、1.3当量）を加え３時間攪
拌する。反応液に水を加える。ジクロロメタン層を分取
し、酸性亜硫酸ナトリウムと水で洗い、乾燥、減圧濃縮
する。残渣をシリカゲル（20g）上クロマトグラフィー
（酢酸エチル：アセトニトリル1:1）で精製すれば ６
β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−（４
−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム−３
−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）スル
ホキシド370mg（スルホキシド立体異性体の約1:1混合
物）を得る。合計収率:35.8％。

IR（CHCl₃）ν:1774,1710,1616,1574,1055cm^-1。

NMR（VXR−200,CDCl₃）δ:1.12,1.17（3H,2×d,J＝7.4H
z）,1.30,1.33（3H,2×d,J＝5.8Hz,J＝6.2Hz）,1.80〜
2.75（約1H,m）,3.23〜3.54（2H,m）,3.37,4.59（約1H,
ABq,J＝12.4Hz）,3.80,3.81（3H,2×ｓ）,3.89,4.50
（約1H,ABq,J＝13.4Hz）,4.10〜4.54（2H,m）,5.03,5.1
2（約1H,ABq,J＝12Hz）,5.17,5.27（約1H,ABq,J＝12H
z）,6.90,6.92（2H,dd,J＝8.8Hz）,7.33〜7.44（4H,
m）,8.64,8.73（2H,dd,J＝5.8Hz）。

実施例Ｈ−２（スルホキシド還元） ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−
（４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム
−３−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）
スルホキシド130mg（0.276ミリモル）のアセトン1.3ml
溶液を−30℃冷却し、これにヨウ化カリウム190mg（４
当量）と塩化アセチル0.08ml（４当量）を加えて１時間
攪拌する。反応液を冷ハイポ水溶液中に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出し、炭酸水素ナトリウム水と水で洗い、乾燥、
減圧濃縮する。残渣をシリカゲル5g上クロマトグラフィ
ー（酢酸エチル）で精製すれば６β−（１−ヒドロキシ
エチル）−１−メチル−２−（４−ピリジルチオ）メチ
ル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸ｐ−メト
キシベンジルエステル（ｂ）49mgを得る。収率:39％。

実施例Ｈ−３（Ｎ−メチル化） ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−エチル−２−
（１−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム
−３−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル（ｂ）
345mg（0.74ミリモル）の塩化メチレン1ml溶液に、窒素
中ヨウ化メチル0.23ml（５当量）を加えて室温一晩放置
すると結晶が析出する。これを濾取し、アセトンで洗浄
後乾燥すれば６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−エ
チル−２−（１−メチル−４−ピリジルニオチオ）メチ
ル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸ｐ−メト
キシベンジルエステル・ヨウ化物（ｂ）364mgを得る。
収率:81.8％。分解点139−140℃。

IR（Nujol）ν:3516,3472,3372,3120,1770,1699,1630,1
610,1555,1519,1497,1252,815cm^-1。

元素分析：（C₂₅H₂₈N₂O₅S・CH₃I） 計算値:C,51.15;H,5.12;N,4.59; S,5.25;I,20.79 実測値:C,50.47;H,5.14;N,4.61 S,5.71。

NMR（VXR−200,d₂−DMSO）δ:0.92（3H,t,J＝7.5Hz）,
1.16（3H,d,J＝6.3Hz）,1.30〜1.88（2H,m）,2.96〜3.0
8（1H,m）,3.75（3H,s）,3.91−4.05（1H,m）,4.10−4.
21（1H,m）,4.18（3H,s）,4.24,4.65（2H,ABq,J＝10.5H
z）,5.13,5.19（2H,ABq,J＝4.8Hz）,6.88,7.35（4H,A₂B
₂q,J＝8.1Hz）,7.84,8.56（4H,A₂B₂q,J＝6.3Hz）。

実施例Ｈ−４（Ｎ−アルキル化） ６β−（１−ヒドロキシエチル）−１−メチル−２−
（４−ピリジルチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム
−３−カルボン酸アリルエステル（ｂ）0.99g（2.64ミ
リモル）のアセトニトリル13ml溶液にヨードアセトアミ
ド1.47g（３当量）を加え、室温で８時間攪拌する。反
応液を酢酸エチルで薄め、生成する沈澱を酢酸エチルで
洗い、真空乾燥すれば６β−（１−ヒドロキシエチル）
−１−メチル−２−（１−カルバモイルメチル−４−ピ
リジニオチオ）メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−
カルボン酸アリルエステル（ｂ）ヨウ化物1.27gを得
る。収率:86％。

IR（CHCl₃）ν:3600〜3100,1735sh,1728,1715sh,1375,1
260−1160cm^-1。

UV（CH₃CN）μ:246,307nm。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 205/08 Ｋ

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式（II）で表わされる４β−（１β−アル
   キル−２−カルボキシ−２−プロペニル）−２−アゼチ
   ジノン化合物。
2. 【請求項２】４−脱離基置換−２−アゼチジノン化合物
   （Ｉ）にトランス−２−脱離基置換メチル−３−アルキ
   ルアクリル酸化合物（III）と還元性金属を作用させる
   ことを特徴とする４β−（１β−アルキル−２−カルボ
   キシ−２−プロペニル）−２−アゼチジノン化合物（I
   I）の製法。 （式中、 R¹は水素、アルキルまたは置換アルキル、 R²は置換基を有していてもよいアルキル、 R³は水素またはカルボキシ保護基、 R⁴およびR⁵は、それぞれヒドロキシ、アシルオキシ、ス
   ルフィニルおよびハロゲンからなる群から選択される脱
   離基、 をそれぞれ示す）