JPH0214718A - 残留ガス中の水素化物を分解する方法およびそのための触媒 - Google Patents
残留ガス中の水素化物を分解する方法およびそのための触媒Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、エピタキシ炉又はＣＶＤ蒸気相化学沈着エン
クロージャーで製造されるガス等の残留ガス中の水素化
物を分解するための、反応剤および反応促進剤を含有す
る固体酸化触媒に該残留ガスを接触する方法に関する。
クロージャーで製造されるガス等の残留ガス中の水素化
物を分解するための、反応剤および反応促進剤を含有す
る固体酸化触媒に該残留ガスを接触する方法に関する。
揮発性ガス例えばシラン、ホスフィン、アルシン、ジボ
ラン等は電子産業において、ＶＬＳＩ型の集積回路の製
造の異なる工程において現在広く使用されている化学ガ
スである。例えばシランは、電子産業においてシリコン
源として使用されている。エピタキシ炉又はＣＶＤエン
クロージャー内の化学反応は、完全ではなく、無視でき
ない量のまだ危険な性質を有している反応性ガスがしば
しば反応器の出口において見出される。
ラン等は電子産業において、ＶＬＳＩ型の集積回路の製
造の異なる工程において現在広く使用されている化学ガ
スである。例えばシランは、電子産業においてシリコン
源として使用されている。エピタキシ炉又はＣＶＤエン
クロージャー内の化学反応は、完全ではなく、無視でき
ない量のまだ危険な性質を有している反応性ガスがしば
しば反応器の出口において見出される。
日本国出願６１−９０７２６によって、ケイ素化合物を
含有する残留ガスを、銅酸化物および／又は亜鉛酸化物
から構成される固相上を、毎時１０から２００００好ま
しくは毎時５０から１０ ０００の比ガス速度で通過さ
せて処理する方法が知られている。
含有する残留ガスを、銅酸化物および／又は亜鉛酸化物
から構成される固相上を、毎時１０から２００００好ま
しくは毎時５０から１０ ０００の比ガス速度で通過さ
せて処理する方法が知られている。
この特許出願において好ましいとして言及されている組
成物からなされた種々の試験は、これらの混合物を分解
する能力が比較的低いことを示した。実際、この特許出
願によると、毎時約８６０の比粘度で使用した触媒１キ
ログラムあたり６０から７０リツトルのオーダーのシラ
ンの分解が得られた。毎時１０と１００の間でこの比粘
度を減少することにより、触媒１ｋｇ当たりの分解能力
の増加が期待されるのが普通である。以下に述べる結果
は、該混合物の比粘度を減少したとき、この示されたｋ
ｇ当たり６０から７０ｇの能力が維持されないだけでな
く、逆に、それは非常に減少し、これは、これら先行技
術の触媒が非常に興味深いものではないことを示す。
成物からなされた種々の試験は、これらの混合物を分解
する能力が比較的低いことを示した。実際、この特許出
願によると、毎時約８６０の比粘度で使用した触媒１キ
ログラムあたり６０から７０リツトルのオーダーのシラ
ンの分解が得られた。毎時１０と１００の間でこの比粘
度を減少することにより、触媒１ｋｇ当たりの分解能力
の増加が期待されるのが普通である。以下に述べる結果
は、該混合物の比粘度を減少したとき、この示されたｋ
ｇ当たり６０から７０ｇの能力が維持されないだけでな
く、逆に、それは非常に減少し、これは、これら先行技
術の触媒が非常に興味深いものではないことを示す。
本発明の目的は、この種類の既知の触媒に比較して分解
能力の向上した、固体触媒の方法による残留ガス（ｒｅ
ｓｉｄｕａｌ）中の水素化物の分解（ｄｅｓｔｒｏｙ
）のための方法を明らかにすることである。
能力の向上した、固体触媒の方法による残留ガス（ｒｅ
ｓｉｄｕａｌ）中の水素化物の分解（ｄｅｓｔｒｏｙ
）のための方法を明らかにすることである。
本発明の方法は、前記固体触媒が反応剤（ｒｅａｃｔｌ
ｖｅ ａｇｅｎｔ）として１０乃至５０重量パーセント
の酸化銅ＣｕＯおよび反応促進剤（ｒｅａｃｔｌｖｅ
ｐｒｏＩＩｏｔｉｎｇ ａｇｅｎｔ）として５０乃至９
０重量パーセントの二酸化マンガンＭ ｎ ０２を包含
し、前記残留ガスに含まれる水素化物が該触媒表面に吸
着しそれにより該反応促進剤により該反応剤と反応して
不活性な酸化された種を生成し、該残留ガスがその上を
流れる触媒の量に該残留ガス流を適合させて、該残留ガ
ス中に存在する水素化物を実質的に全て酸化することを
特徴とする。
ｖｅ ａｇｅｎｔ）として１０乃至５０重量パーセント
の酸化銅ＣｕＯおよび反応促進剤（ｒｅａｃｔｌｖｅ
ｐｒｏＩＩｏｔｉｎｇ ａｇｅｎｔ）として５０乃至９
０重量パーセントの二酸化マンガンＭ ｎ ０２を包含
し、前記残留ガスに含まれる水素化物が該触媒表面に吸
着しそれにより該反応促進剤により該反応剤と反応して
不活性な酸化された種を生成し、該残留ガスがその上を
流れる触媒の量に該残留ガス流を適合させて、該残留ガ
ス中に存在する水素化物を実質的に全て酸化することを
特徴とする。
好ましくは、該固体触媒は、１０ないし３０重二パーセ
ントのＣｕＯおよび７０ないし９０重量パーセントのＭ
ｎ ０２を包含する。さらに、前記触媒は、その全体
の重量に関して３０％まで、Ａ １２０３ 、ＺｎＯ１
Ｓｉ０２、Ｃｒ２Ｏ３、Ｍ ｎ Ｃ０３、およびそれら
の混合物を包含する群から選択された他の物質を含有す
ることができる。
ントのＣｕＯおよび７０ないし９０重量パーセントのＭ
ｎ ０２を包含する。さらに、前記触媒は、その全体
の重量に関して３０％まで、Ａ １２０３ 、ＺｎＯ１
Ｓｉ０２、Ｃｒ２Ｏ３、Ｍ ｎ Ｃ０３、およびそれら
の混合物を包含する群から選択された他の物質を含有す
ることができる。
分解されるべき水素化物に加えて、該残留ガスは、一般
に水素および、好ましくは窒素、アルゴン、ヘリウム等
を包含する群から選択された不活性ガスを包含する。ガ
スの混合物の比速度（５ｐｅｃｌｆ’ｉｃ ５ｐｅｅｄ
）は、一般に１ｈｒ−’と１０００ ｈｒ−１の間で
あり好ましくは１０ｈｒ’と６００ ｈｒ−’の間で
ある。水素化物の分解を許す酸化温度は５００℃より低
い値好ましくは１００℃以下に維持されるべきであるこ
とが一般に観察されている。
に水素および、好ましくは窒素、アルゴン、ヘリウム等
を包含する群から選択された不活性ガスを包含する。ガ
スの混合物の比速度（５ｐｅｃｌｆ’ｉｃ ５ｐｅｅｄ
）は、一般に１ｈｒ−’と１０００ ｈｒ−１の間で
あり好ましくは１０ｈｒ’と６００ ｈｒ−’の間で
ある。水素化物の分解を許す酸化温度は５００℃より低
い値好ましくは１００℃以下に維持されるべきであるこ
とが一般に観察されている。
不活性ガスが水素である場合、酸化温度は、好ましくは
７０℃より低い値に維持されるべきである。場合により
、この温度を室温より低い値に維持することが望まれる
ことができる。この場合、冷却は、酸化触媒により形成
された触媒床の周囲に位置した冷却流体の方法により、
行われる。
７０℃より低い値に維持されるべきである。場合により
、この温度を室温より低い値に維持することが望まれる
ことができる。この場合、冷却は、酸化触媒により形成
された触媒床の周囲に位置した冷却流体の方法により、
行われる。
この触媒床は一般に、好ましくは管状の（ｔｕｂｕｌａ
ｒ ）エンクロージャー内に配置される。
ｒ ）エンクロージャー内に配置される。
この発明の特徴によれば、エンクロージャーは、酸化触
媒で満たされ前記エンクロージャー内に並べて配置され
た複数の管を備える。
媒で満たされ前記エンクロージャー内に並べて配置され
た複数の管を備える。
温度を所定の値に維持するために触媒を冷却することが
望まれる場合、特に、温度を室温以下またはそれとほぼ
同じ値に維持しようとする場合、冷却流体例えば水、油
、低温液化ガス（ｃｒｙｏｇｅｎｌｃ １ｌｑｕｌｄ）
、冷ガス等が、前記管の間に循環されるだろう。
望まれる場合、特に、温度を室温以下またはそれとほぼ
同じ値に維持しようとする場合、冷却流体例えば水、油
、低温液化ガス（ｃｒｙｏｇｅｎｌｃ １ｌｑｕｌｄ）
、冷ガス等が、前記管の間に循環されるだろう。
実際、よりよい結果を得るために、エンクロージャーは
平行に並べて配置した１から３０の管好ましくは１０か
ら２０の管を備えるべきであることが観察された。この
発明はまた酸化により水素化物を分解する触媒であって
、１０から５０重量パーセントの酸化銅ＣｕＯおよび５
０から９０重量パーセントの二酸化マンガンＭ ｎ Ｏ
２を包含することを特徴とする触媒にも関する。
平行に並べて配置した１から３０の管好ましくは１０か
ら２０の管を備えるべきであることが観察された。この
発明はまた酸化により水素化物を分解する触媒であって
、１０から５０重量パーセントの酸化銅ＣｕＯおよび５
０から９０重量パーセントの二酸化マンガンＭ ｎ Ｏ
２を包含することを特徴とする触媒にも関する。
好ましくは、触媒は、１０から３０重量パーセントのＣ
ｕＯおよび７０から９０重量パーセントのＭ ｎ Ｏ２
を包含し、付加的に、３０重量パーセントまで、Ａｌ２
Ｏ３、ＺｎＯ１Ｓｉ０２、Ｃｒ２Ｏ３、および／又はＭ
ｎ ＣＯ３から選択されたものを含有することができ
る。
ｕＯおよび７０から９０重量パーセントのＭ ｎ Ｏ２
を包含し、付加的に、３０重量パーセントまで、Ａｌ２
Ｏ３、ＺｎＯ１Ｓｉ０２、Ｃｒ２Ｏ３、および／又はＭ
ｎ ＣＯ３から選択されたものを含有することができ
る。
予期しないことに、以上に規定した固体触媒は、６０ｈ
ｒ’と等しいかそれ以下の比ガス速度で残留ガスに含有
された水素化物を、一般に３０から６０リットル／ｋｇ
の分解能力で、除去することができる。
ｒ’と等しいかそれ以下の比ガス速度で残留ガスに含有
された水素化物を、一般に３０から６０リットル／ｋｇ
の分解能力で、除去することができる。
本発明は次の例により、よりよく理解されるがそれらの
例に限定されるものではない。
例に限定されるものではない。
第１図において、エピタキシ反応器又はＣＶＤエンクロ
ージャーは（必要により）ポンプ３を介して導管２によ
り、本発明の方法を行うことができるエンクロージャー
の下側入口に接続されている。このエンクロージャーで
製造されたガスは導管７を通してエンクロージャーの外
部に排出される。エンクロージャー４は触媒床６が載せ
られたデミキシング剤（ｄｅｍｌｘｌｎｇ ａｇｅｎｔ
） ５を含有することができる。触媒床Ｂは、適当量の
酸化銅Ｃｕ・０および二酸化マンガンＭｎＯ２の混合物
を包含し、これには結局（ｅｖｅｎｔｕａｌｌｙ） Ａ
１２０３、Ｚｎ０ＳＳｉ０２、Ｃｒ２Ｏ３、ＭｎＣＯ
３から選択されたものが添加されることができる。
ージャーは（必要により）ポンプ３を介して導管２によ
り、本発明の方法を行うことができるエンクロージャー
の下側入口に接続されている。このエンクロージャーで
製造されたガスは導管７を通してエンクロージャーの外
部に排出される。エンクロージャー４は触媒床６が載せ
られたデミキシング剤（ｄｅｍｌｘｌｎｇ ａｇｅｎｔ
） ５を含有することができる。触媒床Ｂは、適当量の
酸化銅Ｃｕ・０および二酸化マンガンＭｎＯ２の混合物
を包含し、これには結局（ｅｖｅｎｔｕａｌｌｙ） Ａ
１２０３、Ｚｎ０ＳＳｉ０２、Ｃｒ２Ｏ３、ＭｎＣＯ
３から選択されたものが添加されることができる。
第２図は、第１図のエンクロージャー４のような本発明
の方法を行うことができるエンクロージャーの好ましい
例の断面図であり、特に、冷却手段により温度を室温近
くまたはそれ以下に維持する必要がある場合のものであ
る。このエンクロージャーは、ガス入口およびガス出口
１７、Ｉｌｌ （又はその逆）を備える。これらは各々
カバー１５、ＩＢと一単位であり、後者は本体３１に固
定されている。
の方法を行うことができるエンクロージャーの好ましい
例の断面図であり、特に、冷却手段により温度を室温近
くまたはそれ以下に維持する必要がある場合のものであ
る。このエンクロージャーは、ガス入口およびガス出口
１７、Ｉｌｌ （又はその逆）を備える。これらは各々
カバー１５、ＩＢと一単位であり、後者は本体３１に固
定されている。
本体の内側には、触媒床２４の成分が収められている複
数の管状導管１９．２０．２１．２２．２３が配置され
ている。該成分は、適当な手段で管状ハウジングの両端
に保持されている。管状ハウジングの間に、空間２５．
２６．２７．２８．２９．３０、が設けられ該ハウジン
グを分離している。該空間の大きさは、装置の、および
必要によりハウジング２５．２Ｂ、２７．２８．２９．
３０を循環する冷却流体による冷却の、意図された効率
に依存する。
数の管状導管１９．２０．２１．２２．２３が配置され
ている。該成分は、適当な手段で管状ハウジングの両端
に保持されている。管状ハウジングの間に、空間２５．
２６．２７．２８．２９．３０、が設けられ該ハウジン
グを分離している。該空間の大きさは、装置の、および
必要によりハウジング２５．２Ｂ、２７．２８．２９．
３０を循環する冷却流体による冷却の、意図された効率
に依存する。
該流体は好ましくは下側人口３２から上側出口３３へ循
環する（向流循環）。
環する（向流循環）。
例１から８＝
次の例１から８は、後記の表に従って触媒の組成を変化
したがその触媒の重量は同じに維持することにより残り
のパラメータは全て同じにして同じ条件で行った比較の
ための例である。
したがその触媒の重量は同じに維持することにより残り
のパラメータは全て同じにして同じ条件で行った比較の
ための例である。
例１から６の各触媒では、１０％のシランＳｉＨ４と９
０％の窒素を含有する混合物が導管２を介してエンクロ
ージャー４の下側入口に、比速度３０ｈｒ−１で導入さ
れた。エンクロージャー４は直径４ｃｍで有効高さ（ｅ
ｆｆ’１ｅｎｔ ｈｅｉｇｈｔ）１７ｃｍの円筒である
。
０％の窒素を含有する混合物が導管２を介してエンクロ
ージャー４の下側入口に、比速度３０ｈｒ−１で導入さ
れた。エンクロージャー４は直径４ｃｍで有効高さ（ｅ
ｆｆ’１ｅｎｔ ｈｅｉｇｈｔ）１７ｃｍの円筒である
。
例７の場合は残留ガスは３％のシランＳｉＨ４と９７％
の窒素からなり、比ガス速度は３４ｈｒ’であり、残留
ガスは高さ８ｃｍで有効高さ１５ｃｍの円筒に導入され
た。
の窒素からなり、比ガス速度は３４ｈｒ’であり、残留
ガスは高さ８ｃｍで有効高さ１５ｃｍの円筒に導入され
た。
例８では残留ガスは５％のシランと９５％の窒素からな
り、比ガス速度は１７０ ｈｒ−’、残留ガスは高さ
３ｃｍ有効で高さ１０ｃｍの円筒に導入された。
り、比ガス速度は１７０ ｈｒ−’、残留ガスは高さ
３ｃｍ有効で高さ１０ｃｍの円筒に導入された。
種々の触媒試薬の具体的組成は後記の第１表に示した。
該触媒において観察された最高温度に関して得られた結
果およびこれらの触媒の分解能力を第２表に示した。
果およびこれらの触媒の分解能力を第２表に示した。
第
表
試薬
組成
触媒
（重量で）
１ ％、
２％、
３８％、
ｒ２
３７％、
１３％、
Ｍ ｎ ０２
５７％、
ＣＯ３Ｍ ｎ
３０％、
１ ％、
Ｍ ｎ ０２
１７％、
第
表
試薬 密度 最高温度
触媒 （触媒床の）
１ １．３ｇ／ｍｌ ８４℃ ３．７８１／
ｋｇ２ １、１８ ｇ／１５２℃ ４．２４１／
ｋｇ３ １、２ ｇ／ａｔ 分解
なし４ １、４９ ｇ／ｍｌ ４４℃ ３．
８５１／ｋｇ５ ０、８９ ｇ／１８８℃ ５３
．０２１／ｋｇ６ ０、９ ｇ／ｌ
分解なし７ １、１８ ｇ／ｍｌ ４２℃
４１．０ １／ｋｇ８ ０．９ｇ／ｍ１
８０”Ｃ１２，［ｉ ｌ／ｋｇ分解能力 第２表に見られるように、試薬１．２および４（従来技
術に係るもの）は前記日本国特許出願の教示から期待さ
れたものに反して良くない結果を与え、試薬３および６
はシランを分解しなかった。
ｋｇ２ １、１８ ｇ／１５２℃ ４．２４１／
ｋｇ３ １、２ ｇ／ａｔ 分解
なし４ １、４９ ｇ／ｍｌ ４４℃ ３．
８５１／ｋｇ５ ０、８９ ｇ／１８８℃ ５３
．０２１／ｋｇ６ ０、９ ｇ／ｌ
分解なし７ １、１８ ｇ／ｍｌ ４２℃
４１．０ １／ｋｇ８ ０．９ｇ／ｍ１
８０”Ｃ１２，［ｉ ｌ／ｋｇ分解能力 第２表に見られるように、試薬１．２および４（従来技
術に係るもの）は前記日本国特許出願の教示から期待さ
れたものに反して良くない結果を与え、試薬３および６
はシランを分解しなかった。
一方、本発明の試薬５および７は、前記の従来技術に係
る例１．２および４の分解能力の少なくとも１０倍の分
解能力を与えた。
る例１．２および４の分解能力の少なくとも１０倍の分
解能力を与えた。
例８は、Ｃｕ Ｏ／ Ｍ ｎ Ｏ２比が高すぎおよび比
速度もまた高すぎることにより、試薬８が、例５および
７の条件で使用された試薬の分解能力よりも明らかに低
い分解能力を与えることを示している。
速度もまた高すぎることにより、試薬８が、例５および
７の条件で使用された試薬の分解能力よりも明らかに低
い分解能力を与えることを示している。
上記の例の場合、シランの分解により生成された不活性
な酸化され種は実質的にシリカで構成されている。フォ
スフインおよびアルシンの場合、酸化された種は実質的
にそれぞれＡｓ２Ｏ３およびＰ２Ｏ５で構成される。
な酸化され種は実質的にシリカで構成されている。フォ
スフインおよびアルシンの場合、酸化された種は実質的
にそれぞれＡｓ２Ｏ３およびＰ２Ｏ５で構成される。
第１図は、本発明の方法によって水素化物を除去する方
法を行うための装置の模式図である。 第２図は、本発明の方法を行うのに好ましい酸化エンク
ロージャーの断面図である。 ４・・・エンクロージャー、６・・・触媒床、１９．２
０．２１．２２．２３・・・管状導管、２４・・・触媒
床、２５．２Ｂ、２７．２８．２９．３０・・・空間。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
法を行うための装置の模式図である。 第２図は、本発明の方法を行うのに好ましい酸化エンク
ロージャーの断面図である。 ４・・・エンクロージャー、６・・・触媒床、１９．２
０．２１．２２．２３・・・管状導管、２４・・・触媒
床、２５．２Ｂ、２７．２８．２９．３０・・・空間。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、残留ガス例えばエピタキシ炉又はＣＶＤ蒸気相化学
沈着エンクロージャーで製造されるガス中の水素化物を
分解するための方法であって、該残留ガスを反応剤およ
び反応促進剤を含有する固体酸化触媒に接触させ、次い
でその中の実質的に全ての水素化物が分解されている該
残留ガスが大気に排出される方法において、前記固体触
媒は反応剤として１０乃至５０重量パーセントの酸化銅
ＣｕＯおよび反応促進剤として５０乃至９０重量パーセ
ントの二酸化マンガンＭｎＯ＿２を包含し、前記残留ガ
スに含まれる水素化物が該反応促進剤により該反応剤と
反応して不活性な酸化された種を生成するように該触媒
の表面に吸着され、該残留ガスがその上を流れる触媒の
量に該残留ガス流を適合させて、該残留ガス中に存在す
る水素化物を実質的に全て酸化することを特徴とする方
法。 ２、前記固体触媒が１０乃至３０重量パーセントのＣｕ
Ｏおよび７０乃至９０重量パーセントのＭｎＯ＿２を包
含する請求項１記載の方法。 ３、該酸化触媒が付加的にその全重量の３０重量パーセ
ントまで、Ａｌ＿２Ｏ＿３、ＺｎＯ、ＳｉＯ＿２、Ｃｒ
＿２Ｏ＿３、ＭｎＣＯ＿３から選択されたものを含有す
る請求項１または２記載の方法。 ４、該残留ガスが水素および不活性ガスから選択される
ガス、および分解されるべき水素化物を包含する請求項
１ないし３のいずれか１に記載の方法。 ５、該不活性ガスが、窒素、アルゴン、およびヘリウム
から選択される請求項４記載の方法。 ６、該触媒が触媒床を形成し酸化温度が１５０℃以下好
ましくは１００℃以下に維持される請求項１ないし５の
いずれか１に記載の方法。 ７、該不活性ガスは水素であり、該酸化温度は実質的に
室温より高くない値に維持される請求項１ないし６に記
載の方法。 ８、該酸化温度が該触媒床の周囲に配された流体での冷
却によって所定の値以下に維持される請求項６または７
のいずれか１に記載の方法。 ９、該酸化触媒を構成する触媒床が好ましくは管状のエ
ンクロージャー内に配されている請求項１ないし８のい
ずれか１に記載の方法。 １０、該エンクロージャーが、酸化触媒が充填され並べ
て配置された複数の管を包含する請求項９記載の方法。 １１、空間が、水、油、低温液化ガスおよび／又は冷ガ
ス等の冷却流体がそれらの間を循環することができるよ
うに、前記管の間に設けられている請求項１０記載の方
法。 １２、該エンクロージャーが互いに平行に設けられた１
乃至３０好ましくは１０乃至２０の管を有する請求項１
０または１１記載の方法。 １３、１０乃至５０重量パーセントのＣｕＯおよび５０
乃至９０重量パーセントのＭｎＯ＿２を包含する酸化に
より水素化物を分解するための触媒。 １４、１０乃至３０重量パーセントのＣｕＯおよび７０
乃至９０重量パーセントのＭｎＯ＿２を包含する請求項
１３記載の触媒。 １５、３０重量パーセントまでのＡｌ＿２Ｏ＿３、Ｚｎ
Ｏ、ＳｉＯ＿２、Ｃｒ＿２Ｏ＿３、ＭｎＣＯ＿３から選
択されたものを付加的に包含する請求項１３または１４
のいずれか１に記載の触媒。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8804109 | 1988-03-30 | ||
| FR8804109A FR2629362B1 (fr) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | Procede de destruction d'hydrures contenus dans un gaz residuaire et catalyseur pour sa mise en oeuvre |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0214718A true JPH0214718A (ja) | 1990-01-18 |
Family
ID=9364740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1074818A Pending JPH0214718A (ja) | 1988-03-30 | 1989-03-27 | 残留ガス中の水素化物を分解する方法およびそのための触媒 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0335792A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0214718A (ja) |
| KR (1) | KR890014163A (ja) |
| CN (1) | CN1011859B (ja) |
| FR (1) | FR2629362B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0647234A (ja) * | 1992-06-09 | 1994-02-22 | Ebara Infilco Co Ltd | Ｃｖｄ法排ガスの除害方法 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4992620A (en) * | 1989-11-21 | 1991-02-12 | Phillips Petroleum Company | Removal of trialkyl arsines from fluids |
| US5182088A (en) * | 1990-09-07 | 1993-01-26 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Removal of gaseous hydrides |
| JP2505985B2 (ja) * | 1991-01-18 | 1996-06-12 | 株式会社荏原総合研究所 | Ｃｖｄ法排ガスの除害方法 |
| US6338312B2 (en) * | 1998-04-15 | 2002-01-15 | Advanced Technology Materials, Inc. | Integrated ion implant scrubber system |
| SG111909A1 (en) | 1999-01-21 | 2005-06-29 | Mitsui Chemicals Inc | Agent for and process of treating exhaust gas |
| US6805728B2 (en) * | 2002-12-09 | 2004-10-19 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method and apparatus for the abatement of toxic gas components from a semiconductor manufacturing process effluent stream |
| US7364603B2 (en) | 2002-12-09 | 2008-04-29 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for the abatement of toxic gas components from a semiconductor manufacturing process effluent stream |
| WO2013153555A1 (en) * | 2012-04-12 | 2013-10-17 | Jsw Steel Limited | A devolatalization catalyst for devolatalization of coals and a process for the manufacture of coke with improved cri and csr values using such catalyst. |
| CN105194996B (zh) * | 2015-09-15 | 2017-09-05 | 华烁科技股份有限公司 | 一种黄磷尾气的综合利用方法 |
| CN106111050A (zh) * | 2016-07-08 | 2016-11-16 | 常州天兴环保科技有限公司 | 一种tx‑gf‑jh‑3型废气净化吸附剂 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3812653A (en) * | 1972-04-27 | 1974-05-28 | Gulf Research Development Co | Process for reducing the arsenic content of gaseous hydrocarbon streams by use of supported copper or copper oxide |
| US4045538A (en) * | 1975-11-28 | 1977-08-30 | Ppg Industries, Inc. | Catalytic oxidation of vinyl chloride |
| DE3561499D1 (en) * | 1985-03-13 | 1988-03-03 | Japan Pionics | Method of cleaning exhaust gases |
-
1988
- 1988-03-30 FR FR8804109A patent/FR2629362B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-03-27 JP JP1074818A patent/JPH0214718A/ja active Pending
- 1989-03-28 EP EP89400861A patent/EP0335792A1/fr not_active Withdrawn
- 1989-03-29 KR KR1019890003952A patent/KR890014163A/ko not_active Application Discontinuation
- 1989-03-30 CN CN89102510A patent/CN1011859B/zh not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0647234A (ja) * | 1992-06-09 | 1994-02-22 | Ebara Infilco Co Ltd | Ｃｖｄ法排ガスの除害方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR890014163A (ko) | 1989-10-23 |
| CN1040514A (zh) | 1990-03-21 |
| FR2629362B1 (fr) | 1991-02-01 |
| FR2629362A1 (fr) | 1989-10-06 |
| CN1011859B (zh) | 1991-03-06 |
| EP0335792A1 (fr) | 1989-10-04 |
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