JPH02146550A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0525—Coating methods
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0503—Inert supplements
- G03G5/0507—Inorganic compounds
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、導電性支持体に、電荷輸送層、電荷発生層及
び表面保護層が順次積層されている積層型の電子写真感
光体において、電荷発生層を形成する結着樹脂としてポ
リビニルアセタールを用いた電子写真感光体に関する。
び表面保護層が順次積層されている積層型の電子写真感
光体において、電荷発生層を形成する結着樹脂としてポ
リビニルアセタールを用いた電子写真感光体に関する。
(従来の技術)
近時では、感光層の機能を電荷発生層と電荷輸送層とに
分離した積層型の電子写真感光体が提案されている。電
荷発生層は、通常光導電性顔料等の電荷発生物質を結着
樹脂に分散させて形成され、また電荷輸送層は電荷輸送
物質を結着樹脂に分散させて形成されており、電荷発生
層の光吸収で生じた電荷キャリアが電荷輸送層へ注入さ
れることにより、その部分の感光体の表面電荷が消失し
て静電コントラストを生じるのである。
分離した積層型の電子写真感光体が提案されている。電
荷発生層は、通常光導電性顔料等の電荷発生物質を結着
樹脂に分散させて形成され、また電荷輸送層は電荷輸送
物質を結着樹脂に分散させて形成されており、電荷発生
層の光吸収で生じた電荷キャリアが電荷輸送層へ注入さ
れることにより、その部分の感光体の表面電荷が消失し
て静電コントラストを生じるのである。
一般に、光導電性顔料が結着樹脂に均一に分散されてい
るほど、また光導電性顔料の粒径が小さいほど、上記電
荷発生層で生じる電荷キャリアの発生効率は良く、従っ
て、静電特性、画像特性等の電子写真特性が優れている
といわれており、従来より光導電性顔料を微粒子状に分
散させる技術と光導電性顔料を感光液に安定に分散させ
る技術が研究されている。例えば、特開昭61−739
60号公報には、電荷発生層の結着樹脂の分子量を規定
し、あるいは光導電性顔料と結着樹脂との比率を規定し
、また結着樹脂としてポリビニルブチラールを用いるこ
とにより、光導電性顔料の分散性と感光液の保存安定性
を改良する技術が提案されている。
るほど、また光導電性顔料の粒径が小さいほど、上記電
荷発生層で生じる電荷キャリアの発生効率は良く、従っ
て、静電特性、画像特性等の電子写真特性が優れている
といわれており、従来より光導電性顔料を微粒子状に分
散させる技術と光導電性顔料を感光液に安定に分散させ
る技術が研究されている。例えば、特開昭61−739
60号公報には、電荷発生層の結着樹脂の分子量を規定
し、あるいは光導電性顔料と結着樹脂との比率を規定し
、また結着樹脂としてポリビニルブチラールを用いるこ
とにより、光導電性顔料の分散性と感光液の保存安定性
を改良する技術が提案されている。
ところで、このような電荷発生層が感光体の表面に露出
する場合には、トナーによる現像、紙との摩擦、クリー
ニング部材による摩擦等によって電荷発生層表面が摩耗
したり、その表面に傷が付く等の問題を生じるので、感
光体の表面に保護層を設けることが従来より行われてい
る。例えば、特開昭62−108260号公報ではトリ
アルコキシアルキルシラン及びテトラアルコキシシラン
の加水分解縮合物をイソプロパツール等の溶剤で溶解し
て得られる表面保護塗布液を感光体表面に塗布乾燥する
ことにより、表面保護層を形成することが開示されてい
る。
する場合には、トナーによる現像、紙との摩擦、クリー
ニング部材による摩擦等によって電荷発生層表面が摩耗
したり、その表面に傷が付く等の問題を生じるので、感
光体の表面に保護層を設けることが従来より行われてい
る。例えば、特開昭62−108260号公報ではトリ
アルコキシアルキルシラン及びテトラアルコキシシラン
の加水分解縮合物をイソプロパツール等の溶剤で溶解し
て得られる表面保護塗布液を感光体表面に塗布乾燥する
ことにより、表面保護層を形成することが開示されてい
る。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記したように結着樹脂としてポリビニ
ルブチラールを用いて電荷発生層を形成した場合には、
その電荷発生層の表面に表面保護塗布液を塗布すると、
その溶剤によって電荷発生層が著しく膨潤又は溶解し、
平滑な表面保護層とを電荷発生層との界面を形成するこ
とができないという欠点があり、また上記した方法によ
って電荷発生層の表面に表面保護層を形成すると、ポリ
ビニルブチラールが表面保護層へ拡散する結果、表面保
護層の耐摩耗性が低下するという欠点があった。さらに
、上記した方法によって電荷発生層の表面に表面保8I
Nを形成すると、感光体の感度が著しく低下するという
欠点があった。
ルブチラールを用いて電荷発生層を形成した場合には、
その電荷発生層の表面に表面保護塗布液を塗布すると、
その溶剤によって電荷発生層が著しく膨潤又は溶解し、
平滑な表面保護層とを電荷発生層との界面を形成するこ
とができないという欠点があり、また上記した方法によ
って電荷発生層の表面に表面保護層を形成すると、ポリ
ビニルブチラールが表面保護層へ拡散する結果、表面保
護層の耐摩耗性が低下するという欠点があった。さらに
、上記した方法によって電荷発生層の表面に表面保8I
Nを形成すると、感光体の感度が著しく低下するという
欠点があった。
本発明は上記欠点を解決するものであり、その目的とす
るところは、電荷発生層の結着樹脂としてポリビニルア
セタールを使用することにより、電荷発生物質の分散性
及びその感光液の分散安定性に優れている上に、電荷発
生層の表面に表面保護層を形成するにあたって、表面保
護塗布液によって電荷発生層の表面の平滑性が損なわれ
、また表面保護層の耐摩耗性が低下することがない電子
写真感光体を提供することにある。本発明の他の目的は
、感度低下を防止することができる電子写真感光体を提
供することにある。
るところは、電荷発生層の結着樹脂としてポリビニルア
セタールを使用することにより、電荷発生物質の分散性
及びその感光液の分散安定性に優れている上に、電荷発
生層の表面に表面保護層を形成するにあたって、表面保
護塗布液によって電荷発生層の表面の平滑性が損なわれ
、また表面保護層の耐摩耗性が低下することがない電子
写真感光体を提供することにある。本発明の他の目的は
、感度低下を防止することができる電子写真感光体を提
供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは、電荷発生層の結着樹脂として用いられる
ポリビニルアセタール中のビニルアルコール成分の割合
と、その電荷発生層の表面に塗布される表面保護塗布液
による電荷発生層の膨潤又は溶解程度との関係、及びポ
リビニルアセタール中のビニルアルコール成分の割合と
感光体の感度との関係を鋭意研究した結果、ポリビニル
アセタール中のビニルアルコール成分の割合が所定割合
以上の場合には、塗布液によって電荷発生層が膨潤又は
溶解され易く、しかも電荷発生層で発生した電荷キャリ
ア(正孔)がポリビニルアセタールに含まれる水酸基に
トラップされることにより電荷キャリアの電荷輸送層へ
の注入効率が低下し、従って、ポリビニルアセタールと
金属アルコキシドとを併用して電荷発生層を形成するこ
とにより、ポリビニルアセタールの水酸基を低減させ、
そのことにより、電荷発生層の乱れを防止すると共に、
表面保護層の耐摩耗性を向上でき、また感光体の感度を
向上することができるとの知見を得て本発明を完成した
ものである。
ポリビニルアセタール中のビニルアルコール成分の割合
と、その電荷発生層の表面に塗布される表面保護塗布液
による電荷発生層の膨潤又は溶解程度との関係、及びポ
リビニルアセタール中のビニルアルコール成分の割合と
感光体の感度との関係を鋭意研究した結果、ポリビニル
アセタール中のビニルアルコール成分の割合が所定割合
以上の場合には、塗布液によって電荷発生層が膨潤又は
溶解され易く、しかも電荷発生層で発生した電荷キャリ
ア(正孔)がポリビニルアセタールに含まれる水酸基に
トラップされることにより電荷キャリアの電荷輸送層へ
の注入効率が低下し、従って、ポリビニルアセタールと
金属アルコキシドとを併用して電荷発生層を形成するこ
とにより、ポリビニルアセタールの水酸基を低減させ、
そのことにより、電荷発生層の乱れを防止すると共に、
表面保護層の耐摩耗性を向上でき、また感光体の感度を
向上することができるとの知見を得て本発明を完成した
ものである。
すなわち、本発明の電子写真感光体は、導電性支持体に
、電荷輸送層、電荷発生層及び表面保護層が順次積層さ
れている電子写真感光体であって、該電荷発生層が、光
導電性顔料とポリビニルアセタールと次式(1)で表さ
れる金属アルコキシドとを含有する電荷発生塗布液を電
荷輸送層に塗工して形成されており、そのことにより上
記目的が達成される。
、電荷輸送層、電荷発生層及び表面保護層が順次積層さ
れている電子写真感光体であって、該電荷発生層が、光
導電性顔料とポリビニルアセタールと次式(1)で表さ
れる金属アルコキシドとを含有する電荷発生塗布液を電
荷輸送層に塗工して形成されており、そのことにより上
記目的が達成される。
M (OR) R・・・(1)
(式中、Mは金属元素、Rは炭素数1〜6のアルキル基
、nは整数を示す。) 前記ポリビニルアセタールは、ビニルアルコール成分が
13重量%以下のものが好ましい。
、nは整数を示す。) 前記ポリビニルアセタールは、ビニルアルコール成分が
13重量%以下のものが好ましい。
以下、本発明の詳細な説明する。
電子写真感光体は、第1図に示すように導電性支持体1
に、電荷輸送層2、電荷発生層3及び表面保護層4をこ
の順で積層して形成されている。
に、電荷輸送層2、電荷発生層3及び表面保護層4をこ
の順で積層して形成されている。
導電性支持体lとしては、従来からこの種感光体に使用
されている総てのものが使用でき、例えば、アルミニウ
ム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス、バナジ
ウム、モリブデン、クロム、チタン、ニッケル、インジ
ウム、金、白金等の金属材料が挙げられる。また、アル
ミニウム、アルミニウム合金、酸化銅、酸化錫、酸化イ
ンジウム酸化錫合金等の金属層を真空蒸着法によって表
面に形成したプラスチック(例えば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタ
レート、アクリル樹脂、ポリフッ化エチレン)や、導電
性粒子(例えば、カーボンブラック、金属粒子)を適当
な結着樹脂とともにプラスチックの表面に被覆した支持
体や、導電性粒子をプラスチックや紙に含浸した支持体
や、導電性ポリマーを有するプラスチック等を用いるこ
ともできる。
されている総てのものが使用でき、例えば、アルミニウ
ム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス、バナジ
ウム、モリブデン、クロム、チタン、ニッケル、インジ
ウム、金、白金等の金属材料が挙げられる。また、アル
ミニウム、アルミニウム合金、酸化銅、酸化錫、酸化イ
ンジウム酸化錫合金等の金属層を真空蒸着法によって表
面に形成したプラスチック(例えば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタ
レート、アクリル樹脂、ポリフッ化エチレン)や、導電
性粒子(例えば、カーボンブラック、金属粒子)を適当
な結着樹脂とともにプラスチックの表面に被覆した支持
体や、導電性粒子をプラスチックや紙に含浸した支持体
や、導電性ポリマーを有するプラスチック等を用いるこ
ともできる。
この導電性支持体1の外表面に形成された電荷輸送層2
は、光吸収によって電荷発生層3で発生した電荷キャリ
ア (正孔)を受は取ると共に、この電荷キャリアを上
記導電性支持体1まで輸送できる機能を有しているもの
であれば従来より公知のものを使用することができる。
は、光吸収によって電荷発生層3で発生した電荷キャリ
ア (正孔)を受は取ると共に、この電荷キャリアを上
記導電性支持体1まで輸送できる機能を有しているもの
であれば従来より公知のものを使用することができる。
この電荷輸送層2は、通常電荷輸送物質を結着樹脂及び
溶剤に分散させた電荷輸送塗布液を上記導電性支持体1
表面に塗布乾燥することによって形成することができる
。
溶剤に分散させた電荷輸送塗布液を上記導電性支持体1
表面に塗布乾燥することによって形成することができる
。
上記電荷輸送物質としては、例えばポリビニルカルバゾ
ール、ポリビニルピレン、ポリアセナフチレンなどの高
分子化合物、または各種ピラゾリン誘導体、ジフェニル
オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体などの低分子化
合物が使用される。
ール、ポリビニルピレン、ポリアセナフチレンなどの高
分子化合物、または各種ピラゾリン誘導体、ジフェニル
オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体などの低分子化
合物が使用される。
具体的には、ピレン、闘−エチルカルバゾール、Nイソ
プロピルカルバゾール、N−メチル−N−フェニルヒド
ラジノ−3−メチリデン−9−エチルカルバゾール、N
、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン9−エチ
ルカルバゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−
メチリデン−10−エチルフェノチアジン、N、N−ジ
フェニルヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチルフ
ェノキサジン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
N、N−ジフェニルヒドラゾン、ρ−ジエチルアミノベ
ンズアルデヒド−N、α−ナフチル−N−フェニルヒド
ラゾン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−N、N
−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン類が好適に用い
られる。また、セレン、セレン−テルル、アモルファス
シリコン、硫化カドミウム等の無機材料を用いることも
でき、さらにこれら一種又は二種以上を組み合わせて用
いても良い。
プロピルカルバゾール、N−メチル−N−フェニルヒド
ラジノ−3−メチリデン−9−エチルカルバゾール、N
、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン9−エチ
ルカルバゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−
メチリデン−10−エチルフェノチアジン、N、N−ジ
フェニルヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチルフ
ェノキサジン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
N、N−ジフェニルヒドラゾン、ρ−ジエチルアミノベ
ンズアルデヒド−N、α−ナフチル−N−フェニルヒド
ラゾン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−N、N
−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン類が好適に用い
られる。また、セレン、セレン−テルル、アモルファス
シリコン、硫化カドミウム等の無機材料を用いることも
でき、さらにこれら一種又は二種以上を組み合わせて用
いても良い。
上記結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ボリア
リレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチ
レン、アクリロニトリル−スチレンコポリマー、アクリ
ロニトリル−ブタジェンコポリマー、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、ポリアク
リルアミド、ポリアミド、塩素化ゴムなどの絶縁性樹脂
、あるいはポリーN−ビニル力ルバヅール、ポリビニル
アントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリ
マー等が挙げられる。また、電荷輸送層2には、酸化防
止剤、増感剤などの各種添加剤が含まれても良い。また
、上記導電性物質のみで被膜を形成することができると
きは結着樹脂を必要としない。電荷輸送層2の厚みは任
意に設定することができるが、例えば5〜40μmが好
ましく、より好ましくは10〜30μmである。
リレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチ
レン、アクリロニトリル−スチレンコポリマー、アクリ
ロニトリル−ブタジェンコポリマー、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、ポリアク
リルアミド、ポリアミド、塩素化ゴムなどの絶縁性樹脂
、あるいはポリーN−ビニル力ルバヅール、ポリビニル
アントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリ
マー等が挙げられる。また、電荷輸送層2には、酸化防
止剤、増感剤などの各種添加剤が含まれても良い。また
、上記導電性物質のみで被膜を形成することができると
きは結着樹脂を必要としない。電荷輸送層2の厚みは任
意に設定することができるが、例えば5〜40μmが好
ましく、より好ましくは10〜30μmである。
この電荷輸送層2の外表面に設けられる電荷発生層3は
、電荷発生物質及び−数式M (OR)nで表される金
属アルコキシド(式中、MはTi、 Zr又はAt等の
金属元素を示し、Rは炭素数1〜6のアルキル基、nは
整数を示す)を結着樹脂及び溶剤に分散させた電荷発生
塗布液を上記電荷輸送層2表面に塗布乾燥することによ
って形成することができる。上式中、Rは、例えば、メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基から選択され、また互いに異なるアルキル基が選択さ
れても良い。また、MはTi、 Zr又は旧等の金属元
素である。nは金属Mの種類によって異なる整数であり
、MがTi又はZrの場合には通常4、MがAIの場合
には通常3である。
、電荷発生物質及び−数式M (OR)nで表される金
属アルコキシド(式中、MはTi、 Zr又はAt等の
金属元素を示し、Rは炭素数1〜6のアルキル基、nは
整数を示す)を結着樹脂及び溶剤に分散させた電荷発生
塗布液を上記電荷輸送層2表面に塗布乾燥することによ
って形成することができる。上式中、Rは、例えば、メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基から選択され、また互いに異なるアルキル基が選択さ
れても良い。また、MはTi、 Zr又は旧等の金属元
素である。nは金属Mの種類によって異なる整数であり
、MがTi又はZrの場合には通常4、MがAIの場合
には通常3である。
このような金属アルコキシドを電荷発生塗布液に含有さ
せることにより、電荷発生塗布液の乾燥時に金属アルコ
キシドが加水分解してポリビニルアセタールと金属アル
コキシドとが縮合反応することで、ポリビニルアセター
ル中の水酸基が低減されることとなる。その結果、電荷
発生層3の溶剤に対する抵抗性が向上し、つまり電荷発
生層3が溶剤に対して溶解又は膨潤し難くなり、平滑な
界面が形成されると共に、電荷発生層3で発生した電荷
キャリア(正孔)がポリビニルアセタールの水酸基にト
ラップされ難くなり、電荷輸送層2への注入効率が低下
することがないのである。
せることにより、電荷発生塗布液の乾燥時に金属アルコ
キシドが加水分解してポリビニルアセタールと金属アル
コキシドとが縮合反応することで、ポリビニルアセター
ル中の水酸基が低減されることとなる。その結果、電荷
発生層3の溶剤に対する抵抗性が向上し、つまり電荷発
生層3が溶剤に対して溶解又は膨潤し難くなり、平滑な
界面が形成されると共に、電荷発生層3で発生した電荷
キャリア(正孔)がポリビニルアセタールの水酸基にト
ラップされ難くなり、電荷輸送層2への注入効率が低下
することがないのである。
しかも、ポリビニルアセタールが縮合することにより、
表面保護層4への樹脂の拡散が妨げられることとなり、
表面保護層4の耐摩耗性が低下することがない。
表面保護層4への樹脂の拡散が妨げられることとなり、
表面保護層4の耐摩耗性が低下することがない。
金属アルコキシドの添加量は、ポリビニルアセタールの
水酸基の0.01〜2.0当量が好ましく、より好まし
くは0.05〜1.5当量であり、さらに好ましくは0
.1〜0.8当濱である。金属アルコキシドの添加量が
ポリビニルアセタールの水酸基の0,01当量未満の場
合には上記添加効果が小さくなり、従って、感光体の感
度及び耐摩耗性が低下し、また塗工むらを発生し易くな
る。逆に、金属アルコキシドの添加量がポリビニルアセ
タールの水酸基の2.0当量を超える場合には、感光体
の感度は良いが、繰り返し特性が低下する傾向にある。
水酸基の0.01〜2.0当量が好ましく、より好まし
くは0.05〜1.5当量であり、さらに好ましくは0
.1〜0.8当濱である。金属アルコキシドの添加量が
ポリビニルアセタールの水酸基の0,01当量未満の場
合には上記添加効果が小さくなり、従って、感光体の感
度及び耐摩耗性が低下し、また塗工むらを発生し易くな
る。逆に、金属アルコキシドの添加量がポリビニルアセ
タールの水酸基の2.0当量を超える場合には、感光体
の感度は良いが、繰り返し特性が低下する傾向にある。
上記電荷発生層3に用いられる結着樹脂はポリビニルア
セタールを主成分とするものであり、例えば、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルアセトアセクール樹脂、ポリ
ビニルホルマール樹脂等が挙げられ、特にポリビニルブ
チラールが好ましい。
セタールを主成分とするものであり、例えば、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルアセトアセクール樹脂、ポリ
ビニルホルマール樹脂等が挙げられ、特にポリビニルブ
チラールが好ましい。
また、上記ポリビニルアセタール中のビニルアルコール
成分の割合は13重量%以下が好ましい。すなわち、−
数式が次式で表わされるポリビニルアセタールにおいて
、ビニルアセクール成分をX、ビニルアルコール成分を
Y、 酢酸ビニル成分ヲZとすると、ビニルアルコール
成分Yの樹脂全体に対する割合が13重量%以下である
のが好ましい。
成分の割合は13重量%以下が好ましい。すなわち、−
数式が次式で表わされるポリビニルアセタールにおいて
、ビニルアセクール成分をX、ビニルアルコール成分を
Y、 酢酸ビニル成分ヲZとすると、ビニルアルコール
成分Yの樹脂全体に対する割合が13重量%以下である
のが好ましい。
ポリビニルアセタール中のビニルアルコール成分が13
重量%を超える場合には、電荷発生層3が溶剤、特にア
ルコールに溶解又は膨潤され易くなり、また感度が低下
する傾向にある。
重量%を超える場合には、電荷発生層3が溶剤、特にア
ルコールに溶解又は膨潤され易くなり、また感度が低下
する傾向にある。
このポリビニルアセタールの市販品としては、例えば、
デンカブチラール13000−K(電気化学工業■製、
ビニルアルコール成分9〜13重量%、酢酸ビニル成分
2.0〜8.4重量%、ビニルブチラール成分78重量
%以上)nデンカブチラール#5000−A(電気化学
工業■製、ビニルアルコール成分14〜18重世%、酢
酸ビニル成分1.5重量%以下、ビニルブチラール成分
80重量%以上)nデンカブチラール++6000−C
(を気化学工業■製、ビニルアルコール成分14〜18
重量%、酢酸ビニル成分1.5重量%以下、ビニルブチ
ラール成分80重量%以上)nエスレックBM−S (
積木化学工業■製、ビニルアルコール成分10重量%以
下、酢酸ビニル成分3.0〜4.4重量%、ビニルブチ
ラール成分85重量%以上)nデンカホルマール#30
(電気化学工業■製、ビニルアルコール成分4.5〜5
.5重量%、酢酸ビニル成分10〜13重量%、ビニル
ホルマール成分81重量%以上)nデンカホルマール1
1200(電気化学工業Q1)製、ビニルアルコール成
分5〜6重量%、酢酸ビニル成分9〜12重量%、ビニ
ルホルマール成分82重量%以上)等が挙げられる。
デンカブチラール13000−K(電気化学工業■製、
ビニルアルコール成分9〜13重量%、酢酸ビニル成分
2.0〜8.4重量%、ビニルブチラール成分78重量
%以上)nデンカブチラール#5000−A(電気化学
工業■製、ビニルアルコール成分14〜18重世%、酢
酸ビニル成分1.5重量%以下、ビニルブチラール成分
80重量%以上)nデンカブチラール++6000−C
(を気化学工業■製、ビニルアルコール成分14〜18
重量%、酢酸ビニル成分1.5重量%以下、ビニルブチ
ラール成分80重量%以上)nエスレックBM−S (
積木化学工業■製、ビニルアルコール成分10重量%以
下、酢酸ビニル成分3.0〜4.4重量%、ビニルブチ
ラール成分85重量%以上)nデンカホルマール#30
(電気化学工業■製、ビニルアルコール成分4.5〜5
.5重量%、酢酸ビニル成分10〜13重量%、ビニル
ホルマール成分81重量%以上)nデンカホルマール1
1200(電気化学工業Q1)製、ビニルアルコール成
分5〜6重量%、酢酸ビニル成分9〜12重量%、ビニ
ルホルマール成分82重量%以上)等が挙げられる。
電荷発生物質は、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、
キナクリドン系顔料、シアニン系顔料、ピリリウム系顔
料、チアピリリウム系顔料、インジゴ系顔料、スケアリ
ツク系顔料、多環キノン系顔料、アズレン系顔料等の光
導電性顔料を用いることができる。光導電性顔料は光吸
収領域の異なるこれらの顔料を組み合わせて使用しても
良い。
キナクリドン系顔料、シアニン系顔料、ピリリウム系顔
料、チアピリリウム系顔料、インジゴ系顔料、スケアリ
ツク系顔料、多環キノン系顔料、アズレン系顔料等の光
導電性顔料を用いることができる。光導電性顔料は光吸
収領域の異なるこれらの顔料を組み合わせて使用しても
良い。
溶剤としては、例えば、ジクロルメタンや、エタノール
、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤や、ア
セトン、MEK 、 MIBK、シクロヘキサノン等の
ケトン系溶剤や、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼン等の芳香族系溶剤や、1−4−ジオキサン、
TIIP 、 DMF 、 DMAC等の各種溶剤が挙
げられる。
、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤や、ア
セトン、MEK 、 MIBK、シクロヘキサノン等の
ケトン系溶剤や、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼン等の芳香族系溶剤や、1−4−ジオキサン、
TIIP 、 DMF 、 DMAC等の各種溶剤が挙
げられる。
電荷発生塗布液は種々の方法によって調製されて良い。
例えば、光導電性顔料をポリビニルアセタール及び溶剤
とともに、サンドミル、コlコイドミル、ボールミル、
ロールミルやアトライター等の分散装置を用いて分散し
て塗布液を調製する方法が一般的である。このようにし
て得られる電荷発生塗布液にあっては、光導電性顔料の
分散状態が安定しており、従って、この塗布液を上記電
荷輸送層2表面に塗工して形成される電荷発生N3は、
電荷発生物質の分散状態が優れていて電荷キャリアの発
生効率が良いのである。また、この塗布液は電荷発生物
質の分散安定性にも優れている。
とともに、サンドミル、コlコイドミル、ボールミル、
ロールミルやアトライター等の分散装置を用いて分散し
て塗布液を調製する方法が一般的である。このようにし
て得られる電荷発生塗布液にあっては、光導電性顔料の
分散状態が安定しており、従って、この塗布液を上記電
荷輸送層2表面に塗工して形成される電荷発生N3は、
電荷発生物質の分散状態が優れていて電荷キャリアの発
生効率が良いのである。また、この塗布液は電荷発生物
質の分散安定性にも優れている。
電荷発生層3の膜厚は限定するものではないが、5μm
以下が好ましく、より好ましくは0.01〜2.0μm
である。
以下が好ましく、より好ましくは0.01〜2.0μm
である。
電荷発生層3の表面に形成される表面保護層4は、熱硬
化性シリコン樹脂を溶剤に溶解させた表面保護塗布液を
電荷発生層3表面に塗布乾燥することにより形成するこ
とができる。熱硬化性シリコン樹脂は、ジアルコキシジ
アルキルシラン、トリアルコキシアルキルシラン、テト
ラアルコキシシランのうちから選ばれた少なくとも一種
以上を有する樹脂の加水分解、縮合反応によって形成さ
れるものが好ましく、高反応性で熱硬化し易く、しかも
高い強度を有する保護層が形成されるものである。溶剤
としては、イソブタノール、イソプロパツール等のアル
コール類や、メチルセロソルブアセテート、酢酸エチル
、酢酸メチル等のエステル類等が好適に使用できる。ま
た、表面保護層4には、表面強度を高めるために、他の
樹脂やコロイダルシリカのような充填剤が含有されても
良く、また公知の各種添加剤が含有されても良い。
化性シリコン樹脂を溶剤に溶解させた表面保護塗布液を
電荷発生層3表面に塗布乾燥することにより形成するこ
とができる。熱硬化性シリコン樹脂は、ジアルコキシジ
アルキルシラン、トリアルコキシアルキルシラン、テト
ラアルコキシシランのうちから選ばれた少なくとも一種
以上を有する樹脂の加水分解、縮合反応によって形成さ
れるものが好ましく、高反応性で熱硬化し易く、しかも
高い強度を有する保護層が形成されるものである。溶剤
としては、イソブタノール、イソプロパツール等のアル
コール類や、メチルセロソルブアセテート、酢酸エチル
、酢酸メチル等のエステル類等が好適に使用できる。ま
た、表面保護層4には、表面強度を高めるために、他の
樹脂やコロイダルシリカのような充填剤が含有されても
良く、また公知の各種添加剤が含有されても良い。
(実施例)
以下に本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
uM上
結着樹脂としてボリアリレート樹脂(U−100、ユニ
チカ製)10重量部(以下部とする)及び電荷輸送物質
としてジエチルアミノベンズアルデヒドジフェニルヒド
ラゾン10部をジクロルメタン100部にホモミキサー
で撹拌混合して電荷輸送塗布液を調製し、この塗布液を
アルミニウムドラムに塗布し、90°Cの温度で30分
間熱風乾燥することにより膜厚的20μmの電荷輸送層
を形成した。
チカ製)10重量部(以下部とする)及び電荷輸送物質
としてジエチルアミノベンズアルデヒドジフェニルヒド
ラゾン10部をジクロルメタン100部にホモミキサー
で撹拌混合して電荷輸送塗布液を調製し、この塗布液を
アルミニウムドラムに塗布し、90°Cの温度で30分
間熱風乾燥することにより膜厚的20μmの電荷輸送層
を形成した。
次に、結着樹脂としてポリビニルブチラール(デンカブ
チラール#5000−A 、電気化学工業0勾製、ビニ
ルアルコール成分20重量%)100部、電荷発生物質
としてジブロモアンサンスロン(ICI!lり 160
部とメタルフリーフタロシアニン(BASF製)40部
、テトラブトキシジルコニウムZr (OBu) 4
(第−稀元素化学工業製)をポリビニルブチラールの水
酸基に対して0.2当量、及びn−ブタノール2000
部をボールミルに仕込み、24時間撹拌混合して電荷発
生塗布液を調製した。この塗布液を上記電荷輸送層の表
面にブレードで塗布し、110’cの温度で30分間熱
風乾燥して硬化させることにより膜厚的0.5 μmの
電荷発生層を形成した。
チラール#5000−A 、電気化学工業0勾製、ビニ
ルアルコール成分20重量%)100部、電荷発生物質
としてジブロモアンサンスロン(ICI!lり 160
部とメタルフリーフタロシアニン(BASF製)40部
、テトラブトキシジルコニウムZr (OBu) 4
(第−稀元素化学工業製)をポリビニルブチラールの水
酸基に対して0.2当量、及びn−ブタノール2000
部をボールミルに仕込み、24時間撹拌混合して電荷発
生塗布液を調製した。この塗布液を上記電荷輸送層の表
面にブレードで塗布し、110’cの温度で30分間熱
風乾燥して硬化させることにより膜厚的0.5 μmの
電荷発生層を形成した。
次に、トスガード520(東芝シリコーン製、シリコン
系熱硬化性樹脂:イソブロパノール79重量%、固形分
21重量%)と、トスガード520の固形分の50重量
%の導電性付与剤(住友セメント■製、アンチモンドー
プ酸化スズ微粉末)をボールミルに仕込み、15050
時間撹拌混て表面保護塗布液を調製した。この表面保護
塗布液を上記電荷発生層の表面にブレードで塗布し、1
10°Cの温度で1時間熱風乾燥して硬化させることに
より膜厚的2.5μmの表面保護層を形成した。
系熱硬化性樹脂:イソブロパノール79重量%、固形分
21重量%)と、トスガード520の固形分の50重量
%の導電性付与剤(住友セメント■製、アンチモンドー
プ酸化スズ微粉末)をボールミルに仕込み、15050
時間撹拌混て表面保護塗布液を調製した。この表面保護
塗布液を上記電荷発生層の表面にブレードで塗布し、1
10°Cの温度で1時間熱風乾燥して硬化させることに
より膜厚的2.5μmの表面保護層を形成した。
このようにして得られた電子写真感光体の半減露光量、
表面電位、露光開始後の0.4秒後の電位をドラム感度
試験機を用いて評価した。また実際に複写機(DCII
I)を用いて500枚コピーし、その前後の表面電位変
化を測定した。光源はハロゲンラン疋を用い、露光時間
は60m5ec、露光強度は0.92m−で行った。ま
た、電子写真感光体の耐摩耗性を評価した。耐摩耗性試
験は住友スリーエム社製のインペリアルラッピングフィ
ルム(粒径12μmの酸化アルミニウム粉末が付着)を
用いて感光体表面を300回摩耗し、その感光体表面の
摩耗程度で評価した。その結果を表1に示す。
表面電位、露光開始後の0.4秒後の電位をドラム感度
試験機を用いて評価した。また実際に複写機(DCII
I)を用いて500枚コピーし、その前後の表面電位変
化を測定した。光源はハロゲンラン疋を用い、露光時間
は60m5ec、露光強度は0.92m−で行った。ま
た、電子写真感光体の耐摩耗性を評価した。耐摩耗性試
験は住友スリーエム社製のインペリアルラッピングフィ
ルム(粒径12μmの酸化アルミニウム粉末が付着)を
用いて感光体表面を300回摩耗し、その感光体表面の
摩耗程度で評価した。その結果を表1に示す。
災施尉I
テトラブトキシジルコニウムZr (OBu) 4がポ
リビニルブチラールの水酸基に対し0,4当量含有され
た電荷発生塗布液を用いて電荷発生層を形成した他は、
実施例1と同様にして電子写真感光体を得た。
リビニルブチラールの水酸基に対し0,4当量含有され
た電荷発生塗布液を用いて電荷発生層を形成した他は、
実施例1と同様にして電子写真感光体を得た。
得られた電子写真感光体の感度特性を実施例1と同様に
して試験した。その結果を表1に示す。
して試験した。その結果を表1に示す。
夫絡拠ユ
テトライソプロポキシチタンTi(OiPr)4(日本
曹達製)がポリビニルブチラールの水酸基に対し0゜6
当量含有された電荷発生塗布液を用いて電荷発生層を形
成した他は、実施例1と同様にして電子写真感光体を得
た。
曹達製)がポリビニルブチラールの水酸基に対し0゜6
当量含有された電荷発生塗布液を用いて電荷発生層を形
成した他は、実施例1と同様にして電子写真感光体を得
た。
得られた電子写真感光体の感度特性を実施例1と同様に
して試験した。その結果を表1に示す。
して試験した。その結果を表1に示す。
尖施尉土
電荷発生層の結着樹脂として、デンカブチラール#60
00−C(W気化学工iai製、ビニルアルコール成分
15重量%)を用い、トリブトキシアルミニウムAI(
OBu)t(関東化学製)がポリビニルブチラールの水
酸基に対し0.2当量含有された電荷発生塗布液を用い
て電荷発生層を形成した他は、実施例1と同様にして電
子写真感光体を得た。
00−C(W気化学工iai製、ビニルアルコール成分
15重量%)を用い、トリブトキシアルミニウムAI(
OBu)t(関東化学製)がポリビニルブチラールの水
酸基に対し0.2当量含有された電荷発生塗布液を用い
て電荷発生層を形成した他は、実施例1と同様にして電
子写真感光体を得た。
得られた電子写真感光体の感度特性を実施例1と同様に
して試験した。その結果を表1に示す。
して試験した。その結果を表1に示す。
n1列」Y
テトライソプロポキシジルコニウムZr(OtPr)n
く高純度化学研究所製)がポリビニルブチラールの水酸
基に対し0.3当量含有された電荷発生塗布液を用いて
電荷発生層を形成した他は、実施例1と同様にして電子
写真感光体を得た。
く高純度化学研究所製)がポリビニルブチラールの水酸
基に対し0.3当量含有された電荷発生塗布液を用いて
電荷発生層を形成した他は、実施例1と同様にして電子
写真感光体を得た。
得られた電子写真感光体の感度特性を実施例1と同様に
して試験した。その結果を表1に示す。
して試験した。その結果を表1に示す。
実遣−例」−
電荷発生層の結着樹脂として、デンカブチラー/I/
13000− K (it 気化学工業■製、ビニルア
ルコール成分12重量%)を用い、テトラブトキシジル
コニウムZr (OBu) 4がポリビニルブチラール
の水酸基に対し0.1当量含有された電荷発生塗布液を
用いて電荷発生層を形成した他は、実施例1と同様にし
て電子写真感光体を得た。
13000− K (it 気化学工業■製、ビニルア
ルコール成分12重量%)を用い、テトラブトキシジル
コニウムZr (OBu) 4がポリビニルブチラール
の水酸基に対し0.1当量含有された電荷発生塗布液を
用いて電荷発生層を形成した他は、実施例1と同様にし
て電子写真感光体を得た。
得られた電子写真感光体の感度特性を実施例1と同様に
して試験した。その結果を表1に示す。
して試験した。その結果を表1に示す。
ル較桝土
金属アルコキシドを含有しない電荷発生塗布液を用いて
電荷発生層を形成した他は、実施例1と同様にして電子
写真感光体を得た。
電荷発生層を形成した他は、実施例1と同様にして電子
写真感光体を得た。
得られた電子写真感光体の感度特性を実施例1と同様に
して試験した。その試験結果を表1に示す。
して試験した。その試験結果を表1に示す。
表1−1
(以下余白)
表1
(発明の効果)
上記のように本発明は、電荷発生層の結着樹脂としてポ
リビニルアセタールを使用しているので、光導電性顔料
の分散性及びその分散安定性を向上することができ、電
子写真特性の優れた感光体を得ることができる。しかも
、光導電性顔料とポリビニルアセタールと上記金属アル
コキシ1°を含有する電荷発生塗布液を塗工して電荷発
生層が形成されているので、ポリビニルアセタールが金
属アルコキシドと縮合反応することにより、耐溶剤性に
優れた電荷発生層が形成されることになり、表面保護塗
布液の溶剤によって電荷発生層の表面平滑性が損なわれ
ることがなく、またポリビニルブチラールが表面保護層
側へ移行するのを防止して耐摩耗性を向上することがで
きる。さらに、電荷発生層のポリビニルアセタールの水
酸基の割合を減少することができるので、電荷発生層で
発生する電荷キャリア (正孔)が水酸基にトラップさ
れるのを減少して感光体の感度を向上することができる
。
リビニルアセタールを使用しているので、光導電性顔料
の分散性及びその分散安定性を向上することができ、電
子写真特性の優れた感光体を得ることができる。しかも
、光導電性顔料とポリビニルアセタールと上記金属アル
コキシ1°を含有する電荷発生塗布液を塗工して電荷発
生層が形成されているので、ポリビニルアセタールが金
属アルコキシドと縮合反応することにより、耐溶剤性に
優れた電荷発生層が形成されることになり、表面保護塗
布液の溶剤によって電荷発生層の表面平滑性が損なわれ
ることがなく、またポリビニルブチラールが表面保護層
側へ移行するのを防止して耐摩耗性を向上することがで
きる。さらに、電荷発生層のポリビニルアセタールの水
酸基の割合を減少することができるので、電荷発生層で
発生する電荷キャリア (正孔)が水酸基にトラップさ
れるのを減少して感光体の感度を向上することができる
。
特に、ビニルアルコール成分の割合が13重世%以下で
あるポリビニルアセタールを用いると、電荷発生層の水
酸基を一層少なくすることができて感光体の耐摩耗性及
び感度を向上することができる。
あるポリビニルアセタールを用いると、電荷発生層の水
酸基を一層少なくすることができて感光体の耐摩耗性及
び感度を向上することができる。
1−」鉗厘Q澗J算Ω庫灰
第1区は本発明一実施例の電子写真感光体の断面図であ
る。
る。
1・・・導電性支持体、2・・・電荷輸送層、3・・・
電荷発生層、4・・・表面保護層。
電荷発生層、4・・・表面保護層。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、導電性支持体に、電荷輸送層、電荷発生層及び表面
保護層が順次積層されている電子写真感光体であって、
該電荷発生層が、電荷発生物質とポリビニルアセタール
と次式(1)で表される金属アルコキシドとを含有する
電荷発生塗布液を電荷輸送層に塗工して形成されている
電子写真感光体。 M(OR)_n・・・(1) (式中、Mは金属元素、Rは炭素数1〜6のアルキル基
、nは整数を示す。) 2、導電性支持体に、電荷輸送層、電荷発生層及び表面
保護層が順次積層されている電子写真感光体であって、
該電荷発生層が、電荷発生物質とビニルアルコール成分
の割合が13重量%以下であるポリビニルアセタールと
次式(1)で表される金属アルコキシドとを含有する電
荷発生塗布液を電荷輸送層に塗工して形成されている電
子写真感光体。 M(OR)_n・・・(1) (式中、Mは金属元素、Rは炭素数1〜6のアルキル基
、nは整数を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30157788A JPH02146550A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30157788A JPH02146550A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02146550A true JPH02146550A (ja) | 1990-06-05 |
Family
ID=17898620
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30157788A Pending JPH02146550A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02146550A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04162041A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-05 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
EP0887200A1 (en) * | 1997-06-24 | 1998-12-30 | Oji-Yuka Synthetic Paper Co., Ltd. | Coating composition for recording material and process for producing recording material |
-
1988
- 1988-11-29 JP JP30157788A patent/JPH02146550A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04162041A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-05 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
EP0887200A1 (en) * | 1997-06-24 | 1998-12-30 | Oji-Yuka Synthetic Paper Co., Ltd. | Coating composition for recording material and process for producing recording material |
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