JPH02142820A - マルチワイヤー配線板用絶縁層 - Google Patents
マルチワイヤー配線板用絶縁層Info
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- JPH02142820A JPH02142820A JP29573388A JP29573388A JPH02142820A JP H02142820 A JPH02142820 A JP H02142820A JP 29573388 A JP29573388 A JP 29573388A JP 29573388 A JP29573388 A JP 29573388A JP H02142820 A JPH02142820 A JP H02142820A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、必要な配線パターンに絶縁電線を使用した配
線板(以下マルチワイヤー配線板と呼ぶ)用の絶縁層に
関する。
線板(以下マルチワイヤー配線板と呼ぶ)用の絶縁層に
関する。
(従来の技術]
マルチワイヤー配線板は、内層回路を形成した絶縁基板
に積層又は塗布により接着剤塗膜を形成し、その上に数
値制御布線機により絶縁電線を這わせると同時に超音波
振動で塗膜を加熱溶融させることにより電線を接着(以
後布線という)した後、さらにプリプレグをラミネート
して絶縁電線(以後ワイヤという)を固定し、次いでこ
れを横切る貫通孔をあけ、その内壁に無電解めっきの金
属層を形成して製造している。
に積層又は塗布により接着剤塗膜を形成し、その上に数
値制御布線機により絶縁電線を這わせると同時に超音波
振動で塗膜を加熱溶融させることにより電線を接着(以
後布線という)した後、さらにプリプレグをラミネート
して絶縁電線(以後ワイヤという)を固定し、次いでこ
れを横切る貫通孔をあけ、その内壁に無電解めっきの金
属層を形成して製造している。
このマルチワイヤー配線板は絶縁電線を使用するため、
同一平面での電線同志の交差が可能で、一般の印刷配線
板に比べ、−層あたり約2倍位の配線収容量がある。ま
た、ワイヤを直接基板上に設置することから一般の印刷
配線板のようなアートワークを必要とせず、設計変更も
容易である。
同一平面での電線同志の交差が可能で、一般の印刷配線
板に比べ、−層あたり約2倍位の配線収容量がある。ま
た、ワイヤを直接基板上に設置することから一般の印刷
配線板のようなアートワークを必要とせず、設計変更も
容易である。
また、内層回路をグランド層、ワイヤを信号層として用
いることにより、信号ラインを一定のインピーダンスに
保つことができる。さらに、内層回路と接着剤塗膜の間
にガラス布基材エポキシ樹脂の絶縁層を設は信号層のイ
ンピーダンスを制御することができるようにしている。
いることにより、信号ラインを一定のインピーダンスに
保つことができる。さらに、内層回路と接着剤塗膜の間
にガラス布基材エポキシ樹脂の絶縁層を設は信号層のイ
ンピーダンスを制御することができるようにしている。
〔発明が解決しようとする課題]
従来のマルチワイヤー配線板においては、スルーホール
内壁に無電解めっきの金属層を形成する時に、絶縁層に
ガラス布基材エポキシ樹脂を用いているので基材である
ガラス布に沿ってスルーホールから内層回路に向かって
無電解めっきのしみ込みが発生し、スルーホールと内層
回路間の絶縁性を低下さゼる問題がある。
内壁に無電解めっきの金属層を形成する時に、絶縁層に
ガラス布基材エポキシ樹脂を用いているので基材である
ガラス布に沿ってスルーホールから内層回路に向かって
無電解めっきのしみ込みが発生し、スルーホールと内層
回路間の絶縁性を低下さゼる問題がある。
本発明は絶縁層への無電解めっきのしみ込みを無くすこ
とで、スルーホールと内層回路間の絶縁性の向上を可能
とした配線板用絶縁層を提供するものである。
とで、スルーホールと内層回路間の絶縁性の向上を可能
とした配線板用絶縁層を提供するものである。
本発明は、絶縁基板に絶縁層及び接着剤塗膜を順次形成
し、これに絶縁電線を這わせると同時に接着して所望の
配線パターンを形成する配線板において、絶縁層を分子
量5,000以上のエポキシ樹脂と分子量5,000未
満のエポキシ樹脂の重量比が10:90から90:10
の範囲にあるエポキシ樹脂と架橋剤とからなる組成物で
形成したことを特徴とする。
し、これに絶縁電線を這わせると同時に接着して所望の
配線パターンを形成する配線板において、絶縁層を分子
量5,000以上のエポキシ樹脂と分子量5,000未
満のエポキシ樹脂の重量比が10:90から90:10
の範囲にあるエポキシ樹脂と架橋剤とからなる組成物で
形成したことを特徴とする。
本発明に用いることのできる絶縁基板としては、従来の
マルチワイヤ配線板に用いることのできる絶縁基板が全
て用いられる。例えば、ガラス布エポキシ樹脂銅張積層
板、ガラス布ポリイミド樹脂銅張積層板等に、公知のエ
ツチング法等によって電源層やグランド層を形成し、ガ
ラス布エボキノ樹脂やガラス布ポリイミド樹脂等のプリ
プレグをラミネートし、加熱硬化させたもの等である。
マルチワイヤ配線板に用いることのできる絶縁基板が全
て用いられる。例えば、ガラス布エポキシ樹脂銅張積層
板、ガラス布ポリイミド樹脂銅張積層板等に、公知のエ
ツチング法等によって電源層やグランド層を形成し、ガ
ラス布エボキノ樹脂やガラス布ポリイミド樹脂等のプリ
プレグをラミネートし、加熱硬化させたもの等である。
本発明による絶縁層の成分の内、分子量5,000以上
のエポキシ樹脂としては、エピコート0L−53−L−
32,0L−53−BH−35[分子量55,000]
、0L−55−L−32,1255−HX−30(分子
量70.000以上〕 (油化シェルエポキシ株式会社
、商品名)、又は、フェノトートYP−40(分子量2
0.000)、YP−50M (分子量30,000)
、YP−50(分子量40.000:l (東部化成
株式会社、商品名)、又はPKHH,PAHJ C分子
!40,000)(ユニオンカーバイト社、商品名等が
使用できる。なお、これらの高分子エポキシ樹脂は、通
常フェノキシ樹脂と呼ばれるものである。
のエポキシ樹脂としては、エピコート0L−53−L−
32,0L−53−BH−35[分子量55,000]
、0L−55−L−32,1255−HX−30(分子
量70.000以上〕 (油化シェルエポキシ株式会社
、商品名)、又は、フェノトートYP−40(分子量2
0.000)、YP−50M (分子量30,000)
、YP−50(分子量40.000:l (東部化成
株式会社、商品名)、又はPKHH,PAHJ C分子
!40,000)(ユニオンカーバイト社、商品名等が
使用できる。なお、これらの高分子エポキシ樹脂は、通
常フェノキシ樹脂と呼ばれるものである。
また、分子量5.000未満のエポキシ樹脂としては、
エピニ1−1−828.834.871.872.10
01.1002.1003.1004.1007 (油
化シェルエポキシ株式会社、商品名)、D、 E、 R
,317,330,331,361,661,662,
664,667,732,736、D、E、N、431
.438.439.485(ダウケミカル社、商品名)
等がある。その他にり、E、R,511,542(ダウ
ケミカル社、商品名)等の臭素化エポキシ樹脂を、難燃
性の付与のために用いることもできる。
エピニ1−1−828.834.871.872.10
01.1002.1003.1004.1007 (油
化シェルエポキシ株式会社、商品名)、D、 E、 R
,317,330,331,361,661,662,
664,667,732,736、D、E、N、431
.438.439.485(ダウケミカル社、商品名)
等がある。その他にり、E、R,511,542(ダウ
ケミカル社、商品名)等の臭素化エポキシ樹脂を、難燃
性の付与のために用いることもできる。
架橋剤としては、ブロックイソシアネートとエポキシ硬
化剤の組み合わ−l、又はアルキル化メラミンとエポキ
シ硬化剤の組み合わせ等が使用でき、このうち前者の組
み合わせのうちのブロックイソシアネートとしては、コ
ロネート2503.2507.2515、コロネートA
Pステーブル、ミリオネートMS−50(日本ポリウレ
タン工業株式会社、商品名)、フレランUl、UT、デ
スモジュールAPステーブル、CTステーブル、B I
−1100、BL1265、BL3175(住友)\イ
ニルウレタン株式会社、商品名)等があり、このときの
エポキシ硬化剤としては、酸無水物、ジシアンジアミド
等を用いることができる。また、後者の組み合わせのう
ちのアルキル化メラミンとしては、メチル化メラミン樹
脂のメラン520.521.522.523(日立化成
工業株式会社、商品名)あるいは、ブチル化メラミン樹
脂のメラン20.22.23.25.26、X65、X
66(日立化成工業株式会社、商品名)等が使用でき、
このときのエポキシ硬化剤としては、イミダゾール誘導
体と酸性を示す有機化合物の混合物が好ましく、市販品
としては、2PZ−CNS [1シアノエチル−2−フ
ェニルイミダゾール・トリメリテート)、2E4MZ−
CNS (1−シアノエチル−2−エチル−4−メチル
イミダヅール・トリメリテート〕(四国化成工業株式会
社、商品名)等がある。架橋剤の配合割合はエポキシ樹
脂100重量部に対し20〜50重量部とすることが好
ましい。
化剤の組み合わ−l、又はアルキル化メラミンとエポキ
シ硬化剤の組み合わせ等が使用でき、このうち前者の組
み合わせのうちのブロックイソシアネートとしては、コ
ロネート2503.2507.2515、コロネートA
Pステーブル、ミリオネートMS−50(日本ポリウレ
タン工業株式会社、商品名)、フレランUl、UT、デ
スモジュールAPステーブル、CTステーブル、B I
−1100、BL1265、BL3175(住友)\イ
ニルウレタン株式会社、商品名)等があり、このときの
エポキシ硬化剤としては、酸無水物、ジシアンジアミド
等を用いることができる。また、後者の組み合わせのう
ちのアルキル化メラミンとしては、メチル化メラミン樹
脂のメラン520.521.522.523(日立化成
工業株式会社、商品名)あるいは、ブチル化メラミン樹
脂のメラン20.22.23.25.26、X65、X
66(日立化成工業株式会社、商品名)等が使用でき、
このときのエポキシ硬化剤としては、イミダゾール誘導
体と酸性を示す有機化合物の混合物が好ましく、市販品
としては、2PZ−CNS [1シアノエチル−2−フ
ェニルイミダゾール・トリメリテート)、2E4MZ−
CNS (1−シアノエチル−2−エチル−4−メチル
イミダヅール・トリメリテート〕(四国化成工業株式会
社、商品名)等がある。架橋剤の配合割合はエポキシ樹
脂100重量部に対し20〜50重量部とすることが好
ましい。
本発明では、これらの分子量5,000未満のエポキシ
樹脂と分子量5,000以上のエポキシ樹脂を重量比で
io:9oから90:10に混合したエポキシ樹脂と、
架橋剤を加えた組成物を用いて絶縁層を形成する。この
絶縁層を形成する方法としては、例えば前記組成物を有
機溶媒中で混合し、絶縁層用ワニスとし、これをフィル
ム上に塗布し、乾燥して、絶縁シートとしこれを絶縁基
板上に積層成形して絶縁層を形成する。本発明の組成物
には、この他に、必要に応じて絶縁層のフロー特性の調
整に有効であるマイカ、微粉末シリカ、ケイ酸ジルコニ
ウム、ケイ酸マグネシウム、チタン白等の充填剤を適宜
加える。また、スルーホール内壁等のめっき密着性を上
げるために、無電解めっき用触媒を加えることもできる
。
樹脂と分子量5,000以上のエポキシ樹脂を重量比で
io:9oから90:10に混合したエポキシ樹脂と、
架橋剤を加えた組成物を用いて絶縁層を形成する。この
絶縁層を形成する方法としては、例えば前記組成物を有
機溶媒中で混合し、絶縁層用ワニスとし、これをフィル
ム上に塗布し、乾燥して、絶縁シートとしこれを絶縁基
板上に積層成形して絶縁層を形成する。本発明の組成物
には、この他に、必要に応じて絶縁層のフロー特性の調
整に有効であるマイカ、微粉末シリカ、ケイ酸ジルコニ
ウム、ケイ酸マグネシウム、チタン白等の充填剤を適宜
加える。また、スルーホール内壁等のめっき密着性を上
げるために、無電解めっき用触媒を加えることもできる
。
用いる有機溶媒としては、メチルエチルケトン、アセト
ン、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、酢
酸エチル、メチルセロソルブ、酢酸セロソルブ、ジメチ
ルホルムアミド等の内から選ばれたもの及びそれらを組
み合わせたものが好ましく用いられる。
ン、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、酢
酸エチル、メチルセロソルブ、酢酸セロソルブ、ジメチ
ルホルムアミド等の内から選ばれたもの及びそれらを組
み合わせたものが好ましく用いられる。
内層回路を形成した絶縁基板表面に、ガラス布のない特
定の樹脂組成の絶縁層を形成することにより、スルーホ
ール内壁に無電解めっきの金属層形成時、ガラス布に沿
ってスルーホールより内層回路パターンに向かっての無
電解めっきのしみ込みが防止でき、絶縁性の向上が可能
となる。
定の樹脂組成の絶縁層を形成することにより、スルーホ
ール内壁に無電解めっきの金属層形成時、ガラス布に沿
ってスルーホールより内層回路パターンに向かっての無
電解めっきのしみ込みが防止でき、絶縁性の向上が可能
となる。
また、分子量5,000以上のエポキシ樹脂と、分子量
5.000未満のエポキシ樹脂の比率を10:90から
90 : 10とした理由は、この範囲より分子量5,
000以上のエポキシ樹脂が少ない場合は、加熱加圧プ
レス時に流れやすく、所望の絶縁層の厚みが得られない
からであり、多い場合には、加熱加圧プレス時流れにく
く、絶縁基板との界面にボイドが発生ずるためである。
5.000未満のエポキシ樹脂の比率を10:90から
90 : 10とした理由は、この範囲より分子量5,
000以上のエポキシ樹脂が少ない場合は、加熱加圧プ
レス時に流れやすく、所望の絶縁層の厚みが得られない
からであり、多い場合には、加熱加圧プレス時流れにく
く、絶縁基板との界面にボイドが発生ずるためである。
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
実施例1
(1)以下に示す組成のワニスを作成し、乾燥後の膜厚
が100μmになるように転写用基材であるPETフィ
ルム(東セロ化学株式会社製)に塗布し、120 ’C
で10分間乾燥して絶縁シトを作成した。
が100μmになるように転写用基材であるPETフィ
ルム(東セロ化学株式会社製)に塗布し、120 ’C
で10分間乾燥して絶縁シトを作成した。
絶縁ワニスの組成
エポキシ樹脂100重量部の内
分子量5,000以上;
PKHH(ユニオンカーバイト社、商品名)を40重量
部 分子量5,000未満; ・エピコート1OO1(油化シェルエポキシ株式会社、
商品名)を50重量部 ・DEN43B (ダウケミカル社、商品名)を10重
量部 とし、これに対して、 架橋剤; ブロックイソシアネート デスモジュールBL1265(住友バイエルウレタン株
式会社、商品名)を20重量部エポキシ硬化剤 ジシアンジアミド(和光純薬株式会社製)を3重量部 充填剤; クリスタライ1−VX−X(龍森株式会社、商品名)を
20重量部 めっき用触媒; Cat”lO(日立化成工業株式会社、商品名)を3重
量部 としたものを、 有機溶媒; 酢酸セロソルブ(和光純薬株式会社製)150重量部 の中で混合した。
部 分子量5,000未満; ・エピコート1OO1(油化シェルエポキシ株式会社、
商品名)を50重量部 ・DEN43B (ダウケミカル社、商品名)を10重
量部 とし、これに対して、 架橋剤; ブロックイソシアネート デスモジュールBL1265(住友バイエルウレタン株
式会社、商品名)を20重量部エポキシ硬化剤 ジシアンジアミド(和光純薬株式会社製)を3重量部 充填剤; クリスタライ1−VX−X(龍森株式会社、商品名)を
20重量部 めっき用触媒; Cat”lO(日立化成工業株式会社、商品名)を3重
量部 としたものを、 有機溶媒; 酢酸セロソルブ(和光純薬株式会社製)150重量部 の中で混合した。
(2)ガラス布MCL−E−168(日立化成工業株式
会社、商品名)をエツチングで内層回路を形成し、さら
に、(1)で作成した絶縁シートを重ねて150°C・
15kg/a品・60分の条件の加熱加圧プレスによっ
て絶縁層を積層成形した。
会社、商品名)をエツチングで内層回路を形成し、さら
に、(1)で作成した絶縁シートを重ねて150°C・
15kg/a品・60分の条件の加熱加圧プレスによっ
て絶縁層を積層成形した。
(3)厚さ150amの接着剤シー1−GEA−05N
AS150(日立化成工業株式会社、商品名)を、
絶縁基板の両面に配し、160°C・20 kg /
cl・15分の条件で加熱加圧プレスし、接着した。
AS150(日立化成工業株式会社、商品名)を、
絶縁基板の両面に配し、160°C・20 kg /
cl・15分の条件で加熱加圧プレスし、接着した。
(4)布線機によって、ワイヤ0HBH−11MW(日
立電線株式会社、商品名)を絶縁基板のにに布線した。
立電線株式会社、商品名)を絶縁基板のにに布線した。
(5)ガラス布エポキシ樹脂のプリプL/グGEA16
8N(日立化成工業株式会社、商品名)を(4)の構成
物に重ね、加熱加圧して積層成形した。
8N(日立化成工業株式会社、商品名)を(4)の構成
物に重ね、加熱加圧して積層成形した。
(6)めっきマスクとして粘着剤付ポリエチレンフィル
ムのヒタレソクスS−500X−9(日立化成工業株式
会社、商品名)を(5)の構成物にラミネートし、スル
ーホールとなるべきところに穴をあけた後、無電解銅め
っき液の11id−410(日立化成工業株式会社、商
品名)に浸漬して、穴内壁に約40μmの銅層を形成し
た。
ムのヒタレソクスS−500X−9(日立化成工業株式
会社、商品名)を(5)の構成物にラミネートし、スル
ーホールとなるべきところに穴をあけた後、無電解銅め
っき液の11id−410(日立化成工業株式会社、商
品名)に浸漬して、穴内壁に約40μmの銅層を形成し
た。
(7)めっきマスクを剥離して、マルチワイヤー配線板
を得た。
を得た。
実施例2
(1)以下に示す組成のワニスを作成し、乾燥後の膜厚
が100μmになるように転写用基材であるPETフィ
ルム(東セロ化学株式会社製)に塗布し、120°Cで
10分間乾燥して絶縁シトを作成した。
が100μmになるように転写用基材であるPETフィ
ルム(東セロ化学株式会社製)に塗布し、120°Cで
10分間乾燥して絶縁シトを作成した。
絶縁ワニスの組成
エポキシ樹脂100重量部の内
分子量5,000以上;
フェノ)−)YP−50(東部化成株式会社、商品名)
を50重量部 分子量5,000未満; ・エピコー)1001 (油化シェルエポキシ株式会
社、商品名)を50重量部 とし、これに対して、 架橋剤; アルキル化メラミン メラン523(日立化成工業株式会社、商品名)を20
重量部 エポキシ硬化剤 2PZ−CNS (四国化成工業株式会社、商品名)を
20重量部 めっき用触媒; Cat″ 10(日立化成工業株式会社、商品名)を3
重量部 としたものを、 有機溶媒; 酢酸セロソルブ(和光純薬株式会社製)を150重量部 の中で混合した。
を50重量部 分子量5,000未満; ・エピコー)1001 (油化シェルエポキシ株式会
社、商品名)を50重量部 とし、これに対して、 架橋剤; アルキル化メラミン メラン523(日立化成工業株式会社、商品名)を20
重量部 エポキシ硬化剤 2PZ−CNS (四国化成工業株式会社、商品名)を
20重量部 めっき用触媒; Cat″ 10(日立化成工業株式会社、商品名)を3
重量部 としたものを、 有機溶媒; 酢酸セロソルブ(和光純薬株式会社製)を150重量部 の中で混合した。
(2)以下は実施例1と同様にして配線板を得た。
実施例3
(1)以下に示す組成のワニスを作成し、乾燥後の膜厚
が100μmになるように転写用基材であるPETフィ
ルム(東セロ化学株式会社製)に塗布し、120°Cで
10分間乾燥して絶縁シートを作成した。
が100μmになるように転写用基材であるPETフィ
ルム(東セロ化学株式会社製)に塗布し、120°Cで
10分間乾燥して絶縁シートを作成した。
絶縁ワニスの組成
エポキシ樹脂100重量部の内
分子量5.000以上;
フェノトートYP−50(東部化成株式会社、商品名)
を70重量部 分子量5,000未満; ・エピコート828(油化シヱルエボキシ株式会社、商
品名)を20重量部 ・DEN43B(ダウケミカル社、商品名)を10重量
部 とし、これに対して、 架橋剤; アルキル化メラミン; メラン523(日立化成株式会社、商品名)を20重量
部 エポキシ硬化剤; 2PZ−CNS (四国化成工業株式会社、商品名)を
2重量部 充填剤; クリスタライ)VX−X (龍森株式会社、商品名)を
20重量部 めっき用触媒; Cat” 10 (日立化成工業株式会社、商品名)
を3重量部 としたものを、 有機溶媒: 酢酸セロソルブ(和光純薬株式会社製)を2゜0重量部 の中で混合した。
を70重量部 分子量5,000未満; ・エピコート828(油化シヱルエボキシ株式会社、商
品名)を20重量部 ・DEN43B(ダウケミカル社、商品名)を10重量
部 とし、これに対して、 架橋剤; アルキル化メラミン; メラン523(日立化成株式会社、商品名)を20重量
部 エポキシ硬化剤; 2PZ−CNS (四国化成工業株式会社、商品名)を
2重量部 充填剤; クリスタライ)VX−X (龍森株式会社、商品名)を
20重量部 めっき用触媒; Cat” 10 (日立化成工業株式会社、商品名)
を3重量部 としたものを、 有機溶媒: 酢酸セロソルブ(和光純薬株式会社製)を2゜0重量部 の中で混合した。
(2)以下は実施例1と同様にして配線板を得た。
スルーホール部絶縁層における、無電解めっきのしみ込
みは、スルーホール断面観察の結果5 // rn以下
であった。
みは、スルーホール断面観察の結果5 // rn以下
であった。
本発明の配線板の絶縁層は、ガラス布を使用せず、分子
量5,000以上のエポキシ樹脂と分子量5,000未
満のエポキシ樹脂の比が10:90から90:10の範
囲にあるエポキシ樹脂と、そのエポキシ樹脂100重量
部に対しての架橋剤となる絶縁層を用いることにより、
スルーポールより内層回路に向かって無電解めっきのし
み込みを小さくすることができ、スルーボールと内層回
路間の絶縁性の向上させることができ、その工業的価値
は極めて大である。
量5,000以上のエポキシ樹脂と分子量5,000未
満のエポキシ樹脂の比が10:90から90:10の範
囲にあるエポキシ樹脂と、そのエポキシ樹脂100重量
部に対しての架橋剤となる絶縁層を用いることにより、
スルーポールより内層回路に向かって無電解めっきのし
み込みを小さくすることができ、スルーボールと内層回
路間の絶縁性の向上させることができ、その工業的価値
は極めて大である。
Claims (1)
- 1.分子量5,000以上のエポキシ樹脂と分子量5,
000未満のエポキシ樹脂の重量比が10:90から9
0:10の範囲にあるエポキシ樹脂と架橋剤とからなる
組成物から形成されたマルチワイヤー配線板用絶縁層。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29573388A JPH02142820A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | マルチワイヤー配線板用絶縁層 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29573388A JPH02142820A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | マルチワイヤー配線板用絶縁層 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02142820A true JPH02142820A (ja) | 1990-05-31 |
Family
ID=17824468
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29573388A Pending JPH02142820A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | マルチワイヤー配線板用絶縁層 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02142820A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007049385A1 (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-03 | Three Bond Co., Ltd. | 有機el素子封止用熱硬化型組成物 |
WO2010119706A1 (ja) * | 2009-04-17 | 2010-10-21 | 三井化学株式会社 | 封止用組成物および封止用シート |
WO2014045625A1 (ja) * | 2012-09-20 | 2014-03-27 | 積水化学工業株式会社 | 絶縁樹脂フィルム、予備硬化物、積層体及び多層基板 |
-
1988
- 1988-11-22 JP JP29573388A patent/JPH02142820A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007049385A1 (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-03 | Three Bond Co., Ltd. | 有機el素子封止用熱硬化型組成物 |
JP2007112956A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-10 | Three Bond Co Ltd | 有機el素子封止用熱硬化型組成物 |
KR101234895B1 (ko) * | 2005-10-24 | 2013-02-19 | 가부시끼가이샤 쓰리본드 | 유기 el 소자 봉지용 열경화형 조성물 |
WO2010119706A1 (ja) * | 2009-04-17 | 2010-10-21 | 三井化学株式会社 | 封止用組成物および封止用シート |
WO2014045625A1 (ja) * | 2012-09-20 | 2014-03-27 | 積水化学工業株式会社 | 絶縁樹脂フィルム、予備硬化物、積層体及び多層基板 |
JP5799174B2 (ja) * | 2012-09-20 | 2015-10-21 | 積水化学工業株式会社 | 絶縁樹脂フィルム、予備硬化物、積層体及び多層基板 |
TWI612537B (zh) * | 2012-09-20 | 2018-01-21 | Sekisui Chemical Co Ltd | 絕緣樹脂膜、預硬化物、積層體及多層基板 |
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