JPH0213959A - レジスト現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］ この発明はレジスト現像装置に関するものであり、特に
、１１ｆ現性良くかつ精度良（、微細パターンを現像す
ることができるように改良されたレジスト現像装置に関
するものである。 ［従来の技術］ 従来、電子線レジストの現像は、被現像試料を現像液（
主に１機溶剤）に浸漬するか、またはスプレー法で被現
象試料の表面に現像液を噴霧するかの、いずれかの方法
で行なわれている。 第２図は、後者の方法を採用した、従来のレジスト現像
装置の断面図である。 第２図を参照して、１は密閉空間を形成するチャンバで
ある。チャンバ１内には、基Ｎ４　（たとえば半導体拭
阪）を下から支持する治具３が設けられている。治具３
は、基板４を下から支持する支持面部３ａと、該支持面
部３ａを固定する固定部３ｂを含んでいる。支持面部３
ａは、第３図にその甲面図か示されるように、十字形の
形状を有しており、その端部には、それぞれ上方に延び
る当たり止め部３Ｃが形成されている。基板４は、この
４つの当たり止め部３Ｃに挾まれるようにして、支持面
部３ａに下から支持される。この当たり止め部３Ｃかあ
ることにより、固定部３ｂがその軸心を中心として回転
しても、基板４は支持面部３ａに安定な状態で支持され
る。固定部３ｂは回転モータ５に接続されており、支持
面部３ａが水平面内で回転できるように構成されている
。 チャンバ１には、取出口６が設けられており、この取出
口６より、基板４の出し入れが行なわれる。また、チャ
ンバ１の底部には、排気管１８が設けられている。さら
に、チャンバ１は、上記支持面部３ａの斜め上の位置に
設けられたノズル２を備えている。ノズル２には、現像
液タンク１９内に蓄えられた現像液７が供給される。現
像液タンク１９にはレギュレータ８が設けられている。 このレギュレータ８は、現像液タンク１つ内の現像液を
所定の窒素圧力により加圧することによって、ノズル２
から出る現像液７の噴霧圧力を調整するものである。 レジストとしてポジ型の電子線レジストたとえば東し製
のＥＢＲ−９を用いた場合には、現像液７には、メチル
イソブチルケトンとイソプロピルアルコール（９：１）
あるいはメチルイソブチルケトンとイソプロピルアルコ
ール（８：　２）等の混合１機溶媒が好ましく使用され
る。 次に、この装置を用いて、レジストを現像する方法につ
いて説明する。 取出口６を開けて、マスクプレート竹の基板４を、当た
り止め部３Ｃに挾まれるように、支持面部３ａの上に置
く。この括阪４上には、たとえば上述のレジストＥＢＲ
−９か形成されている。次に、回転モータ５を駆動し、
支持面部３ａを水ヤ面内に回転させる。回転か一定にな
った後に、レギュレータ８により、窒素ガスをｌｌｃｇ
／ｃｍ２の圧力で現像液タンク１つ内に入れる。すると
、現像液７がｌｌｃｇ／ａｍ２の圧力てノズル２から、
基板４に向けて噴霧される。噴霧された現像液はレジス
トを溶かし、その後、遠心力により水平方向に飛ばされ
て、チャンバ１の内壁に当たり、排気管】８より排気さ
れ、排液留（図示せず）に送られる。これにより、現像
処理が完了する。その後、イソプロピルアルコールを、
リンス液として、別のノズル（図示せず）から噴霧する
。そして、基板４をスピン乾燥にて高速回転し、十分乾
燥させる。その後、基板４は取出口６より取出されて、
次の工程へと送られる。 ［発明が解決しようとする課題］ 従来のレジスト現像装置は以上のように構成されていた
ので、基板の温度変化、現像液の温度変化およびチャン
バ内の雰囲気の温度変化等があった場合には、それを補
正する手段がなかった。それゆえ、温度変化により現像
特性が変動し、微細パターンを、再現性良く、かつ精度
良く、現像することができないという問題点があった。 この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、温度変化による現像特性の変動を防止するこ
とのできるレジスト現像装置を提１共することを目的と
する。 ［課題を解決するための手段］ この発明は、基板表面にレジストの現（象を行なう装置
であり、上記レジストか形成された上記基板を密閉空間
内に置き、上記基板に向けて現像液をスプレー状に噴霧
し、上記レジストの現（象を行なう装置に係るものであ
る。そして、上記問題点を解決するために、上記密閉空
間内に熱交換用ガスを導入するガス導入手段と、上記ガ
ス導入手段から導入されてくる上記熱交換用ガスを加熱
する加熱手段と、上記密閉空間内の雰囲気の温度を検知
する検知手段と、上記検知手段の情報に基づいて、上記
加熱手段の加熱強度を調整する加熱強度調整手段とを備
えている。それによって、上記現像液の噴霧液、上記基
板および上記密閉空間内の雰囲気を一定の温度に維持す
るようにされている。 ［作用］ 当該装置は上記のとおり構成されており、それによって
、上記現象液の噴霧液、上記基板および上記密閉空間内
の雰囲気を一定の温度に維持するようにされているので
、レジストの現像か一定の温度条件下で遂行される。 ［実施例コ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。 第１図は、この発明の一実施例の概念図である。 第１図に示す実施例は、以下の点を除いて、第２図に示
す従来例と同様であり、相当する部分には同一の参照番
号を付し、その説明を省略する。以下に、Ｆ目違点を中
心に説明する。 第１図を参照して、チャンバ１は、孔あき板９により、
上方部１ａと下方部１ｂの２つに区分されている。孔あ
き板９には、多数の貫通孔が設けられている。上方部１
ａには、熱交換用ガスを該上方部１ａ内に導入する、ガ
ス導入管１１が設けられている。ガス導入管１１には、
フィルタ１２が設けられている。このフィルタ１２によ
り、ガス導入管１１内を流れてくる熱交換用ガス中のご
みが除去される。また、ガス導入管１１には、レギュレ
ータ１３が設けられており、供給される熱交換用ガスの
瓜がこれにより調整される。熱交換用ガスには、たとえ
ば窒素ガスが用いられる。 上方部１ａには、ヒータ１０が設けられており、このヒ
ータ〕Ｏは温度コントロールシステム１４に電気的接続
されている。チャンバ１の下方部１ｂには、チャンバ１
内の雰囲気の温度を検知する、７Ｒ度センサ１５か設け
られている。 排気管１８には、自動角度開閉ダンパ１６が設けられて
いる。自動角度開閉ダンパ１６は温度コントロールシス
テム１４に電気的接続されている。 次に、現（象の動作について説明する。 チャンバ１内の温度を、室温と同じ温度にシ、ソ整して
おく。次に、取出口６を開けて、マスクプレー１・等の
基板４を、当たり止め部３ｃに挾まれるように支持面部
３ａの上に置く。この基板４には、電子線で所定のパタ
ーンの露光がなされた、たとえばＥＢＲ−９レジストか
形成されている。次に、回転モータ５を駆動し、支持面
部３ａを水平面内で低速回転させ、その回転を一定にす
る。それと同時に、ヒータ１０の加熱を始める。そして
、チッ素ガスをガス導入管１１より、チャンバ１内に導
入する。ヒータ１０て加熱された窒素ガスは暖められて
、孔あき板９に設けられた貫通孔を通って、チャンバ１
の下方部１ｂｔ：ｌ：流れ込む。次に、レギュレータ８
によって、Ｎ２ガスで１　ｋ　ｇ　／　ｃ

【■１２　に
調整された圧力で、ノズル２より現像液７ヲ噴霧し、基
板４上のレジストを現像する。その際に、温度コントロ
ールシステム１４が働き、チャンバ１内の雰囲気の温度
を温度センサ１５で検知し、この温度センサ１５の情報
に基づいて、ヒータ１０の強度を調整するとともに、自
動角度開閉ダンパ１６で排気の量を調整し、噴霧液、基
板および雰囲気の温度変化を少なくするようにする。 以上の動作により、現像が一定の条件下で遂行される。 これにより、微細パターンを、再現性良く、かつ精度良
く現像することができるようになる。 その後、イソプロピルアルコールを、リンス液として別
のノズル（図示せず）から噴霧し、一定時間後、スピン
乾燥させる。このとき、ヒータ１Ｏの加熱強度を大きく
して、窒素ガスの温風をチャンバ１の下Ｊｊ部〕ｂに送
り込むと、乾燥がより速くな・る。また、このとき自動
角度開閉ダンパ】６を全開にし、十分Ｕ１−気すること
により、さらに乾燥を速めることかできる。 なお、本実施例では、ヒータ１０として、抵抗線を用い
てもよいし、セラミックヒータを用いてもよい。 また、上記実施例では基板に半導体基板を用いた場合に
ついて説明したが、この発明はこれに限られるものでな
く、ガラス基板てあっても実施例と同様の効果を実現す
る。 また、試料の出し入れは手作業で行なってもよいし、自
動搬送によって行なってもよい。 以上、具体的な実施例を挙げて、この発明のレジスト現
像装置について説明したが、本発明は、その精神または
主要な特徴から逸脱することなく、池の色々な形で実施
することができる。それゆえ、前述の実施例はあらゆる
点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない
。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示すもので
あって、明細書本文には何ら拘束されない。さらに、特
許５１″ｉ求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、
すべて本発明の範囲内のものである。 ［発明の効果］ 本発明に係る装置は上述のとおり構成されており、それ
によって現像液の噴霧液、基板および密閉空間内の雰囲
気を一定の温度に維持するようにされている。それゆえ
、レジストの現（象か一定の温度条件下で遂行される。 その結果、微細パターンをＭ現性良くかつ精度良く現像
できるようになり、スループットが向上するという効果
を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示す概念図である。第２
図は従来のレジスト現像装置の断面図である。第３図は
レジスト現像装置で用いる治具の部分拡大図である。 図において、１はチャンバ、２はノズル、４は基板、７
は現像液、１０はヒータ、１１はガス導入管、１４は温
度コントロールシステム、１５は温度センサ、１６は自
動角度開閉ダンパである。 なお、各図中、同一７１号は同一または相当部分を示す
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基板表面にレジストの現像を行なう装置であって、前記
   レジストが形成された前記基板を密閉空間内に置き、前
   記基板表面に向けて現像液をスプレー状に噴霧し、前記
   レジストの現像を行なう装置において、 前記密閉空間内に熱交換用ガスを導入するガス導入手段
   と、 前記ガス導入手段から導入されてくる前記熱交換用ガス
   を加熱する加熱手段と、 前記密閉空間内の雰囲気の温度を検知する検知手段と、 前記検知手段の情報に基づいて、前記加熱手段の加熱強
   度を調整する加熱強度調整手段と、を備え、 それによって、前記現像液の噴霧液、前記基板および前
   記密閉空間内の雰囲気を一定の温度に維持する、レジス
   ト現像装置。