JPH02131216A - 磁気光学素子材料 - Google Patents

磁気光学素子材料

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JPH02131216A JP63285090A JP28509088A JPH02131216A JP H02131216 A JPH02131216 A JP H02131216A JP 63285090 A JP63285090 A JP 63285090A JP 28509088 A JP28509088 A JP 28509088A JP H02131216 A JPH02131216 A JP H02131216A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ファラデー効果を利用した光アイソレータや
光サーキュレータ、光スイノチ等に用いる磁性ガーネッ
ト単結晶に関し、更に詳しくは、ビスマス置喚型のテル
ビウムー鉄ガーネットで鉄サイトの一部をアルミニウム
で置換した磁気光学素子材料に関するものである。
[従来の技術] 例えば半導体レーザを光源として使用する各種の光応用
機器においては、光コネクタ等の端面からの反射光が光
源のレーザに戻ると発振モードに変化が生し雑音の原因
になる。この戻り光を阻止するために光アイソレータが
使用されている。
光アイソレータのファラデー回転子には、フラノクス法
やFZ法によって作製されるハルクYIG (イットリ
ウムー鉄ガー不フト)単結晶が広く使用されてきた。
しかし近年、LPE (液相エビタキシャル)法による
磁性ガーネット単結晶の厚膜化の研究が進み、一部実用
化がなされている.LPE法は、磁性ガーネ−/ }の
ファラデー回転を飛躍的に負に増大させるBi(ビスマ
ス)置換を容易に行うことができ、しかも育成に要する
時間が短い等の利点があり、このため製造コストが低く
高性能の磁気光学素子の製造が可能とされている。
磁性ガーネットに要求される特性としては、■ファラデ
ー回転の温度変化が小さいこと、■光吸収が少ないこと 等がある。更にLPE法により製造する場合には、 ■単位長さ当たりのファラデー回転が大きいこと、 ■基仮と膜との熱膨張率差が小さいことも必要である. 磁性ガーネットを光アイソレー夕に用いる場合、ファラ
デー回転に温度変化があると室温で達成される高いアイ
ソレーションが外部環境温度の変化により低下してしま
う。
その度合を示すため室温(25℃)におけるファラデー
回転の温度係数βを、 但しθ1。℃ :0℃におけるファラデー回転角 θ,,。℃:50℃におけるファラデー回転角 と定義すると、現在広く使用されているバルクYIGで
は、波長λ−1.3μmにおいて、β=0.035  
(deg/’C)程度である。
しかしバルク型の単結晶の場合は、育成に時間がかかり
高度な加工を必要とするなどコストが高くなり、且つ偏
波面を45度回転させるのに必要な結晶長さが長くなる
欠点がある。
他方、LPE法によるビスマス置換ガー27ト.IV膜
の場合には、ファラデー回転の温度係数βを低滅するた
めに次の2通りの方法が提案されている。
その一つは、Rs−x B ix F e, 0+z 
(Rは希土類元素)で表される磁性ガーネ7}単層膜に
おいて、RとしてTb(テルビウム)やDy(ジスプロ
シウム)等のファラデー効果への寄与が正で且つ大きい
元素、あるいはY(イットリウム)等のネール温度が大
きくなる元素を使用する方法である。
例えば、日本応用磁気学会誌vol.10.No.2p
.151 (1986)には、RとしてGd  Yb 
 Tbを用いXを変えて実験を行った結果、Dyz.s
B io.s  F es O+zの組成でβが最も小
さくバルクYIGと同程度となり、室温でのファラデ一
回転θ,はλ=1.3μmで−9 0 0deg/am
、λ=1.55μmで−6 0 0deg/cmである
と記載されている。
電子通信学会技術研究報告CPM86−36(1986
)には、RとしてEr.Yb,Tm,Lu  GdDy
.Yを用いて実験した結果、Yが最もネール温度が高く
βが小さいこと、しかしこれは飽和磁化が大きい欠点を
有するために、RとしてYbとTbを用い、Yb : 
Tb= 1 :3.65とし?(YbTbBi)z  
Fe5 o12がβ= 0.05(deg/℃)であり
、室温でのθ,はλ=13pmで−1 8 0 0 d
eg/am、λ−1.55μmで−1 2 0 0 d
eg/cmであることが記載されている。
また第12回日木応用磁気学会学術講演概要集3aA−
2 (1988)にはYbo.q T b ,6。Bi
,,3Fe,0+zにおいて、室温でのθ,はλ−13
pmで−2 4 0 0deg/cm,β一〇.07d
eg/℃であることが記載されている。
もう一つの方法は、温度係数βが正のBi置換磁性ガー
不ノトとβが負で大きな値を持つ磁性ガー不ノトからな
る二N膜構造とし、膜厚を各々適当に選ぶことによって
全体の温度係数βをゼロにする方法である。
例えば第34回応用物理学会関係連合講演会29p−Z
E−15 (1987)には、(GdBi),(FeA
 I G a ) s  ()+zと ( Y b T
 b B i ) 3  F e 501■の組み合わ
せで、全体のβがほぼゼロになることが示されているし
、同じく第34回応用物理学会関係連合講演会31a−
ZE−5 (1987)には、(BiLuGd)s  
Fe5  0+zと (BiGd),( F e G 
a ) s ○1!の組み合わせで、全体のβがほぼゼ
ロになることが示されている。
[発明が解決しようとする課題〕 上記のような従来のLPE法によるBi置換磁性ガーネ
ット単結晶厚膜からなる磁気光学素子において、(Gd
Bi)−+  (FeAIGa),012では、上述の
ようにファラデー回転の温度係数βが非常に大きい欠点
がある。
またRff−H B ix F e5 0+z (Rは
希土類元素)で表される、’feeサイトを置換しない
単層膜では、光吸収が大きい欠点があり、且つ基仮と膜
との熱膨張率差が大きいために育成時に割れ易い欠点も
ある。
更に二層膜構造では温度係数βがほぼゼロになる代わり
に、育成時に割れ易《、その上、膜の育成に時間を要し
、工程が複雑化しコスト高になる欠点がある。
フラノクス法によるT bs−..B i)(  F 
e−,−yQa,0+tでは、ファラデー回転がλ−1
.  3μmで−1 1 0 0deg/cmシかない
ため、LPE法でこれを育成すると膜厚を厚くしなけれ
ばならず、割れてしまう。
本発明の目的は、上記のような従来技術の欠点を解消し
、磁性ガーネソト単結晶の単層膜構造でありながら、フ
ァラデー回転の温度係数βが小さく、光吸収が少ない組
成であると同時に、室温におけるファラデ−回転が大き
い磁気光学素子材料を提供することにある。
また本発明の他の目的は、熱膨張率が基板のそれに近い
ために、育成時に割れ珪<、そのため歩留りよく製造で
きるるイ生気光学素子材料を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 上記のような目的を達成できる本発明は、磁性ガーネッ
ト華結晶であって、次の一般式T bff−X B i
i+ F es−, A ly O但し、0.8≦x≦
1.3 Q<y≦0.5 にて表される組成を存する磁気光学素子材料である。
まず本発明の基本的な考え方について説明する。希土類
鉄ガー名ット構造の単結晶でファラデー回転を大きくす
るには希土類サイトの一部をBiT:置換するのが有効
である。そしてファラデー回転の温度係数βを改善する
ためには、希土類元素としてそれへの寄与が大きなTb
が効果的である。
また光吸収に関してはFe”イオンの一部価数が変化し
Fe”あるいはFe4−になると、これらが光を吸収す
ることが判っている。その解決には、その原因となるF
eを非磁性イオンで置換することが有効である。更に割
れを引き起こす基板と膜との熱膨張率差も、Feを非磁
性イオンで置換すると少なくできる. ところが一般に、Feサイトを置換するとファラデー回
転が低下し、且つファラデー回転の温度係数が増大する
と考えられていた。
本発明者等は、上記の観点から様々な組成を有する昨結
晶膜を育成し検討した結果、適切な組成を見出し、本発
明を完成するに至ったものである。
本発明においてAIを選択した理由は、(a)イオン半
径が小さいこと、 (b)3価が安定なこと、 ic)使用波長で吸収を持たないこと、による。Feサ
イトを非磁性イオンで置換するとファラデー回転が小さ
くなるが、上記ta+のようにイオン半径が小さいとB
1の置換量を増加してそれを十分補える。
T b3−X  B ix  F es−y A I 
y  OIz (但し、0.8≦x≦1.3、Q<y≦
0,5)とすると、ファラデー回転の温度係数βが悪化
せず、光吸収が小さく、且つ室温におけるファラデ−回
転を大きくできる. この種の材料は、好まし《は基板上にLPE法により成
膜する。磁気光学素子として用いる時の内部歪をゼロに
するため、室温における基板と112との格子定数差を
0.01人以内にする.基板と膜の熱膨張率が異なるた
め、育成温度800℃では両者の格子定数差が増大し0
.  1%にもなる.膜が厚くなるほど育成温度での内
部応力が大きくなり、Feサイトが置換されていないガ
ーネットで基板の厚みが400μmの場合、膜厚が30
0μmを超えるとクラックが発生し易くなる。更に50
0μmを超えるとクランクフリーでの育成は非常に困難
である。
そのため研磨しろ50μm程度を考慮すると450μm
以内で光の偏波面が45゜回転すること、即ちファラデ
ー回転がl O O Odeg/cm以上あることが必
要である。λ=1.55μmで1 0 0 0 deg
/c翔以上あるためには、λ一1.3μmではファラデ
−回転が3/2倍、つまり1 5 0 0 deg/ 
cm程度以上必要である。
本発明ではFeサイトを非磁性のA1イオンで置換して
いるため、熱膨張率差が小さく、育成時の基板と膜の格
子定数差が小さくなり、割れ難くなる。
[実施例] (CaMgGd)s  (ZrGa)s  O+zの組
成の単結晶基板を使用し、その上に一般式Tb3−x 
 B l w  F e 5−y  A I y  k
で表される種々の磁性ガーネソト単結晶膜をLPE (
液相エビタキシャル)法により育成し試料を作成した。
また同時に比較例としてy=0、即ちFeサイトを置換
していない単層膜についても試料を作成した。そして各
試料について室温におけるファラデー回転θF(deg
/am)  ファラデー回転の温度係数β(deg/ 
℃) 、光損失(d B)割れが生じるまでの最大膜厚
(μm)を測定した。試料の組成と測定結果を第1表に
示す。
第1表 FeサイトへのA1の置換量が増加するにつれて温度係
数βはやや大きくなるが、TbサイトへのBi置換量を
増加することができ、ファラデー回転は増大ずる。また
AI置換量を増加するにつれて光吸収は低城し、割れが
発生する最大膜厚も厚くできることが判る。
ファラデー回転の温度係数βからみて、AIの置換量y
の最大値は0.5程度である。またBi置喚量Xの最大
値は1.3程度となる。
[発明の効果] 本発明は上記のように、Bi置換型のTb−鉄ガーネッ
ト単結晶でFeサイトの一部をAlで置換した磁気光学
素子材料だから、ファラデー回転の温度係数が小さく、
光吸収も小さく、且つ室温におけるファラデー回転を太
き《できる優れた効果を存する. そのため例えばLPE法の場合、従来技術の二層膜構造
のように、それぞれ適当な厚みをもった2種類の磁性ガ
ーネット膜を作製せずに済み、結晶の育成や加工の工程
を半減できる利点が生じる。
また基板として(CaMgGd)i  (ZrGa)s
o+zを使用してLPE法で上記組成の膜を育成すると
、熱膨張率差が小さく育成時の格子定数の差も小さいた
め、割れ難く、歩留りよく製造できる。
特許出願人  富士電気化学株式会社 代  理 人 茂  見 攬

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、磁性ガーネット単結晶であって、一般式Tb_3_
    −_xBi_xFe_5_−_yAl_yO_1_2但
    し、0.8≦x≦1.3 0<y≦0.5 にて表される組成を有することを特徴とする磁気光学素
    子材料。 2、(CaMgGd)_3(ZrGa)_5O_1_2
    の組成を有し、室温での格子定数aが12.490Å≦
    a≦12.498Åである単結晶を基板とし、その表面
    に請求項1記載の材料の膜を液相エピタキシャル成長さ
    せた磁気光学素子材料。 3、室温における基板と膜との格子定数の差が0.01
    Å以内である請求項2記載の磁気光学素子材料。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0354198A (ja) * 1989-07-20 1991-03-08 Shin Etsu Chem Co Ltd 酸化物ガーネット単結晶
JPH07206593A (ja) * 1994-01-07 1995-08-08 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 光アイソレータ用ファラデー回転子
JP3458865B2 (ja) * 1994-05-23 2003-10-20 三菱瓦斯化学株式会社 低飽和磁界ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶、および、その用途
JP3753920B2 (ja) * 2000-03-22 2006-03-08 Tdk株式会社 磁性ガーネット単結晶膜及びその製造方法、及びそれを用いたファラデー回転子
US7463330B2 (en) 2004-07-07 2008-12-09 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4875211A (ja) * 1972-01-08 1973-10-11
JPS5014361A (ja) * 1973-06-06 1975-02-14
JPS58139082A (ja) * 1982-02-15 1983-08-18 Hitachi Ltd 磁界測定装置
JPS60185237A (ja) * 1984-02-29 1985-09-20 Fujitsu Ltd 光熱磁気記録媒体
JPS62138396A (ja) * 1985-12-12 1987-06-22 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 磁気光学素子用磁性ガ−ネツト材料
JPS62188982A (ja) * 1985-06-29 1987-08-18 Toshiba Corp 磁界センサ
JPS62195619A (ja) * 1986-02-12 1987-08-28 Sony Corp 光アイソレ−タ
JPS62216310A (ja) * 1986-03-18 1987-09-22 Fujitsu Ltd 磁気光学結晶育成法
JPS63233098A (ja) * 1987-03-20 1988-09-28 Fujitsu Ltd ビスマスガ−ネツト結晶の育成方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49129700A (ja) * 1973-04-18 1974-12-12
US4810325A (en) * 1987-06-15 1989-03-07 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Labs Liquid-phase-epitaxy deposition method in the manufacture of devices

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4875211A (ja) * 1972-01-08 1973-10-11
JPS5014361A (ja) * 1973-06-06 1975-02-14
JPS58139082A (ja) * 1982-02-15 1983-08-18 Hitachi Ltd 磁界測定装置
JPS60185237A (ja) * 1984-02-29 1985-09-20 Fujitsu Ltd 光熱磁気記録媒体
JPS62188982A (ja) * 1985-06-29 1987-08-18 Toshiba Corp 磁界センサ
JPS62138396A (ja) * 1985-12-12 1987-06-22 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 磁気光学素子用磁性ガ−ネツト材料
JPS62195619A (ja) * 1986-02-12 1987-08-28 Sony Corp 光アイソレ−タ
JPS62216310A (ja) * 1986-03-18 1987-09-22 Fujitsu Ltd 磁気光学結晶育成法
JPS63233098A (ja) * 1987-03-20 1988-09-28 Fujitsu Ltd ビスマスガ−ネツト結晶の育成方法

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Publication number Publication date
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EP0368483A2 (en) 1990-05-16

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