JPH02127772A - 配線処理方式 - Google Patents
配線処理方式Info
- Publication number
- JPH02127772A JPH02127772A JP63281888A JP28188888A JPH02127772A JP H02127772 A JPH02127772 A JP H02127772A JP 63281888 A JP63281888 A JP 63281888A JP 28188888 A JP28188888 A JP 28188888A JP H02127772 A JPH02127772 A JP H02127772A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring
- area
- angle
- divided
- areas
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000013598 vector Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子機器の実装設計における配線処理方式に関
し、特にプリント基板(PWB)、セラミック基板の配
線方法に関する。
し、特にプリント基板(PWB)、セラミック基板の配
線方法に関する。
従来のこの種の配線処理方式では、接続関係にかかわら
ず、一定の配線格子、例えばX方向及びY方向を各層(
2層で1対としたペア層)に割当てて配線していた。
ず、一定の配線格子、例えばX方向及びY方向を各層(
2層で1対としたペア層)に割当てて配線していた。
上述した従来の配線処理方式では、斜め配線と直交配線
を同一ペア層で共存させることはできな。
を同一ペア層で共存させることはできな。
いため、斜め配線の方が配線長が短かくなってよい部分
と、直交配線の方が効率よく配線できる部分とがある場
合に、配線層を多層にして、それぞれ配線格子を別のベ
ア層で設定するか、斜め配線格子又は直交配線格子のい
ずれか一方を設定する等を施した上で配線処理していた
ため、前者では基板コストが上昇し、後者では配線長が
長くなる等の欠点がある。
と、直交配線の方が効率よく配線できる部分とがある場
合に、配線層を多層にして、それぞれ配線格子を別のベ
ア層で設定するか、斜め配線格子又は直交配線格子のい
ずれか一方を設定する等を施した上で配線処理していた
ため、前者では基板コストが上昇し、後者では配線長が
長くなる等の欠点がある。
本発明の配線処理方式は以下の手段を有している。
(1)配線領域を任意の複数個の領域に分割する。
(2)XY座標平面を接続ビンベア(PP)の配線角度
に応じて振り分ける複数の領域α、β、γ…を設定する
。
に応じて振り分ける複数の領域α、β、γ…を設定する
。
(3)(1)で分割された各領域内に含まれる接続ビン
ベア(pp)の結線ベクトルの角度を計算し、前記領域
α、β、γ…のグループへ振り分ける。
ベア(pp)の結線ベクトルの角度を計算し、前記領域
α、β、γ…のグループへ振り分ける。
(4)(1)で分割された各領域毎に、α、β、γ…の
うちで最も接続PP数の多いグループを選び、そのグル
ープに属する接続PPの結線ベクトルの総和ベクトルの
角度φを計算する。
うちで最も接続PP数の多いグループを選び、そのグル
ープに属する接続PPの結線ベクトルの総和ベクトルの
角度φを計算する。
(5)(1)で分割された各領域毎に、(4)で計算し
た角度φの配線格子を設定する。
た角度φの配線格子を設定する。
(6)(5)で設定された配線格子を用いて配線処理を
行う。
行う。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の実行フローチャートである。
処理1・・・配線領域を任意の複数個の領域A(1)・
・・、A(n)に分割する。第2図にその例を示す。
・・、A(n)に分割する。第2図にその例を示す。
処理2・・・XY座標平面を接続PPの配線角度に応じ
て振り分ける複数の領域α、β、γを設定する。第3図
にその例を示す。
て振り分ける複数の領域α、β、γを設定する。第3図
にその例を示す。
処理3・・・iを1にする。
処理4・・・処理1で分割した配線領域A(i)の中に
含まれる接続PPの結線ベクトルの角度を計算し、α(
i)、β(i)、γ(i)、ξ(i)のグループへ振り
分ける。例えば、第5図の様な接続PP、ABのXY座
標軸に対する角度をηとすると、ηが第3図のどのグル
ープに属するかによりα(i)、β(i)。
含まれる接続PPの結線ベクトルの角度を計算し、α(
i)、β(i)、γ(i)、ξ(i)のグループへ振り
分ける。例えば、第5図の様な接続PP、ABのXY座
標軸に対する角度をηとすると、ηが第3図のどのグル
ープに属するかによりα(i)、β(i)。
γ(i)、ξ(i)のいずれかへ振り分けられる。
処理5・・・α(i)、β(i)、γ(i)、ξ(i)
で振り分けられた接続PP数が最も多いものを選び、こ
れを0(i) とする。
で振り分けられた接続PP数が最も多いものを選び、こ
れを0(i) とする。
処理6・・・0(i)に振り分けた接続PPの結線ベク
トルの総和ベクトルの角度をφとする。
トルの総和ベクトルの角度をφとする。
処理7・・・領域A (i)に角度φの配線格子を設定
する。
する。
処理8・・・iを+1インクリメントする。
処理9・・・i≦nなら処理4へ戻る。innなら処理
10へ進む。
10へ進む。
処理10・・・設定された配線格子上で配線処理する。
例えば第2図のA (1)、A (2)、A (3)の
各領域で、それぞれα、β、γのグループに属する角度
の結線ベクトルを持つ接続PPが最も多かったとすると
、それぞれの領域に接続PPの結線ベクトルの総和ベク
トルの角度φの線分をベア層の1層分の配線格子とし、
もう−層は別の任意の角度の線分を配線格子とする様に
設定される。第4図は配線領域をA (1)、A (2
)、A (3)の各領域に分割し、それぞれに上述の方
法でベア層の1層分の配線格子を設定した例を示してい
る。
各領域で、それぞれα、β、γのグループに属する角度
の結線ベクトルを持つ接続PPが最も多かったとすると
、それぞれの領域に接続PPの結線ベクトルの総和ベク
トルの角度φの線分をベア層の1層分の配線格子とし、
もう−層は別の任意の角度の線分を配線格子とする様に
設定される。第4図は配線領域をA (1)、A (2
)、A (3)の各領域に分割し、それぞれに上述の方
法でベア層の1層分の配線格子を設定した例を示してい
る。
以上説明したように本発明は、配線領域を任意分割した
領域毎に、領域内の各接続PPの接続関係に応じて最適
な配線格子を設定して配線するので、より短い配線で高
密度に配線できる効果がある。
領域毎に、領域内の各接続PPの接続関係に応じて最適
な配線格子を設定して配線するので、より短い配線で高
密度に配線できる効果がある。
第1図は本発明の実行フローチャート、第2図は配線領
域を任意の領域に分割した例を示す図、第3図はXY平
面座標を原点を通る直線で分割し、各領域をα、β、γ
、ξとした例を示す図、第4図は本処理で設定された配
線ベア層中の1層分を配線格子の例を示す図、第5図は
接続PPの1丁のXY座標軸に対する角度ηを示す図で
ある。
域を任意の領域に分割した例を示す図、第3図はXY平
面座標を原点を通る直線で分割し、各領域をα、β、γ
、ξとした例を示す図、第4図は本処理で設定された配
線ベア層中の1層分を配線格子の例を示す図、第5図は
接続PPの1丁のXY座標軸に対する角度ηを示す図で
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 プリント基板(PWB)またはセラミック基板の配線に
おいて、 (1)配線領域を任意の複数個の領域に分割する。 (2)XY座標平面を接続ピンペア(PP)の配線角度
に応じて振り分ける複数の領域α、β、γ…を設定する
。 (3)(1)で分割された各領域内に含まれる接続ピン
ペア(PP)の結線ベクトルの角度を計算し、前記領域
α、β、γ…のグループへ振り分ける。 (4)(1)で分割された各領域毎に、α、β、γ…の
うちで最も接続PP数の多いグループを選び、そのグル
ープに属する接続PPの結線ベクトルの総和ベクトルの
角度φを計算する。 (5)(1)で分割された各領域毎に、(4)で計算し
た角度φの配線格子を設定する。 (6)(5)で設定された配線格子を用いて配線処理を
行う。 以上の処理を含むことを特徴とする配線処理方式。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63281888A JPH02127772A (ja) | 1988-11-07 | 1988-11-07 | 配線処理方式 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63281888A JPH02127772A (ja) | 1988-11-07 | 1988-11-07 | 配線処理方式 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02127772A true JPH02127772A (ja) | 1990-05-16 |
Family
ID=17645365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63281888A Pending JPH02127772A (ja) | 1988-11-07 | 1988-11-07 | 配線処理方式 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02127772A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0552935A2 (en) * | 1992-01-23 | 1993-07-28 | Hitachi, Ltd. | A method of determining routes for a plurality of wiring connections and a circuit board produced by such a method |
-
1988
- 1988-11-07 JP JP63281888A patent/JPH02127772A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0552935A2 (en) * | 1992-01-23 | 1993-07-28 | Hitachi, Ltd. | A method of determining routes for a plurality of wiring connections and a circuit board produced by such a method |
EP0552935A3 (ja) * | 1992-01-23 | 1995-04-05 | Hitachi Ltd | |
US5657242A (en) * | 1992-01-23 | 1997-08-12 | Hitachi, Ltd. | Method of determining routes for a plurality of wiring connections and a circuit board produced by such a method |
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