JPH02124845A - 含フッ素カルボン酸類及びその製造方法 - Google Patents

含フッ素カルボン酸類及びその製造方法

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JPH02124845A
JPH02124845A JP1756089A JP1756089A JPH02124845A JP H02124845 A JPH02124845 A JP H02124845A JP 1756089 A JP1756089 A JP 1756089A JP 1756089 A JP1756089 A JP 1756089A JP H02124845 A JPH02124845 A JP H02124845A
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JP
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fluorine
formula
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acid
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JP1756089A
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Takeshi Nakai
武 中井
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Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の村21全−一 本発明は、医薬、農薬、液晶化合物等の機能性材料等の
原料として有用な含フッ素カルボン酸類を得る方法に関
する。
tLLΔ戻庸 一般に、含フッ素化合物には特異な物性や生理活性を有
するものが多く、その合成法についても多々研究されて
いる〔例えば、化学総説、[新しいフッ素化学」、日本
化学全編、学会出版センター発行(1,980) ] 
、 Lかしながら、次の一般式〔式中、R1はアルキル
基を表わし、Xは水素原子またはフッ素原子で、かつX
がフッ素原子のときR2はアルキル基またはフルオロア
ルキル基を表わし、Xが水素原子のときR2はフルオロ
アルキル基を表わす〕で示される化合物は未だ知られて
いない。
発明が解決しようとする 本発明は上記現状に鑑みなされたもので、本発明の目的
は、医薬、農薬、液晶化合物等の機能性材料等の原料と
して有用な新規な含フッ素カルボン酸類、特にはその光
学活性体及びこれらの化合物の製造方法を提供すること
にある。
を解 するための手段 本発明は、一般式(I) R1−CH=CH−CH,−C−COOH(I)〔式中
、R1はアルキル基を表わし、Xは水素原子またはフッ
素原子で、かっXがフッ素原子のときR2はアルキル基
またはフルオロアルキル基を表わし、Xが水素原子のと
きR2はフルオロアルキル基を表わす〕で示される新規
な含フッ素カルボン酸類、特にほこの光学活性体、及び
一般式(n) 〔式中、R1はアルキル基を表わし、Xは水素原子また
はフッ素原子で、かつXがフッ素原子のときR2はアル
キル基またはフルオロアルキル基を表わし、Xが水素原
子のときR2はフルオロアルキル基を表わす〕で示され
る含フッ素カルボン酸アリルエステル類、特にはR1が
結合した炭素原子が絶対配置でRまたはSのいずれかの
化合物を、一般式(Ill) R’R’R’N             (m)〔式
中、R”、R’、R5はそれぞれ同一または異なるアル
キル基を表わし、互いに結合して環を形成することもあ
る〕で示される三級アミン類および一般式(IV) R’R7R”S 1−0−5O,CF、     (r
V)〔式中、R6、R7、R’はそれぞれ同一または異
なるアルキル基またはアリール基を表わす〕で示される
シリルトリフラート類と反応させることから構成される
上記式N)で示される含フッ素カルボン酸類の製造方法
である。
本発明の上記一般式(I)で示される化合物は、2−(
トリフルオロメチル)−4−ヘキセン酸、2−フルオロ
−2−(トリフルオロメチル)−4−ヘキセンυ、2−
フルオロ−2−メチル−4−ヘキセン酸、2−(トリフ
ルオロメチル)−4−ヘプテン酸、2−フルオロ−2−
(トリフルオロメチル)−4−ヘプテン酸、2−フルオ
ロ−2−メチル−4−ヘプテン酸、2−(トリフルオロ
メチル)−4−オクテン酸、2−フルオロ−2−(トリ
フルオロメチル)−4−オクテン酸、2−フルオロ−2
−メチル−4−オクテン酸、2−(トリフルオロメチル
)−4−ノネン酸、2−フルオロ−2−(トリフルオロ
メチル)−4−ノネン酸、2−フルオロ−2−メチル−
4−ノネン酸、2−(トリフルオロメチル)−4−デセ
ン酸、2−フルオロ−2−(トリフルオロメチル)−4
−デセン酸、2−フルオロ−2−メチル−4−デセン酸
、2−(トリフルオロメチル)−4−ウンデセン酸、2
−フルオロ−2−(トリフルオロメチル)−4−ウンデ
セン酸、2−フルオロ−2−メチル−4−ウンデセン酸
、2−(トリフルオロメチル)−4−ドデセン酸、2−
フルオロ−2−(トリフルオロメチル)−4−ドデセン
酸、2−フルオロ−2−メチル−4−ドデセン酸等を例
示することができる。尚、上記一般式(I)中、R1で
表わしたアルキル基は、特には制限はないが、実用上か
ら炭素数1〜7とすることが好ましい。
上記一般式(I)の化合物の代表的なものについて5次
に理化学的性質を述べる。
(−−2−)−リフルオロメチル−4−ヘキセン■沸点
: 100−120℃15mmHg (クーゲロール)
■1HNMR(CDCI、) : 1.70(3H,d
、J=6.0H2)、2.50−2.75(2H,a)
、3.00−3.50(IH,m)、 5.25−5.
95(2H,+++)、11.15(OH,s)■”F
 NMR(CDCI、、外部標準CF、 Co□H)ニ
ー9.7(3F、d、JH,=7.5Hz)■13CN
MR(CDCI、) : 17.6(C6)、29.4
 (C3)、50.9(C2,q、JcF=27)1z
)、124.4(CF3.(1,JoP=280Hz)
、124.6(C5)、130.0(C4)、  17
3.3(CI)■ (a )o  : −3,44° 
(cl、0.CHCla)■沸点:150℃/25mm
)ig(クーゲロール)■ 18 NMR(CDCI、
) : 1.70(3H,d、J=6.0Hz)、2.
65−3.25(2H,m)、5.25−.6.05(
2H,m)、11.95(OH,s)■19F NMR
(CDCI、、外部標準CF3Co□H)ニー0.6(
3F、d、Jp=6.2Hz)、 95.3(IF、m
)■ ”CNMR(CDCI、) : 17.9(C6
)、34.9(C3,d。
J14F:21H2)、93.8(C2,dq、Jcp
 :2021(z、31Hz)、119.5(C4,d
、JcF=4Hz)、121−7(CF3−dq、Jc
F=28Hz、286Hz)、133.8(C5)、1
70.3(CI、d、JI:P=26Hz) ■ (α)n  : +4.74° (C1,0−CH
CL3)2−フルオロ−2−トリフルオロメチル−4−
デ皇λl ”F NMR(CDCI、、外部標準CF、 CO□H
)ニー0.8(3F、d、Jpp =6.5Hz)、9
6.0(IF、s)上記一般式(I)で示される化合物
は、上記−般式(■)で示される含フッ素カルボン酸ア
リルエステル類を出発原料として合成することができテ
トラフルオロプロピオン酸等の含フッ素カルボン酸の、
3−ブテン−2−イル、1−ペンテン−3−イル、1−
ヘキセン−3−イル、1−オクテン−3−イル、1−デ
セン−3−イル等のエステルを用いることができる。
すなわち、上記一般式(II)で示される出発原料を、
前記一般式(I[I)で示される三級アミン類及び一般
式(mV)で示されるシリルトリフラート類と反応させ
ることにより得られるが、この三級アミン類としては、
トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシ
ルメチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−エ
チルピペリジン等を用いることができる。また、上記一
般式(TV)で示されるシリルトリフラート類としては
、トリメチルシリルトリフラート、t−ブチルジメチル
シリルトリフラート、トリエチルシリルトリフラート、
ジメチルテキシルシリルトリフラート、メチルジフェニ
ルシリルトリフラート等を用いることができる。
上記反応は、上記一般式(■)、一般式(III)及び
一般式(IV)で表わされる化合物を、エーテル系また
はハロゲン系の溶媒中に入れ、撹拌することにより極め
て容易に起る。この反応により得られる反応混合物に希
酸またはアルカリ水溶液を加え。
抽出、乾燥、濃縮等の通常の操作を行うことにより、一
般式(I)で示される含フッ素カルボン酸類を得ること
ができる。
尚、上記反応においては、三級アミン類およびシリルト
リフラート類は、フリルエステル類に対して約1.1〜
5当量用いることが好ましい。また、反応温度は約0〜
30℃の範囲で適宜で選択すると良い0反応溶媒として
は、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンなどのエーテ
ル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロ
エタンなどのハロゲン系溶媒を用いると好ましい。
この場合、一般式(1)で示される含フッ素カルボン酸
類の光学活性体を得るためには、一般式(II)で示さ
れる化合物中のR1が結合している炭素原子の絶対配置
をあらかじめ、RかSのいずれかに整えておけば良い。
すなわち、比較的容易に入手できる光学活性アリルアル
コール類を一般的なエステル化手法にしたがって含フッ
素カルボン酸のエステルとすれば良く、この場合、この
含フッ素カルボン酸は、光学活性体である必要はなく、
ラセミ体でよい。
釡皇何上 (S)−(−)−3−ブテン−2−オール(98%ee
) 1 、45g、ピリジン2.37gをジクロロメタ
ン20alに溶解させ、水冷下で3.3.3−トリフル
オロプロピオニル:クロリド3.20gを滴下した。室
温で、30分間撹拌した後、水を加え、エーテルで抽出
した。この抽出液を1規定の塩酸、5%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥、減圧下に溶媒を留去した後、蒸留して、次に記
載した理化学的性質を有する3、3.3−トリフルオロ
プロピオン酸=3−ブテン−2−イル2.6ogを得た
■沸点ニア6−78℃7100mmHg■1HNMR(
CDC13) : 1.35(3H,d、J=6.2H
z)、 3.25(28v q + JHI =9 、
5Hz)、5.15−5.70(3H,m)、5.94
(IH,ddd、J=17.3Hz、 10.31(z
、5.9Hz)■19F NMR(CD(1,13,外
部標準CF、Co2H) ニー14.5(3F、t、J
HF”9.4H2)叉庭籠よ 参考例1で得た3、3.3−)−リフルオロプロピオン
酸:3−ブテン−2−イル0.33gをジクロロメタン
2mlに溶解させ、窒素雰囲気下で氷冷し、これにトリ
メチルシリルトリフラート0.53gとトリエチルアミ
ン0.24gを加えた。室温で36時間撹拌した後、1
規定の塩酸中に注ぎ、ジクロロメタンで抽出した。この
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留
去した後、蒸留して、前述した理化学的性質を有する(
−)−2−(トリフルオロメチル)−4−ヘキセン酸0
.27gを得た。
この化合物について13CNMRを用いて幾何配置を測
定したところ100%Eであった。
劃(叢又 (s)−(−)−3−ブテン−2−オール(98%ee
) 0 、72g、ピリジン0.95gをジクロロメタ
ン20m1に溶解させ、水冷下で2.3,3.3−テト
ラフルオロプロピオニルコクロリド1.65gを滴下し
た。
室温で、30分間撹拌した後、水を加え、エーテルで抽
出した。この抽出液を1規定の塩酸、5%炭酸水素ナト
リウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥、減圧下に溶媒を留去した後、蒸留して、次に
記載した理化学的性質を有する2、3,3.3−テトラ
フルオロプロピオン酸=3−ブテン−2−イル1.50
gを得た。
■沸点:65℃/60mmHg ■’HNMR(CDCl2) : 1.41(3H,d
、J=6.0Hz)、5.25CLHedq、JHF=
68.4Hz、6.5Hz)、5.20−6.15(4
H,m)■”F NMR(CDC1,、、外部標準CF
、Co□H)ニー2.0(3F、dd、JFF=10.
3)1z、4 =6.4Hz)、123(IF、dq*
4 ”38.9Hz、% =10.3Hz)スJ12!
1 参考例2で得た2、3,3.3−テトラフルオロプロピ
オン酸=3−ブテン−2−イル0.1 sgをジクロロ
メタンll1llに溶解させ、窒素雰囲気下で氷冷し5
これにトリメチルシリルトリフラート0.29gとトリ
エチルアミン0.21gを加えた。室温で36時間撹拌
した後、5%の炭酸カリウム水溶液中に注ぎ、水層をエ
ーテルで洗浄し、次いでこの水層を濃塩酸で酸性として
、ジクロロメタンで抽出した。この抽出液を硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した後、蒸留して
、前述した理化学的性質を有する(+)−2−フルオロ
−2−(トリフルオロメチル)−4−ヘキセン酸0.1
4gを得た。
この化合物について、13CNMRを用いて幾何配置を
測定したところ100%Eであった。
次に、このC+)−2−フルオロ−2−(トリフルオロ
メチル)−4−ヘキセン酸78mgとピリジン0,03
閣lをアセトニトリル1膳1に溶解させ、0℃でN、N
’−ジスクシニミジル=カルボナート0.10gを加え
た。室温で2時間撹拌した後に(S)−(−)−α−フ
ェニルエチルアミン0.06m1を加え、さらに室温で
2時間撹拌した。得られた反応混合物をエーテルで希釈
し、1規定の塩酸、5%炭酸水素ナトリウム水溶液及び
飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下に溶媒を留去した。得られた生成物を液体クロマトグ
ラフィーで分析した結果から、上記(+)−2−フルオ
ロ−2−(トリフルオロメチル)−4−ヘキセン酸は、
光学純度92%e6であることが分かった。
見亙桝主 (R)−(−、)−1−オクテン−3−オール(92%
ee) 28 g(0、22mol)、ピリジン21m
1(0,26mol)をジクロロメタン200m1に溶
解させ、水冷下で2.3,3.3−テトラフルオロプロ
ピオニル:クロリド39 、5g(0、24mol)を
滴下した。室温で、1時間撹拌した後、水を加え、エー
テルで抽出した。この抽出液を1規定の塩酸、5%炭酸
水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥、減圧下に溶媒を留去した後。
65℃/60mmt1gで蒸留して、2,3,3.3−
テトラフルオロプロピオン酸=1−オクテン−3−イル
42゜3g(収率76%)を得た。
1庭■1 参考例3で得た2、3,3.3−テトラフルオロプロピ
オン酸=1−オクテン−3−イル42g(0,16II
lo1)をジクロロメタン150耐に溶解させ、窒素雰
囲気下で氷冷し、これにトリメチルシリルトリフラート
40 ml(0、2m、ol)とトリエチルアミン29
m1(0,2mol)を加えた。室温で120時間撹拌
した後、ヘキサンで希釈し、7.5%の水酸化ナトリウ
ム水溶液で抽出した。この抽出した水溜を濃塩酸で酸性
として、ジクロロメタンで再抽出し、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下に溶媒を留去して、前述した理化
学的性質を有する(+)−2−フルオロ−2−(トリフ
ルオロメチル)−4−デセン酸37g(収率88%)を
得た。
1瀝Iυ弧果 本発明の化合物は、医薬、農薬、液晶化合物等の機能性
材料等の原料として有用なものであり、またこの化合物
を製造する本発明の方法は、温和な条件下で、しかも簡
便に行い得るものであり。
又、特には、入手容易な光学活性アリルアルコールを原
料として用いることにより1本発明の化合物の光学活性
体を極めて容易に得ることができるという格別の効果を
奏するものである。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1はアルキル基を表わし、Xは水素原子ま
    たはフッ素原子で、かつXがフッ素原子のときR^2は
    アルキル基またはフルオロアルキル基を表わし、Xが水
    素原子のときR^2はフルオロアルキル基を表わす〕で
    示される新規な含フッ素カルボン酸類。
  2. (2)請求項(1)において、一般式( I )で示され
    る化合物が光学活性体であることを特徴とする新規な含
    フッ素カルボン酸類。
  3. (3)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R^1はアルキル基を表わし、Xは水素原子ま
    たはフッ素原子で、かつXがフッ素原子のときR^2は
    アルキル基またはフルオロアルキル基を表わし、Xが水
    素原子のときR^2はフルオロアルキル基を表わす〕で
    示される含フッ素カルボン酸アリルエステル類を、 一般式(III) R^3R^4R^5N(III) 〔式中、R^3、R^4、R^5はそれぞれ同一または
    異なるアルキル基を表わし、互いに結合して環を形成す
    ることもある〕で示される三級アミン類および 一般式(IV) R^6R^7R^8Si−O−SO_2CF_3(IV)
    〔式中、R^6、R^7、R^8はそれぞれ同一または
    異なるアルキル基またはアリール基を表わす〕で示され
    るシリルトリフラード類と反応させることを特徴とする
    請求項(1)に記載した含フッ素カルボン酸類の製造方
    法。
  4. (4)請求項(3)において、一般式(II)で示した化
    合物のR^1が結合した炭素原子が、絶対配置でRまた
    はSのいずれかであることを特徴とする含フッ素カルボ
    ン酸類の製造方法。
JP1756089A 1988-07-08 1989-01-30 含フッ素カルボン酸類及びその製造方法 Pending JPH02124845A (ja)

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DE89306969T DE68910201T2 (de) 1988-07-08 1989-07-10 Verfahren zur Herstellung von fluorhaltigen Verbindungen.
EP89306969A EP0350334B1 (en) 1988-07-08 1989-07-10 A process for producing fluorine-containing compounds
US07/636,002 US5126482A (en) 1988-07-08 1991-01-03 Process for producing fluorine-containing carboxylic acids

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