JPH02123542A - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
光磁気ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH02123542A JPH02123542A JP27765688A JP27765688A JPH02123542A JP H02123542 A JPH02123542 A JP H02123542A JP 27765688 A JP27765688 A JP 27765688A JP 27765688 A JP27765688 A JP 27765688A JP H02123542 A JPH02123542 A JP H02123542A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- recording
- film
- optical disk
- transition metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 10
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
光磁気ディスク及びその製造方法に関し。
続出安定性がよく、記録感度の高い光磁気ディスクを得
ることを目的とし。
ることを目的とし。
厚さ方向に柱状構造化された希土類（ＲＥ）−遷移金属
（ＴＭ）アモルファス合金膜を記録膜とするように構成
する。或いは記録膜をスパッタ法により酸素濃度が８０
００〜１５０００ ｐｐｍの希土類−遷移金属アモルフ
ァス合金のターゲットを用いて成膜するように構成する
。
（ＴＭ）アモルファス合金膜を記録膜とするように構成
する。或いは記録膜をスパッタ法により酸素濃度が８０
００〜１５０００ ｐｐｍの希土類−遷移金属アモルフ
ァス合金のターゲットを用いて成膜するように構成する
。
本発明は光磁気ディスク及びその製造方法に関するもの
である。
である。
光磁気ディスクは大容量の書き換え可能な記録媒体であ
り、コンピュータ等の外部記憶装置として用いられる。
り、コンピュータ等の外部記憶装置として用いられる。
光磁気ディスクは磁気ディスクのようにオーバライドが
できないため、データの転送速度が遅い。
できないため、データの転送速度が遅い。
現状では光磁気ディスクの高速転送の方法としてはディ
スクを高速回転させることが考えられている。ところが
、光磁気ディスクの記録は熱磁気記録であるため、ディ
スクの高速回転に対して記録感度を上げなければならな
い。
スクを高速回転させることが考えられている。ところが
、光磁気ディスクの記録は熱磁気記録であるため、ディ
スクの高速回転に対して記録感度を上げなければならな
い。
一般に記録感度を上げるためには、記録膜の磁気特性の
キュリー温度を下げる方法がある。しかし、単純にキュ
リー温度を下げると、続出を連続して行っている際、記
録した情報を消してしまうことがある。
キュリー温度を下げる方法がある。しかし、単純にキュ
リー温度を下げると、続出を連続して行っている際、記
録した情報を消してしまうことがある。
従って、単純にキュリー温度を下げる方法でなく、続出
安定性のよい方法が必要になる。
安定性のよい方法が必要になる。
本発明は、続出安定性が問題なく、記録感度の高い光磁
気ディスクを得ることを目的とする。
気ディスクを得ることを目的とする。
（課題を解決するための手段〕
上記課題の解決は、厚さ方向に柱状構造化された希土類
−遷移金属アモルファス合金膜を記録膜とする光磁気デ
ィスク、或いは記録膜をスパッタ法により酸素濃度が５
ｏｏｏ〜１５０００ ｐｐｅｉの希土類−遷移金属アモ
ルファス合金のターゲットを用いて成膜する光磁気ディ
スクの製造方法により達成される。
−遷移金属アモルファス合金膜を記録膜とする光磁気デ
ィスク、或いは記録膜をスパッタ法により酸素濃度が５
ｏｏｏ〜１５０００ ｐｐｅｉの希土類−遷移金属アモ
ルファス合金のターゲットを用いて成膜する光磁気ディ
スクの製造方法により達成される。
第１図は柱状構造化した記録膜のＳＥＭ （走査型電子
顕微鏡）写真を模写した模式断面図である。
顕微鏡）写真を模写した模式断面図である。
図において、基板１上に記録膜２が柱状構造に形成され
た状態が示される。
た状態が示される。
（１）本発明は、記録膜を柱状化することにより。
記録膜の密度が減少し、また熱伝導率も低下するため媒
体が温まり易くなり、記録感度を向上できることを利用
したものである。
体が温まり易くなり、記録感度を向上できることを利用
したものである。
（２）柱状構造化するには９例えばスパッタ成膜におい
て、スパッタガスとして用いるＡｒのガス圧を高くする
か、或いはＡｒガスの他に酸素ガスを極微量混合したガ
スを用いてスパッタする方法があるが１本発明者は酸素
濃度を増やした合金ターゲットを用いてスパッタしても
同等の効果が安定して得られ、且つ柱状構造が得られる
酸素濃度の範囲は８０００〜１５０００ ｐｐｍ（重量
比）であることをＳＥＭ観測により明らかにした。
て、スパッタガスとして用いるＡｒのガス圧を高くする
か、或いはＡｒガスの他に酸素ガスを極微量混合したガ
スを用いてスパッタする方法があるが１本発明者は酸素
濃度を増やした合金ターゲットを用いてスパッタしても
同等の効果が安定して得られ、且つ柱状構造が得られる
酸素濃度の範囲は８０００〜１５０００ ｐｐｍ（重量
比）であることをＳＥＭ観測により明らかにした。
（実施例〕
（１）実施例１；
第２図は実施例による光磁気ディスクの断面図である。
光磁気ディスクの媒体はスパッタ装置により作製した。
基板１には５インチのガラス基板１１上に。
レーザビーム案内用のグループ１３を形成したフォトポ
リマ１２を被着したものを用いた。
リマ１２を被着したものを用いた。
記録膜２には厚さ１００ ｎｍのＴｂＦｅＣ。
（Ｔｂｚ＋ＦｅｔｉＣｏｓ） 膜を用い、保ｌ！膜３．
４には厚さ８０ ｎｍのＳｉＮ膜を用いた。
４には厚さ８０ ｎｍのＳｉＮ膜を用いた。
記録膜を柱状構造に成膜するためのスパッタ条件は次表
のとおりである。
のとおりである。
（ａ） Ａｒ圧を上げる場合
到達真空度（Ｐａ） ｌ Ｘ １０− ’Ａｒガス
圧 （Ｐａ） １．０ 放電電力 （ｋＷ） １．０ または。
圧 （Ｐａ） １．０ 放電電力 （ｋＷ） １．０ または。
ら） Ａｒに極微量酸素を混合する場合到達真空度（
Ｐａ） Ｉ Ｘ １０− ’Ａｒガス圧 （Ｐａ）
０．２ 放電電力 （ｋＷ） １．０ ここで、スパッタのターゲットは６インチφΦものを用
い、放電電力は周波数１３．５６ ＭＨｚのｒｆ電源よ
り供給した。
Ｐａ） Ｉ Ｘ １０− ’Ａｒガス圧 （Ｐａ）
０．２ 放電電力 （ｋＷ） １．０ ここで、スパッタのターゲットは６インチφΦものを用
い、放電電力は周波数１３．５６ ＭＨｚのｒｆ電源よ
り供給した。
比較のために従来のスパッタ条件
到達真空度（Ｐａ） Ｉ Ｘ １０−’Ａｒガス圧
（Ｐａ） ０．２ 放電電力 （ｋＷ） １．０ でも光磁気ディスクを作製した。
（Ｐａ） ０．２ 放電電力 （ｋＷ） １．０ でも光磁気ディスクを作製した。
（２）実施例２；
スパッタのターゲットは、 ＲＩＢ−ＴＭアモルファス
合金の１つであるＴｂＦｅＣｏ合金を使用した。この合
金ターゲット中の酸素濃度は普通２５００ ｐｐｍ程度
であるが、実施例では１００００ ｐｐｍのものを使用
して、マグネトロンスパッタ法により記録膜を成膜した
。
合金の１つであるＴｂＦｅＣｏ合金を使用した。この合
金ターゲット中の酸素濃度は普通２５００ ｐｐｍ程度
であるが、実施例では１００００ ｐｐｍのものを使用
して、マグネトロンスパッタ法により記録膜を成膜した
。
高濃度酸素のターゲットはＴｂＦｅＣｏ合金を酸素中で
焼結して作製した。
焼結して作製した。
この膜構造は第１図のような柱状構造になっている。一
方９通常の酸素濃度のターゲットでは柱状構造になって
いない。
方９通常の酸素濃度のターゲットでは柱状構造になって
いない。
上記の諸実施例においては、記録膜またはターゲットに
ＴｂＦｅＣｏ合金を使用したが、希土類金属としてはＴ
ｂ、 Ｇｄ、 Ｄｙ、 Ｈｏの単体またはその混合であ
ればよく、遷移金属としてはＦｅ、 Ｃｏまたはその混
合が適用できる。
ＴｂＦｅＣｏ合金を使用したが、希土類金属としてはＴ
ｂ、 Ｇｄ、 Ｄｙ、 Ｈｏの単体またはその混合であ
ればよく、遷移金属としてはＦｅ、 Ｃｏまたはその混
合が適用できる。
上記の諸実施例の平均及び前記比較例の記録感度を次表
に示す。
に示す。
実施例の感度（ｍＷ） ３．０
比較例の感度（ｎＷ） ４．５
コニで、媒体速度は５ ｖａ／ｓとし、記録感度はスペ
クトルアナライザで再生波形の二次高調波が最小になる
レーザパワーとした。
クトルアナライザで再生波形の二次高調波が最小になる
レーザパワーとした。
以上説明したように本発明によれば、記録パワーを約３
５％低下させることができ、記録感度が大幅に向上した
光磁気ディスク及びその製造方法が得られる。
５％低下させることができ、記録感度が大幅に向上した
光磁気ディスク及びその製造方法が得られる。
第１図は柱状構造化した記録膜のＳＥＭ （走査型電子
顕微鏡）写真を模写した模式断面図。 第２図は実施例による光磁気ディスクの断面図である。 図において。 １は基板。 １１はガラス基板 １２はフォトポリマ。 １３はグループ。 ２は記録膜でＴｂＦｅＣｏ膜。 ３．４は保護膜でＳｉＮ膜
顕微鏡）写真を模写した模式断面図。 第２図は実施例による光磁気ディスクの断面図である。 図において。 １は基板。 １１はガラス基板 １２はフォトポリマ。 １３はグループ。 ２は記録膜でＴｂＦｅＣｏ膜。 ３．４は保護膜でＳｉＮ膜
Claims (2)
- （１）厚さ方向に柱状構造化された希土類−遷移金属ア
モルファス合金膜を記録膜とすることを特徴とする光磁
気ディスク。 - （２）請求項１の記録膜をスパッタ法により、酸素濃度
が８０００〜１５０００ｐｐｍの希土類−遷移金属アモ
ルファス合金のターゲットを用いて成膜することを特徴
とする光磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63277656A JP2748448B2 (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63277656A JP2748448B2 (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02123542A true JPH02123542A (ja) | 1990-05-11 |
| JP2748448B2 JP2748448B2 (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=17586467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63277656A Expired - Lifetime JP2748448B2 (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2748448B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03171450A (ja) * | 1989-11-29 | 1991-07-24 | Kao Corp | 光記録媒体 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60140706A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-25 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 垂直磁気記録用磁性媒体 |
| JPS63316340A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-23 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPS63316342A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-23 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPH01118240A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Pioneer Electron Corp | 光磁気記録媒体の製造方法 |
-
1988
- 1988-11-02 JP JP63277656A patent/JP2748448B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60140706A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-25 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 垂直磁気記録用磁性媒体 |
| JPS63316340A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-23 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPS63316342A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-23 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPH01118240A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Pioneer Electron Corp | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03171450A (ja) * | 1989-11-29 | 1991-07-24 | Kao Corp | 光記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2748448B2 (ja) | 1998-05-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61253655A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0582723B2 (ja) | ||
| JPH02123542A (ja) | 光磁気ディスクの製造方法 | |
| US5667861A (en) | Magneto-optical disk | |
| JPS63107008A (ja) | 高カ−回転角を有する薄膜及びその製造方法 | |
| JPS60107751A (ja) | 光熱磁気記録媒体 | |
| JPH0232690B2 (ja) | ||
| JPS60246041A (ja) | 光熱磁気記録媒体 | |
| JP2539397B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0555941B2 (ja) | ||
| JPS60101742A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS62241122A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0513323B2 (ja) | ||
| JPS60173746A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS62209750A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS63100636A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2763913B2 (ja) | 磁性膜及びその製造方法 | |
| JPS6257145A (ja) | 光熱磁気記録媒体 | |
| JPS60173745A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH04274039A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60101740A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS6148151A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS6174141A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH08315435A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH06131713A (ja) | 光磁気ディスクおよびその製造方法 |