JPH02119255A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH02119255A JPH02119255A JP63273757A JP27375788A JPH02119255A JP H02119255 A JPH02119255 A JP H02119255A JP 63273757 A JP63273757 A JP 63273757A JP 27375788 A JP27375788 A JP 27375788A JP H02119255 A JPH02119255 A JP H02119255A
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- H01L2924/181—Encapsulation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、樹脂封止型半導体素子装置の構造、特に半
導体素子の保持構造に関する。
導体素子の保持構造に関する。
第3図は従来の半導体装置を示す側面断面図、第4図は
第3図の半導体装置に用いられるリードフレームの平面
図を示す。
第3図の半導体装置に用いられるリードフレームの平面
図を示す。
第3図において、1は集積回路等が形成された半導体素
子、30は前記半導体素子1が搭載されるアイランド、
2はリードであり、インナーリード3とアウターリード
4から構成されている。そして、このインナーリード3
は半導体素子1上の電極8との間で金属細線5により電
気的接続がなされている。4は前記インナーリード3に
連なるアウターリードであり、半導体封止樹脂6より外
部に露出して外部機器との間で電気的コンタクトをとる
。
子、30は前記半導体素子1が搭載されるアイランド、
2はリードであり、インナーリード3とアウターリード
4から構成されている。そして、このインナーリード3
は半導体素子1上の電極8との間で金属細線5により電
気的接続がなされている。4は前記インナーリード3に
連なるアウターリードであり、半導体封止樹脂6より外
部に露出して外部機器との間で電気的コンタクトをとる
。
6は半導体封止樹脂であり、半導体素子1等を外部環境
から保護している。7は前記半導体素子1とアイランド
30を固着する接着剤である。また第4図において、1
0はリードフレーム枠、31は前記アイランド30を固
定するための吊リードである。
から保護している。7は前記半導体素子1とアイランド
30を固着する接着剤である。また第4図において、1
0はリードフレーム枠、31は前記アイランド30を固
定するための吊リードである。
次に上記半導体装置の製造法について簡潔に説明する。
まず、第4図に示したアイランド30上に、半導体素子
1を接着剤7で固着す″る。その後半導体素子1上の電
極8とインナーリード3とを金属細線5により接続(ワ
イヤボンディング)する。
1を接着剤7で固着す″る。その後半導体素子1上の電
極8とインナーリード3とを金属細線5により接続(ワ
イヤボンディング)する。
そして、上記半導体素子1、インナーリード3等を半導
体封止樹脂により封止した後、素子単位ごとに分割する
。そして最終成形することにより第3図の半導体装置が
得られる。
体封止樹脂により封止した後、素子単位ごとに分割する
。そして最終成形することにより第3図の半導体装置が
得られる。
従来の半導体装置は以上のように構成されているので、
上記アイランド30が半導体素子1の下にあり、アイラ
ンド30の厚み分だけ樹脂封止型の半導体装置の総厚み
が厚くなる。また一般にリードフレーム材料と封止樹脂
材料との界面接着力は半導体素子と封止樹脂材料との界
面接着力よりも弱いので、内部あるいは外部から応力が
加わると、リードフレーム材料(特にアイランド2部分
)と封止樹脂6との接着界面からはく離が生じたり、あ
るいは封止樹脂部にクラックが生じたりして、信頼性面
での劣化を招く危険性があるなどの問題点があった。
上記アイランド30が半導体素子1の下にあり、アイラ
ンド30の厚み分だけ樹脂封止型の半導体装置の総厚み
が厚くなる。また一般にリードフレーム材料と封止樹脂
材料との界面接着力は半導体素子と封止樹脂材料との界
面接着力よりも弱いので、内部あるいは外部から応力が
加わると、リードフレーム材料(特にアイランド2部分
)と封止樹脂6との接着界面からはく離が生じたり、あ
るいは封止樹脂部にクラックが生じたりして、信頼性面
での劣化を招く危険性があるなどの問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、樹脂封止型半導体装置の総厚みを小さくでき
るとともに、半導体素子下部の封止樹脂界面はく離ある
いは封止樹脂内部クラックの発生を防止できる半導体装
置を得ることを目的とする。
たもので、樹脂封止型半導体装置の総厚みを小さくでき
るとともに、半導体素子下部の封止樹脂界面はく離ある
いは封止樹脂内部クラックの発生を防止できる半導体装
置を得ることを目的とする。
この発明に係る半導体装置は、半導体素子と、この半導
体素子に接続されるリードフレームを備え、樹脂により
封止した樹脂封止型半導体装置において、前記半導体素
子の側面の一部または全部を、リードフレームの一部か
らなる素子支持用アイランドにより保持したことを特徴
とする。
体素子に接続されるリードフレームを備え、樹脂により
封止した樹脂封止型半導体装置において、前記半導体素
子の側面の一部または全部を、リードフレームの一部か
らなる素子支持用アイランドにより保持したことを特徴
とする。
この発明における半導体装置は、半導体素子の側面がリ
ードフレームの一部である素子支持用アイランドにより
保持されているため、半導体素子を載置するアイランド
を必要とせずその分生導体装置全体の総厚みが低減され
る。
ードフレームの一部である素子支持用アイランドにより
保持されているため、半導体素子を載置するアイランド
を必要とせずその分生導体装置全体の総厚みが低減され
る。
また、半導体素子は、素子支持用アイランドによりその
側面が保持されている部分を除いて封止用樹脂と接して
いるので界面接着力が高い。
側面が保持されている部分を除いて封止用樹脂と接して
いるので界面接着力が高い。
第1図はこの発明の1実施例による半導体装置を示す側
面断面図、第2図は前記第1図の半導体装置に用いられ
るリードフレームの平面図を示す。
面断面図、第2図は前記第1図の半導体装置に用いられ
るリードフレームの平面図を示す。
第1図において、1は集積回路等が形成された半導体素
子、2はリードであり、インナーリード3とアウターリ
ード4から構成されている。そして、このインナーリー
ド3は半導体素子1上の電極8と金属細線5により電気
的に接続されている。
子、2はリードであり、インナーリード3とアウターリ
ード4から構成されている。そして、このインナーリー
ド3は半導体素子1上の電極8と金属細線5により電気
的に接続されている。
また、アウターリード4は前記インナーリード3に連な
り、かつ半導体封止樹脂6より外部に露出して外部機器
との間で電気的コンタクトをとることとなる。6は半導
体封止樹脂であり、半導体素子1等を外部環境から保護
している。20は前記半導体素子1の側面全周を支持す
る素子支持用アイランドである。
り、かつ半導体封止樹脂6より外部に露出して外部機器
との間で電気的コンタクトをとることとなる。6は半導
体封止樹脂であり、半導体素子1等を外部環境から保護
している。20は前記半導体素子1の側面全周を支持す
る素子支持用アイランドである。
第2図において、IOはリードフレーム枠、21は前記
素子支持用アイランド20を固定するための吊リードで
ある。
素子支持用アイランド20を固定するための吊リードで
ある。
次に上記実施例の望ましい構成及び前記半導体素子1を
枠状の素子支持用アイランド20内に固定する工程につ
いて詳しく説明する。
枠状の素子支持用アイランド20内に固定する工程につ
いて詳しく説明する。
素子支持用アイランド20の枠の一辺の内径をIAIそ
れに挿入する半導体素子の一辺の長さをむ、とし、リー
ドフレーム材料の線膨張係数をα4、半導体素子のam
張係数をα、とする、そして前記アイランド20と半導
体素子1とをそれぞれ室温T6℃から温度T’Cまで昇
温しなとすると、1.4+ 、 jtlのそれぞれの
温度による伸びεAt ”(Tは、ε、、 = (T
−TK ) ・a4 ・ltuε(1) = (T
Tg )・α、・輸となる。
れに挿入する半導体素子の一辺の長さをむ、とし、リー
ドフレーム材料の線膨張係数をα4、半導体素子のam
張係数をα、とする、そして前記アイランド20と半導
体素子1とをそれぞれ室温T6℃から温度T’Cまで昇
温しなとすると、1.4+ 、 jtlのそれぞれの
温度による伸びεAt ”(Tは、ε、、 = (T
−TK ) ・a4 ・ltuε(1) = (T
Tg )・α、・輸となる。
従って、室温T7℃においてl、、 <7.、 、また
温度上昇後のT”Cにおいてl、、、 (−ε、、>
Irr +ε6となるようにす、α7,1,1.ae
、及びTを適宜設定した後、T’Cにおいて半導体素子
1を素子支持用アイランド20の枠内に挿入し、室温T
え℃まで下降させると熱収縮により半導体素子1は素子
支持用アイランド20により機械的に保持される。
温度上昇後のT”Cにおいてl、、、 (−ε、、>
Irr +ε6となるようにす、α7,1,1.ae
、及びTを適宜設定した後、T’Cにおいて半導体素子
1を素子支持用アイランド20の枠内に挿入し、室温T
え℃まで下降させると熱収縮により半導体素子1は素子
支持用アイランド20により機械的に保持される。
例えば、前記半導体素子1の主材料をシリコン(α6、
= 4 X 10−’/’C)とし、その−辺の長さを
lO■と設定する。またリードフレーム材料(素子支持
用アイランド20の材料)を銅系(α= 17X 10
−’/”C)で、素子支持用アイランド20の枠の一辺
の内径を9.97閣として、室温T3を20℃、昇温後
の温度Tを420℃とすると、温度T’C(420℃)
において半導体素子1の一辺の長さが10.016m、
素子支持用アイランド20の一辺の内径が10.038
mとなり、上記要件を満足して最終的に半導体素子1は
素子支持用アイランド20の枠内に圧入されることとな
る。
= 4 X 10−’/’C)とし、その−辺の長さを
lO■と設定する。またリードフレーム材料(素子支持
用アイランド20の材料)を銅系(α= 17X 10
−’/”C)で、素子支持用アイランド20の枠の一辺
の内径を9.97閣として、室温T3を20℃、昇温後
の温度Tを420℃とすると、温度T’C(420℃)
において半導体素子1の一辺の長さが10.016m、
素子支持用アイランド20の一辺の内径が10.038
mとなり、上記要件を満足して最終的に半導体素子1は
素子支持用アイランド20の枠内に圧入されることとな
る。
なお上記実施例において、温度変化により半導体素子1
を素子支持用アイランド20の枠内に圧入したものを示
したが、接着剤等により固着支持してもよい。
を素子支持用アイランド20の枠内に圧入したものを示
したが、接着剤等により固着支持してもよい。
また、上記実施例において、素子支持用アイランド20
は半導体素子1をその側面全周にわたって支持する構造
のものを示したが、半導体素子1の側面の一部を支持す
る構造のものでよい。
は半導体素子1をその側面全周にわたって支持する構造
のものを示したが、半導体素子1の側面の一部を支持す
る構造のものでよい。
以上のように、この発明によれば、樹脂封止型半導体装
置において、半導体素子の側面を素子支持用アイランド
により保持する構成としたので、前記半導体装置全体の
総厚みを薄くすることがで芝、また外部及び内部応力が
生じても、封止樹脂内部のはく離や封止樹脂内部のクラ
ック発生が防止でき、信頼性の高い半導体装置を得るこ
とができる。
置において、半導体素子の側面を素子支持用アイランド
により保持する構成としたので、前記半導体装置全体の
総厚みを薄くすることがで芝、また外部及び内部応力が
生じても、封止樹脂内部のはく離や封止樹脂内部のクラ
ック発生が防止でき、信頼性の高い半導体装置を得るこ
とができる。
第1図はこの発明の一実施例による半導体装置を示す側
面断面図、第2図は第1図の半導体装置に用いられるリ
ードフレームの平面図、第3図は従来の半導体装置を示
す側面断面図、第4図は第3図の半導体装置に用いられ
るリードフレームの平面図である。 図において、1は半導体素子、2はリード、3はインナ
ーリード、4はアウターリード、5は金属細線、6は半
導体封止樹脂、8は電極、20は素子支持用アイランド
、21は吊リードである。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
面断面図、第2図は第1図の半導体装置に用いられるリ
ードフレームの平面図、第3図は従来の半導体装置を示
す側面断面図、第4図は第3図の半導体装置に用いられ
るリードフレームの平面図である。 図において、1は半導体素子、2はリード、3はインナ
ーリード、4はアウターリード、5は金属細線、6は半
導体封止樹脂、8は電極、20は素子支持用アイランド
、21は吊リードである。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 半導体素子と、この半導体素子に接続されるリードフレ
ームを備えた樹脂封止形半導体装置において、前記半導
体素子の側面をリードフレームの一部である素子支持用
アイランドにより保持したことを特徴とする半導体装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63273757A JPH02119255A (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63273757A JPH02119255A (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02119255A true JPH02119255A (ja) | 1990-05-07 |
Family
ID=17532157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63273757A Pending JPH02119255A (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02119255A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5474958A (en) * | 1993-05-04 | 1995-12-12 | Motorola, Inc. | Method for making semiconductor device having no die supporting surface |
US5635756A (en) * | 1990-04-06 | 1997-06-03 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device, lead frame therefor and memory card to provide a thin structure |
-
1988
- 1988-10-28 JP JP63273757A patent/JPH02119255A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5635756A (en) * | 1990-04-06 | 1997-06-03 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device, lead frame therefor and memory card to provide a thin structure |
US5474958A (en) * | 1993-05-04 | 1995-12-12 | Motorola, Inc. | Method for making semiconductor device having no die supporting surface |
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