JPH0211887B2 - - Google Patents
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- JPH0211887B2 JPH0211887B2 JP55500545A JP50054580A JPH0211887B2 JP H0211887 B2 JPH0211887 B2 JP H0211887B2 JP 55500545 A JP55500545 A JP 55500545A JP 50054580 A JP50054580 A JP 50054580A JP H0211887 B2 JPH0211887 B2 JP H0211887B2
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Description
請求の範囲
1 内側が電極で被覆された2つのセル基板を用
いてセルを組立て、セル基板の間の間〓中へ液晶
材料を充填し、その際第2のセル基板の電極層側
にセル内側の反射層を形成するために少なくとも
帯域的に、鱗片状のアルミニウム粒子を含有する
混合物からなる層を設け、加熱することにより、
液晶材料を取り囲む、電極で被覆された2つのセ
ル基板を有し、その際第1のセル基板は透明であ
り、第2のセル基板は少なくとも帯域的に、反射
粒子として鱗片状のアルミニウム粒子および該粒
子に対する結合相を含有する、セル内側に付着す
る反射層を備える液晶表示セルを製造する方法に
おいて、混合物の製造のため常温で液状の式
(): [式中R1、R2、R3およびR4は同じかもしくは異
なる、相応するヒドロキシル化合物の形で揮発性
である1価の有機基を表わす]の有機オルト珪酸
塩を使用し、混合物を塗布する前、その間もしく
はその後に珪酸を形成するために加水分解し、こ
うして被覆した第2のセル基板を300〜500℃の温
度に加熱することによつてこのセル基板に付着す
る、鱗片状のアルミニウム粒子が、実際に均一で
かつ少なくとも大部分がSiO2からなる透明な層
状マトリクス中に埋込まれている反射層を形成さ
せることを特徴とする液晶表示セルの製造法。
いてセルを組立て、セル基板の間の間〓中へ液晶
材料を充填し、その際第2のセル基板の電極層側
にセル内側の反射層を形成するために少なくとも
帯域的に、鱗片状のアルミニウム粒子を含有する
混合物からなる層を設け、加熱することにより、
液晶材料を取り囲む、電極で被覆された2つのセ
ル基板を有し、その際第1のセル基板は透明であ
り、第2のセル基板は少なくとも帯域的に、反射
粒子として鱗片状のアルミニウム粒子および該粒
子に対する結合相を含有する、セル内側に付着す
る反射層を備える液晶表示セルを製造する方法に
おいて、混合物の製造のため常温で液状の式
(): [式中R1、R2、R3およびR4は同じかもしくは異
なる、相応するヒドロキシル化合物の形で揮発性
である1価の有機基を表わす]の有機オルト珪酸
塩を使用し、混合物を塗布する前、その間もしく
はその後に珪酸を形成するために加水分解し、こ
うして被覆した第2のセル基板を300〜500℃の温
度に加熱することによつてこのセル基板に付着す
る、鱗片状のアルミニウム粒子が、実際に均一で
かつ少なくとも大部分がSiO2からなる透明な層
状マトリクス中に埋込まれている反射層を形成さ
せることを特徴とする液晶表示セルの製造法。
2 式()の化合物として、基R1、R2、R3お
よびR4がC原子数1〜4のアルキル基であるよ
うな化合物を使用する、請求の範囲第1項記載の
方法。
よびR4がC原子数1〜4のアルキル基であるよ
うな化合物を使用する、請求の範囲第1項記載の
方法。
3 基R1、R2、R3およびR4が同じでかつエチル
基を表わす、請求の範囲第2項記載の方法。
基を表わす、請求の範囲第2項記載の方法。
4 加水分解を酸の存在で行なう、請求の範囲第
1項から第3項までのいずれか1項記載の方法。
1項から第3項までのいずれか1項記載の方法。
5 酸としての塩酸のような揮発性鉱酸を使用す
る、請求の範囲第4項記載の方法。
る、請求の範囲第4項記載の方法。
6 混合物が、一時結合剤として有機溶剤ならび
に、熱分解性で溶剤に溶解した有機濃化剤を含有
する、請求の範囲第1項から第5項までのいずれ
か1項記載の方法。
に、熱分解性で溶剤に溶解した有機濃化剤を含有
する、請求の範囲第1項から第5項までのいずれ
か1項記載の方法。
7 混合物がペースト状の粘稠性を有し、スクリ
ン印刷のような印刷法によつて、反射層を設ける
べき第2のセル基板の部分に層状に塗布する、請
求の範囲第1項から第6項までのいずれか1項記
載の方法。
ン印刷のような印刷法によつて、反射層を設ける
べき第2のセル基板の部分に層状に塗布する、請
求の範囲第1項から第6項までのいずれか1項記
載の方法。
8 層を、加熱する前に80〜150℃の温度で乾燥
する、請求の範囲第7項記載の方法。
する、請求の範囲第7項記載の方法。
発明の技術分野
本発明は、内側が電極で被覆された2つのセル
基板を用いてセルを組立て、セル基板の間の間〓
中へ液晶材料を充填し、その際第2のセル基板の
電極層側にセル内側の反射層を形成するために少
なくとも帯域的に、鱗片状のアルミニウム粒子を
含有する混合物からなる層を設け、加熱すること
により、液晶材料を取り囲む、電極で被覆された
2つのセル基板を有し、その際第1のセル基板は
透明であり、第2のセル基板は少なくとも帯域的
に、反射粒子として鱗片状のアルミニウム粒子お
よび該粒子に対する結合相を含有する、セル内側
に付着する反射層を備える液晶セル(以下FKセ
ルと呼ぶ)を製造する方法に関する。
基板を用いてセルを組立て、セル基板の間の間〓
中へ液晶材料を充填し、その際第2のセル基板の
電極層側にセル内側の反射層を形成するために少
なくとも帯域的に、鱗片状のアルミニウム粒子を
含有する混合物からなる層を設け、加熱すること
により、液晶材料を取り囲む、電極で被覆された
2つのセル基板を有し、その際第1のセル基板は
透明であり、第2のセル基板は少なくとも帯域的
に、反射粒子として鱗片状のアルミニウム粒子お
よび該粒子に対する結合相を含有する、セル内側
に付着する反射層を備える液晶セル(以下FKセ
ルと呼ぶ)を製造する方法に関する。
技術水準
特定型のFKセル(LC−displaysもしくは
LCD'sとも呼ばれる)は、入射光を少なくとも部
分的に反射する層、例えば多かれ少かれ鏡面層を
必要とし、該層はセル内側で観察者から離れてい
る基板の電極被覆の上方にいわゆる内部反射体と
して配置されておりかつ例えば蒸着によつて設け
られる。
LCD'sとも呼ばれる)は、入射光を少なくとも部
分的に反射する層、例えば多かれ少かれ鏡面層を
必要とし、該層はセル内側で観察者から離れてい
る基板の電極被覆の上方にいわゆる内部反射体と
して配置されておりかつ例えば蒸着によつて設け
られる。
FKセルの例えば蒸着された常用の内部反射体
の作動および製作費に関する特定の欠点をなくす
ために、内部反射層を主として多数の金属小板も
しくは鱗片から形成する、殊にアルミニウム顔料
もしくは“アルミニウム青銅”、つまり鱗片状ア
ルミニウム粒子から形成することは例えば西ドイ
ツ国特許公開公報第2639675号および同第2716609
号から公知である。
の作動および製作費に関する特定の欠点をなくす
ために、内部反射層を主として多数の金属小板も
しくは鱗片から形成する、殊にアルミニウム顔料
もしくは“アルミニウム青銅”、つまり鱗片状ア
ルミニウム粒子から形成することは例えば西ドイ
ツ国特許公開公報第2639675号および同第2716609
号から公知である。
このために、アルミニウム粒子および一時結合
剤を含有するペースト状混合物を、内部反射体を
設けるべき相応するセル基板の表面上に例えばス
クリン印刷によつて設けることができる。上記の
西ドイツ国特許公開公報第2639675号によれば、
混合物に、焼付けた後に層の持続結合剤として、
つまり結合相として働くガラスハンダ粉末を添加
することができる。しかし西ドイツ国特許公開公
報第2716609号によれば、混合物中に一時結合剤
のみを使用し、これを焼付けの際に実際に残渣な
しに除去することもできる。鱗片状アルミニウム
粒子上に空気中の酸素によつて自然に形成したか
もしくは処理によつて意図的につくられた外側の
酸化アルミニウム層は、双方の場合に結合相とし
て、および内部反射体を備えるFKセル基板の別
個の電極部分の電気的ブリツジを回避すべき電気
絶縁体として働く。
剤を含有するペースト状混合物を、内部反射体を
設けるべき相応するセル基板の表面上に例えばス
クリン印刷によつて設けることができる。上記の
西ドイツ国特許公開公報第2639675号によれば、
混合物に、焼付けた後に層の持続結合剤として、
つまり結合相として働くガラスハンダ粉末を添加
することができる。しかし西ドイツ国特許公開公
報第2716609号によれば、混合物中に一時結合剤
のみを使用し、これを焼付けの際に実際に残渣な
しに除去することもできる。鱗片状アルミニウム
粒子上に空気中の酸素によつて自然に形成したか
もしくは処理によつて意図的につくられた外側の
酸化アルミニウム層は、双方の場合に結合相とし
て、および内部反射体を備えるFKセル基板の別
個の電極部分の電気的ブリツジを回避すべき電気
絶縁体として働く。
内部反射体の製造のために使用される混合物中
のガラスハンダの使用は多くの理由から問題であ
り、それぞれの場合にFKセルの工業的製造の際
に最適で十分に薄い内部反射体層が生成しない
が、これは恐らく溶融状態でのガラスハンダの比
較的高い粘性および/または混合物の不十分な均
一性によるものと思われる。
のガラスハンダの使用は多くの理由から問題であ
り、それぞれの場合にFKセルの工業的製造の際
に最適で十分に薄い内部反射体層が生成しない
が、これは恐らく溶融状態でのガラスハンダの比
較的高い粘性および/または混合物の不十分な均
一性によるものと思われる。
実際に金属のアルミニウム鱗片およびその酸化
物外側層のみから形成された西ドイツ国特許公開
公報第2716609号による内部反射体は、実際に十
分に薄く構成することはできるが、多くの型の
FKセルに望ましいかもしくは必要な、例えばセ
ル基板の内面上にシラン層を設けることによつて
達成することのできるような垂直配向が1つのセ
ル基板の内面上では不可能であるという欠点を有
する。その理由はこの内面は不均一な表面を有す
るからである。液晶分子の平行配向を惹起しかつ
多くの型のFKセルに必要な、セル基板の内面の
公知機械的摩擦も、公知内部反射層上では、該層
が拭取りに丈夫ではないかないしはセル基板上に
十分に強固に付着しないので実施できない。
物外側層のみから形成された西ドイツ国特許公開
公報第2716609号による内部反射体は、実際に十
分に薄く構成することはできるが、多くの型の
FKセルに望ましいかもしくは必要な、例えばセ
ル基板の内面上にシラン層を設けることによつて
達成することのできるような垂直配向が1つのセ
ル基板の内面上では不可能であるという欠点を有
する。その理由はこの内面は不均一な表面を有す
るからである。液晶分子の平行配向を惹起しかつ
多くの型のFKセルに必要な、セル基板の内面の
公知機械的摩擦も、公知内部反射層上では、該層
が拭取りに丈夫ではないかないしはセル基板上に
十分に強固に付着しないので実施できない。
最後に、実際に表面的に酸化されたアルミニウ
ム鱗片のみからなる内部反射体層は、殊に該層を
焼付ける場合に400〜500℃の温度で作業する場合
および/または内部反射体を有する基板の電極部
分もしくはセグメントが<50μの分離ゾーンを有
する場合、鱗片相互の電気的絶縁が多くの目的に
不十分であるという欠点を有する。
ム鱗片のみからなる内部反射体層は、殊に該層を
焼付ける場合に400〜500℃の温度で作業する場合
および/または内部反射体を有する基板の電極部
分もしくはセグメントが<50μの分離ゾーンを有
する場合、鱗片相互の電気的絶縁が多くの目的に
不十分であるという欠点を有する。
本発明の課題は、反射層が強固にセル基板上に
付着しており、十分に薄くかつ拭取りに丈夫であ
り、鱗片状のアルミニウム粒子が十分に相互に電
気的に絶縁されている、冒頭に挙げた種類のFK
表示セルの製造法を記載することである。
付着しており、十分に薄くかつ拭取りに丈夫であ
り、鱗片状のアルミニウム粒子が十分に相互に電
気的に絶縁されている、冒頭に挙げた種類のFK
表示セルの製造法を記載することである。
本発明によるFK表示セルの場合、反射層のア
ルミニウム顔料粒子用結合相として、実際に均
一、透明でかつ少なくとも主としてSiO2からな
り、アルミニウム顔料粒子が埋設されている層状
のマトリクスが役立つ。反射体層は多くは0.3〜
5μ、有利に0.5〜2μの平均厚さを有し、有利にそ
の重量の少なくとも20%がSiO2からなり、残り
の部分は実際に鱗片状アルミニウム粒子からな
る。
ルミニウム顔料粒子用結合相として、実際に均
一、透明でかつ少なくとも主としてSiO2からな
り、アルミニウム顔料粒子が埋設されている層状
のマトリクスが役立つ。反射体層は多くは0.3〜
5μ、有利に0.5〜2μの平均厚さを有し、有利にそ
の重量の少なくとも20%がSiO2からなり、残り
の部分は実際に鱗片状アルミニウム粒子からな
る。
意外にも、相応するセル基板上にアルミニウム
粒子を設けるために使用される混合物もしくはプ
レミツクスに少なくとも1つの、常温で液状の式
(): 〔式中R1、R2、R3およびR4は同じかまたは異な
る有機基、とくにそれぞれ1〜4個のC原子を有
するアルキル基、殊にエチル基であり、これらの
基は相応するヒドロキシル化合物の形で(つまり
R1OH、R2OHないしはR4OHとして)揮発性で
ある(沸点最高150℃)〕の有機オルト珪酸塩を添
加し、有機オルト珪酸塩は混合物を塗布する前、
その間もしくはその後に加水分解し、これは一般
にアシドリシス法で、つまり酸の存在で行なわれ
る。有利に、濃塩酸のような揮発性鉱酸を使用
し、混合物もしくはプレミツクスに添加する。加
水分解、殊にすぐれたアシドリシスは室温もしく
は適度に高めた温度(約120℃まで)で自発的に
進行し、全部もしくは部分的にオルト珪酸からな
る珪酸を形成し、次に焼付ける際に(300〜550
℃、有利に430〜470℃に加熱する)、珪酸は実際
に完全に脱水されてSiO2が形成する。
粒子を設けるために使用される混合物もしくはプ
レミツクスに少なくとも1つの、常温で液状の式
(): 〔式中R1、R2、R3およびR4は同じかまたは異な
る有機基、とくにそれぞれ1〜4個のC原子を有
するアルキル基、殊にエチル基であり、これらの
基は相応するヒドロキシル化合物の形で(つまり
R1OH、R2OHないしはR4OHとして)揮発性で
ある(沸点最高150℃)〕の有機オルト珪酸塩を添
加し、有機オルト珪酸塩は混合物を塗布する前、
その間もしくはその後に加水分解し、これは一般
にアシドリシス法で、つまり酸の存在で行なわれ
る。有利に、濃塩酸のような揮発性鉱酸を使用
し、混合物もしくはプレミツクスに添加する。加
水分解、殊にすぐれたアシドリシスは室温もしく
は適度に高めた温度(約120℃まで)で自発的に
進行し、全部もしくは部分的にオルト珪酸からな
る珪酸を形成し、次に焼付ける際に(300〜550
℃、有利に430〜470℃に加熱する)、珪酸は実際
に完全に脱水されてSiO2が形成する。
この方法で、セル基板に強固に付着する反射層
が生成し、該層の0.3〜5μの範囲内の厚さは塗布
した層の厚さおよび層の組成によつて制御するこ
とができる。
が生成し、該層の0.3〜5μの範囲内の厚さは塗布
した層の厚さおよび層の組成によつて制御するこ
とができる。
有利に、層として設けられる混合物はさらに、
スクリン印刷のような常用の印刷法による層形成
を容易にするため一時結合剤を含有している。か
かる一時結合剤、多くは有機溶剤中の有機増粘剤
は、最終的に焼付ける際に、実際に残渣なしに除
去されるべきである。この要求を満足するスクリ
ン印刷結合剤は市場で入手できる、例えば酢酸ア
ルミのような有機溶剤中のニトロセルロースのよ
うな熱安定性ポリマーの粘稠性な溶液である。こ
のような混合物は、有利に印捺した後で最終的に
焼付ける前に、基板上で80〜150℃の温度で乾燥
する。
スクリン印刷のような常用の印刷法による層形成
を容易にするため一時結合剤を含有している。か
かる一時結合剤、多くは有機溶剤中の有機増粘剤
は、最終的に焼付ける際に、実際に残渣なしに除
去されるべきである。この要求を満足するスクリ
ン印刷結合剤は市場で入手できる、例えば酢酸ア
ルミのような有機溶剤中のニトロセルロースのよ
うな熱安定性ポリマーの粘稠性な溶液である。こ
のような混合物は、有利に印捺した後で最終的に
焼付ける前に、基板上で80〜150℃の温度で乾燥
する。
上記式()の適当な有機オルト燐酸塩は、例
えば有利な珪酸エチルSi(OC2H5)4のように、市
場で入手できるか、もしくは自体公知の方法によ
り、例えばROH+SiX4→Si(OR)4(但しRはR1、
R2、R3もしくはR4の意義を有し、Xはハロゲン、
殊に塩素を表わす)による反応によつて得ること
ができる。
えば有利な珪酸エチルSi(OC2H5)4のように、市
場で入手できるか、もしくは自体公知の方法によ
り、例えばROH+SiX4→Si(OR)4(但しRはR1、
R2、R3もしくはR4の意義を有し、Xはハロゲン、
殊に塩素を表わす)による反応によつて得ること
ができる。
本発明により使用される有機オルト珪酸塩
()は常温で液状であるので、鱗片状アルミニ
ウム粒子を有する混合物の液状外側相中に、外側
相が上記種類の一時結合剤を含有している場合、
困難なしに均一に分配させることができる。
()は常温で液状であるので、鱗片状アルミニ
ウム粒子を有する混合物の液状外側相中に、外側
相が上記種類の一時結合剤を含有している場合、
困難なしに均一に分配させることができる。
加水分解および脱水によつて化合物()から
反応式: Si(OR)4→Si(OH)4→SiO2 により、主として有利には実際にSiO2のみから
なり、実際に均一かつ透明であつて、アルミニウ
ム粒子が埋込まれている層状マトリクスが生じ
る。
反応式: Si(OR)4→Si(OH)4→SiO2 により、主として有利には実際にSiO2のみから
なり、実際に均一かつ透明であつて、アルミニウ
ム粒子が埋込まれている層状マトリクスが生じ
る。
アルミニウム粒子は鱗片状である、つまり最大
粒径に比して非常に小さい、例えば0.1μ程度の厚
さおよび1〜10μ程度の最大粒径を有する。セル
基板上に塗布された新しい混合層中で、かかる粒
子は普通、基板表面に対してほぼ平行に配列す
る。
粒径に比して非常に小さい、例えば0.1μ程度の厚
さおよび1〜10μ程度の最大粒径を有する。セル
基板上に塗布された新しい混合層中で、かかる粒
子は普通、基板表面に対してほぼ平行に配列す
る。
ここで、蒸着によつてつくられるSiO2層の形
成は半導体工業およびFK表示セルに対しても常
用であることを記載する。蒸着が比較的費用のか
かる操作であることを別にしても、この方法はア
ルミニウム粒子の結合相としての埋込みSiO2マ
トリクスを形成するためには決して適当ではな
く、いずれにせよ工業的製作の範囲内では適当で
ない。他面では、例えば西ドイツ国特許公開公報
第1519311号に提案されている、EKセルの内部反
射体を製造するための金属顔料を主体とする塗料
中でSiO2を形成するため無機の水溶性珪酸塩を
使用することは種々の理由から不適当である:水
ガラスのような水溶性無機珪酸塩からSiO2を形
成させる場合には例えば式: Na2SiO3+2HCl →SiO2+2NaCl+H2O により水溶性塩が形成し、該塩は熱により除去で
きずかつSiO2からなる実際に均一な埋込みマト
リクスの形成を不可能にする。さらに、この方法
は水性系を必要とし、薄層の形成のためには不適
当である。
成は半導体工業およびFK表示セルに対しても常
用であることを記載する。蒸着が比較的費用のか
かる操作であることを別にしても、この方法はア
ルミニウム粒子の結合相としての埋込みSiO2マ
トリクスを形成するためには決して適当ではな
く、いずれにせよ工業的製作の範囲内では適当で
ない。他面では、例えば西ドイツ国特許公開公報
第1519311号に提案されている、EKセルの内部反
射体を製造するための金属顔料を主体とする塗料
中でSiO2を形成するため無機の水溶性珪酸塩を
使用することは種々の理由から不適当である:水
ガラスのような水溶性無機珪酸塩からSiO2を形
成させる場合には例えば式: Na2SiO3+2HCl →SiO2+2NaCl+H2O により水溶性塩が形成し、該塩は熱により除去で
きずかつSiO2からなる実際に均一な埋込みマト
リクスの形成を不可能にする。さらに、この方法
は水性系を必要とし、薄層の形成のためには不適
当である。
さらに、金属顔料ないしはアルミニウム顔料を
主体とする着色料との関連で、西ドイツ国特許公
開公報第2630731号には、添加剤として式:R−
Si(OR)3の有機シラン化合物の使用が提案されて
おり(R=アルキル)、これが顔料を保護する有
機珪素ポリマー、即ちオルガノシロキサンを形成
する。しかし、オルガノシロキサンはその熱安定
性が公知であり、こうして形成した層から有機成
分を熱により残渣なしに除去することは不可能で
ある、つまり無機マトリクス中にアルミニウム粒
子を透明かつ実際均一に埋込むことはこの方法で
は達成できない。
主体とする着色料との関連で、西ドイツ国特許公
開公報第2630731号には、添加剤として式:R−
Si(OR)3の有機シラン化合物の使用が提案されて
おり(R=アルキル)、これが顔料を保護する有
機珪素ポリマー、即ちオルガノシロキサンを形成
する。しかし、オルガノシロキサンはその熱安定
性が公知であり、こうして形成した層から有機成
分を熱により残渣なしに除去することは不可能で
ある、つまり無機マトリクス中にアルミニウム粒
子を透明かつ実際均一に埋込むことはこの方法で
は達成できない。
次に、本発明を第1図および第2図につき詳説
する。
する。
第1図は、内部反射体を有する本発明による液
晶セルを略示する拡大部分断面図を示しかつ第2
図は内部反射体を形成するため塗布された新しい
層の状態を略称する拡大部分断面図を示す。
晶セルを略示する拡大部分断面図を示しかつ第2
図は内部反射体を形成するため塗布された新しい
層の状態を略称する拡大部分断面図を示す。
発明のすぐれた実施態様
第1図のFKセル10の略図において、常用の
縁部分ならびに電気導線は簡略化のため省略され
ている。
縁部分ならびに電気導線は簡略化のため省略され
ている。
FKセル10は、2つのセル基板1,2を常法
で電極層3,4で被覆して組立てられている。電
極層3,4のそれぞれは、その中間に分離ゾーン
14,15を有する多数のセグメント、例えば3
a,3b,3cないしは4a,4b,4cからな
る。分離ゾーン15は比較内広く(>50μ)構成
されており、分離ゾーン4は狭く(<50μ)構成
されており;このような狭い分離ゾーンでは公知
反射層を使用する場合、下記に説明するような特
定の問題が起きる。
で電極層3,4で被覆して組立てられている。電
極層3,4のそれぞれは、その中間に分離ゾーン
14,15を有する多数のセグメント、例えば3
a,3b,3cないしは4a,4b,4cからな
る。分離ゾーン15は比較内広く(>50μ)構成
されており、分離ゾーン4は狭く(<50μ)構成
されており;このような狭い分離ゾーンでは公知
反射層を使用する場合、下記に説明するような特
定の問題が起きる。
常用のFK材料5、つまり表示セルの誘電媒体
はセル基板1,2の間に例えば5〜10μの厚さを
有する層として存在し、縁側で自体公知の方法で
図示されてないスペーサ部分によつてセル10中
に密に閉じ込められている。
はセル基板1,2の間に例えば5〜10μの厚さを
有する層として存在し、縁側で自体公知の方法で
図示されてないスペーサ部分によつてセル10中
に密に閉じ込められている。
例えばいわゆるゲスト・ホスト効果〔例えば
T.J.Scheffer、“J.Appl.Phys.”第24巻(1973年)
第4799頁参照〕により作動するセルの場合には、
FK材料5は無電界状態で光吸収性のらせん形に
捻転せる部子配向を有し、これは電極3ないしは
4の間に電界を印加する場合に光を全くもしくは
僅かしか吸収しない一様な分子配列に変換するこ
とができる。このため、第1図に示されたFKセ
ル10は反射において作動し、前側が照明され
る。同様に前側には観察者13が存在する。FK
セル10中へ入射する光は、FK層5の非吸光性
で一様な分子配列の範囲で透過し、反射層9にお
いて反射ないしは散乱し、透明な電極3ならびに
同様に透明セル基板1を通つて観察者13に反射
する。
T.J.Scheffer、“J.Appl.Phys.”第24巻(1973年)
第4799頁参照〕により作動するセルの場合には、
FK材料5は無電界状態で光吸収性のらせん形に
捻転せる部子配向を有し、これは電極3ないしは
4の間に電界を印加する場合に光を全くもしくは
僅かしか吸収しない一様な分子配列に変換するこ
とができる。このため、第1図に示されたFKセ
ル10は反射において作動し、前側が照明され
る。同様に前側には観察者13が存在する。FK
セル10中へ入射する光は、FK層5の非吸光性
で一様な分子配列の範囲で透過し、反射層9にお
いて反射ないしは散乱し、透明な電極3ならびに
同様に透明セル基板1を通つて観察者13に反射
する。
“ゲスト・ホスト”効果による作動のための層
5に対する適当なFK材料は公知であり、例えば
正の誘電異方性を有するネマチツク基本物質、例
えばp−ブトキシ−、p−ヘキシルオキシ−およ
びp−オクタノイルオキシベンジリデン−p−ア
ミノベンゾニトリル、光学活性物質、例えばコレ
ステリルベンゾエート5〜15%および多色色素
0.2〜1%からなる混合物からなる。
5に対する適当なFK材料は公知であり、例えば
正の誘電異方性を有するネマチツク基本物質、例
えばp−ブトキシ−、p−ヘキシルオキシ−およ
びp−オクタノイルオキシベンジリデン−p−ア
ミノベンゾニトリル、光学活性物質、例えばコレ
ステリルベンゾエート5〜15%および多色色素
0.2〜1%からなる混合物からなる。
例えば米国特許第3854793号ないしは同第
3973057号から自体公知であるように反射層9上
には、FK分子を境界面において垂直に配列する
ために、例えばこのために公知のシランからなる
層8が設けられている。しかし、垂直に配列され
た層8の使用は本発明にとり重要ではなく、特定
の使用目的に対してのみ有利である。また、反射
層は、境界面においてFK分子の平行な分子配列
を惹起させるために、例えば“Mol.Cryst.および
Liqu.Cryst.”第23巻(1973年)187頁以降から公
知の方法に従つて摩擦されていてもよい。
3973057号から自体公知であるように反射層9上
には、FK分子を境界面において垂直に配列する
ために、例えばこのために公知のシランからなる
層8が設けられている。しかし、垂直に配列され
た層8の使用は本発明にとり重要ではなく、特定
の使用目的に対してのみ有利である。また、反射
層は、境界面においてFK分子の平行な分子配列
を惹起させるために、例えば“Mol.Cryst.および
Liqu.Cryst.”第23巻(1973年)187頁以降から公
知の方法に従つて摩擦されていてもよい。
相応する自体公知の変更FK材料を有する本発
明によるFKセルは“ゲスト・ホスト”セル以外
の動作形式に対しても、例えば1つの偏光体(第
1図に示されてない)のみを必要とする、西ドイ
ツ国特許公開公報第2422509号記載されている種
類のねじれネマチツクセルとして使用することが
できることが強調できる。
明によるFKセルは“ゲスト・ホスト”セル以外
の動作形式に対しても、例えば1つの偏光体(第
1図に示されてない)のみを必要とする、西ドイ
ツ国特許公開公報第2422509号記載されている種
類のねじれネマチツクセルとして使用することが
できることが強調できる。
これに反して、すべての動作形式のFKセルに
とり重要なのは反射層9の構造であり、該反射層
は本発明によれば実際に均一、透明でかつ少なく
とも大部分、有利には実際に完全にSiO2からな
り、その中に反射粒子として役立つ鱗片状アルミ
ニウム粒子もしくは小板6が埋込まれている層状
のマトリクス7を有する。
とり重要なのは反射層9の構造であり、該反射層
は本発明によれば実際に均一、透明でかつ少なく
とも大部分、有利には実際に完全にSiO2からな
り、その中に反射粒子として役立つ鱗片状アルミ
ニウム粒子もしくは小板6が埋込まれている層状
のマトリクス7を有する。
有利に本発明によれば、結合相としてアルミニ
ウム粒子6に対する実際に均一な埋込みマトリク
スもしくは外側相を有し、かつ西ドイツ国特許公
開公報第2639675号ないしは同第27166095号から
公知の反射層とは異なり、均一な結合相を用い薄
い反射層の形成に不適当なガラスハンダを用いる
かまたは用いずに、大体において不連続の酸化ア
ルミニウムによつて構成されている最高5μの厚
さの内部反射体層9が使用される。
ウム粒子6に対する実際に均一な埋込みマトリク
スもしくは外側相を有し、かつ西ドイツ国特許公
開公報第2639675号ないしは同第27166095号から
公知の反射層とは異なり、均一な結合相を用い薄
い反射層の形成に不適当なガラスハンダを用いる
かまたは用いずに、大体において不連続の酸化ア
ルミニウムによつて構成されている最高5μの厚
さの内部反射体層9が使用される。
有利に、実際に均一なマトリクス7は、実際に
完全に、少なくとも1つの化合物()の酸性加
水分解により珪酸を形成させ、次いで脱水のため
焼付け、つまり300〜550℃に加熱することによつ
て反射粒子6との混合物で基板2上に形成させた
SiO2からなる。
完全に、少なくとも1つの化合物()の酸性加
水分解により珪酸を形成させ、次いで脱水のため
焼付け、つまり300〜550℃に加熱することによつ
て反射粒子6との混合物で基板2上に形成させた
SiO2からなる。
しかしながら、化合物()に対し付加的に、
式()中の珪酸原子が他の4価の金属原子、例
えばジルコニウム原子によつて代えられている相
応する化合物を使用することも本発明の範囲内で
ある。
式()中の珪酸原子が他の4価の金属原子、例
えばジルコニウム原子によつて代えられている相
応する化合物を使用することも本発明の範囲内で
ある。
多くの使用目的に対し、マトリクス7中へ
ZrO2等を導入しても、相応に高い費用を正当化
する利点は得られない。
ZrO2等を導入しても、相応に高い費用を正当化
する利点は得られない。
大体においてSiO2からなりかつ実際に均一な、
反射層9のマトリクスもしくは外側層7は、本発
明によるFKセルにかなりの利点を提供する: (1) 1平方あたり少なくとも10メガオームの電気
抵抗を有するマトリクス7中のアルミニウムか
らなる反射粒子6は、電極3,4に対し平行な
方向に互いに絶縁されていることが判明した。
反射層9のマトリクスもしくは外側層7は、本発
明によるFKセルにかなりの利点を提供する: (1) 1平方あたり少なくとも10メガオームの電気
抵抗を有するマトリクス7中のアルミニウムか
らなる反射粒子6は、電極3,4に対し平行な
方向に互いに絶縁されていることが判明した。
これは実際の用途に対し、電極層4のセグメ
ント4b,4cの間の<50μの非常に狭い分離
ゾーンを、反射粒子6による分離ゾーン14の
電気的橋絡の危険なしに使用することができる
ことを意味する。公知の反射セルでは、かかる
狭い分離ゾーンは不可能である。
ント4b,4cの間の<50μの非常に狭い分離
ゾーンを、反射粒子6による分離ゾーン14の
電気的橋絡の危険なしに使用することができる
ことを意味する。公知の反射セルでは、かかる
狭い分離ゾーンは不可能である。
(2) SiO2からなる実際に均一なマトリクス7の
セル内側表面は、例えばシランからなる、FK
分子の自体公知の垂直配向のための層8をFK
層5の境界面に容易かつ均一に設けるのに十分
平滑な構造を提供し;マトリクス7の表面上で
のかかるシラン層8の付着も極めて良好であ
る。
セル内側表面は、例えばシランからなる、FK
分子の自体公知の垂直配向のための層8をFK
層5の境界面に容易かつ均一に設けるのに十分
平滑な構造を提供し;マトリクス7の表面上で
のかかるシラン層8の付着も極めて良好であ
る。
これは実際に“ゲスト・ホスト”表示にとり
非常に重要である。その理由はこのように得ら
れる垂直配向により既に10ボルトより小さい動
作電圧において十分なコントラスト作用を得る
ことができるためである。公知の反射セルにお
いては、かかる配向層は良好に設けることがで
きず、このため高い動作電圧が必要である。
非常に重要である。その理由はこのように得ら
れる垂直配向により既に10ボルトより小さい動
作電圧において十分なコントラスト作用を得る
ことができるためである。公知の反射セルにお
いては、かかる配向層は良好に設けることがで
きず、このため高い動作電圧が必要である。
(3) 基板2ないしはその電極層4上でのSiO2マ
トリクスの付着は卓越しており;これはSiO2
マトリクス7中に反射粒子6を強固かつ保護的
に埋込む事実とともに内部反射層9を、その機
能を損なうことなく機械的に表面加工するのを
可能にする。
トリクスの付着は卓越しており;これはSiO2
マトリクス7中に反射粒子6を強固かつ保護的
に埋込む事実とともに内部反射層9を、その機
能を損なうことなく機械的に表面加工するのを
可能にする。
これは実際に、反射層9の解放(つまり第1
図におけるように層8を備えてない)表面と
FK材料5との間の境界面におけるFK分子の平
行配向のための自体公知の摩擦のために重要で
ある、その理由はこのような配列はねじれセル
により必要であるからである。公知反射セルは
摩擦することができない。
図におけるように層8を備えてない)表面と
FK材料5との間の境界面におけるFK分子の平
行配向のための自体公知の摩擦のために重要で
ある、その理由はこのような配列はねじれセル
により必要であるからである。公知反射セルは
摩擦することができない。
(4) SiO2マトリクス7中に埋込まれた反射粒子
6を有する反射層9は、例えば電極層4を備え
るセル基板2上に層を形成しうるアルミニウム
粒子6の混合物を(例えばプリントによつて)
設け、熱処理することによつて、製作技術的に
簡単かつ任意につくることができる。原則的に
は、内部反射体層をつくるのに使用されるスク
リン印刷ペーストに、プリントする前に少なく
とも1つの化合物()および加水分解のため
の揮発性触媒、例えば塩酸を混和すれば、西ド
イツ国特許公開公報第2639675号および同第
2716609号からの製作技術的に有利なスクリン
印刷法に従つて作業することができる。
6を有する反射層9は、例えば電極層4を備え
るセル基板2上に層を形成しうるアルミニウム
粒子6の混合物を(例えばプリントによつて)
設け、熱処理することによつて、製作技術的に
簡単かつ任意につくることができる。原則的に
は、内部反射体層をつくるのに使用されるスク
リン印刷ペーストに、プリントする前に少なく
とも1つの化合物()および加水分解のため
の揮発性触媒、例えば塩酸を混和すれば、西ド
イツ国特許公開公報第2639675号および同第
2716609号からの製作技術的に有利なスクリン
印刷法に従つて作業することができる。
(5) 本発明によるFKセルの製作ならびに性質に
とつて重要な、SiO2マトリクスの別の利点は、
焼付ける際既に約400℃の温度で顕著なアルミ
ニウム拡散圧およびこれによつて生じるSiO2
マトリクス7中での金属拡散がアルミニウム粒
子6の電気絶縁の顕著な劣化を惹起しないとい
う事情である。これは実際上、欠点なしに400
℃以上、とくに430〜470℃の焼付け温度で作業
することができることを意味し、このことが技
術水準に比べて迅速な製作および僅かな廃品を
もたらす。
とつて重要な、SiO2マトリクスの別の利点は、
焼付ける際既に約400℃の温度で顕著なアルミ
ニウム拡散圧およびこれによつて生じるSiO2
マトリクス7中での金属拡散がアルミニウム粒
子6の電気絶縁の顕著な劣化を惹起しないとい
う事情である。これは実際上、欠点なしに400
℃以上、とくに430〜470℃の焼付け温度で作業
することができることを意味し、このことが技
術水準に比べて迅速な製作および僅かな廃品を
もたらす。
(6) 本発明によるFKセルのSiO2マトリクス7な
いしは内部反射体層9ならびに同様に本発明に
属する、付着せる反射層を有する基板の顕著な
拭取り強度は、一般に基板の取扱いならびに
FKセルの組立を容易にするが、その理由は反
射層は、西ドイツ国特許公開公報第2639675号
および同第2716609号による摩擦強度が僅かで
引掻に対して極めて敏感な反射層よりも機械的
損傷に対してはるかに安全であるからである。
いしは内部反射体層9ならびに同様に本発明に
属する、付着せる反射層を有する基板の顕著な
拭取り強度は、一般に基板の取扱いならびに
FKセルの組立を容易にするが、その理由は反
射層は、西ドイツ国特許公開公報第2639675号
および同第2716609号による摩擦強度が僅かで
引掻に対して極めて敏感な反射層よりも機械的
損傷に対してはるかに安全であるからである。
以下、同様に本発明に属する、FK表示セルの
製造法を詳説する。この場合まず、セル製造の際
当業者に周知の工程、例えば適当セル基板の電極
ないしは電極セグメントによる被覆、縁側のパツ
キンを用いて基板の組立、FK材料の選択および
その充填孔のところまで閉じられたセル中への充
填、セルの密閉およびセルの電気的結合はここで
は説明しないことを述べねばならない。むしろ、
技術水準に対する関係参考文献を引用し、殊に金
属顔料ないしはアルミニウム顔料を主体とする
FKセル内部反射体層の製造は西ドイツ国特許公
開公報第2716609号に記載されており、これは本
願添付図面の第2図を引用すれば出来上つたセル
中で観察者側で後方のセル基板2上へ、しかも電
極4ないし電極セグメント4a,4b,4cを備
える側に、少なくとも帯域的に、鱗片状アルミニ
ウム粒子6を含有する混合物からなる層ないしは
スクリン印刷ペースト12を設け、焼付けて行な
われる。
製造法を詳説する。この場合まず、セル製造の際
当業者に周知の工程、例えば適当セル基板の電極
ないしは電極セグメントによる被覆、縁側のパツ
キンを用いて基板の組立、FK材料の選択および
その充填孔のところまで閉じられたセル中への充
填、セルの密閉およびセルの電気的結合はここで
は説明しないことを述べねばならない。むしろ、
技術水準に対する関係参考文献を引用し、殊に金
属顔料ないしはアルミニウム顔料を主体とする
FKセル内部反射体層の製造は西ドイツ国特許公
開公報第2716609号に記載されており、これは本
願添付図面の第2図を引用すれば出来上つたセル
中で観察者側で後方のセル基板2上へ、しかも電
極4ないし電極セグメント4a,4b,4cを備
える側に、少なくとも帯域的に、鱗片状アルミニ
ウム粒子6を含有する混合物からなる層ないしは
スクリン印刷ペースト12を設け、焼付けて行な
われる。
公知方法におけるように、本発明による方法に
おいても、焼付けの最低温度ないしは時間は差当
り、混合物のすべての揮発成分は確実に除去しな
ければならないという要求によつて制約されてい
る。本発明方法の場合にはこれに加えて、SiO2
マトリクス7(第1図)を形成させねばならない
が、このことは最終工程で恐らくは珪酸(“モノ
マー”の形で、つまりオルト珪酸としておよび/
またはある程度縮合した形で、つまりポリ珪酸と
して)の熱による脱水に基づく。マトリクスの
SiO2が(SiO2)nと解されることは明らかであ
る。しかし、数値nの明瞭な決定および記載は原
側として不可能であり、実際には必要でもない
が、その理由はこの場合には第一に上記した肉眼
で確めうる透明度、均質性および耐摩耗もしくは
耐拭取り強度が重要であるからである。
おいても、焼付けの最低温度ないしは時間は差当
り、混合物のすべての揮発成分は確実に除去しな
ければならないという要求によつて制約されてい
る。本発明方法の場合にはこれに加えて、SiO2
マトリクス7(第1図)を形成させねばならない
が、このことは最終工程で恐らくは珪酸(“モノ
マー”の形で、つまりオルト珪酸としておよび/
またはある程度縮合した形で、つまりポリ珪酸と
して)の熱による脱水に基づく。マトリクスの
SiO2が(SiO2)nと解されることは明らかであ
る。しかし、数値nの明瞭な決定および記載は原
側として不可能であり、実際には必要でもない
が、その理由はこの場合には第一に上記した肉眼
で確めうる透明度、均質性および耐摩耗もしくは
耐拭取り強度が重要であるからである。
鱗片状のアルミニウム粒子6としては公知で工
業的に得られ、その粒子が鱗片状もしくは板状で
あるアルミニウム顔料もしくはアルミニウム青銅
を使用することができる。一般に粒子の厚さは
0.05〜0.5μの範囲内、有利に約0.1μであり、粒子
の平均面積はその厚さよりも少なくとも10倍、有
利には50〜200倍大きい。10×10×0.1μの程度の
アルミニウム粒子6の寸法は、本発明の多くの目
的に適当である。適当な粒子6の詳細は例は、例
えば“ピグメント・ハンドブツク”、第1巻
(1973年)、第786〜第806頁(発行者:T.C.
Patton)に記載されている。
業的に得られ、その粒子が鱗片状もしくは板状で
あるアルミニウム顔料もしくはアルミニウム青銅
を使用することができる。一般に粒子の厚さは
0.05〜0.5μの範囲内、有利に約0.1μであり、粒子
の平均面積はその厚さよりも少なくとも10倍、有
利には50〜200倍大きい。10×10×0.1μの程度の
アルミニウム粒子6の寸法は、本発明の多くの目
的に適当である。適当な粒子6の詳細は例は、例
えば“ピグメント・ハンドブツク”、第1巻
(1973年)、第786〜第806頁(発行者:T.C.
Patton)に記載されている。
第2図により基板2上に設けられた混合物ない
しはスクリン印刷ペースト12におけるアルミニ
ウム粒子の重量含分は、この混合物は普通なお揮
発性成分を含有し、これは完成反射層9(第1
図)の形成前もしくはその途中で熱処理によつて
除去されるのでとくに臨界的なものではない。1
〜20重量%の混合物のアルミニウム粒子含量が多
くの目的に適当である。
しはスクリン印刷ペースト12におけるアルミニ
ウム粒子の重量含分は、この混合物は普通なお揮
発性成分を含有し、これは完成反射層9(第1
図)の形成前もしくはその途中で熱処理によつて
除去されるのでとくに臨界的なものではない。1
〜20重量%の混合物のアルミニウム粒子含量が多
くの目的に適当である。
完成層9はそれ自体、入射光を実際完全に反射
する層もしくはたんに部分反射性の透明な層9が
望ましいかにより、多かれ少かれアルミニウム粒
子6を含有することができる。部分的に反射する
層9も同様に本発明に属し、例えば透過光で観察
すべきFKセルに対して使用できる。
する層もしくはたんに部分反射性の透明な層9が
望ましいかにより、多かれ少かれアルミニウム粒
子6を含有することができる。部分的に反射する
層9も同様に本発明に属し、例えば透過光で観察
すべきFKセルに対して使用できる。
一般に、完成層9はアルミニウム粒子6を5〜
90%、とくに10〜80%、殊に30〜70%の重量含分
で含有し、残分として実際にSiO2のみを含有す
るにすぎない。
90%、とくに10〜80%、殊に30〜70%の重量含分
で含有し、残分として実際にSiO2のみを含有す
るにすぎない。
完成層9のSiO2マトリクス7を形成するため
には、混合物ないしは印刷ペースト12中に珪酸
を形成させるために少なくとも1つの式()の
化合物、とくに珪酸テトラエチルSi(OC2H5)4を
使用し、これを混合物ないしはプレミツクスに混
和する。
には、混合物ないしは印刷ペースト12中に珪酸
を形成させるために少なくとも1つの式()の
化合物、とくに珪酸テトラエチルSi(OC2H5)4を
使用し、これを混合物ないしはプレミツクスに混
和する。
珪酸を形成するため化合物()の加水分解用
触媒の使用は一般に有利である。触媒としては、
例えば比較的濃厚な形の塩酸のような揮発性鉱酸
(HCl20〜30重量%水溶液)が有利に使用される。
触媒の使用は一般に有利である。触媒としては、
例えば比較的濃厚な形の塩酸のような揮発性鉱酸
(HCl20〜30重量%水溶液)が有利に使用される。
化合物()および加水分解触媒は混合物ない
しは印刷ペースト12中に分配させることがで
き;あるいはアルミニウム粒子以外のすべての成
分を含有するプレミツクスを製造し、あとでアル
ミニウム粒子6と均一に混合することもできる。
かかるプレミツクス中の化合物()の特定の加
水分解は、粘稠度(スクリン印刷適性)がこれに
よつて損なわれない限り、不利ではない。
しは印刷ペースト12中に分配させることがで
き;あるいはアルミニウム粒子以外のすべての成
分を含有するプレミツクスを製造し、あとでアル
ミニウム粒子6と均一に混合することもできる。
かかるプレミツクス中の化合物()の特定の加
水分解は、粘稠度(スクリン印刷適性)がこれに
よつて損なわれない限り、不利ではない。
上記にアルミニウム粒子含量につき述べた理由
から、第一に混合物12(第2図)中の化合物
()の分量ではなく、完成層9(第1図)中で
の形成したSiO2対アルミニウム粒子の重量比が
重要である。さらに、化合物()のSiO2への
変換による重量減少も考慮すべきである。一般
に、混合物12ないしプレミツクス中へ、含量的
には、アルミニウム粒子の重量の約100〜300%、
とくに約200%に一致するような重量の化合物
()を導入するのが有利である。
から、第一に混合物12(第2図)中の化合物
()の分量ではなく、完成層9(第1図)中で
の形成したSiO2対アルミニウム粒子の重量比が
重要である。さらに、化合物()のSiO2への
変換による重量減少も考慮すべきである。一般
に、混合物12ないしプレミツクス中へ、含量的
には、アルミニウム粒子の重量の約100〜300%、
とくに約200%に一致するような重量の化合物
()を導入するのが有利である。
混合物12ないしはプレミツクスにおける加水
分解触媒の含量は一般に、混合物ないしはプレミ
ツクス中の化合物()の濃度およびそのつど所
望の加水分解条件に依存する。例として、化合物
()の重量の1〜25%の範囲内の触媒含量が挙
げられる。濃塩酸は例えばSi(OC2H5)4の重量の
2〜20%の含量で使用することができる。
分解触媒の含量は一般に、混合物ないしはプレミ
ツクス中の化合物()の濃度およびそのつど所
望の加水分解条件に依存する。例として、化合物
()の重量の1〜25%の範囲内の触媒含量が挙
げられる。濃塩酸は例えばSi(OC2H5)4の重量の
2〜20%の含量で使用することができる。
とくに、混合物12は重量的に主要量のいわゆ
るビヒクル、つまり成分(Al粒子、化合物()
および加水分解触媒)の十分な混合および基板1
2上への混合物12の層状塗布を容易にする上述
せる一時結合剤を含有する。一時結合剤として
は、その成分を熱により残りなしに除去すること
のできる常用のスクリン印刷ペーストが適当であ
る。かかるペーストは工業的に入手でき、かつ多
くはニトロセルロースのような比較的熱に不安定
な有機ポリマー(これは有機溶剤に溶解もしくは
膨潤している)からなる。一般に、混合物12は
一時結合剤少なくとも50重量%、とくに約70〜95
重量%を含有する。
るビヒクル、つまり成分(Al粒子、化合物()
および加水分解触媒)の十分な混合および基板1
2上への混合物12の層状塗布を容易にする上述
せる一時結合剤を含有する。一時結合剤として
は、その成分を熱により残りなしに除去すること
のできる常用のスクリン印刷ペーストが適当であ
る。かかるペーストは工業的に入手でき、かつ多
くはニトロセルロースのような比較的熱に不安定
な有機ポリマー(これは有機溶剤に溶解もしくは
膨潤している)からなる。一般に、混合物12は
一時結合剤少なくとも50重量%、とくに約70〜95
重量%を含有する。
混合物ないしはペースト12は、自体公知の方
法に従い、例えばスクリン印刷法によつて、第2
図に略示されているように基板2上に設けること
ができる。
法に従い、例えばスクリン印刷法によつて、第2
図に略示されているように基板2上に設けること
ができる。
印刷した層12の厚さおよびそれのAl粒子な
いしは化合物()の含量によつて、完成せる反
射層9(第1図)の厚さを制御することができ
る。0.3〜5μのすぐれた厚さ範囲内の反射層9を
つくるためには、混合物が約90重量%まで一時結
合剤からなり、残りが上述した割合のAl粒子、
化合物()および加水分解触媒からなる場合
に、新しく印刷した層(第2図)の厚さは約3〜
50μであるべきである。スクリン印刷で問題なく
得られる印刷層の厚さは多くは約5〜50μの範囲
内にあるので、一時結合剤70〜95重量%の含量を
有する混合物12の使用が有利であることは自明
である。
いしは化合物()の含量によつて、完成せる反
射層9(第1図)の厚さを制御することができ
る。0.3〜5μのすぐれた厚さ範囲内の反射層9を
つくるためには、混合物が約90重量%まで一時結
合剤からなり、残りが上述した割合のAl粒子、
化合物()および加水分解触媒からなる場合
に、新しく印刷した層(第2図)の厚さは約3〜
50μであるべきである。スクリン印刷で問題なく
得られる印刷層の厚さは多くは約5〜50μの範囲
内にあるので、一時結合剤70〜95重量%の含量を
有する混合物12の使用が有利であることは自明
である。
とくにスクリン印刷によつて設けられる新しい
層(第2図)は、所望の場合には一時結合剤中の
有機溶剤の種類により、溶剤の少なくとも一部を
除去するために80〜150℃の温度で予備乾燥する
ことができる。化合物()から加水分解による
珪酸の形成ないしはオルト珪酸のポリ珪酸への縮
合は、基板2上へ混合物12を塗布する前、その
間もしくはその後にはじめることができ、既に焼
付けの前に完結されていてもよい。
層(第2図)は、所望の場合には一時結合剤中の
有機溶剤の種類により、溶剤の少なくとも一部を
除去するために80〜150℃の温度で予備乾燥する
ことができる。化合物()から加水分解による
珪酸の形成ないしはオルト珪酸のポリ珪酸への縮
合は、基板2上へ混合物12を塗布する前、その
間もしくはその後にはじめることができ、既に焼
付けの前に完結されていてもよい。
場合により予備乾燥した、混合物12からなる
層の焼付けは、一時結合剤、化合物()の加水
分解によつて生じる有機成分および珪酸の脱水に
よつて形成した水の実際上完全な除去ないしは残
渣のない分解を惹起する。
層の焼付けは、一時結合剤、化合物()の加水
分解によつて生じる有機成分および珪酸の脱水に
よつて形成した水の実際上完全な除去ないしは残
渣のない分解を惹起する。
このためには、一般に300〜550℃、とくに400
〜500℃、殊に430〜470℃の温度が適当である。
これより高い温度は、関与する物質の性質(アル
ミニウムの融点、基板材料の軟化)のため有利で
なく、300℃以下の温度は有機成分ないしは脱水
の水の完全な除去を保証しない。有利な焼付け時
間は温度による。代表的な値は5〜60分の間にあ
る。すぐれた焼付け温度においては、10〜30分の
時間が代表的である。
〜500℃、殊に430〜470℃の温度が適当である。
これより高い温度は、関与する物質の性質(アル
ミニウムの融点、基板材料の軟化)のため有利で
なく、300℃以下の温度は有機成分ないしは脱水
の水の完全な除去を保証しない。有利な焼付け時
間は温度による。代表的な値は5〜60分の間にあ
る。すぐれた焼付け温度においては、10〜30分の
時間が代表的である。
次例において部および%は重量によるものであ
る。
る。
例 1
(A) まず、酢酸アミル8部とニトロセルロース1
部から一時結合剤としてのスクリン印刷ペース
トを製造する。
部から一時結合剤としてのスクリン印刷ペース
トを製造する。
(B) (A)による結合剤100部を、濃HCl水溶液(38
%、密度1.19、化学用純度)2部および珪酸テ
トラエチルSi(OC2H5)410部と均一に混合する。
%、密度1.19、化学用純度)2部および珪酸テ
トラエチルSi(OC2H5)410部と均一に混合する。
(C) 得られるペーストを、アルミニウム粒子(工
業製品、ニユージヤージイ州フレミントン在
U.S.Bronze Powders Inc.社の“952Al−
Flake Powder”;あらかじめ10μの最大粒径
に篩別されていた)5部と激しい撹拌によつて
均一に混合する。鱗片の厚さは約0.1μであつ
た。
業製品、ニユージヤージイ州フレミントン在
U.S.Bronze Powders Inc.社の“952Al−
Flake Powder”;あらかじめ10μの最大粒径
に篩別されていた)5部と激しい撹拌によつて
均一に混合する。鱗片の厚さは約0.1μであつ
た。
(D) (C)によるペーストを、スクリン印刷としてポ
リエステル織物(スイスの絹ガーゼ会社Thal
SGの市販名“Estal Mono90M”を使用し、工
業用スクリン印刷装置で、酸化インジウム/酸
化錫(4a,4b,4c)からなる厚さ約
300nmのセグメント状電極面を備える、ガラス
からなる常用のFKセル基板(第2図)上へ、
約8μの印刷層厚で印捺し(厚い層)、実際に基
板の全表示活性範囲を印刷層で被覆する。次い
で、印刷層を備える基板を160℃で5分間乾燥
する。この場合、実際に全酢酸アミルが除去さ
れ、実際に強固なつながりのある層が残留し
た。
リエステル織物(スイスの絹ガーゼ会社Thal
SGの市販名“Estal Mono90M”を使用し、工
業用スクリン印刷装置で、酸化インジウム/酸
化錫(4a,4b,4c)からなる厚さ約
300nmのセグメント状電極面を備える、ガラス
からなる常用のFKセル基板(第2図)上へ、
約8μの印刷層厚で印捺し(厚い層)、実際に基
板の全表示活性範囲を印刷層で被覆する。次い
で、印刷層を備える基板を160℃で5分間乾燥
する。この場合、実際に全酢酸アミルが除去さ
れ、実際に強固なつながりのある層が残留し
た。
(E) (D)項により得られる基板を、オーブン中で
480℃で5分間焼付け、放冷する。基板には、
入射する光を実際に全部反射するかないしは散
乱する厚さ0.8μの反射層9(第1図)が設けら
れている。アルミニウム粒子は例外なく基板2
の表面に対してほぼ平行に存在し、実際に完全
にSiO2からなる、視覚上実際に均一かつ透明
な(ガラス様透明な)マトリクス中に埋込まれ
ている。反射層9は基板2上に強固に付着して
おりかつ耐拭取り性である:強力な指圧(約50
キロパスカル相当)下に層9を経て案内された
紙フリースにつき、実際にアルミニウム粒子は
確認できない。さらに、層9は平行配向で自体
公知の方法で摩擦することができる。層9の表
面に垂直配向で積上げられたシラン層8(第1
図)は容易かつ良好に分配できかつ非常に良好
な付着を示した。アルミニウム粒子6は基板2
の表面に対して平行な方向に互いに非常に良好
に絶縁されており;相応する電気抵抗値(層抵
抗)は少なくとも1平方あたり少なくとも10メ
ガオームである。
480℃で5分間焼付け、放冷する。基板には、
入射する光を実際に全部反射するかないしは散
乱する厚さ0.8μの反射層9(第1図)が設けら
れている。アルミニウム粒子は例外なく基板2
の表面に対してほぼ平行に存在し、実際に完全
にSiO2からなる、視覚上実際に均一かつ透明
な(ガラス様透明な)マトリクス中に埋込まれ
ている。反射層9は基板2上に強固に付着して
おりかつ耐拭取り性である:強力な指圧(約50
キロパスカル相当)下に層9を経て案内された
紙フリースにつき、実際にアルミニウム粒子は
確認できない。さらに、層9は平行配向で自体
公知の方法で摩擦することができる。層9の表
面に垂直配向で積上げられたシラン層8(第1
図)は容易かつ良好に分配できかつ非常に良好
な付着を示した。アルミニウム粒子6は基板2
の表面に対して平行な方向に互いに非常に良好
に絶縁されており;相応する電気抵抗値(層抵
抗)は少なくとも1平方あたり少なくとも10メ
ガオームである。
(F) 得られた基板から、西ドイツ国特許公開公報
第2639675号および第2716609号に記載された作
業法に従い、相応する前側基板1(第1図)と
ともに組立てることによつて“ゲスト・ホス
ト”表示セルを製造する。基板1および2の縁
側の結合は、前側もしくは後側基板上へガラス
ハンダからなるウエブを押圧しかつ積重ねた基
板を加熱することによつて得られる。反射層9
がFK材料5の境界層中でFK分子の垂直配向で
シラン層8で覆われている場合、得られるFK
セル10は既に10V以下の動作電圧で十分な表
示コントラストを示す。電極層4の狭い(<
50μ)分離帯14にも、セル10の動作電圧に
おいて短絡効果が確認される。(A)項による混合
物の代りに市販のスクリン結合剤(厚膜技術
用)を使用する場合、同様の結果が得られる。
第2639675号および第2716609号に記載された作
業法に従い、相応する前側基板1(第1図)と
ともに組立てることによつて“ゲスト・ホス
ト”表示セルを製造する。基板1および2の縁
側の結合は、前側もしくは後側基板上へガラス
ハンダからなるウエブを押圧しかつ積重ねた基
板を加熱することによつて得られる。反射層9
がFK材料5の境界層中でFK分子の垂直配向で
シラン層8で覆われている場合、得られるFK
セル10は既に10V以下の動作電圧で十分な表
示コントラストを示す。電極層4の狭い(<
50μ)分離帯14にも、セル10の動作電圧に
おいて短絡効果が確認される。(A)項による混合
物の代りに市販のスクリン結合剤(厚膜技術
用)を使用する場合、同様の結果が得られる。
例 2(比較)
例1におけるように、しかし(B)項に記載された
工程を省略して作業する、つまりスクリン印刷材
料Aを直接アルミニウム粒子Cと混合する。
工程を省略して作業する、つまりスクリン印刷材
料Aを直接アルミニウム粒子Cと混合する。
この方法で(E)項により焼付けた後に得られた反
射粒子は、拭取り試験に際し不安定であると立証
される、つまり試験のために使用された紙フリー
ス上に著量のアルミニウム顔料が認められる。数
回拭く場合およびいずれにせよ平行配向で摩擦す
る場合、反射層は大体において除去される。垂直
配向材料(シラン)を塗布するための実験で、非
常に不均一で、従つて使用できない層が判明し;
かかる基板で形成された“ゲスト・ホスト”セル
の作動のため、十分な表示コントラストに対し10
ボルト以上、例えば約12ボルトの動作電圧が必要
である。
射粒子は、拭取り試験に際し不安定であると立証
される、つまり試験のために使用された紙フリー
ス上に著量のアルミニウム顔料が認められる。数
回拭く場合およびいずれにせよ平行配向で摩擦す
る場合、反射層は大体において除去される。垂直
配向材料(シラン)を塗布するための実験で、非
常に不均一で、従つて使用できない層が判明し;
かかる基板で形成された“ゲスト・ホスト”セル
の作動のため、十分な表示コントラストに対し10
ボルト以上、例えば約12ボルトの動作電圧が必要
である。
比較実験で得られる反射層の層抵抗値は1平方
あたり10メガオーム以下であり、1平方あたり約
7メガオームにすぎない。
あたり10メガオーム以下であり、1平方あたり約
7メガオームにすぎない。
例 3(比較)
例2におけると同様に、但し工程(C)におけるス
クリン印刷ペーストにアルミニウム粒子に対して
付加的にガラスハンダ粉末(粒径0.5〜5μ)2.5%
を混和する変更を行なつて作業する。
クリン印刷ペーストにアルミニウム粒子に対して
付加的にガラスハンダ粉末(粒径0.5〜5μ)2.5%
を混和する変更を行なつて作業する。
得られる反射層は例2よりも若干良好な耐拭取
り強度を示すが、実際には摩擦できず、(例1に
対し)比較的悪くシランで被覆しうるにすぎな
い。層抵抗は1平方あたり10メガオーム以下であ
り;結合相は視覚的に不均一であり、アルミニウ
ム粒子は結合相中に埋込まれていないで、帯域的
に接着されているにすぎない。
り強度を示すが、実際には摩擦できず、(例1に
対し)比較的悪くシランで被覆しうるにすぎな
い。層抵抗は1平方あたり10メガオーム以下であ
り;結合相は視覚的に不均一であり、アルミニウ
ム粒子は結合相中に埋込まれていないで、帯域的
に接着されているにすぎない。
例 4
例1におけると同様であるが、(B)および(C)項に
記載した工程に次の変更を行なつて作業する: (B) 珪酸テトラエチル(10部)をイソプロパノー
ル20部に溶かす。得られる溶液を、濃HCl水溶
液(38%)0.2部とともに撹拌する。珪酸テト
ラエチルをこうして加水分解して珪酸にする
が、このものは沈殿もしないし、不利な粘度増
加も生じない。
記載した工程に次の変更を行なつて作業する: (B) 珪酸テトラエチル(10部)をイソプロパノー
ル20部に溶かす。得られる溶液を、濃HCl水溶
液(38%)0.2部とともに撹拌する。珪酸テト
ラエチルをこうして加水分解して珪酸にする
が、このものは沈殿もしないし、不利な粘度増
加も生じない。
(C) 得られる溶液に、(A)項(例1)の一時結合
剤、もしくは市販のスクリン印刷結合剤(厚膜
技術用)および(C)項(例1)に記載したアルミ
ニウム粒子5部を激しく撹拌することにより均
一に混合する。
剤、もしくは市販のスクリン印刷結合剤(厚膜
技術用)および(C)項(例1)に記載したアルミ
ニウム粒子5部を激しく撹拌することにより均
一に混合する。
これ以外は、例1の(D)、(E)および(F)項におけ
ると同じ作業法では、大体において等しい結果
が得られる。
ると同じ作業法では、大体において等しい結果
が得られる。
例 5
例1におけると同様であるが、(C)項におけるア
ルミニウム粒子の含量を減少させることにより基
板2上に半透明の反射層9が得られるように変更
して作業する。
ルミニウム粒子の含量を減少させることにより基
板2上に半透明の反射層9が得られるように変更
して作業する。
これにより製造されたFKセル10は、例えば
環境光が不十分な場合セル基板2の後方でマイク
ロランプを用い透過光で作動させることができ
る。
環境光が不十分な場合セル基板2の後方でマイク
ロランプを用い透過光で作動させることができ
る。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH223279 | 1979-03-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56500103A JPS56500103A (ja) | 1981-02-05 |
JPH0211887B2 true JPH0211887B2 (ja) | 1990-03-16 |
Family
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---|---|---|---|
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EP (1) | EP0025037B1 (ja) |
JP (1) | JPH0211887B2 (ja) |
DE (2) | DE2913080A1 (ja) |
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GB201010211D0 (en) * | 2010-06-17 | 2010-07-21 | R2Tek Llc | Cholesteric liquid crystal display device |
DE102012206967B4 (de) * | 2012-04-26 | 2025-04-10 | Pictiva Displays International Limited | Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements |
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US2885366A (en) * | 1956-06-28 | 1959-05-05 | Du Pont | Product comprising a skin of dense, hydrated amorphous silica bound upon a core of another solid material and process of making same |
US3210316A (en) * | 1961-07-24 | 1965-10-05 | Ransburg Electro Coating Corp | Paint containing aluminum pigment coated with an electrically insulating coating |
US3988494A (en) * | 1972-04-10 | 1976-10-26 | Mobil Oil Corporation | Metallizing coating compositions |
US3932026A (en) * | 1972-11-03 | 1976-01-13 | International Business Machines Corporation | Liquid crystal display assembly having dielectric coated electrodes |
US3857627A (en) * | 1973-08-29 | 1974-12-31 | Hoffmann La Roche | Polarizer arrangement for liquid crystal displays |
CH626770GA3 (en) * | 1977-03-16 | 1981-12-15 | Method for producing a liquid crystal display having a guest/host liquid crystal layer | |
DE2630731C3 (de) * | 1976-07-08 | 1979-06-21 | Eckart-Werke Standard-Bronzepulver- Werke Carl Eckart, 8510 Fuerth | Verwendung von Metallpigmenten in elektrostatisch versprühbaren Nass- und Pulverlacken |
CH600367A5 (ja) * | 1976-08-10 | 1978-06-15 | Bbc Brown Boveri & Cie |
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1979
- 1979-04-02 DE DE19792913080 patent/DE2913080A1/de not_active Withdrawn
-
1980
- 1980-03-06 US US06/212,710 patent/US4420224A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-03-06 JP JP55500545A patent/JPH0211887B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1980-03-06 WO PCT/CH1980/000034 patent/WO1980001959A1/de active IP Right Grant
- 1980-03-06 DE DE8080900398T patent/DE3061724D1/de not_active Expired
- 1980-09-24 EP EP80900398A patent/EP0025037B1/de not_active Expired
-
1984
- 1984-03-15 HK HK225/84A patent/HK22584A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HK22584A (en) | 1984-03-23 |
DE2913080A1 (de) | 1980-09-11 |
EP0025037A1 (de) | 1981-03-18 |
US4420224A (en) | 1983-12-13 |
WO1980001959A1 (en) | 1980-09-18 |
DE3061724D1 (en) | 1983-03-03 |
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JPS56500103A (ja) | 1981-02-05 |
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