JPH02118750U - - Google Patents

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JPH02118750U
JPH02118750U JP2557889U JP2557889U JPH02118750U JP H02118750 U JPH02118750 U JP H02118750U JP 2557889 U JP2557889 U JP 2557889U JP 2557889 U JP2557889 U JP 2557889U JP H02118750 U JPH02118750 U JP H02118750U
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JP
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magnet
magnetic circuit
magnetron sputtering
sputtering device
permanent magnet
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【図面の簡単な説明】
第１図は実施例１に示される丸形磁気回路の構
成図、第２図は同ＢＲの分布グラフ、第３図は同
強磁界領域の平面図、第４図は第１図の場合と着
磁方向を全く逆にした場合の構成図、第５図は第
１図の場合と同様な磁石構成を持つ角形の磁気回
路の構成図、第６図は実施例２に示される磁気回
路の構成図、第７図は実施例３に示される磁気回
路の構成図、第８図は実施例４に示される磁気回
路の構成図、第９図は実施例５に示される磁気回
路の構成図、第１０図は実施例６に示される磁気
回路の構成図、第１１図はマグネトロンスパツタ
装置の概念図、第１２図は従来の磁気回路の構成
図、第１３図は同ＢＲの分布グラフ、第１４図は
同強磁界領域の平面図である。 １……真空容器、２……スパツタガス導入管、
３……排気装置、４……ターゲツト、５……ター
ゲツト支持台、６……基板、７……基板ホルダー
、８……バツクヨーク、９……中央磁石、１０…
…外周磁石、１１……補助磁石、１２……継鉄。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 真空容器内に設置されたターゲツト及び、
    ターゲツト支持台５に内蔵された永久磁石磁気回
    路による磁界発生手段を持つマグネトロンスパツ
    タ装置において、ターゲツト表面に垂直な着磁方
    向を持ち、お互いに逆むきの着磁方向を持つ、パ
    ツクヨーク８の中心部に固定された中央磁石９と
    外周部に固定された外周磁石１０の間に、ターゲ
    ツト表面と平行な着磁方向を持つ補助磁石１１を
    設けた永久磁石磁気回路を持つことを特徴とする
    マグネトロンスパツタ装置。 (2) 補助磁石１１が、中央磁石９及び又は外周
    磁石１０と、非接触あるいは非磁性体を介して接
    触している状態に固定された永久磁石磁気回路を
    持つ請求項第(1)項記載のマグネトロンスパツタ
    装置。 (3) 補助磁石１１を二組有し、その内の一組が
    中央磁石９に、他の一組が外周磁石１０に接触し
    ている永久磁石磁気回路を持つ請求項第(1)項記
    載のマグネトロンスパツタ装置。 (4) 補助磁石１１の磁極面が継鉄１２によりバ
    ツクヨーク８と連結してある永久磁石磁気回路を
    持つ請求項第(1)項記載のマグネトロンスパツタ
    装置。 (5) 真空容器内に設置されたターゲツト及び、
    ターゲツト支持台５に内蔵された永久磁石磁気回
    路による磁界発生手段を持つマグネトロンスパツ
    タ装置において、ターゲツト表面に垂直な着磁方
    向を持ちバツクヨーク８の中心部に固定された中
    央磁石９と、ターゲツト表面に平行着磁方向を持
    つ外周磁石１０からなる永久磁石磁気回路を持つ
    ことを特徴とするマグネトロンスパツタ装置。 (6) 中央磁石９と外周磁石１０との間に、ター
    ゲツト表面と平行な着磁方向を持つ補助磁石１１
    を設けた永久磁石磁気回路を持つ請求項第(5)項
    記載のマグネトロンスパツタ装置。 (7) 補助磁石１１が、中央磁石９及び外周磁石
    １０と、非接触あるいは非磁性体を介して接触し
    ている状態に固定された永久磁石磁気回路を持つ
    請求項第(5)項記載のマグネトロンスパツタ装置
    。 (8) 各磁石が角形に構成されている永久磁石磁
    気回路を持つ請求項第(1)項〜第(7)項いずれかに
    記載のマグネトロンスパツタ装置。
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