JPH02108664A

JPH02108664A - アゼチジノン誘導体及びその製造法

Info

Publication number: JPH02108664A
Application number: JP63261219A
Authority: JP
Inventors: Susumu Nakagawa; 晋中川; Fumio Nakano; 文雄中野; Koji Yamada; 耕司山田
Original assignee: Banyu Phamaceutical Co Ltd
Current assignee: MSD KK
Priority date: 1988-10-17
Filing date: 1988-10-17
Publication date: 1990-04-20

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野本発明は、医薬の分野で有用な３−アシルアミノ一４−
フルオロメチル−２−アゼチジノン−１−スルホン酸誘
ｌ導体の合成中間体として有用な化合物及びその製造法
に関するものである。従来の技術本５こ明者らは，一般式（式中、Ｒ′はアシル基を示す。）で表される３−アシ
ルアミノー４−フルオロメチル−２−アゼチシノン−１
スルホン酸誘導体、いわゆるモノバクタム誘導体が強い
抗菌活性を示し、医薬品として有用であることを見い出
した（特開昭５８−２０８２８８号、同５９−２０２８
１号及び同５９−１７５４９０号公報）。しかし、該誘
導体の従来の製造法は工業的生産に不利であり、新規合
成法の開発が望まれていた。開明が解決しようとする課題本弁明は、前記３−アシルアミノ−４−フルオロメチル
ー２−アゼチジノン誘導体の工業的に有利な新規合成中
間体を提供せんとするものである。課題を解決するための手段本発明者らは、一般式（式中、Ｒ′はアシル基を示す。）で表される３−アシ
ルアミノ−４−フルオロメチル−２−アゼチジノン−１
−スルホン酸誘導体が優れた抗菌活性を示すことを見い
出した（前記文献参照）。従来、２−アゼチジノン−１
−スルホン酸誘導体、いわゆるモノバクタム類の合成法
としては、ミラー（に１ｌｌｅｒ）等のジャーナル・オ
ブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ。Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、）、第４７巻、４９２８−４９３３
頁（１９８２年）及び認容等のケミカル・アンド・ファ
ーマシューティカル・ブレチン（Ｃｈｅｍ、Ｐｈａｒｍ
、Ｂｕｌｌ、）、第３２巻。１３０３−１３１２頁（１９８４年）等の方法が同月さ
れていた。しかしながら、ミラー等の方法は１反応コントロールが
困難であること、高価かつ毒性・腐食性の強い無水トリ
フルオロ酢酸を使用する二と等工業的生産に不向きであ
り、又認容等の方法は、高価なブチルリチウムを使用し
なければならない等その他種々の欠点を有する。そこで
、本発明者らは、優れた抗菌活性を有する３−アシルア
ミノ−４−フルオロメチル−２−アゼチジノン−１−ス
ルホン酸誘導体（ＸＩＩＩＩの工業的に有利な製造法に
ついて鋭意研究した結果、後記工程式Ａ−Ｂに示す優れ
た新規合成中間体及びその工業的に有利な製造法を見い
出すことにより１本発明を完成した。即ち、本発明は、一般式（式中、Ｒ’は水素原子又はスルホ基を示す。）で表さ
れるアゼチジノン誘導体又はその塩、及び（式中、Ｒ’
は水素原子又はアジド基を、Ｒ゛はフッ素原子、水酸基
又は保護された水酸基を示す。但し、Ｒ１がアジド基、Ｒ”が水酸基である組合せを除
く、）で表される化合物、及びそれらの製造法に関する
ものである。（以下余白） ↓　還元工程式　Ａ工程式　Ｂ（式中、Ｒｏは水素原子又は水酸基の保護基を、Ｒｏは
水酸基又は脱Ｎ基を、Ｒ“は水酸基の保護基を示す。）脱離基及び水酸基の保護基の意義は、後記、製造法の詳
細な説明で記載される。本発明の方法は、まずイミド化合物（ＩＸ）を位置選択
的に還元することから始まる工程式Ａ及びＢよりなる。化合物［［Ｘ］の還元は、化合物（ＩＸ］の水酸基を脱
離基に変換したのち行うこともできる。次に化合物〔刈〕の一級アルコールを選択的に保護し、
化合物（Ｘｌｌ）を製造する。化合物［Ｘ［［］の環化
反応は、一般式〔罰〕において、Ｒ１が水酸基の場合は
縮合剤を用い、Ｒｓが脱離基の場合は塩基を用いて行い
、更に要すれば水酸基の保護基を除去してアゼチジノン
誘導体〔■〕を得る。次に該化合物〔■］の水酸基の保
護基を除去した化合物（Ｖ）にフッ素化剤を反応させる
か、又は化合物（Ｖ］の水酸基を脱離基に変換したのち
フッ素化剤を反応させることにより４−フルオロメチル
アゼチジノン化合物〔℃月とし、更に該化合物ｒＶｌ）
をアジド化することにより３−アジド−４−フルオロメ
チルアゼチジノン化合物（ＩＩ）を得ることができる。また、該化合物（ＩＩ）は、化合物〔■〕をアジド化し
たのち、要すれば水酸基の保護基を除去することにより
３−アジド−４−ヒドロキシアゼチジノン誘導体（■）
とし、更に要すれば水酸基を脱離基に変換した後、該化
合物にフッ素化剤を反応させることによっても製造する
ことができる。３−アジド−４−フルオロメチルアゼチ
ジノン化合物［１１］は酸化的脱離反応により容易にｒ
ｉｆ！ｔ４−メトキシフェニル化され、化合物［ＸｒＶ
］に効率よく導かれる。該化合物をスルホン化すること
によって得られる３−アジド−４−フルオロメチル−２
−アゼチジノン−１−スルホン酸（ＸＶ）は特開昭６１
−５３２８２号公報に記載の方法に準じてそのアジド基
を還元することにより、式で表される化合物に変換することができる８次にアシル
化することにより１式（Ｒ“は前記の意味を有する。）で表される抗菌剤とし
て有用性の高い３−アシルアミノ−４−フルオロメチル
アゼチジノン誘導体（特開昭５８−２０８２８８号、同
５９−２０２８１号及び同５９−１７５４９０号公報）
を製造することができる。本発明の方法によれば、りんご酸から容易に得られる３
−ヒドロキシスクシンイミド誘導体（［Ｘ）を位置選択
的に効率良く還元することができ、又アゼチジノン環化
反応を緩和な条件で収率良く行うことができる。アジド
基は４位置換基に対してトランス位に導入され、更に、
Ｎ−保護基の４−メトキシフェニル基の脱離が硝酸第二
セリウムアンモニウム等の酸化剤を用いて容易かつ高収
率で行える等工業上の利点を有している。従って１反応
コントロールが困難であること、高価かつ毒性・腐食性
の強い無水トリフルオロ酢酸を使用しなければならない
ミラー等の方法又は高価なプチルリチウムを使用しなけ
ればならない波谷等の方法に比べ、本発明の方法が優れ
ていることは明らかであり、又本発明により開示される
合成中間原料は有用性の高い化合物である。次に、本発明化合物の製造法について、更に詳細に説明
する。３−ヒドロキシスクシンイミド誘導体（［Ｘ］と酸無水
物又は酸ハロゲン化物の反応は、１当量ないし大過剰の
塩基の存在下、通常適当な溶媒を用いて行われる。反応に用いる塩基としては１例えばリチウム、ナトリウ
ム、カリウム等のアルカリ金属；例えば水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物；例えば
ブチルリチウム等の有機金属化合物；例えば炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩：例えば炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属
炭酸水素塩；例えばトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルモル
ホリン、ｊトメチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン
、　Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の第３級アミン；例え
ばピリジン、ピコリン、ルチジン、キノリン。イソキノリン等の芳香族アミン等が挙げられる。酸無水物としては、例えば無水酢酸、無水ジクロロ酢酸
、無水トリフルオロ酢酸等のカルボン酸無水物；例えば
メタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン
酸無水物、ベンゼンスルホン９　無水物、ｐ−トルエン
スルホン酸無水物等のスルホン酸無水物が挙げられる。酸ハロゲン化物としては、例えばアセチルクロリド、ア
セチルプロミド、ジクロロアセチルクロリド、トリフル
オロアセチルクロリド等のカルボン酸ハロゲン化物；例
えばメタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンス
ルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド、Ｐ−
トルエンスルホニルクロリド等のスルホン酸ハロゲン化
物が挙げられる。反応は通常、例えばアセトン、アセトニトリル、塩化メ
チレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド等の有機溶媒中で行うことができる。又、
前記有機溶媒の代りに、例えばトリメチルアミン、トリ
エチルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、ピリ
ジン等の有機アミンを大過剰用いて実施することもでき
る。反応温度及び反応時間は一１０〜８０℃、好ましくは０
〜３０℃で１〜６時間である。スクシンイミド誘導体（ＩＸ）及び［Ｘ］の還元開環反
応は、適当な溶媒を用いて行うことが望ましい。反応に用いる還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナト
リウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素リチウム、シ
アノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニ
ウム等を用いることができ、特に水素化ホウ素ナトリウ
ムが好ましい、還元剤の使用量及び反応温度は還元剤の
種類によって異なるが、通常１〜１０当量用い、−４０
℃から室温で処理する１反応はメタノール、エタノール
、含水メタノール、含水エタノール、含水テトラヒドロ
フラン等の溶媒中で行うことができる。４−ヒドロキシｒｉＩＳ［アミド誘導体〔刈〕の第一級
水酸基の選択的保護は、β−ラクタム合成の分野で通常
使用されている保護基を適宜選択して用いることができ
る。保護基の導入方法は、例えばティ・ダブリュー・グ
リーン（７，Ｗ、Ｇｒｅｅｎｅ）著、′ブロテクティブ
・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒ
ｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉ
ｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ）”、ワイリイ（Ｗｉｌｅｙ）社
、（１９８１年）；ジエイ・エフ・ダブリュー・マコミ
ー（Ｊ、Ｆ、ＩＪ、。ＭｃＯａ＋ｉｅ）著、′ブロテクテイブ・グループス・
イン・オーガニック・ケミストリー（Ｐｒｏｔｅｃｔｉ
ｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓｊｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｉｌ
ｉｓｔｒｙ）”、ブレナム　プレス（Ｐｌｅｎｕｍ　Ｐ
ｒｅｓｓ）社、（１９７３年）等に記載されている方法
に準じて行うことができる。水酸基の保護試薬としては、例えばメトキシメチルクロ
リド、２−メトキシエトキシメチルクロリド、メチルチ
オメチルクロリド、２−クロロテトラヒドロフラン、フ
ェナシルクロリド、フェナシルプロミド、ベンジルクロ
リド、ベンジルプロミド。４−メトキシベンジルクロリド、４−ニトロペンシルク
ロリド、トリチルクロリド、クロロトリメチルシラン、
ｔｅｒｔ−ブチルクロロジメチルシラン等のハロゲン化
物２例えばアセチルクロリド、アセチルプロミド等の酸
ハロゲン化物；例えば無水酢酸等の酸無水物；例えばト
リクロロエチルクロロホルマート、ベンジルクロロホル
マート等のハロゲノホルマート；例えばエチルビニルエ
ーテル、２メトキシプロペン、ジヒドロフラン、ジヒド
ロビラン等のビニルエーテル等が挙げられる。反応は、水酸基の保護試薬としてハロゲン化物、酸ハロ
ゲン化物、酸無水物、ハロゲノホルマート等を用いる場
合、１〜３当量の脱酸剤を用いて適当な溶媒中で行うか
、又は反応溶媒として過剰の塩基、例えばトリメチルア
ミン、トリエチルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルア
ミン、ピリジン等の存在下に行う。保護試薬は１〜２．
５当量用いればよい６反応を行うにあたっては１例えば塩化メチレン、クロロ
ホルム、アセトン、テトラヒドロフラン、アセトニトリ
ル、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド等の溶媒を用いることができる。反応温度及び反応時間は保護試薬の種類によっても異な
るが、通常−４０〜３０℃、０，５〜５時間で円滑に進
行する。又、水酸基の保護試薬としてビニルエーテルを用いる場
合、触媒爪ないし０．５当量のｐ−トルエンスルホン酸
、塩化水素、臭化水素、硫酸、オキシ塩化リン、三フッ
化ホウ素、三フッ化ホウ素エーテル錯体等のルイス酸、
ピリジニウム　ｐ−トルエンスルホナート等の存在下、
１〜１．５当量の保護試薬を用いればよい。反応温度及び反応時間は保護試薬の種類によって異なる
が１通常０〜６０℃、０．５〜２時間で完結する。反応終了後は生成物〔■〕を単離することなく次の反応
に付すこともできる。化合物［ＸＩｌ］を塩基又は縮合剤の存在下に閉環反応
を行うに際しては、適当な溶媒を用いることが望ましい
。塩！（の存在下における閉環反応は、一般式（■］のｒ
！ｉ換基Ｒ゛が脱離基である場合、例えばリチウム、ナ
トリウム、カリウム等のアルカリ金属５例えば水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物１
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ
金属水酸化物１例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等
のアルカリ金属炭酸塩；例えばナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウム
エトキシド、カリウム　ｔｅｒｃ−ブトキシド等のアル
カリ金属アルコキシド；例えばブチルリチウム等の有機
金属化合物等の塩基の存在下に行うことができる。塩基の使用量は化合物［Ｘｌｌ］に対して通常１−１．
２当量用いる。反応を行うにあたってはアセトン、アセトニトリル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、
キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジク
ロロエタン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド等の有機溶媒中、これらの混合溶媒中、又
はこれらの有機溶媒と水との二層系で行うことができる
。反応温度及び反応時間は塩基の種類によって異なるが、
通常０−１００℃で、０，５〜５時間で円滑に進行する
。反応を二層系で行う場合、ダブリュー・ビー・ウニバー
（Ｗ、Ｐ、讐ｅｂｅｒ）、ジー・ダブリュー・ゴケル（
Ｇ、Ｗ、Ｇｏｋｅｌ　）共著、“フェイズ・トランスフ
ァー・キャタリシス・イン・オーガニック・シンセシス
（Ｐｈａｓｅ　　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　　Ｃａｔａｌｙｓ
ｉｓ　　ｉｎ　　ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎ　ｔｈｅｓ　ｉ
　ｓ　）”、（１９７７年）〔口伝・西谷共訳“相間移
動触媒”、（化学同人）〕等に記載の相間移動触媒を併
用してもよい。相間移動触媒としては、例えばテトラメ
チルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロ
リド、ペンシルトリブチルアンモニウムクロリド、トリ
オクチルメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルア
ンモニウムプロミド、テトラブチルアンモニウム　水素
　スルフェート等を挙げることができる。縮合剤の存在下における閉環反応は一般式

【■】の置換
基Ｒ＠が水酸基である場合、１〜２当量のトリフェニル
ホスフィンと１〜２当量のジエチルアゾジカルボキシラ
ートを用いて行うことができる。反応を行うにあたっては、例えばテトラヒドロフラン、
アセトニトリル、ジオキサン等の有機溶媒中で行うこと
ができる。反応温度及び反応時間は０〜４０℃で０．５〜２時間で
円滑に進行する。一般式（Ｖ）又は

【■】で表される化合物とフッ素化剤
との反応は、適当な溶媒を用いて行うことが望ましい。フッ素化反応に使用できるフッ素化剤としては、例えば
ジメチルアミノ硫黄　トリフルオリド、ジエチルアミノ
硫黄　トリフルオリド、ピロリジノ硫黄　トリフルオリ
ド等のジアルキルアミノ硫黄トリフルオリド；クロロト
リフルオロエチレン−ジエチルアミン付加体、ヘキサフ
ルオロプロピレン−ジエチルアミン付加体等のフルオロ
アルキルアミン試薬；四フッ化硫黄、四フッ化セレン。ジフルオロトリフェニルホスホラン、フッ化ナトリウム
、フッ化カリウム、フッ化リチウム、フッ化セシウム、
テトラブチルアンモニウム　フルオリド等が挙げられる
。フッ素化試薬は、化合物（Ｖ）又は〔■〕に対して通
常１〜１０当量が用いられる。反応に使用される適当な
溶媒としては、フッ素化反応に悪影響を与えない溶媒、
例えば塩化メチレン、トリクロロフルオロメタン、ジエ
チルエーテル、ジエチレングリニールジメチルエーテル
、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド又はこれらの混合溶媒が挙げられる。反応温度は、通常−７８〜１００℃で行われ、好ましく
は一７８〜０℃であり、又、反応にあたっては、適当な
塩基又はクラウンエーテル等の相間移動触媒を添加する
こともできる。適当な塩基としては、例えば炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等の無機塩基；トリエチルアミン、ピリジン等の
有機塩基がルトげられる。又、化合物［Ｖｌ又は〔■〕は水酸基を脱離基に変換し
たのち、上記フッ素化反応に付すこともできる。好まし
い脱離基としては、例えばアセトキシ基、ジクロロアセ
トキシ基、トリフルオロアセトキシ基、メタンスルホニ
ルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、
ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−）ルエンスルホニル
オキシ基等が挙げられる。化合物（Ｖｌ）又は〔■〕のアジド化は、クラウスキュ
ーライン（Ｋｌａｕｓ　ＫＪｈｌｅｉｎ）等の方法〔ジ
ュスッス・リービッヒス・アンナーレン・デア・ヘミ−
（Ｊｕｓｔｕｓ　Ｌｉｅｂｉｇｓ　Ａｎｎ、Ｃｈｅｍ、
））３６９−４０２頁（１９７４年）に従って行うこと
ができる。即ち、化合物［ＶＩ］又は〔■〕を有機溶媒
中、低温で１．２〜１．５当量（化合物

【■］のＲ４が
水素原子の場合は２．４〜３．０当量）のリチウムジア
ルキルアミドで処理し、生成したリチウムエノラートを
１．５〜３．０当量のトシルアジドで捕捉後、５〜１０
当量のクロロトリメチルシランで分解することにより、
３位にアジド基が導入（４位置換基に対してトランス配
位）された化合物（１１）、　（■〕又は〔■〕のヒド
ロキシ基が保護された化合物を得ることができる６反応
に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン
、１．２−ジメトキシエタン等が、又、リチウムジアル
キルアミドとしては、例えばリチウムジイソプロピルア
ミド、リチウムジシクロへキシルアミド等が挙げられる
。化合物［［１）の脱メトキシフェニル反応は１通常適当
な溶媒中、酸化剤を用いて、酸化的脱離反応に付すこと
によって行われる。反応に用い得る酸化剤としては、例えば硝酸第二セリウ
ムアンモニウム、過硫酸カリウム、オゾン等が挙げられ
る。反応に使用できる溶媒及び反応条件は、酸化剤の種
類によって異なるが、例えば次のような溶媒及び条件を
挙げることができる。酸化剤として硝酸第二セリウムアンモニウム、過硫酸カ
リウムを用いる場合、例えばアセトニトリル、アセトン
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、メタノール、エタノール等の有機溶媒と
水との混合溶媒中で行う二とができる。酸化剤の使泪量
は化合物〔ｒｌ）に対して通常１〜４当量用いる。反応
温度は一１０〜１００℃で円滑に進行する。又、酸化剤として過硫酸カリウム等を用いる場合、例え
ばリン酸緩衝液等を用いて反応を中性付近で行うことも
できる。酸化剤としてオゾンを用いる場合、例えばベンゼン、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素。ジエチルエーテル、酢酸エチル、メタノール、エタノー
ル、アセトン、酢酸等の該反応に悪影響を与えない溶媒
中あるいはこれらの混合溶媒中で行うことができる。反応は化合物［１１］に対して通常過剰のオゾンを用い
、反応温度は一５０〜５０℃で行うことができる。反応終了後、本反応の中間体であるオシニドを常法によ
り分解する６分解方法としては例えば熱分解２例えば過
酸化水素による酸化分解：例えばジメチルスルフィド、
亜鉛末、トリフェニルホスフィン、チオ硫酸ナトリウム
等による還元分解が挙げられる。化合物ｒＸＩＶ）をスルホン化して化合物（ＸＶＩに導
く反応は、適当なスルホン化剤を用いて、通常、反応に
悪影響を及ぼさない有機溶媒中で行う、適当なスルホン
化剤としては、例えば二酸化硫黄、クロロスルホナート
、クロロトリメチルシリルスルホナート、二酸化硫黄錯
体等が挙げられる。二酸化硫黄と錯体を形成するものと
しては、例えばジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、トリエチルアミン、ピリジン、ルチジン、ピコリ
ン等が挙げられる。上記反応は１例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、
塩化メチレン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド等の該反応に悪影響を与えない溶媒中あるいはこれら
の混合溶媒中で行うことができる。スルホン化剤は通常
１〜１０倍モル用い、反応温度は一７８〜８０℃で、好
ましくは０〜３０℃である。又、該スルホン化反応は例えばジオキサン、Ｎ。Ｎ−ジメチルホルムアミド、トリエチルアミン、ピリジ
ン、ルチジン、ピコリン等の存在下、二酸化硫黄又はク
ロロトリメチルシリルスルホナートを作用させて、反応
系内において対応する二酸化硫黄錯体を形成させても実
施することができる。反応終了後９例えば濃縮、溶媒抽出、再結晶、クロマト
グラフィー等の公知の分離精製手段により化合物［ＸＶ
Ｉ、その塩又はその溶媒和物が得られる。化合物［ＸＶ）の１位のスルホ基における塩類としては
、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩
；例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土
類金属塩；例えばアンモニウム塩；例えばトリメチルア
ミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン
塩、エタノールアミン塩、ジェタノールアミン塩、トリ
エタノールアミン塩、プロカイン塩等の脂肪族アミン塩
；例えばＮ、Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン塩等のア
ラルキルアミン塩；例えばピリジン塩、ピコリン塩、キ
ノリン塩、イソキノリン塩等の複素環芳香族アミン塩；
例えばテトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアン
モニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベン
ジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルア
ンモニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、テ
トラブチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩が
挙げられる。又、化合物（ＸＶ）の溶媒和物としては１例えば水、メ
タノール、エタノール、プロパツール、エチレングリコ
ール、メチルセロソルブ、アセトン、アセトニトリル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン
、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素
、塩化エチレン、ホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、アセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の溶媒和物が挙げられる。本発明の方法によって得られる３−アジド−４−フルオ
ロメチル−２−アゼチジノン−１−スルホン酸（ＸＶ）
又はその塩は、下記反応式に示されるように３−アミノ
−４−フルオロメチル−２−アゼチジノン−１−スルホ
ン酸（ＸＶＩ）に文献記載の方法により還元することが
でき（特開昭６１−５３２８２号公報）、更にアシル化
することにより、優れた抗菌活性を有するモノバクタム
誘導体（特開昭５８−２０８２８８号、同５９−２０２
８１号及び同５９−１７５４９０号公報）に導くことが
できる。（Ｘ　Ｖ）（ＸＶＩ）（ｘｍ）（式中、Ｒ′はアシル基を示す、）尚１本発明の中間体は不斉炭素に基づく、各種立体異性
体が存在するが、２−アゼチジノン誘導体については３
，４−トランス配置を意味する。又、本発明の出発原料である３−ヒドロキシスクシンイ
ミド誘導体［ＩＸ］はりんご酸とアニシジンから容易に
合成することができる（参考例１参照）。上記の如く、本発明化合物は、医薬上、特に抗菌剤とし
て有用な３−アシルアミノ−４−フルオロメチルモノバ
クタム類の合成中間体として有用である。次に実施例及び参考例を挙げて本発明の詳細な説明する
。参考例１（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｎ−（４−メトキシフェニ
ル）スクシンイミドキシレン１３ｍＱにＬ−（−）−りんご酸１．３ｇ（９
，７ミリモル）を加え、加温溶解する。この溶液にアニシジン１．２ｇ（９，７ミリモル）をキ
シレン６ｓＥｌに溶かした溶液を加え、１時間煮沸還流
した後、アニシジン０．８ｇ（６，５ミリモル）を追加
し、更に２時間煮沸還流する１反応液を冷却した後、析
出結晶を酢酸エチルで洗浄して、標記化合物２．ｌＯｇ
（収率９８％）を得る。実施例１（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｎ−（４−メトキシフェニ
ル）スクシンイミド１．８ｇ（８，３７ミリモル）とｐ
−）ルエンスルホン酸無水物４．１ＪＣ（１２，５ミリ
モル）を塩化メチレン１０ｍＱに溶かす、この溶液に０
℃でピリジン１．３２ｍ＋（１（１６，７ミリモル）を
塩化メチレン６．５ｆｆｉΩに溶かした溶液を加え、３
０分間撹拌した後、更にｐ−トルエンスルホン酸無水物
１．４ｇ（４，２９ミリモル）とピリジン０．３４ｍ　
Ｑ　（４，３ミリモル）を加え、５分間撹拌する。反応
液を飽和重曹水に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。有機
層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
下留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー［ＩＪａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００，酢酸エチ
ル−ヘキサン（１：３）で溶出］に付し、目的物を含む
画分を濃縮し、固化残渣をエーテルで洗浄して、標記化
合物１．８０ｇ（収率５７．４％）を得る。ＭＰ：１４２℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ａｍ−’　：１７２０．１５１１ＮＭＲ
（ＣＤＣ１，）δ：２．４０（３８，ｓ）、２．８６（
ＩＨ，ｄｄ、に４．８及び１８Ｈｚ）、３．２０（ＩＨ
，ｄｄ、Ｊ＝８及び１８１１ｚ）、３．７５（３Ｈ，ｓ
）。５．３７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．８及び８Ｈｚ）、６．
８８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９１１ｚ　）＋　７．０９（２８
、ｄ　、Ｊ　＝９１１ｚ）　、７．３５（２Ｈ、ｄ　、
Ｊ＝７．５Ｈｚ　）　。７．８２（２１１，ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）実施例２（３ｓ）−？（４−メトキシフェニル）−３−（ｐ−ｈ
ルエンスルホニルオキシ）スクシンイミド１．ｏｇ【２
．６ミリモル）をメタノール２０ｍ　Ｑに溶かす、この
溶液に室温で撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム２５
０ＩＩＩｇ（６，６ミリモル）を数回に分は加える０反
応液を１５分間ｆｉ＃１！した後、酢酸０．４ｍ　Ｑを
加える１反応液を５％重曹水に注ぎ、塩化メチレンで抽
出する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下
溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクＯ
Ｖトゲラフ　４−　（ｌｊａｋｏｇｅｌ　Ｇ−３００，
酢酸エチル−ヘキサン（’１：ｌ）で溶出〕に付し、標
記化合物７６６ｍｇ（収率７６％）を得る。ＩＲ（ＫＢｒ）ａｎ−’　：３３８０，１６６５，１５
４１．１５０８ＮＭＲ（ＣＤＣ１，）δ：２．３０（３
１，ｓ）、２．７６（２８，ｂｒ　ｄ）、３．７６（３
１１，ｓ）、３．７６（２１＋、ａ）、５．０４（１８
，ｍ）、６．７５（２Ｂ、ｄ。Ｊ＝９Ｈｚ）、７．１６（２Ｈ，ｄ、Ｊ・９Ｈ２）、７
．２３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．５実施例４Ｈｚ）、７．７４（２Ｈ，ｄ、に７．５Ｈｚ）、８．２
９（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）実施例３４−ヒドロキシ−３−メタンスルホニルオキシ−Ｎ−（
４メトキシフエニル）酪酸アミド１．Ｏｇ（３，３０ミ
リモル）をピリジン１０ＩＩｌΩに溶かす。この溶液に
室温でトリチルクロリド１．８ｇ（６，４６ミリモル）
を加え、５０℃で２時間撹拌する。過剰のピリジンを減
圧上留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー［Ｗａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００，酢酸エチル−ヘキサ
ン（１：３）で溶出］に付し、標記化合物１．３９ｇ（
収率７７％）を得る。ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｒｎ−’　：３３００，１６５０．１
５０５ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　、　）δ２．７０（２１１，
ｍ）、２．９３（３１（、ｓ）、３．３２（１）１゜、
ｄｄ、Ｊ＝５．６及び１０Ｉｌｚ）、３．５０（ＩＨ，
ｄｄ、Ｊ＝４．４及び１０１１ｚ）、５．１５（ＩＨ，
ｍ）、６．７８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、７．００−
７．７０（１７１１，ｍ）、７．８８（ｌｆＬｂｒ　５
）（３Ｓ）−４−ヒドロキシ−Ｎ−（４−メトキシフェ
ニル）−３−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）酪酸ア
ミド４．１ｇ（１０，８ミリモル）をピリジン４１ｍ　
Ｑに溶かす。この溶液に室温でトリチルクロリド６．０
ｇ（２１，５ミリモル）を加え、５０℃で５時間撹拌す
る。減圧下にピリジンを留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー［Ｗａｋｏｇｅｌ　Ｇ−３００、
酢酸エチル−ヘキサン（１：３）で溶出］に付し、標記
化合物６．６ｇ（収率９８％）を得る。ＩＲ（ＫＢｒ）ａｎ−’　：３３００，１６５０．１５
０２ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：２．３２（３Ｂ、ｓ）
、２．７０（２Ｈ，ｂｒ　ｄ）、３．３２（２１１、ｍ
）、３．７３（３１１、ｓ　）、５．０５（Ｉｔｌ　、
＋ｌ］）、６．７６（２Ｈ、ｄ　。Ｊ−８Ｈｚ）、７．００−７．６０（１９Ｈ，＋ｎ）　
、７．７３（２Ｈ，ｄ、Ｊ・８１１ｚ）。７．６３（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）実施例５（３Ｓ）−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−４−（１−
メトキシ−１−メチルエトキシ）メチル−３−（ｐ−ｈ
ルエンスルホ実施例６（３Ｓ）−４−ヒドロキシ−Ｎ−（４−メトキシフェニ
ル）−３（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）酪酸アミド
２．Ｏｇ（５，２８ミリモル）及び２−メトキシプロペ
ン４．８ｍＱ（５，２８ミリモル）を塩化メチレン２５
１ｕＱに溶かすにの溶液に０℃でオキシ塩化リン１μα
を加え、３０分間撹拌した後、トリエチルアミン１０μ
αを加え、減圧上反応溶媒及び過剰の試薬を留去する。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
［Ｗａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００，酢酸エチル−ヘキサン
（１：３）で溶出］に付し、標記化合物２．２５ｇ（収
率９４％）を得る。ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）δ：１．２２（６Ｈ，ｓ）、２．
３６（３Ｈ，ｓ）、２．７５（２１（、ｄ。Ｊ＝６Ｈｚ）　、３．１０（３８，ｓ）、３．５６（２
Ｈ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、３．７６（３Ｂ、ｓ）、５．０
３（ＬＨ，ｍ）、６．８０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、
？、２０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．３０（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．７６（２８，ｄ。Ｊ＝９１ｉｚ）、８．０２（ＩＨ，ｂｒ　５）（３Ｓ）
−４−ヒドロキシート（４−メトキシフェニル）−３−
（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）酪酸アミド２．Ｏｇ
（５，２８ミリモル）を塩化メチレン４０ｍ　Ｑに溶か
す。この溶液にジヒドロビラン０．５５ｍ　Ｑ　（６，３５
ミリモル）及びピリジニウム　ｐ−トルエンスルホナー
ト０．２５ｇ（１，０５ミリモル）を加え、室温で１時
間撹拌する。反応Ｃ夜を飽和重曹水に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下溶媒を留去する。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｗ
ａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００、酢酸エチル−ヘキサン（１
：３）で溶出〕に付し、標記化合物２．０８ｇ（収率８
５％）の油状物を得る。ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：１．３０−１．８０（６Ｈ
，ｍ）、２．３５（３Ｈ，ｓ）、２．７８（２１１、ｄ
　、Ｊ＝６１１ｚ）、　３．３０−４．　ｔｏ（４ｔｌ
　、　ｍ　）　、　３．７８（３Ｈ、ｓ　）。４．５３（ＩＨ，ｂｒ　　ｓ）、５．１２（ＩＨ，ｂｒ
　　ｔ）、６．８０（２８，ｄ、Ｊ’８１１ｚ）　、７
．２２（２１１、ｄ　、Ｊ・８ｔｌｚ　）、７．３３（
２Ｈ、ｄ　、Ｊ＝８１１ｚ　）　。７．７８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、８．３０（ＩＨ，
ｂｒ　ｓ）実施例７３．５４（２１（、ｄ、Ｊ＝７．２１（ｚ）、３．７５
（２ｔｌ、ｂｒ　ｄ）、３．８０（３１（。ｓ）、４．６５（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．０
８（ＩＨ，ｍ）、６．８２（２Ｈ。ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ＞、７．２４（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）
　、７．３２（２１Ｉ、ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）、７．７８
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）、７．９３（ＩＨ，ｂｒ　
ｓ）２ま上（３Ｓ）−４−ヒドロキシ−Ｎ−（４−メトキシフェニ
ル）−３−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）酪酸アミ
ド２．Ｏｇ（５，２８ミリモル）を塩化メチレン４０ｍ
　Ｑに溶かす。この溶液にエチルビニルエーテル０．７２ｍ　Ｑ　（７
，９１ミリモル）及びピリジニウム　Ｐ−トルエンスル
ホナ−ト０．６３ｇ（２，６４ミリモル）を加え、室温
で３０分間撹拌する。反応液を飽和重曹水に注ぎ、塩化
メチレンで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、ｆｊ、
圧下溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィ＝（ｌＪａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００、
酢酸エチル−ヘキサン（１°３）で溶出）に付し、標記
化合物２．３７ｇ（収率１００％）の油状物を得る。ＨＲ（ＣＤＣＬ　）δ：１．１４（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．
２１１ｚ）、１．２２（３１１，ｄ、Ｊ＝４．８１１ｚ
）、２．３８（３８，ｓ）、２．７６（２１１，ｄ、Ｊ
＝６．４Ｈｚ）。実施例８（３Ｓ）−４−ヒドロキシ−Ｎ−（４−メトキシフェニ
ル）−３−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）酪酸アミ
ド２．Ｏｇ（５，２８ミリモル）とイミダゾール１．０
２ｇ（１５，８ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド２０ｍ　Ｑに溶かす。この溶液に室温でｔｅｒｔ−ブチルクロロジメチルシラ
ン１．１４ｇ（７，９１ミリモル）を加え、２時間撹拌
する。反応液に酢酸エチルを加え、水及び飽和食塩水で
洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
上溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー［Ｗａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００、５０
ｇ、酢酸エチル−ヘキサン（Ｉ“４）で溶出）に付し、
標記化合物２．６７ｇ（収率１００％）の油状物を得る
。ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δニー０．０６（６８，ｓ）、
０．７６（９）１．ｓ）、２．２６（３８゜ｓ）、２．
６３（２Ｈ，ｂｒ　ｄ）、３．７３（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）
、４．８３（ＩＨ。ｂｒ　ｔ）、６．７２（２１１，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７
．１３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。７．２０（２８，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．６２（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．７０（１８，ｂｒ　ｓ）実施例９（３Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−Ｎ−（４−メトキシ
フェニル）酪酸アミド１．３ｇ（５，７８ミリモル）を
ピリジン１３ｍＱに溶かす、この溶液にトリチルクロリ
ド２．４ｇ（８，６２ミリモル）を加え、６０℃で５時
間撹拌する。過剰のピリジンを減圧上留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーｒＷａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００，
酢酸エチル−ヘキサン（１：１）で溶出〕に付し、標記
化合物２．３０ｇ（収率８５％）を得る。ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　：３３００．１６４５．１５
０３ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：２．５０（２Ｈ，ｂｒ
　ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、３．２０（２Ｈ，ｂｒｄ、Ｊ＝５
Ｈｚ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、４．２０（１８，ａ＋
）、６．８２（２８，ｄ。Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１０−７．７０（１７Ｈ，ｍ）、８
．１６（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）実施例１０５０％油性水素化ナトリウム１４７ｍｇ（３，０６ミリ
モル、ヘキサンで洗浄して用いる）を塩化メチレン２４
ｍ　ＱとＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド６ｍＧの混液に
懸濁し、室温で撹拌しなから３−メタンスルホニルオキ
シ−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−４−）リチルオキ
シ酪酸アミド１．３９ｇ（２，５５ミリモル）を塩化メ
チレン２０ＩＩＱとＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５Ｉ
ＩＩＱの混液に溶かした溶液を２．５時間で滴下する。反応液を直ちに飽和炭酸ナトリウム水溶液に注ぎ、塩化
メチレンで抽出する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、溶媒を減圧上留去し、結晶残渣をジエチルエーテ
ルで洗浄して、標記化合物４１１■を得る。更に濾液を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマドグラ
フ４−［Ｗａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００，５ｇ、酢酸エチ
ル−ヘキサン（１：３）で溶出］に付し、２次晶７０ｍ
ｇを得る。総収量４８１ｍｇ（収率４２％）。実施例１１５０％油性水素化ナトリウム３５＋ｎｇ（０，７３ミリ
モル、ヘキサンで洗浄して用いる）を含むＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド１．４ＩＱと塩化メチレン５．８Ｉｌ
＋Ｑの混液に、室温で撹拌しながら（３Ｓ）−Ｎ−（４
−メトキシフェニル）−３−（ｐ−トルエンスルホニル
オキシ）−４−トリチルオキシ酪酸アミド４５０ｍｇ（
０，７３ミリモル）を含むＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド１．４ｍｆｌと塩化メチレン５．８ｍ　Ｑの溶液を３
０分間で滴下する０反応液に酢酸０．５ｍ　Ｑを加えた
後、飽和重曹水に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。抽出
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去す
る。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー［ｌＪａｋｏｇｅｌＣ−３００，酢酸エチル−ヘキサ
ン（１：３）で溶出］に付し、標記化合物１６６■（収
率５１％）を得る。ＮＰ：１２５−１２６℃（再結晶溶媒；メタノール）Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）ａｉｌ　：　１７３８，１５０５ＮＭＲ（
ＣＤＣ１，）δ：３．０Ｏ（２Ｈ，ａ＋）　、３．３６
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．４及び１０．５Ｈｚ）、３．５
９（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝３．６及びｌｏ、５Ｈｚ）、３．
８０（３Ｈ，ｓ）、４．１２（ＩＨ，ｍ）、６．８６（
２Ｈ，ｄ、Ｊ：９Ｈｚ）、７．１０−７．７０（１７Ｈ
，ｍ）実施例１１と同様の方法で相当する３−（ｐ−トルエン
スルホニルオキシ＞ｍ酸アミド誘導体を環化し実施例１
２〜１５の化合物を製造した。実施例１２ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：１．３１（６Ｈ，Ｓ）、２
．８０（ｉｌｌ、ｄｄ、Ｊ＝２．８及び１４Ｈｚ）、３
．０２（３８，ｓ）、３．１４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．
８及び１４Ｈｚ）、３．７５（２Ｈ，ｍ）、３．８０（
３Ｈ，ｓ）、４．２０（ＩＨ，ｍ）。６．８８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９＋１ｚ）、７．４３（２Ｈ
，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）実施例１３（４Ｒ）−１−（４−メトキシフェニル）−４−（テト
ラヒトＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：１．３０−１．９Ｇ
（６Ｈ，ｍ）、２．７０−３．３０（２Ｈ，ｍ）。３．４０−３．８０（２Ｈ，ｍ）、３．７６（３Ｈ，Ｓ
）、３．８０−４．１０（２Ｈ。ｍ）、４．５６（ＩＨ，ｍ）、４．２４（ＩＨ，ｍ）　
、６．８６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．４３（２）
（、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）チル）−１−（４−メトキシフェ
ニル）−２−アゼチジノンＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δニ
ー０．１６（３Ｈ，ｓ）、−０，１１（３Ｈ，ｓ）、０
．７７（９Ｈ。ｓ）、２．８５（２Ｈ，ｄｄ、に２．８及び１５Ｈｚ）
、３．０１（ＩＨ，ｄｄ。Ｊ＝５．２及び１５Ｈｚ）　、３．７０（３Ｈ，ｓ）、
３．８４（２Ｈ，ｍ）。４．０８（ＩＨ，ｍ）、６．８０（２１１，ｄ、Ｊ：９
Ｈｚ）、７．３２（２Ｈ，ｄ、Ｊ：９Ｈｚ）実施例１４実施例１６ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：１．０６（１，５Ｈ，ｔ、
Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．１０（１，５Ｈ。ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．２３（１，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝
４．４）１ｚ）、１．２５（１，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝４．４
Ｈｚ）、２．８０−３．１０（２Ｈ，ｍ）、３．１０−
３．７０（２Ｈ，ｍ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．６
０−４．００（２Ｈ，１１）、４．１８（ＩＨ，ａ＋）
、４．６３（０，５）１．ｑ、Ｊ＝４．４Ｈｚ）　、４
．６５（０，５Ｈ，ｑ。Ｊ＝４．４Ｈｚ）、６．８３（２１１、ｄ、、Ｉ’９Ｈ
ｚ）、７．３５（２Ｂ、ｄ　、Ｊ＝９Ｈｚ　）実施例１５（４Ｒ）−１−（４−メトキシフェニル）−４−トリチ
ルオキシメチル−２−アゼチジノン６．０ｇ（１３，４
ミリモル）をテトラヒドロフラン３００ｍ　ｍに溶かす
。この溶液に一７８℃で撹拌しながら０．３２Ｍ　　リ
チウム　ジイソプロピルアミド　テトラヒドロフラン溶
液５０．３ｍ　Ｑ（１６ミリモル）を２分間で、次にｐ
−トルエンスルホニルアジド３．９４ｇ（２０ミリモル
）をテトラヒドロフラン３１ｍΩに溶かした溶液を５分
間で加え、同温度で２０分間撹拌する０反応液にクロロ
トリメチルシラン５．Ｏｍ　Ｑ　（３９，６ミリモル）
を加え、室温で３０分間撹拌する。反応液を飽和重曹水
に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧上留去する。得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｗａｋｏｇ
ｅｌＣ−３００，’２００ｇ、酢酸エチルーヘキサン（
ｌ：８及びｌ：５）で溶出〕に付し、標記化合物４．７
０ｇ（収率７１．６％）及び原料化合物（回収率２６．
７％）を得る。ＩＲ（ＫＢｒ）ｏｆｆ　：　２１２０，１７５５．１５
１ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：３．４２（ＬＨ，ｄｄ
、Ｊ＝２及び１０Ｈｚ）、３．６４（１Ｂ。ｄｄ、Ｊ＝３及び１ＯＨｚ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、
４．０５（１Ｂ、ｂｒ　ｓ）。４．７３（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）、６．８５（２Ｈ，ｄ、Ｊ
＝９Ｈｚ）、７．１０−７．６０（１７ｆｌ、ｍ）実施例１６と同様の方法で相当するアゼチジノン誘導体
をアジド化し実施例１７〜２０の化合物を製造した。ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：１．２６（３８，ｓ）、１
．３４（３Ｈ，ｓ）、２．９８（３Ｈ。ｓ　）　、３　、８０（３）１　ｌｓ　）　、３．８（
２Ｈ１ｍ）　＊　４．１０（ＩＨ、，１１）　、４．７
０（ＩＨ＋　ｄ　。Ｊ＝２１１ｚ）、６．９０（２１１，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）
、７．３６（２１１，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）実施例１８ジノンＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：１．３０−１．９０（６１
，ｍ）　、３．３０−３．８０（２Ｈ，ｍ）。３．８０（３Ｈ，ｓ）、４，００−４．３０（３Ｈ，ａ
＋）、４．７０（ＩＨ，ａ＋）。４．７２（ＩＨ，ｓ）、６．９２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ
ｚ）、７．３７（２Ｂ、ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）実施例１９実施例１７チジノンＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：１．０３（１，５Ｈ，ｔ、
Ｊ＝６．４Ｈｚ）、１．０６（１，５Ｈ。ｔ、Ｊ＝６．４１１ｚ）、１．２５（１，５Ｈ，ｔ、Ｊ
＝５．２Ｈｚ）、１．２８（１，５Ｈ，ｄ、Ｊ：５．２
Ｈｚ）、３．２０−３．６０（２８，ａ＋）　、３．８
０Ｃ３８，ｓ）。３．９２（２１１，ｓ）、４．０８（ＬＨ，ｍ）、４．
７０（２Ｈ，ｍ）、６．９２（２■。ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．３８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９）１ｚ
）実施例２０アゼチジノンＮＭＲ（ＣＤＣ１，）δニー０．１３（３Ｈ，ｓ）、−
０，０３（３Ｈ，ｓ）、０．８５（９Ｈ。ｓ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、４．００（２Ｈ，ｂｒ　
ｓ）、４．０３（ｉ）Ｉ、ｍ）。４．７０（ＩＨ，ｓ）、７．９０（２８，ｄ、Ｊ＝９１
１ｚ）、７．３３（２Ｈ，ｄ、Ｊ：９Ｈｚ　）実施例２１化メチレンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、ｔｉ！縮する。得られた残渣をシリカゲルカラ、
ムクロマトグラフィ−（ＩＪａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００
，５０ｇ、酢酸エチル−ヘキサン（ｌ：５及びｌ：１）
で溶出）に付し、標記化合物２．６２ｇ（収率９６％）
を得る。ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｆｆｌ　：　３４３０，２１１０，１
７４０．１５１ＯＮＭＲ（ＣＤＣ１，−Ｄ？ｌ５Ｏ−ｄ
、　）δ：３，７８（３Ｈ，ｓ）、３．９５（３Ｈ，ｍ
）。４　、７８（ｌ　Ｈ、ｂｒ　ｓ　）　、４　、９０（ｔ
ｎ　、ＩＩ　）　、６　、８５（２８ｔｄ　−Ｊ＝９Ｈ
ｚ）、７．３４（２Ｅ１．、ｄ、Ｊ：９■Ｌ）実施例２
２（３Ｓ、４Ｒ）−３−アジド−１−（４−メトキシフェ
ニル）−４−トリチルオキシメチル−２−アゼチジノン
５．３７ｇ（１１，０ミリモル）を塩化メチレン１ｌＩ
ＩＱに溶かす。この溶液に室温でメタノール１００ＩＩＩＱ及びｐ−ト
ルエンスルホン酸−水和物２．３ｇ（１２，１ミリモル
）を加え、６時間撹拌する。反応液を５％重重水水注ぎ
、塩（３Ｓ、４Ｒ）−３−アジド−４−（１−メトキシ
−１−メチルエトキシ）メチル−１−（４−メトキシフ
ェニル）−２−アゼチジノン１．２６ｇ（３，９４ミリ
モル）をテトラヒドロフラン、酢酸及び水の混合溶媒（
５：２：２）６ｍＱに溶かし、室温で１時間撹拌する０
反応液を５％重曹水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、無水
硫酸ナトリウムで弦燥、減圧下溶媒を留去する。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［Ｗａｋ
ｏｇｅｌＣ−３００，酢酸エチル−ヘキサン（１：１）
で溶出］に付し、標記化合物９１０ｍｇ（収率９３％）
を得る。氷晶のＩＲ，ＮＭＲデータは実施例２１のそれらと全く
一致した。氷晶のＴＲおよびＮＭＲデータは実施例２１のそれらに
全く一致した。実施例２４実施例２３（３Ｓ、４Ｒ）−３−アジド−１−（４−メトキシフェ
ニル）−４−（テトラヒドロピラニルオキシ）メチル−
２−アゼチジノン１．ｏ７ｇ（３，２２ミリモル）をメ
タノール１０１１１２に溶かす。この溶液にｐ−トルエ
ンスルホン酸−水和物０．６１．ｇ（３，２１ミリモル
）を加え、室温で３０分間撹拌する６反応液を飽和重曹
水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥、減圧上溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー【すａｋｏ、ｇｅｌ　Ｇ−
３００、酢酸エチル−ヘキサン（１：Ｉ）で溶出〕に付
し、標記化合物７３５ｍｇ（収率９２％）を得る。（３Ｓ、４Ｒ）−３−アジド−４−（ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシメチル）−１−（４−メトキシフ
ェニル）−２アゼチジノン０．９５ｇ（２，６２ミリモ
ル）をＬＭ　　テトラブチルアンモニウム　フルオリド
　テトラヒドロフラン溶液２ｍＱに溶かし、室温で３０
分間放置する。反応液を減圧上濃縮し、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｔＪａｋｏｇｅ
ｌ　Ｃ−３００，５０ｇ、酢酸エチル−ヘキサン（１：
ｌ）で溶出〕に付し、標記化合物３７１　ｍｇ　（収率
５７％）を得る。氷晶のＩＲおよびＮＭＲデータは実施例２１のそれらに
全く一致した。実施例２５（４Ｒ）−＝１−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキ
シフェニル）−２−アゼチジノン（４Ｒ）−１−（４−メトキシフェニル）−４−トリチ
ルオキシメチル−２−アゼチジノンを実施例２１と同様
の方法により脱トリチル化し標記化合物を製造した。ＩＰ：１１９．５−１２０．５℃（再結晶溶媒：酢酸エ
チル）２０゜［α］Ｄ、＋１２０．３’　（ｃ　１．０．Ｃ）ＩｃＩ
、）元素分析値Ｃ，、）Ｉ、　、　ＮＯ。計算値（％）：Ｃ，６３，７６；Ｈ，６，３２；Ｎ、６
．７６実測値（％）：Ｃ，６３，６６；Ｈ，６，２９；
Ｎ、６．６２ＩＲ（ＫＢｒ）ａｎ−’　：３３５０．１
７２５　、１７００．１６３５ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　−
ＤＭＳＯ−ｄ、　）δ：２．９５（２Ｈ，ｏ）、３．７
４（３Ｈ，ｓ）。３．８０（２Ｈ，ｏ＋）、４．２２（１８，ｍ）、４．
８０（ＬＨ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ）。６．８４（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．３６（２Ｂ、
ｄ、Ｊ：９Ｈｚ）実施例２６（４Ｒ）−４−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ
フェニル）−２−アゼチジノン１．ｏｇ（４，８３ミリ
モル）を塩化メチレン５０ｍ　Ｑに溶かす。この溶液に
一７８℃でジエチルアミノ硫黄　トリフルオリド１．７
６ｍ　Ｑ　（１４，５ミリモル）を加え、１５分間撹拌
する。反応液を室温で１２時間撹拌した後、５％重曹水
に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー　（ｌＪａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００，
１５０ｇ、酢酸エチル−ヘキサン（ｌ：１及びｌ：３）
で溶出〕に付す。目的物を含む画分を６２１し、残渣を
ジエチルエーテルで洗浄して、標記化合物７０７ｍｇ（
収率７０％）を得る。尚、原料化合物１７０ｍｇ（回収串１７％）を回収する
。にＰ：１２３℃（再結晶溶媒、四塩化炭素）元素分析値
Ｃ，、Ｈ，、ＮＦＯ。計算値（％）：Ｃ，６３，１５；ｔｌ、５．７８；Ｎ、
６．６９実甜値（％）：Ｃ，６３，１７；）１，５．７
９；Ｎ、６．６４ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｆｆｌ　：　１７４
２，１５１２Ｎ？ｌＩ？（ＣＤＣＩ、　）δ：２．８８
＜ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．６及び１４．８）１ｚ）。３．１６（ＩＮ、ｄｄ、Ｊ＝５．２及び１４．８）１２
）、３．７３（３＋１．Ｓ）。４．００−４．５０（ＩＩ（、ｆｆｉ　、Ｊｌｌ−Ｆ＝
１４１１ｚ　）、４．５８（ｌＨ、ｄｄｄ　、Ｊ＝４．
８，１０．８及び４６．８Ｈｚ）、４．８０（ｌ）Ｉ　
、ｄｄｄ　、Ｊ＝３．２　。１０．８及び４６．８Ｈｚ）、６．５８（２Ｈ，ｄ、Ｊ
−９１１ｚ）、７．３２（２Ｈ。ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）実施例２７（４Ｒ）−４−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシ
フェニル）−２−アゼチジノン２０７ｍｇ（１，０ミリ
モル）をテトラヒドロフラン１０ｉΩに溶かす、この溶
液に一７８℃で撹拌しながら０．３２Ｍ　　リチウム　
ジイソプロピルアミド　テトラヒドロフラン溶液７．５
ｍ　Ｑ　（２，４ミリモル）を３０秒間で加える。３分
後、ｐ−トルエンスルホニルアジド０．４７ｍ　Ｑ　（
３，０ミリモル）をテトラヒドロフラン２ＩＩＩＱに溶
かした溶液を３０秒間で加える。反応液を３０分間撹拌
した後、クロロトリメチルシラン１．１４ｍｆｆ　（９
，０ミリモル）を加え、次に室温まで昇温する。反応液
を飽和重曹水に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する
。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（Ｉｌｌａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００、酢酸エチル−ヘキ
サン（１：ｌ）で溶出）に付し、標記化合物１８０■（
収率７２％）及び粗製の原料化合物８３ｍｇ（回収率４
０％）を得る。ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：３．７５（３Ｈ，ｓ）、３
．９８（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、３．９８（ＩＨ，ｍ）、４
．７０（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）、６．８２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝
９■ｚＬ７．２８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）実施例２８（４Ｒ）−４−フルオロメチル−１−（４−メトキシフ
ェニル）−２−アゼチジノン６７３ｍｇ（３，２２ミリ
モル）をテトラヒドロフラン３軸Ｑに溶かす。この溶液
に一７８℃で撹拌しながら０．３２Ｍ　　リチウム　ジ
イソプロピルアミド　テトラヒドロフラン溶液１２．　
Ｉｓ　Ｑ　（３，８７ミリモル）を１分間で加える６２
分後、ｐ−トルエンスルホニルアジド０．７２ｍ　Ｑ　
（４，６０ミリモル）をテトラヒドロフラン４．２８ｍ
　Ｑに溶かした溶液を滴下し、３０分間撹拌する１反応
液にクロロトリメチルシラン１．７ｍ　Ｑ　（１６ミリ
モル）を加え、室温で１時間撹拌する。反応液を飽和重
曹水に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。有機層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｗａｋ
ｏｇｅｌＣ−３００、酢酸エチル−ヘキサン（１：４）
で溶出】に付し、標記化合物７５３ｍｇ（収率９３％）
を得る。ＭＰニア６−７６．５℃（再結晶溶媒；酢酸エチル−ヘ
キサン）（α）２０ニー１７７．８°（ｃ　１．０．Ｃ
ＨＣｌ、）元素分析値Ｃ，、Ｈ，、Ｎ４ＦＯ。計算値（％）：Ｃ，５２，７９；Ｈ，４，４３；Ｎ、２
２．３９実測値（％）：Ｃ，５２，７２；Ｈ，４，３２
；Ｎ、２２．１１１Ｒ（ＫＢｒ）ａｎ−’　：２１２０
，１７６０．１５１ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　）δ：３．
７４（３１１，ｓ）、４．２０（ＩＨ，ｂｒ　ｄ、Ｊ：
２４Ｈｚ）。４．６６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．７５（２
Ｈ，ｂｒ　ｄ、Ｊ＝４５Ｈｚ）。６．８５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．２９（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）実施例２９（３Ｓ、４Ｒ）−３−アジド−４−ヒドロキシメチル−
１−（４−メトキシフェニル）−２−アゼチジノン２．
６２ｇ（１０，６ミリモル）を塩化メチレン１３１ＩＩ
ＩＱに溶かす。この溶液に一７８℃でジエチルアミノ硫
黄　トリフルオリド３．８６ｍ　Ｑ　（３１，６ミリモ
ル）を２分間で加える。反応液を同温度で１５分間、次
に室温で３時間撹拌した後、５％重曹水に注ぎ、塩化メ
チレンで抽出する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ｌＪａｋｏｇｅｌ　Ｃ−３００，１５０
ｇ、酢酸エチル−ヘキサン（１：６及びｌ：３）で溶出
〕に付し、目的物を含む両分を濃縮し、標記化合物１．
８１ｇ（収率６８．３％）及び原料化合物０．９３ｇ（
回収率３５．３％）を得る。ＭＰ＋７ロー７６．５℃（再結晶溶媒：酢酸エチル−ヘ
キサン）Ｃα）２０ニー１７７．８°（ｃ　１．０．Ｃ
ｌＣ１，）元素分析値Ｃ，，ＩＩ、、Ｎ、ＦＯ。計算値（％）：Ｃ，５２，７９；Ｈ，４，４３；Ｎ、２
２．３９実測値（％ＩＣ，５２，７２；Ｈ，Ｃ３２；Ｎ
、２２．１１１Ｒ（ＫＢｒ）ｃｆｆｌ　：２１２０．１
７６０．１５１０Ｎ？ＩＲ（ＣＤＣ１，）δ：３．７４
（３Ｈ，ｓ）、４．２０（ＬＨ，ｂｒ　ｄ、Ｊ：２４Ｈ
ｚ）。４．６６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．７５（２
Ｈ，ｂｒ　ｄ、Ｊ＝４５Ｈｚ）。６．８５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　、７．２９（２Ｂ
、ｄ、Ｊ−９Ｈｚ）実施例３０（３Ｓ、４Ｒ）−３−アジド−４−フルオロメチル−２
−アゼチジノン（３Ｓ、４Ｒ）−３−アジド−４−フルオロメチル−１
−（４−メトキシフェニル）−２−アゼチジノン５４５
ｍｇ（２，１８ミリモル）をアセトニトリル１５ｍｆｌ
に溶かす、この溶液に一１Ｏ〜−２０℃で硝酸第二セリ
ウムアンモニウム３．６０ｇ（６，５７ミリモル）を水
２２゜５ＩＩＱに溶かした溶液を３分間で滴下する０反
応液を２０分間撹拌した後、水ｌｏｏｍΩを加え、酢酸
エチル（１００１１Ｑ　Ｘ　３　）で抽出、１０％亜硫
酸ナトリウム水溶液５０ｔｓ　（ｌで３回、５％炭酸ナ
トリウム水溶液５０ｍ　Ｑ及び飽和食塩水５０ＩＩＱで
順次洗浄する。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカラムクＯＶト
ゲラフイー（Ｗａｋｏｇｅｌ　Ｇ−３００，５０ｇ、酢
酸エチル−ヘキサン（１：ｌ）で溶出〕に付し、標記化
合物２８５１１ｇ（収率９１％）を得る。Ｃα１２０ニー２２５．３’　（ｃ　１．０．ＭｅＯＨ
）ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｒｎ−’　＋３２８０．２１００．
１７６０．１２６ＯＮ？Ｉ＋？（ＣＤＣ１，）δ’　３
−８０（ｌ　Ｈ、ａ　、ＪＨ−Ｆ＝１８１（ｚ　）　１
４−５３（ｌ　Ｈ。ｂｒ　ｓ）、４．６０（２Ｈ，ｍ、ＪＨ−Ｆ＝４５Ｈｚ
）、７．００（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）実施例３１ム塩（３Ｓ、４Ｒ）−３−アジド−４−フルオロメチル−２
−アゼチジノン７２６ｍｇ（５，０４ミリモル）をＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍＱに溶かす。この溶液に
三酸化硫黄ピリジン錯体４．０７（２５，１ミリモル）
を加え、室温で２４時間撹拌する。減圧下に反応溶媒を
留去した後、残渣を０．５Ｍリン酸二水素カリウム水溶
液１００ｍ　Ｑに溶かし、塩化メチレン１ＯＯＩＩＩＱ
で２回洗浄する。水層に硫酸水素テトラブチルアンモニ
ウム１．７ｇ（５，０１ミリモル）を加え、塩化メチレ
ンＬｏｏｍ　Ｑで２回抽出する６有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去する。得られた残渣
をシリ、カゲル力ラムクロマトグラフィー〔臀ａｋｏｇ
ｅｌ　Ｃ−３００，２５ｇ、　　５％メタノール−塩化
メチレンで溶出）に付し、標記化合物１．６９ｇ（収率
７２％）の油状物を得る。［ｃｔ　］２０ニー８２．２°（ｃ　Ｏ，３８，ＭｅＯ
Ｈ）ＩＲ（ＫＢｒ）ａｎ−’　：３４８０，２９５０，
２８６０，２１００，１７７０．１６７ＯＮＭＲ（ＤＭ
ＳＯ−ｄ、　）δ：０．９２（１２Ｈ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ
）　、１．２９（８Ｈ。ｌ１１）、１．５５（８）１．ｍ）、３．１５（８Ｈ，
ｍ）、３．７８（２Ｈ，ｍ）、４．５９（ＩＩ、ｍ）、
４．８３（１）１．ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）発明の効果本発明により、医薬上有用な３−アシルアミノモノバク
タム類の合成中間体として有用な４−フルオロメチルア
ゼチジノン誘導体が製造され、その工業的価値は大きい
。特許出願人　　萬有製薬株式会社

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕（式中、Ｒ＾１は水素原子又はスルホ基を示す。）で表
されるアゼチジノン誘導体又はその塩。
（２）式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕で表される化合物を脱４−メトキシフェニル化して、式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕で表される化合物とし、更に必要に応じて該化合物にス
ルホン化剤を反応させることを特徴とする第１請求項記
載の化合物の製造法。
（３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕（式中、Ｒ＾２は水素原子又はアジド基を、Ｒ＾３はフ
ッ素原子、水酸基又は保護された水酸基を示す。但し、Ｒ＾２がアジド基、Ｒ＾３が水酸基である組合せ
を除く。）で表される化合物。
（４）式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔Ｖ〕で表される化合物にフッ素化剤を反応させるか、又は水
酸基を脱離基に変換したのち、フッ素化剤を反応させ、
式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔VI〕で表される化合物とし、次にアジド化することを特徴と
する第３請求項記載のＲ＾２がアジド基、Ｒ＾３がフッ
素原子である化合物の製造法。
（５）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔VII〕（式中、Ｒ＾４は水素原子又は水酸基の保護基を示す。）で表される化合物をアジド化し、ついで必要に応じて
脱保護して、式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔VIII〕で表される化合物を製造し、次に該化合物にフッ素化剤
を反応させるか、又は水酸基を脱離基に変換したのちフ
ッ素化剤を反応させることを特徴とする第３請求項記載
のＲ＾■がアジド基、Ｒ＾■がフッ素原子である化合物
の製造法。
（６）式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IX〕で表される化合物に要すれば酸無水物又は酸ハロゲン化
物を反応させて、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔Ｘ〕（式中、Ｒ＾■は水酸基又は脱離基を示す。）で表され
る化合物とし、次に該化合物を位置選択的に還元して、
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔Ｘ I 〕（式中、Ｒ＾■は前記の意味を有する。）で表される化
合物に導き、次いで該化合物に水酸基の保護試薬を反応
させて、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔ＸII〕（式中、Ｒ＾■は水酸基の保護基を示し、Ｒ＾■は前記
の意味を有する。）で表される化合物とし、該化合物に
塩基又は縮合剤を作用させ、更に必要に応じて脱保護を
行うことを特徴とする、一般式▲数式、化学式、表等が
あります▼〔VII〕（式中、Ｒ＾４は水素原子又は水酸基の保護基を示す。）で表される、第３請求項記載のＲ＾２が水素原子、Ｒ
＾３が水酸基又は保護された水酸基である化合物の製造
法。