JPH02104544A - フェニル置換芳香族ジオールの合成法 - Google Patents
フェニル置換芳香族ジオールの合成法Info
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- JPH02104544A JPH02104544A JP1154367A JP15436789A JPH02104544A JP H02104544 A JPH02104544 A JP H02104544A JP 1154367 A JP1154367 A JP 1154367A JP 15436789 A JP15436789 A JP 15436789A JP H02104544 A JPH02104544 A JP H02104544A
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フェニル置換芳香族ジオールの合成法に関す
る。
る。
より詳細には、本発明は、対応置換シクロヘキシル誘導
体から出発して接触脱水素によってフェニル置換芳香族
シールを製造する方法に関する。
体から出発して接触脱水素によってフェニル置換芳香族
シールを製造する方法に関する。
このようにして得られた芳香族ジオールは、2個のヒド
ロキシル基が平行(paral 1el)または同軸(
eoaxlal)位置にある時に、ポリエステル、特に
液晶ポリエステルの製造に重要な化合物である。
ロキシル基が平行(paral 1el)または同軸(
eoaxlal)位置にある時に、ポリエステル、特に
液晶ポリエステルの製造に重要な化合物である。
特に、液晶重合体の合成におけるフェニルヒドロキノン
の使用は、米国特許第4.159,365号明細書、第
4.360.658号明細書および第4,600.76
5号明細書に記載されている一方、フェニルビフェノー
ルの用途は、伊国特許出願第22746A/87号明細
書に記載されている。
の使用は、米国特許第4.159,365号明細書、第
4.360.658号明細書および第4,600.76
5号明細書に記載されている一方、フェニルビフェノー
ルの用途は、伊国特許出願第22746A/87号明細
書に記載されている。
フェニル置換芳香族ジオールは、対応キノンから出発し
てアニリンのジアゾニウム塩でのアリール化によって製
造できる[ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミスト
リー(Journal of OrganicChen
+1stry)、第4071頁、1977]。
てアニリンのジアゾニウム塩でのアリール化によって製
造できる[ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミスト
リー(Journal of OrganicChen
+1stry)、第4071頁、1977]。
このような方法は、一般に、実際的見地からかなりの欠
点を提示する。事実、出発物質は、必ずしも市場で容易
に見出すことができず、更にアニリンは、発癌物質とし
ての潜在的危険を提示する。
点を提示する。事実、出発物質は、必ずしも市場で容易
に見出すことができず、更にアニリンは、発癌物質とし
ての潜在的危険を提示する。
本発明者等は、フェニル置換芳香族ジオールが担持され
た脱水素触媒を使用して対応シクロヘキシル置換誘導体
の脱水素法によって高い収率および転化率で得ることが
できることを今や見出した。
た脱水素触媒を使用して対応シクロヘキシル置換誘導体
の脱水素法によって高い収率および転化率で得ることが
できることを今や見出した。
それゆえ、本発明の目的は、一般式;
〔式中、Aはシングル(slngleすなわちベンゼン
)、ダブル(doubleすなわちナフタリン)、トリ
プル(trlpleすなわちフェナントレン)または縮
合C6〜C18芳香族基(場合によって反応条件下で不
活性の基、例えば、C1〜C4アルキル基で置換)を表
わす〕 を有する化合物を担持パラジウム触媒および溶媒媒体の
存在下で脱水素することを特徴とするフェニル置換芳香
族ジオールの合成法である。
)、ダブル(doubleすなわちナフタリン)、トリ
プル(trlpleすなわちフェナントレン)または縮
合C6〜C18芳香族基(場合によって反応条件下で不
活性の基、例えば、C1〜C4アルキル基で置換)を表
わす〕 を有する化合物を担持パラジウム触媒および溶媒媒体の
存在下で脱水素することを特徴とするフェニル置換芳香
族ジオールの合成法である。
特に、脱水素反応は、下記スキームに従って生ずるニ
一般式(1)を有するシクロヘキシル置換芳香族ジオー
ルは、既知製品であり、G、 A、オラー「フリーデル
クラフッおよび関連反応 (Priedel−Crafts and Re1at
ed Reactions) JVOl、II、パート
1.1964に記載のように酸触媒の存在下での芳香族
ジオールのアルキル化によって得ることができる。
ルは、既知製品であり、G、 A、オラー「フリーデル
クラフッおよび関連反応 (Priedel−Crafts and Re1at
ed Reactions) JVOl、II、パート
1.1964に記載のように酸触媒の存在下での芳香族
ジオールのアルキル化によって得ることができる。
平行または同軸位置に2個のヒドロキシル基を有する一
般式(I)の化合物、例えば、シクロへキシルヒドロキ
ノン、3−シクロへキシル−4゜4′−ジヒドロキシジ
フェニル、1−シクロへキシル−2,6−ジヒドロキシ
ナフタレン、2−シクロへキシル−1,4−ジヒドロキ
シナフタレンなどは、好ましいものである。
般式(I)の化合物、例えば、シクロへキシルヒドロキ
ノン、3−シクロへキシル−4゜4′−ジヒドロキシジ
フェニル、1−シクロへキシル−2,6−ジヒドロキシ
ナフタレン、2−シクロへキシル−1,4−ジヒドロキ
シナフタレンなどは、好ましいものである。
使用する溶媒媒体は、反応条件下で試薬を溶解する性質
を有することに加えて、大気圧で少なくとも220℃の
沸点が付与され、このことは脱水素反応に必要な温度(
このような温度は一般に220〜350℃)に達するこ
とを可能にする。
を有することに加えて、大気圧で少なくとも220℃の
沸点が付与され、このことは脱水素反応に必要な温度(
このような温度は一般に220〜350℃)に達するこ
とを可能にする。
本発明の方法目的で利用できる溶媒の例は、テトラエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジフェニルエーテル
、ジフェニル、平均分子m200〜1500を有するポ
リエチレングリコール、例えば、R,0,L、 、オイ
ル・エンド・ラブリカント・リファイナリーによって商
品名ブリオワックス(Prlowax) 200、ブリ
オワックス400、ブリオワックス600などで市販さ
れているものである。
レングリコールジメチルエーテル、ジフェニルエーテル
、ジフェニル、平均分子m200〜1500を有するポ
リエチレングリコール、例えば、R,0,L、 、オイ
ル・エンド・ラブリカント・リファイナリーによって商
品名ブリオワックス(Prlowax) 200、ブリ
オワックス400、ブリオワックス600などで市販さ
れているものである。
溶媒媒体中の式(I)の試薬の濃度は、臨界的ではなく
、試薬の性状、溶媒の種類および一般に選択される操作
パラメーターに応じて広い限度内であることができ;特
に。このような濃度は溶液の合計重量で計算して5〜7
5%である。
、試薬の性状、溶媒の種類および一般に選択される操作
パラメーターに応じて広い限度内であることができ;特
に。このような濃度は溶液の合計重量で計算して5〜7
5%である。
脱水素反応は、好ましくは大気圧で窒素流下で実施して
、発生された水素を除去する。その他の方法で、このこ
とは、真空下で操作することによって得ることもできる
。
、発生された水素を除去する。その他の方法で、このこ
とは、真空下で操作することによって得ることもできる
。
本発明の方法目的で使用する触媒は、パラジウムおよび
好適な担体を含有し且つ試薬/Pdのモル比50〜10
,000、好ましくは50〜2000で使用する。
好適な担体を含有し且つ試薬/Pdのモル比50〜10
,000、好ましくは50〜2000で使用する。
好ましい担体は、押出または粒状粉末状活性炭、活性ア
ルミナおよびシリカ、T I O2、MgOなどである
。
ルミナおよびシリカ、T I O2、MgOなどである
。
担体として特に好適な活性炭は、既知製品であり且つ比
表面積400〜1200d/g、好ましくは600〜1
000耐/gを有する。
表面積400〜1200d/g、好ましくは600〜1
000耐/gを有する。
活性アルミナおよびシリカは、押出形態または球の微小
球型を有する。
球型を有する。
アルミナの場合には、比表面積が400trr/g未満
、好ましくは10〜350ゴ/g、−層好ましくは30
〜300rrr/gである時に、特に良好な結果が得ら
れた。シリカの場合には、比表面積が100〜800ゴ
/g、好ましくは200〜500rrr/gである時に
、顕著な結果が得られた。
、好ましくは10〜350ゴ/g、−層好ましくは30
〜300rrr/gである時に、特に良好な結果が得ら
れた。シリカの場合には、比表面積が100〜800ゴ
/g、好ましくは200〜500rrr/gである時に
、顕著な結果が得られた。
活性アルミナの細孔容積は0.2〜1.5crtl/g
。
。
より好ましくは0.3〜1.3crd/gである一方、
シリカの細孔容積は0.5〜2.5cIi/g、より好
ましくは1〜2csf/gである。
シリカの細孔容積は0.5〜2.5cIi/g、より好
ましくは1〜2csf/gである。
粒状酸化チタンまたは酸化マグネシウムの場合には、比
表面積の値は、臨界的ではない。前者の場合には、比表
面積の値は10〜300ゴ/gであってもよく、後者の
場合には10〜500rrr/gであってもよい。
表面積の値は、臨界的ではない。前者の場合には、比表
面積の値は10〜300ゴ/gであってもよく、後者の
場合には10〜500rrr/gであってもよい。
触媒の大きさは、特に拘束的ではなく、本質上、脱水素
反応で使用すべき反応器の種類に拘束される。
反応で使用すべき反応器の種類に拘束される。
良好な結果は、反応塊に懸濁された粉末状触媒により、
そして管状流れ反応器中の押出、ペースト状、粒状触媒
により得ることができる。
そして管状流れ反応器中の押出、ペースト状、粒状触媒
により得ることができる。
触媒系は、文献に記載の一般法の1つに従って調製でき
る。例えば、パラジウムハロゲン化物またはナトリウム
クロロバラダイト (sodIuw chloropalladlte)
(N a 2P d C14)の酸性溶液は、粉末状
担体のアルカリ性懸濁液に加える。添加完了時に、担体
上に析出された加水分解化合物は、20〜100℃の温
度での好適な還元剤での処理によって金属に転化する。
る。例えば、パラジウムハロゲン化物またはナトリウム
クロロバラダイト (sodIuw chloropalladlte)
(N a 2P d C14)の酸性溶液は、粉末状
担体のアルカリ性懸濁液に加える。添加完了時に、担体
上に析出された加水分解化合物は、20〜100℃の温
度での好適な還元剤での処理によって金属に転化する。
この目的に特に好適な還元剤は、次亜リン酸ナトリウム
およびギ酸ナトリウムである。
およびギ酸ナトリウムである。
固体生成物は、濾過によって回収し、ハロゲン化物イオ
ンが除去されるまで、20〜100℃の温度で水ですす
ぎ、場合によってストーブ中で100〜120℃で10
〜15時間かけて乾燥する。
ンが除去されるまで、20〜100℃の温度で水ですす
ぎ、場合によってストーブ中で100〜120℃で10
〜15時間かけて乾燥する。
粒状、ペースト状または押出型の担体を使用する時には
、特に有利な製法は、パラジウム化合物を担体粒状物の
周辺に吸収させることからなる。
、特に有利な製法は、パラジウム化合物を担体粒状物の
周辺に吸収させることからなる。
前記のような還元、すすぎおよび乾燥は、この操
−作に続くであろう。
−作に続くであろう。
本発明の方法目的の好ましい態様によれば、触媒系は、
水に分散する時に7を超えるpHを与えるように少量の
アルカリを含有する。それゆえ、乾燥前に、触媒を、ア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩または重炭
酸塩を含有する溶液で処理することがより良い。溶液は
、一般に、金2 属イオンで計算して0.1〜5重二%
の濃度を6する。
水に分散する時に7を超えるpHを与えるように少量の
アルカリを含有する。それゆえ、乾燥前に、触媒を、ア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩または重炭
酸塩を含有する溶液で処理することがより良い。溶液は
、一般に、金2 属イオンで計算して0.1〜5重二%
の濃度を6する。
触媒系のパラジウム含量は、臨界的ではないが、一般に
乾燥固体で計算して0. 1〜10重二%である。好ま
しくは、触媒は、反応前に、130〜150℃で大気圧
において水素で約1〜5時間活性化する。
乾燥固体で計算して0. 1〜10重二%である。好ま
しくは、触媒は、反応前に、130〜150℃で大気圧
において水素で約1〜5時間活性化する。
実際的方法によれば、例えば、バッチで操作することに
よって、一般式(1)の出発物質および触媒は、前記比
率で窒素流中で溶媒に加えて、発生された水素の除去を
より容易にする。
よって、一般式(1)の出発物質および触媒は、前記比
率で窒素流中で溶媒に加えて、発生された水素の除去を
より容易にする。
反応進行は、ガスクロマトグラフィーによってチエツク
し、反応は好ましくはシクロヘキシル誘導体の量が20
%未満である時に停止する。
し、反応は好ましくはシクロヘキシル誘導体の量が20
%未満である時に停止する。
反応時間は、所定の操作パラメーターに応じて1〜24
時間である。
時間である。
反応完了時に、触媒は、傾瀉、濾過によって回収する一
方、反応生成物は既知の方法によって回収し、例えば、
溶媒を蒸留することにより、または水で希釈することに
より回収する。
方、反応生成物は既知の方法によって回収し、例えば、
溶媒を蒸留することにより、または水で希釈することに
より回収する。
粗反応生成物は、通常の精製法に付して、例えば、重合
体の合成のために所要の純度を有するフェニル置換芳香
族ジオールを得る。
体の合成のために所要の純度を有するフェニル置換芳香
族ジオールを得る。
若干の例は、本発明をより良く理解し且つ本発明を実施
するために例示として(限定ではない)以下に与える。
するために例示として(限定ではない)以下に与える。
例1
コンデア・カンパニーによって商品名[ブラロックス(
Puralox)SCCA−30/180アルミナ」で
市販されている微小球アルミナ60gを炭酸ナトリウム
4gと水160m1とからなる溶液に攪拌下に分散した
。
Puralox)SCCA−30/180アルミナ」で
市販されている微小球アルミナ60gを炭酸ナトリウム
4gと水160m1とからなる溶液に攪拌下に分散した
。
20分間攪拌後、pH0,8の塩酸溶液20ccに含有
されるパラジウム0.3gを懸濁液に30分で加えた。
されるパラジウム0.3gを懸濁液に30分で加えた。
更に、ナトリウムイオンは、Na/Pdの原子比が約2
.2であるような量で前記溶液に存在していた。添加完
了時に、スラリーを常時攪拌下に85℃まで加熱し、温
度をこの値に30分間保った。その後、水10ccに溶
解されたギ酸ナトリウム0.4gを加え、温度を85℃
に更に10分間保った。
.2であるような量で前記溶液に存在していた。添加完
了時に、スラリーを常時攪拌下に85℃まで加熱し、温
度をこの値に30分間保った。その後、水10ccに溶
解されたギ酸ナトリウム0.4gを加え、温度を85℃
に更に10分間保った。
固体を濾過によって回収し、塩化物イオンの消失まで5
0〜60℃の水ですすいだ。その後、固体を水100m
1中に炭酸ナトリウム1gを含有する溶液に分散し、−
晩生静置したままに保った。
0〜60℃の水ですすいだ。その後、固体を水100m
1中に炭酸ナトリウム1gを含有する溶液に分散し、−
晩生静置したままに保った。
濾過後、得られたケークを110℃で一晩中乾燥した。
触媒を化学分析したところ、パラジウム0.42重量%
を含有することが証明された。
を含有することが証明された。
例2
市販の微小球アルミナハルショー(IIAR3I(AM
)A13912Pを使用する以外は、例1に従って操作
した。触媒を化学分析したところ、パラジウム0.41
11!ffi%を含有することが証明された。
)A13912Pを使用する以外は、例1に従って操作
した。触媒を化学分析したところ、パラジウム0.41
11!ffi%を含有することが証明された。
例3
微小球アルミナアクゾ(Akzo)型M100gを40
0℃で16時間かけてか焼した。
0℃で16時間かけてか焼した。
か焼アルミナの一部分60gを炭酸ナトリウム8gと水
250m1とからなる溶液に攪拌下に分散した。
250m1とからなる溶液に攪拌下に分散した。
20分間攪拌後、pH0,8の塩酸溶液40ccに含有
されるパラジウム0.6gを30分で加えた。
されるパラジウム0.6gを30分で加えた。
更に、ナトリウムイオンは、Na/Pdの原子比が約2
.2であるような量で前記溶液に存在していた。添加後
に、スラリーを常時攪拌下に85℃まで加熱し、30分
後、水15m1に溶解されたギ酸ナトリウム1.5gで
処理し、温度を同じ値に更に10分間保った。
.2であるような量で前記溶液に存在していた。添加後
に、スラリーを常時攪拌下に85℃まで加熱し、30分
後、水15m1に溶解されたギ酸ナトリウム1.5gで
処理し、温度を同じ値に更に10分間保った。
爾後の操作は、例1に既述のものと同じであった。
分析:Pd−0,95%。
例4
アクゾ・カンパニーによって型F7として市販されてい
る微小球アルミナ60gを水350m1中の炭酸ナトリ
ウム8gからなる溶液に攪拌下に分散した。
る微小球アルミナ60gを水350m1中の炭酸ナトリ
ウム8gからなる溶液に攪拌下に分散した。
20分間攪拌後、例3に記載のように、溶液中のパラジ
ウム0.6gを加えた。
ウム0.6gを加えた。
次いで、懸濁液の温度を85℃にさせ、この値に10分
間保った。その後、水15m1に溶解されたギ酸ナトリ
ウム1.5gを加えた。10分後、例1に記載のすべて
の操作を実施した。生成物の浸漬は、すすぎ後に、炭酸
ナトリウム2.5gと水350m1とからなる溶液中で
実施した。
間保った。その後、水15m1に溶解されたギ酸ナトリ
ウム1.5gを加えた。10分後、例1に記載のすべて
の操作を実施した。生成物の浸漬は、すすぎ後に、炭酸
ナトリウム2.5gと水350m1とからなる溶液中で
実施した。
分析:Pd−0,96%。
例5
ハルショー中カンパニーによって型フィルトラール(p
Htral)SASとして市販されている直径2〜5I
llの球状のアルミナ50gを水400m1に1時間浸
漬した後、水切りした。
Htral)SASとして市販されている直径2〜5I
llの球状のアルミナ50gを水400m1に1時間浸
漬した後、水切りした。
水切りされた担体を回転バッフルフラスコに導入し、次
いで、pH2の塩酸溶液を前記担体上に迅速に注いだ。
いで、pH2の塩酸溶液を前記担体上に迅速に注いだ。
塩酸溶液は、パラジウム0.5gおよびN a / P
dの原子比が約2.2であるような量のナトリウムイ
オンを含有していた。
dの原子比が約2.2であるような量のナトリウムイ
オンを含有していた。
パラジウムを10〜2Orpmのフラスコ回転下にゆっ
くりと吸収させた。
くりと吸収させた。
溶液脱色後、水50ccに溶解されたギ酸ナトリウム1
gを加え、ガスの発生が停止するまで、ゆっくりした回
転下に70〜75℃まで加熱した。
gを加え、ガスの発生が停止するまで、ゆっくりした回
転下に70〜75℃まで加熱した。
次いで、球をバラフナ−(buckncr)に注ぎ、塩
化物イオンの消失まで50〜60℃の水ですすいだ。
化物イオンの消失まで50〜60℃の水ですすいだ。
終わりに、球を炭酸ナトリウム4.6gと水130m1
とからなる溶液に浸漬し、−晩生静置したままに保った
。
とからなる溶液に浸漬し、−晩生静置したままに保った
。
水切り後、触媒を110℃で一晩中乾燥した。
分析:Pd−0,93%。
例6
蒸留水200m1を10100Oのビーカーに入れられ
たチタンテトライソプロピレート(tltanluIl
tetraIsopropylate) (T i(O
C3H7) 4)200mlに攪拌下に約40分でゆっ
くりと加えた。
たチタンテトライソプロピレート(tltanluIl
tetraIsopropylate) (T i(O
C3H7) 4)200mlに攪拌下に約40分でゆっ
くりと加えた。
終わりに、塊を11時間攪拌した。
次いで、炭酸ナトリウム6.7gを加え、更に20分間
攪拌した。
攪拌した。
ナトリウムクロロバラダイトの形態でパラジウム約10
重量%を含有し且つpH0,5を有する溶液5.05g
を、水で40m1まで希釈した。約0.8の値に達する
まで、pHを10%MCIによって調整した後、このよ
うにして得られたパラジウム溶液をチタンイソプロピレ
ートの加水分解によって得られた攪拌懸濁液に20分か
けて加えた。
重量%を含有し且つpH0,5を有する溶液5.05g
を、水で40m1まで希釈した。約0.8の値に達する
まで、pHを10%MCIによって調整した後、このよ
うにして得られたパラジウム溶液をチタンイソプロピレ
ートの加水分解によって得られた攪拌懸濁液に20分か
けて加えた。
添加完了時に、30分間攪拌し、次いで、85℃に加熱
し、温度をこの値に10分間保った。次いで、水15m
1に溶解されたギ酸ナトリウム1.25gをゆっくりと
加えた。更に10分間攪拌した後、濾過し、塩化物イオ
ン消失まで、すすいだ。
し、温度をこの値に10分間保った。次いで、水15m
1に溶解されたギ酸ナトリウム1.25gをゆっくりと
加えた。更に10分間攪拌した後、濾過し、塩化物イオ
ン消失まで、すすいだ。
最終生成物を120℃で一晩中乾燥した。
分析: Pd−1%。
例7
ビカψカンパニーによってビカタール
(PICATAL)485 Mとして市販されている4
X10メツシユの大きさを有するフレーク状ココナツツ
石炭610gを水で注意深くすすいで、粉末を除去した
。
X10メツシユの大きさを有するフレーク状ココナツツ
石炭610gを水で注意深くすすいで、粉末を除去した
。
すすぎ完了時に、石炭を注意深く水切りし、次いで、重
炭酸ナトリウム2.45gを蒸留水700ccに溶解す
ることによって得られた溶液でアルカリ化した。
炭酸ナトリウム2.45gを蒸留水700ccに溶解す
ることによって得られた溶液でアルカリ化した。
石炭を前記溶液と40分間接触させた後、注意深く水切
りし、次いで、回転バスケットに注いだ。
りし、次いで、回転バスケットに注いだ。
パラジウム約10重量%を含有し且つpH0,6を有す
るナトリウムクロロパラダイトの溶液65.3gを、蒸
留水で700ccまで希釈し、10%MCIによってp
H2に調整した後、120容量のH2O211ccをそ
こに加えた。
るナトリウムクロロパラダイトの溶液65.3gを、蒸
留水で700ccまで希釈し、10%MCIによってp
H2に調整した後、120容量のH2O211ccをそ
こに加えた。
バスケットをゆっくりと回転しながら、パラジウム溶液
を、調製してから15分後に、石炭に一度に注いだ。
を、調製してから15分後に、石炭に一度に注いだ。
40分後に、水100cc中の次亜リン酸ナトリウム5
7gの溶液をバスケットに注いだ。
7gの溶液をバスケットに注いだ。
水素の発生が止んだ後に、触媒をバスケットから取り出
し、塩化物イオンの消失まで、傾瀉によってすすいだ。
し、塩化物イオンの消失まで、傾瀉によってすすいだ。
分析:’ P d −1%。
例8
酸化マグネシウム(マグネシア工業用−膜内会社、ジョ
ントーストツク・カンパニー製のライト酸化マグネシウ
ムMP/18)50gを10100Oのビーカー中で攪
拌することによって水400m1に懸濁した。その後、
炭酸ナトリウム6.7gを加えた後、例6に記載のよう
に調製されたパラジウム溶液5.05gを20分かけて
ゆっくりと加えた。添加の終わりに、例6の方法に従っ
て続けた。
ントーストツク・カンパニー製のライト酸化マグネシウ
ムMP/18)50gを10100Oのビーカー中で攪
拌することによって水400m1に懸濁した。その後、
炭酸ナトリウム6.7gを加えた後、例6に記載のよう
に調製されたパラジウム溶液5.05gを20分かけて
ゆっくりと加えた。添加の終わりに、例6の方法に従っ
て続けた。
分析: Pd−1%。
例9
例1に記載の方法に従って調製された触媒6g、シクロ
へキシルヒドロキノン10gおよびテトラエチレングリ
コールジメチルエーテル30m1を窒素雰囲気中で、機
械的攪拌機、温度計、冷却器およびガス入口用バイブを
備えた100m1のフラスコに装入した。
へキシルヒドロキノン10gおよびテトラエチレングリ
コールジメチルエーテル30m1を窒素雰囲気中で、機
械的攪拌機、温度計、冷却器およびガス入口用バイブを
備えた100m1のフラスコに装入した。
温度を270℃にさせ、混合物を窒素値下でこの温度に
5時間保った。
5時間保った。
この時間の終わりに、ガスクロマトグラフィー分析は、
転化率97%を示した。粗生成物中のフェニルヒドロキ
ノン含量は、85%であった。粗反応生成物を室温で冷
却した後、水に注ぎ、エチルエーテルで抽出した。
転化率97%を示した。粗生成物中のフェニルヒドロキ
ノン含量は、85%であった。粗反応生成物を室温で冷
却した後、水に注ぎ、エチルエーテルで抽出した。
エーテル性溶液を、メタ重亜硫酸ナトリウム10%を含
有する溶液で洗浄し、H2Oで洗浄した。Na2SO4
で乾燥し、溶媒を蒸発した後、残渣9.8gが得られた
。このような残渣をトルエンで2回結晶化し、それによ
って実際上純粋なフェニルヒドロキノン7gを得た。
有する溶液で洗浄し、H2Oで洗浄した。Na2SO4
で乾燥し、溶媒を蒸発した後、残渣9.8gが得られた
。このような残渣をトルエンで2回結晶化し、それによ
って実際上純粋なフェニルヒドロキノン7gを得た。
例10
例2に記載の方法に従って調製された触媒6g。
シクロへキシルヒドロキノン10gおよびテトラエチレ
ングリコールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装
置に同じ条件下で装入した。温度を270℃にさせ、混
合物を窒素値下でこの温度に5時間保った。反応混合物
のガスクロマトグラフィー分析は、転化率91%を示し
た。フェニルヒドロキノン含量は、82%であった。
ングリコールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装
置に同じ条件下で装入した。温度を270℃にさせ、混
合物を窒素値下でこの温度に5時間保った。反応混合物
のガスクロマトグラフィー分析は、転化率91%を示し
た。フェニルヒドロキノン含量は、82%であった。
例11
例3に記載の方法に従って調製された触152g。
シクロへキシルヒドロキノン10gおよびビフェニル3
0gを例9と同じ装置に同じ条件下で装入した。温度を
250℃にさせ、混合物を窒素値下でこの温度に6時間
保った。
0gを例9と同じ装置に同じ条件下で装入した。温度を
250℃にさせ、混合物を窒素値下でこの温度に6時間
保った。
反応混合物のガスクロマトグラフィー分析は、転化率8
5%を示した。フェニルヒドロキノン含量は、67%で
あった。
5%を示した。フェニルヒドロキノン含量は、67%で
あった。
例12
例5に記載の方法に従って調製された触媒2g、シクロ
ヘキシルヒドロキノン10gおよびテトラエチレングリ
コールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装置に同
じ条件下で装入した。
ヘキシルヒドロキノン10gおよびテトラエチレングリ
コールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装置に同
じ条件下で装入した。
温度を270℃にさせ、混合物を窒素値下でこの温度に
3時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分
析は、転化率85%を示した。フェニルヒドロキノン含
量は、68%であった。
3時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分
析は、転化率85%を示した。フェニルヒドロキノン含
量は、68%であった。
例13
例4に記載の方法に従って調製された触媒2g。
シクロへキシルヒドロキノン10gおよびテトラエチレ
ングリコールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装
置に同じ条件下で装入した。
ングリコールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装
置に同じ条件下で装入した。
温度を260℃にさせ、混合物をこの温度に4時間保っ
た。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析は、転化
率82%を示した。フェニルヒドロキノン含量は、61
%であった。
た。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析は、転化
率82%を示した。フェニルヒドロキノン含量は、61
%であった。
例14
デュトラール・ジョントーストツク・カンパニーによっ
て製造販売されている触媒MPT5/B(活性炭上のパ
ラジウム5%)1g1シクロへキシルヒドロキノン30
gおよびポリエチレングリコール(ロール・カンパニー
製ブリオワックス400)40mlを例9と同じ装置に
同じ条件下で装入した。
て製造販売されている触媒MPT5/B(活性炭上のパ
ラジウム5%)1g1シクロへキシルヒドロキノン30
gおよびポリエチレングリコール(ロール・カンパニー
製ブリオワックス400)40mlを例9と同じ装置に
同じ条件下で装入した。
温度を280℃にさせ、混合物をこの温度に6時間保っ
た。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析は、転化
率98%を示した。フェニルヒドロキノン含量は、90
%であった。例6と同様に操作することによって、残M
30.4gを回収した。トルエンからの結晶化(2回)
によって、この残渣から、97%を超えるタイターを有
するフェニルヒドロキノン25gが得られた。
た。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析は、転化
率98%を示した。フェニルヒドロキノン含量は、90
%であった。例6と同様に操作することによって、残M
30.4gを回収した。トルエンからの結晶化(2回)
によって、この残渣から、97%を超えるタイターを有
するフェニルヒドロキノン25gが得られた。
°例15
MPT5/80.5g、シクロへキシルヒドロキノン1
0gおよびポリエチレングリコール(ロール・カンパニ
ー製ブリオワックス200)30mlを例9と同じ装置
に同じ条件下で装入した。
0gおよびポリエチレングリコール(ロール・カンパニ
ー製ブリオワックス200)30mlを例9と同じ装置
に同じ条件下で装入した。
温度を260℃にさせ、混合物を220〜260℃に8
時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析
は、転化率5826を示した。
時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析
は、転化率5826を示した。
フェニルヒドロキノン含量は、54%であった。
例16
MPT5/80.5g、シクロへキシルヒドロキノン1
0gおよびポリエチレングリコール(ロール・カンパニ
ー製ブリオワックス600)30mlを例9と同じ装置
に同じ条件下で装入した。
0gおよびポリエチレングリコール(ロール・カンパニ
ー製ブリオワックス600)30mlを例9と同じ装置
に同じ条件下で装入した。
温度を290℃にさせ、混合物をこの温度に4時間保っ
た。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析は、完全
な転化を示した。フェニルヒドロキノン含量は、85%
であった。
た。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析は、完全
な転化を示した。フェニルヒドロキノン含量は、85%
であった。
例17
MPT5/80.5g、シクロへキシルヒドロキノン1
0gおよびジフェニルエーテル30m1を例9と同じ装
置に同じ条件下で装入した。
0gおよびジフェニルエーテル30m1を例9と同じ装
置に同じ条件下で装入した。
温度を240℃にさせ、混合物をこの温度に6時間保っ
た。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析は、転化
率90%を示した。フェニルヒドロキノン含量は、70
%であった。
た。反応混合物のガスクロマトグラフィー分析は、転化
率90%を示した。フェニルヒドロキノン含量は、70
%であった。
例18
MPT5/80.4g、3−シクロへキシル−4,4′
−ジヒドロキシジフェニル3.2gおよびポリエチレン
グリコール(ロール−カンパニー製ブリオワックス40
0)30mlを例9と同じ装置に同じ条件下で装入した
。
−ジヒドロキシジフェニル3.2gおよびポリエチレン
グリコール(ロール−カンパニー製ブリオワックス40
0)30mlを例9と同じ装置に同じ条件下で装入した
。
温度を280℃にさせ、混合物を窒素流下でこの温度に
5時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分
析は、転化率98%を示した。3−フェニル−4,4′
−ジヒドロキシジフェニル含量は、93%であった。例
6と同様に操作することによって、残渣3,1gを回収
した。トルエンからの結晶化によって、このような残渣
から、98%を超えるタイターを有する3−フェニル−
4,4′−ジヒドロキシジフェニル2.8gが得られた
。
5時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分
析は、転化率98%を示した。3−フェニル−4,4′
−ジヒドロキシジフェニル含量は、93%であった。例
6と同様に操作することによって、残渣3,1gを回収
した。トルエンからの結晶化によって、このような残渣
から、98%を超えるタイターを有する3−フェニル−
4,4′−ジヒドロキシジフェニル2.8gが得られた
。
例19
例6に記載の方法に従って調製された触媒4g。
シクロへキシルヒドロキノン10gおよびテトラエチレ
ングリコールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装
置に同じ条件下で装入した。
ングリコールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装
置に同じ条件下で装入した。
温度を270℃にさせ、混合物を窒素値下でこの温度に
5時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分
析は、転化率59%を示した。フェニルヒドロキノン含
量は、43%であった。
5時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分
析は、転化率59%を示した。フェニルヒドロキノン含
量は、43%であった。
例20
例7に記載の方法に従って調製された触媒2g、シクロ
へキシルヒドロキノン10gおよびテトラエチレングリ
コールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装置に同
じ条件下で装入した。
へキシルヒドロキノン10gおよびテトラエチレングリ
コールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装置に同
じ条件下で装入した。
温度を270℃にさせ、混合物を窒素値下でこの温度に
6時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分
析は、転化率97%を示した。フェニルヒドロキノン含
量は、84.4%であった。
6時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分
析は、転化率97%を示した。フェニルヒドロキノン含
量は、84.4%であった。
例21
例8に記載の方法に従って調製された触媒3g。
シクロへキシルヒドロキノン10gおよびテトラエチレ
ングリコールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装
置に同じ条件下で装入した。
ングリコールジメチルエーテル30m1を例9と同じ装
置に同じ条件下で装入した。
温度を260℃にさせ、混合物を窒素値下でこの温度に
5時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分
析は、転化率79%を示した。フェニルヒドロキノン含
量は、64.5%であった。
5時間保った。反応混合物のガスクロマトグラフィー分
析は、転化率79%を示した。フェニルヒドロキノン含
量は、64.5%であった。
出願人代理人 佐 藤 −雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Aはシングル、ダブル、トリプルまたは縮合C
_6〜C_1_8芳香族基(場合によってC_1〜C_
4アルキル基で置換)を表わす〕 を有する化合物を担持パラジウム触媒および溶媒媒体の
存在下で脱水素することを特徴とするフェニル置換芳香
族ジオールの合成法。 2、一般式( I )を有する化合物が、平行または同軸
位置に2個のヒドロキシル基を有する化合物である、請
求項1に記載の方法。 3、一般式( I )を有する化合物が、シクロヘキシル
ヒドロキノン、3−シクロヘキシル−4,4′−ジヒド
ロキシジフェニル、1−シクロヘキシル−2,6−ジヒ
ドロキシナフタレンおよび2−シクロヘキシル−1,4
−ジヒドロキシナフタレンである、請求項2に記載の方
法。 4、溶媒媒体が、反応条件下で試薬を溶解する性質を有
することに加えて、大気圧で少なくとも220℃の沸点
が付与され且つテトラエチレングリコールジメチルエー
テル、ジフェニルエーテル、ジフェニル、平均分子量2
00〜1500を有するポリエチレングリコールから選
ばれる、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法
。 5、脱水素反応を220〜350℃の温度で実施する、
請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法。 6、触媒が、パラジウムと、活性炭、活性アルミナおよ
びシリカ、TiO_2およびMgOからなる群から選ば
れる担体とからなる、請求項1ないし5のいずれか1項
に記載の方法。 7、触媒を試薬/Pdのモル比50〜10,000で使
用する、請求項1ないし6のいずれか1項に記載の方法
。 8、活性炭が、比表面積400〜1200m^2/gを
有する、請求項6に記載の方法。9、アルミナが、比表
面積400m^2/g未満を有する、請求項6に記載の
方法。 10、シリカが、比表面積100〜800m^2/gを
有する、請求項6に記載の方法。11、酸化チタンが、
比表面積10〜300m^2/gを有する、請求項1な
いし10のいずれか1項に記載の方法。 12、触媒が、触媒をアルカリ金属またはアルカリ土類
金属の炭酸塩または重炭酸塩の溶液で処理することによ
って得られる量のアルカリを含有する、請求項1ないし
11のいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT20983A/88 | 1988-06-16 | ||
IT20983/88A IT1218081B (it) | 1988-06-16 | 1988-06-16 | Procedimento per la sintesi di dioli aromatici fenil sostituiti |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02104544A true JPH02104544A (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=11174975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1154367A Pending JPH02104544A (ja) | 1988-06-16 | 1989-06-16 | フェニル置換芳香族ジオールの合成法 |
Country Status (7)
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---|---|
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EP (1) | EP0346913B1 (ja) |
JP (1) | JPH02104544A (ja) |
AU (1) | AU620624B2 (ja) |
DE (1) | DE68903432T2 (ja) |
ES (1) | ES2053875T3 (ja) |
IT (1) | IT1218081B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009269868A (ja) * | 2008-05-08 | 2009-11-19 | Sanko Kk | 2,6−ジフェニルフェノール又はその誘導体の製造方法 |
Families Citing this family (4)
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---|---|---|---|---|
IT1218081B (it) * | 1988-06-16 | 1990-04-12 | Donegani Guido Ist | Procedimento per la sintesi di dioli aromatici fenil sostituiti |
US5210330A (en) * | 1991-08-22 | 1993-05-11 | Eastman Kodak Company | Process for the preparation of phenylhydroquinone |
US8450236B2 (en) | 2010-04-13 | 2013-05-28 | Cristal Usa Inc. | Supported precious metal catalysts via hydrothermal deposition |
CN107185559A (zh) * | 2017-05-12 | 2017-09-22 | 江苏科菲特生化技术股份有限公司 | 一种固体超强酸的制备及催化合成功夫酸甲酯的方法 |
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JPS5191215A (ja) * | 1975-02-05 | 1976-08-10 | Takafuenoorunoseizoho | |
US4088702A (en) * | 1975-05-14 | 1978-05-09 | Sugai Chemical Industry Company Limited | Process for preparing o-phenylphenol |
US4798911A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-17 | Eastman Kodak Company | Catalyst composition and method for selective dehydrogenation |
JPS6436445A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-07 | Dainippon Printing Co Ltd | Plastic vessel |
JPS6491215A (en) * | 1987-10-01 | 1989-04-10 | Fanuc Ltd | Alarm processing system for traveling robot |
IT1218081B (it) * | 1988-06-16 | 1990-04-12 | Donegani Guido Ist | Procedimento per la sintesi di dioli aromatici fenil sostituiti |
-
1988
- 1988-06-16 IT IT20983/88A patent/IT1218081B/it active
-
1989
- 1989-06-16 JP JP1154367A patent/JPH02104544A/ja active Pending
- 1989-06-16 AU AU36526/89A patent/AU620624B2/en not_active Ceased
- 1989-06-16 DE DE8989110934T patent/DE68903432T2/de not_active Expired - Fee Related
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- 1989-06-16 ES ES89110934T patent/ES2053875T3/es not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-03-19 US US07/672,092 patent/US5146008A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009269868A (ja) * | 2008-05-08 | 2009-11-19 | Sanko Kk | 2,6−ジフェニルフェノール又はその誘導体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0346913B1 (en) | 1992-11-11 |
US5146008A (en) | 1992-09-08 |
IT1218081B (it) | 1990-04-12 |
AU3652689A (en) | 1990-01-04 |
IT8820983A0 (it) | 1988-06-16 |
AU620624B2 (en) | 1992-02-20 |
DE68903432T2 (de) | 1993-06-03 |
EP0346913A2 (en) | 1989-12-20 |
EP0346913A3 (en) | 1990-05-23 |
DE68903432D1 (de) | 1992-12-17 |
ES2053875T3 (es) | 1994-08-01 |
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