JPH02102221A - 水素化開環共重合体の製造方法および光学材料 - Google Patents
水素化開環共重合体の製造方法および光学材料Info
- Publication number
- JPH02102221A JPH02102221A JP25319288A JP25319288A JPH02102221A JP H02102221 A JPH02102221 A JP H02102221A JP 25319288 A JP25319288 A JP 25319288A JP 25319288 A JP25319288 A JP 25319288A JP H02102221 A JPH02102221 A JP H02102221A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ring
- resistance
- cyclic olefin
- optical
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 30
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 title claims abstract description 13
- -1 cyclic olefins Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 10
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 10
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Natural products CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- AAZWWRDLCYIVAB-LUAWRHEFSA-N (1z)-1-methylcyclodecene Chemical compound C\C1=C\CCCCCCCC1 AAZWWRDLCYIVAB-LUAWRHEFSA-N 0.000 description 1
- SHWZFQPXYGHRKT-FDGPNNRMSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;nickel Chemical compound [Ni].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O SHWZFQPXYGHRKT-FDGPNNRMSA-N 0.000 description 1
- REKLMRFHHFRIPR-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylcyclodecene Chemical compound CC1CCCCCCCC(C)=C1C REKLMRFHHFRIPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNUMLXRVXVCOAQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcycloheptene Chemical compound CC1=C(C)CCCCC1 RNUMLXRVXVCOAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFGYZTPBAOYZTF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcyclooctene Chemical compound CC1=C(C)CCCCCC1 SFGYZTPBAOYZTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZZWLAZADBEDQP-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcyclopentene Chemical compound CC1=C(C)CCC1 SZZWLAZADBEDQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDMAGRAGNSORSJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethylcycloheptene Chemical compound CCC1=CCCCCC1 BDMAGRAGNSORSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYLREEOZWJVJSE-UHFFFAOYSA-N 1-ethylcyclooctene Chemical compound CCC1=CCCCCCC1 CYLREEOZWJVJSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYYQTLLGVAPKPN-UHFFFAOYSA-N 1-ethylcyclopentene Chemical compound CCC1=CCCC1 QYYQTLLGVAPKPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MREBNFRVGNTYOV-UHFFFAOYSA-N 1-methylcycloheptene Chemical compound CC1=CCCCCC1 MREBNFRVGNTYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXMQTPUCEFWQPS-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclononene Chemical compound CC1=CCCCCCCC1 ZXMQTPUCEFWQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFLPGXDWMZEHGP-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclooctene Chemical compound CC1=CCCCCCC1 WFLPGXDWMZEHGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATQUFXWBVZUTKO-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclopentene Chemical compound CC1=CCCC1 ATQUFXWBVZUTKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004713 Cyclic olefin copolymer Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N cyclobutene Chemical compound C1CC=C1 CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCIYGNATMHQYCT-OWOJBTEDSA-N cyclodecene Chemical compound C1CCCC\C=C\CCC1 UCIYGNATMHQYCT-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N cycloheptene Chemical compound C1CCC=CCC1 ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BESIOWGPXPAVOS-UPHRSURJSA-N cyclononene Chemical compound C1CCC\C=C/CCC1 BESIOWGPXPAVOS-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N cyclooctene Chemical compound C1CCC\C=C/CC1 URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000004913 cyclooctene Substances 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- UIEKYBOPAVTZKW-UHFFFAOYSA-L naphthalene-2-carboxylate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].C1=CC=CC2=CC(C(=O)[O-])=CC=C21.C1=CC=CC2=CC(C(=O)[O-])=CC=C21 UIEKYBOPAVTZKW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N tetracyclo[6.2.1.1(3,6).0(2,7)]dodec-4-ene Chemical compound C1C(C23)C=CC1C3C1CC2CC1 XBFJAVXCNXDMBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、特に透明性、耐水性および熱的性質に優れた
水素化開環共重合体の製造方法および光学材料に関する
。
水素化開環共重合体の製造方法および光学材料に関する
。
ポリスチレン、ポリメチルメタクリレートおよびポリカ
ーボネートは、透明性、高屈折率のプラスチックとして
光デイスク基板や光ファイバーあるいはプラスチックレ
ンズとして検討され、一部では実用化がなされている。
ーボネートは、透明性、高屈折率のプラスチックとして
光デイスク基板や光ファイバーあるいはプラスチックレ
ンズとして検討され、一部では実用化がなされている。
しかし、ポリスチレンは熱変形温度が90℃程度と耐熱
性が悪いうえ複屈折も大きく、酢酸エチルや四塩化炭素
などに溶解し易くて耐溶剤性に劣り、このために前述し
たプラスチックの中では光学材料分野への進出が大幅に
遅れ、実質的に行き詰まり状態である。ポリメチルメタ
クリレートは成形が良好で透明性が大幅に優れ、耐熱性
もポリスチレンに比べれば優れるので、現在量も光学材
料分野への進出をはたしたプラスチックである。しかし
、アセトンや酢酸エチルなどによりソルベントクラック
が発生し易く、また吸湿性が大きいので吸湿変形が生じ
易いなどの問題があり、さらに強酸に浸されて耐薬品性
に劣るし、耐熱性が優れるといっても熱変形温度は11
0℃程度であって実使用範囲が制限される。
性が悪いうえ複屈折も大きく、酢酸エチルや四塩化炭素
などに溶解し易くて耐溶剤性に劣り、このために前述し
たプラスチックの中では光学材料分野への進出が大幅に
遅れ、実質的に行き詰まり状態である。ポリメチルメタ
クリレートは成形が良好で透明性が大幅に優れ、耐熱性
もポリスチレンに比べれば優れるので、現在量も光学材
料分野への進出をはたしたプラスチックである。しかし
、アセトンや酢酸エチルなどによりソルベントクラック
が発生し易く、また吸湿性が大きいので吸湿変形が生じ
易いなどの問題があり、さらに強酸に浸されて耐薬品性
に劣るし、耐熱性が優れるといっても熱変形温度は11
0℃程度であって実使用範囲が制限される。
ポリカーボネートの耐溶剤は溶解し菫いという面で見る
と一見良好であるが、多くは白化現象を起こして、光学
材料用途として見れば事実上耐溶剤性は不充分である。
と一見良好であるが、多くは白化現象を起こして、光学
材料用途として見れば事実上耐溶剤性は不充分である。
しかも強アルカリに浸され易く耐薬品性に劣るし、耐水
性も不充分であるという問題もある。また、複屈折率と
収縮率が前2者に比べて大きいという問題もある。
性も不充分であるという問題もある。また、複屈折率と
収縮率が前2者に比べて大きいという問題もある。
以上説明したように、現在検討または使用されているプ
ラスチック系光学材料の原料として用いられている前記
の各種プラスチックは各長所および短所を有しており、
その結果当然ながらこれらの原料から製造される光学材
料も従来の無機ガラス系に比べて長所を有するけれども
短所も有している。すなわち、光デイスク用基板の一例
であるコンパクト・ディスク(cD)を例にとると、カ
ーオーディオ用CDは、真夏の車内温度が非常に高い温
度になるため、耐熱性が要求され、この点でポリスチレ
ンは使用できず、ポリメチルメタクリレートも使用に際
しての懸念がある。ポリカーボネートは耐熱性の面では
心配ないが、成形後の収縮あるいは複屈折の面で良好な
る光デイスク基板が成形でき難いという問題がある。そ
して以上述べてきたことは、追記型ディスクや書換型デ
ィスク用途ではもっと深刻な問題となる。さらに各耐溶
剤性、耐薬品性、耐水性に問題があり、使用場所や取扱
い方法に制限を受ける。そして、このような諸問題は他
の光学材料たとえば光ファイバーやプラスチックレンズ
といった透明性を利用した材料においても同様に発生す
る。
ラスチック系光学材料の原料として用いられている前記
の各種プラスチックは各長所および短所を有しており、
その結果当然ながらこれらの原料から製造される光学材
料も従来の無機ガラス系に比べて長所を有するけれども
短所も有している。すなわち、光デイスク用基板の一例
であるコンパクト・ディスク(cD)を例にとると、カ
ーオーディオ用CDは、真夏の車内温度が非常に高い温
度になるため、耐熱性が要求され、この点でポリスチレ
ンは使用できず、ポリメチルメタクリレートも使用に際
しての懸念がある。ポリカーボネートは耐熱性の面では
心配ないが、成形後の収縮あるいは複屈折の面で良好な
る光デイスク基板が成形でき難いという問題がある。そ
して以上述べてきたことは、追記型ディスクや書換型デ
ィスク用途ではもっと深刻な問題となる。さらに各耐溶
剤性、耐薬品性、耐水性に問題があり、使用場所や取扱
い方法に制限を受ける。そして、このような諸問題は他
の光学材料たとえば光ファイバーやプラスチックレンズ
といった透明性を利用した材料においても同様に発生す
る。
一方、テトラシクロドデセンまたはその誘導体と、ノル
ボルネンまたはその誘導体との開環共重合体を水素添加
した水素化環状オレフィン系共重合体を光学材料として
使用することが提案されている(特開昭60−2602
4号)。
ボルネンまたはその誘導体との開環共重合体を水素添加
した水素化環状オレフィン系共重合体を光学材料として
使用することが提案されている(特開昭60−2602
4号)。
本発明の目的は、上記の問題点を解決し、耐熱性、耐薬
品性、耐溶剤性、耐水性に優れ、収縮が実質的に無くて
寸法安定性、成形性に優れ、また複屈折も実質的に無く
、耐衝撃性に優れ、光学材料として使用可能な水素化開
環共重合体の製造方法、およびその方法により製造され
る光学材料を提案することである。
品性、耐溶剤性、耐水性に優れ、収縮が実質的に無くて
寸法安定性、成形性に優れ、また複屈折も実質的に無く
、耐衝撃性に優れ、光学材料として使用可能な水素化開
環共重合体の製造方法、およびその方法により製造され
る光学材料を提案することである。
本発明は、
(a) 下記一般式(1)で表わされる環状オレフィ
ン成分が50ないし100モル%未満、(b) 下記
一般式(II)で表わされる環状オレフィン成分がOを
超え50モル%以下、および(c) 下記一般式(m
)で表わされる環状オレフィン成分が0ないし50モル
%以下 から形成される開環共重合体を水素添加することを特徴
とする水素化開環共重合体の製造方法、ならびにその方
法により製造される光学材料である、 (II) Cm)(式中、R1
〜H22は、水素、アルキル基またはハロゲンであって
、それぞれ同一または異なっていてもよい。またR9ま
たはR1[1とRlmまたはH1!、R19またはR2
+lとR21またはR22は互いに環を形成していても
よい。mは1以上の整数、nは4以上の整数であって、
R″′〜R8またはRIL3〜R14が複数回繰り返さ
れる場合には、これらはそれぞれ同一または異なってい
てもよい。) 前記−取代(1)〜〔■〕のモノマー成分を開環共重合
させた開環共重合体は下記−取代(IV)で表わされる
。
ン成分が50ないし100モル%未満、(b) 下記
一般式(II)で表わされる環状オレフィン成分がOを
超え50モル%以下、および(c) 下記一般式(m
)で表わされる環状オレフィン成分が0ないし50モル
%以下 から形成される開環共重合体を水素添加することを特徴
とする水素化開環共重合体の製造方法、ならびにその方
法により製造される光学材料である、 (II) Cm)(式中、R1
〜H22は、水素、アルキル基またはハロゲンであって
、それぞれ同一または異なっていてもよい。またR9ま
たはR1[1とRlmまたはH1!、R19またはR2
+lとR21またはR22は互いに環を形成していても
よい。mは1以上の整数、nは4以上の整数であって、
R″′〜R8またはRIL3〜R14が複数回繰り返さ
れる場合には、これらはそれぞれ同一または異なってい
てもよい。) 前記−取代(1)〜〔■〕のモノマー成分を開環共重合
させた開環共重合体は下記−取代(IV)で表わされる
。
(ここで n 1〜R22、m、nは式〔I〕〜〔■〕
と同じであり、Xは50ないし100モル%未満、yは
Oを超え50モル%以下、2はOないし50モル%以下
である。) 一般式(1)で表わされるモノマー成分としては、など
があげられる。
と同じであり、Xは50ないし100モル%未満、yは
Oを超え50モル%以下、2はOないし50モル%以下
である。) 一般式(1)で表わされるモノマー成分としては、など
があげられる。
一般式(n)で示されるモノマー成分としては、例えば
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シク
ロオクテン、シクロノネン、シクロデセン、メチルシク
ロペンテン、メチルシクロヘプテン、メチルシクロオク
テン、メチルシクロノネン、メチルシクロデセン、エチ
ルシクロペンテン、エチルシクロヘプテン、エチルシク
ロオクテン、ジメチルシクロペンテン、ジメチルシクロ
ヘプテン、ジメチルシクロオクテン、トリメチルシクロ
デセンなどの環状オレフィンがあげられる。
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シク
ロオクテン、シクロノネン、シクロデセン、メチルシク
ロペンテン、メチルシクロヘプテン、メチルシクロオク
テン、メチルシクロノネン、メチルシクロデセン、エチ
ルシクロペンテン、エチルシクロヘプテン、エチルシク
ロオクテン、ジメチルシクロペンテン、ジメチルシクロ
ヘプテン、ジメチルシクロオクテン、トリメチルシクロ
デセンなどの環状オレフィンがあげられる。
−取代[mlのモノマー成分としては、例えばなどがあ
げられる。
げられる。
これらの−取代[1)〜(m)のモノマー成分は、それ
ぞれ1種単独であってもよく、また複数の成分が混合さ
れていてもよい。また前記−取代[1)〜(III)で
示されるモノマー成分は単なる例示であって、これら以
外にも、−取代(1)〜〔■〕で示されるものであれば
使用可能である。
ぞれ1種単独であってもよく、また複数の成分が混合さ
れていてもよい。また前記−取代[1)〜(III)で
示されるモノマー成分は単なる例示であって、これら以
外にも、−取代(1)〜〔■〕で示されるものであれば
使用可能である。
−取代(IV)の開環共重合体を製造するには、前記−
取代[1]〜[III)を原料とし、通常の環状オレフ
ィンの開環重合法により開環共重合させることができる
。この場合、重合触媒としては、例えば、ルテニウム、
ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金
、モリブデン、タングステン等のハロゲン化物、硝酸塩
もしくはアセチルアセトン化合物と有機スズ化合物、ア
ルコール等の還元剤からなる系、またはチタン、バナジ
ウム、ジルコニウム、タングステン、モリブデン等のハ
ロゲン化物もしくはアセチルアセトン化合物と有機アル
ミニウム等とからなる系などを用いることができる。
取代[1]〜[III)を原料とし、通常の環状オレフ
ィンの開環重合法により開環共重合させることができる
。この場合、重合触媒としては、例えば、ルテニウム、
ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金
、モリブデン、タングステン等のハロゲン化物、硝酸塩
もしくはアセチルアセトン化合物と有機スズ化合物、ア
ルコール等の還元剤からなる系、またはチタン、バナジ
ウム、ジルコニウム、タングステン、モリブデン等のハ
ロゲン化物もしくはアセチルアセトン化合物と有機アル
ミニウム等とからなる系などを用いることができる。
生成する開環共重合体の分子量は、開環共重合時にオレ
フィンなどを添加して調節することができる。
フィンなどを添加して調節することができる。
上記により得られる開環共重合体の水素添加は、3M常
の水素添加方法により行われる。水素添加触媒としては
、オレフィン化合物の水素添加に際して使用されている
ものが一般に使用可能である。
の水素添加方法により行われる。水素添加触媒としては
、オレフィン化合物の水素添加に際して使用されている
ものが一般に使用可能である。
具体的には不均一系触媒としてはニッケル、パラジウム
、白金等、またはこれらの金属をカーボン、シリカ、ケ
イソウ土、アルミナ、酸化チタン等の担体に担持させた
固体触媒などがあり、例えばニッケル/シリカ、ニッケ
ル/ケイソウ土、バラジラム/カーボン、パラジウム/
シリカ、パラジウム/ケイソウ土、パラジウム/アルミ
ナ等があげられる。また均一系触媒としては、周期律表
第■族の金属を基体とするものがあり、例えばナフテン
酸ニッケル/トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバ
ルト/n−ブチルリチウム、ニッケルアセチルアセトネ
ート/トリエチルアルミニウムなどのNi、 Co化合
物と周期律表第1〜■族金属の有機金属化合物からなる
もの、あるいはRh化合物などがあげられる。
、白金等、またはこれらの金属をカーボン、シリカ、ケ
イソウ土、アルミナ、酸化チタン等の担体に担持させた
固体触媒などがあり、例えばニッケル/シリカ、ニッケ
ル/ケイソウ土、バラジラム/カーボン、パラジウム/
シリカ、パラジウム/ケイソウ土、パラジウム/アルミ
ナ等があげられる。また均一系触媒としては、周期律表
第■族の金属を基体とするものがあり、例えばナフテン
酸ニッケル/トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバ
ルト/n−ブチルリチウム、ニッケルアセチルアセトネ
ート/トリエチルアルミニウムなどのNi、 Co化合
物と周期律表第1〜■族金属の有機金属化合物からなる
もの、あるいはRh化合物などがあげられる。
前記開環共重合体の水素添加は、触媒の種類に応じて均
−系または不均一系において、1〜150気圧の水素圧
下に、0〜180℃、好ましくは20〜100℃の温度
範囲で行われる。水素添加率は、水素圧、反応温度、反
応時間、触媒濃度などにより調節することが可能である
。水素添加物が優れた耐熱劣化性および耐光劣化性を示
すためには重合体中の主鎖二重結合の50%以上、好ま
しくは80%以上、さらに好ましくは90%以上が水素
添加されることが好ましい。
−系または不均一系において、1〜150気圧の水素圧
下に、0〜180℃、好ましくは20〜100℃の温度
範囲で行われる。水素添加率は、水素圧、反応温度、反
応時間、触媒濃度などにより調節することが可能である
。水素添加物が優れた耐熱劣化性および耐光劣化性を示
すためには重合体中の主鎖二重結合の50%以上、好ま
しくは80%以上、さらに好ましくは90%以上が水素
添加されることが好ましい。
このようにして得られる水素化開環共重合体は光学材料
として用いることができる。例えば上記共重合体を光デ
イスク用基板に用いると、従来のポリメチルメタクリレ
ート系の耐熱性や耐水性の問題、ポリカーボネー1−系
の複屈折性、寸法安定性、耐水性の問題を一気に解決す
る光デイスク用基板を提供することになる。したがって
、本発明の重合体からなるディスク用基板に公知の種々
の方法で記録層を積層したものはコンパクトディスク、
ビデオディスク、追記型光ディスク、書換型光ディスク
、光磁気ディスクとして利用できる。
として用いることができる。例えば上記共重合体を光デ
イスク用基板に用いると、従来のポリメチルメタクリレ
ート系の耐熱性や耐水性の問題、ポリカーボネー1−系
の複屈折性、寸法安定性、耐水性の問題を一気に解決す
る光デイスク用基板を提供することになる。したがって
、本発明の重合体からなるディスク用基板に公知の種々
の方法で記録層を積層したものはコンパクトディスク、
ビデオディスク、追記型光ディスク、書換型光ディスク
、光磁気ディスクとして利用できる。
また同様な記録方式を用いる光カード用材料としても利
用できる。
用できる。
より具体的に本発明の重合体を用いた光ディスクについ
て説明すると、前述の重合体を情報ピットに対応する凹
凸を有するスタンバ−をセットした金型より射出成形し
て得られた基板に、反射率の高い物質たとえばNi、
A1. Au等をコーティングして、レーザー光の反射
を利用して情報を読み出す再生専用のディスク、あるい
は情報記録層として通常のレコード板と同じように溝を
用い、溝と接触して走査するヘッドと溝低部に設けられ
た情報ビットとの間の静電容量変化を利用して情報を読
み出す再生専用ディスク、さらに光によって変化する記
録層を設けた光ディスクなどがある。光変化型の記録層
としては、As−Te−Ge系のようにレーザー光照射
による非晶−結晶の相変化からくる光反射率、光透過率
の変化を利用するもの、同じく相変化を利用するTe0
x(0< X < 2 )、あるいはGdCo、 Tb
Fe、GdTbFe、 TbDyFeのように磁化反転
を利用したもの、また別には有機色素なども利用できる
。
て説明すると、前述の重合体を情報ピットに対応する凹
凸を有するスタンバ−をセットした金型より射出成形し
て得られた基板に、反射率の高い物質たとえばNi、
A1. Au等をコーティングして、レーザー光の反射
を利用して情報を読み出す再生専用のディスク、あるい
は情報記録層として通常のレコード板と同じように溝を
用い、溝と接触して走査するヘッドと溝低部に設けられ
た情報ビットとの間の静電容量変化を利用して情報を読
み出す再生専用ディスク、さらに光によって変化する記
録層を設けた光ディスクなどがある。光変化型の記録層
としては、As−Te−Ge系のようにレーザー光照射
による非晶−結晶の相変化からくる光反射率、光透過率
の変化を利用するもの、同じく相変化を利用するTe0
x(0< X < 2 )、あるいはGdCo、 Tb
Fe、GdTbFe、 TbDyFeのように磁化反転
を利用したもの、また別には有機色素なども利用できる
。
また重合体をコア層またはクラッド層とし、公知の種々
の光フアイバー材料と組合せて光ファイバー、光フアイ
バー用コネクター、アレイ状光ファイバーとして利用し
てもよい。とくにクラッド層として用いると耐水性、耐
熱性、耐薬品性、耐溶剤性等に優れるので、コア層を充
分に保護し、従来のポリメチルメタクリレート系では到
達不可能であった高温部での使用が可能になる。光ファ
イバーを構成するとき、コア層またはクラッド層となる
他のプラスチックとしては、ポリメチルメタクリレ−1
〜およびその誘導体、フッ素系重合体、ポリ4−メチル
ペンテン−1およびそのコポリマーポリアリレーンなど
があり、接着性改良のため添加剤を配合したり、これら
を変性したり、変性物を配合したりしてもよい。
の光フアイバー材料と組合せて光ファイバー、光フアイ
バー用コネクター、アレイ状光ファイバーとして利用し
てもよい。とくにクラッド層として用いると耐水性、耐
熱性、耐薬品性、耐溶剤性等に優れるので、コア層を充
分に保護し、従来のポリメチルメタクリレート系では到
達不可能であった高温部での使用が可能になる。光ファ
イバーを構成するとき、コア層またはクラッド層となる
他のプラスチックとしては、ポリメチルメタクリレ−1
〜およびその誘導体、フッ素系重合体、ポリ4−メチル
ペンテン−1およびそのコポリマーポリアリレーンなど
があり、接着性改良のため添加剤を配合したり、これら
を変性したり、変性物を配合したりしてもよい。
その他の利用例としてプラスチックレンズがある。これ
は球面レンズ、平面レンズなど種々の形状が考えられる
。このレンズは眼鏡用のほか天眼鏡、ルーパ、自動車や
自転車のライトまたはランプに使用するフルネルレンズ
など各種の分野で利用が可能である。
は球面レンズ、平面レンズなど種々の形状が考えられる
。このレンズは眼鏡用のほか天眼鏡、ルーパ、自動車や
自転車のライトまたはランプに使用するフルネルレンズ
など各種の分野で利用が可能である。
また光分波器、光導波路、0EIC用基板、光フィルタ
ーなどのオプトエレン1−ロニクス用の光学材料として
利用してもよい。さらには−数的な光学用フィルム素材
としての応用も可能であり、建築物の窓ガラス、自転車
ガラス、鉄道あるいは飛行機、船舶の窓ガラスといった
分野へも利用できる。
ーなどのオプトエレン1−ロニクス用の光学材料として
利用してもよい。さらには−数的な光学用フィルム素材
としての応用も可能であり、建築物の窓ガラス、自転車
ガラス、鉄道あるいは飛行機、船舶の窓ガラスといった
分野へも利用できる。
本発明によれば次のような優れた特性を有する水素化開
環共重合体を得ることができる。
環共重合体を得ることができる。
■ 寸法精度が優れるので所期の目的寸法に沿った製品
となる。
となる。
■ 歪みによる光学特性の変調がない。
■ 耐熱性に優れるので、高温部ないしその付近での使
用が可能である。
用が可能である。
■ 耐薬品性、耐溶剤性に優れるので取扱性に優れる。
■ 耐水性に優れるので、防水処置を施こす必要がない
。
。
■ 熱可塑性であるので、通常のプラスチック溶融成形
法が適用できる。
法が適用できる。
■ ガラス転移温度が低く、耐衝撃性に優れる。
以下、本発明を実施例により説明する。
実施例1
(開環共重合体の製造)
1.4,5.8−ジメタノ−1,2,3,4,4a、5
,8,8a−オクタヒドロナフタレン(以下DMONと
略称)とシクロペンテンとの開環共重合反応を以下の条
件で行った。
,8,8a−オクタヒドロナフタレン(以下DMONと
略称)とシクロペンテンとの開環共重合反応を以下の条
件で行った。
すなわち撹拌翼を備えた500mQガラス製重合器に1
〜ル工ン220mf1. DMON 100mu、シク
ロペンテン20m12.1−ヘキセン]−mQ、六塩化
タングステン0.4gおよびテ1〜ラフェニルスズ0.
43gを加え、40℃で1時間重合を行った。得られた
反応溶液を塩酸水で洗浄後、大量のメタノール中で沈澱
させ、これを回収して、減圧下に一昼夜乾燥した。得ら
れた開環共重合体の30℃1〜ルエン中における極限粘
度〔η〕は0.48g/dQ、13C−NMR分析によ
るDMON含量は5モル%であった。
〜ル工ン220mf1. DMON 100mu、シク
ロペンテン20m12.1−ヘキセン]−mQ、六塩化
タングステン0.4gおよびテ1〜ラフェニルスズ0.
43gを加え、40℃で1時間重合を行った。得られた
反応溶液を塩酸水で洗浄後、大量のメタノール中で沈澱
させ、これを回収して、減圧下に一昼夜乾燥した。得ら
れた開環共重合体の30℃1〜ルエン中における極限粘
度〔η〕は0.48g/dQ、13C−NMR分析によ
るDMON含量は5モル%であった。
(水素添加反応)
次に以下の条件で水素添加反応を行った。
すなわち開環共重合体]、Ogのテトラヒドロフラン溶
液]、OOmQ、およびPdをシリカに1.8重量%担
持させた水素添加触媒1gをステンレス製オートクレー
ブに装入し、水素圧50kg/cJG、50℃で20時
間反応を行った。
液]、OOmQ、およびPdをシリカに1.8重量%担
持させた水素添加触媒1gをステンレス製オートクレー
ブに装入し、水素圧50kg/cJG、50℃で20時
間反応を行った。
得られた反応液から溶媒製留去した後、シクロヘキサン
に溶解して大量のメタノール中で再沈させ、減圧下に一
昼夜乾燥した。
に溶解して大量のメタノール中で再沈させ、減圧下に一
昼夜乾燥した。
得られた水素化開環共重合体の物性を表1に示した。
実施例2〜3
実施例1と同様にして得た組成の異なる水素化開環共重
合体の物性を表1に併せて示した。
合体の物性を表1に併せて示した。
表1
1)パーキンエルマー社製DSCによりlO℃/min
の昇温速度で測定した。
の昇温速度で測定した。
2) JIS K 6717による。
3) JIS K 6911による。
Claims (3)
- (1)(a)下記一般式〔 I 〕で表わされる環状オレ
フィン成分が50ないし100モル%未満、 (b)下記一般式〔II〕で表わされる環状オレフィン成
分が0を超え50モル%以下、および (c)下記一般式〔III〕で表わされる環状オレフィン
成分が0ないし50モル%以下 から形成される開環共重合体を水素添加することを特徴
とする水素化開環共重合体の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕▲数式、化学
式、表等があります▼〔III〕 (式中、R^1〜R^2^2は、水素、アルキル基また
はハロゲンであって、それぞれ同一または異なっていて
もよい。またR^9またはR^1^0とR^1^1また
はR^1^2、R^1^9またはR^2^0とR^2^
1またはR^2^2は互いに環を形成していてもよい。 mは1以上の整数、nは4以上の整数であって、R^5
〜R^8またはR^1^3〜R^1^4が複数回繰り返
される場合には、これらはそれぞれ同一または異なって
いてもよい。) - (2)水素化開環共重合体が光学材料用のものである請
求項(1)記載の製造方法。 - (3)請求項(1)記載の方法で製造された光学材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25319288A JPH02102221A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 水素化開環共重合体の製造方法および光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25319288A JPH02102221A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 水素化開環共重合体の製造方法および光学材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02102221A true JPH02102221A (ja) | 1990-04-13 |
Family
ID=17247831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25319288A Pending JPH02102221A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 水素化開環共重合体の製造方法および光学材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02102221A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5599882A (en) * | 1986-12-06 | 1997-02-04 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Ring-opening polymer and a process for production thereof |
WO2008004573A1 (fr) | 2006-07-07 | 2008-01-10 | Jsr Corporation | Copolymère d'addition à base d'oléfines cycliques, procédé pour le produire et film retardant formé à partir dudit copolymère |
WO2019208239A1 (ja) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | 日本ゼオン株式会社 | 開環共重合体 |
-
1988
- 1988-10-07 JP JP25319288A patent/JPH02102221A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5599882A (en) * | 1986-12-06 | 1997-02-04 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Ring-opening polymer and a process for production thereof |
WO2008004573A1 (fr) | 2006-07-07 | 2008-01-10 | Jsr Corporation | Copolymère d'addition à base d'oléfines cycliques, procédé pour le produire et film retardant formé à partir dudit copolymère |
US8084563B2 (en) | 2006-07-07 | 2011-12-27 | Jsr Corporation | Cyclic olefin addition copolymer, process for production thereof, and retardation film obtained from the copolymer |
WO2019208239A1 (ja) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | 日本ゼオン株式会社 | 開環共重合体 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2619856B2 (ja) | 光学材料 | |
US5498677A (en) | Process for preparation and purification of material of a cycloolefin copolymer | |
KR100529665B1 (ko) | 이소소르바이드 폴리에스테르를 포함하는 광학 제품 및그의 제조방법 | |
JPH029619B2 (ja) | ||
KR100380916B1 (ko) | 광학용 성형 재료, 및 광 디스크 기판과 그의 제조 방법 | |
JPH024821A (ja) | 重合体ポリメチン染料及びこれれを含有する光データ記憶媒体 | |
US6436503B1 (en) | Data storage medium containing polyestercarbonate | |
JPH0312835A (ja) | 光ディスク | |
JPH02102221A (ja) | 水素化開環共重合体の製造方法および光学材料 | |
US4950736A (en) | Polycarbonate or polyestercarbonate resin from bicyclol polycyclo dimethanol | |
JP2001527096A (ja) | ビニルシクロヘキサン系ポリマー | |
CN1210115A (zh) | 从羟苯基1,2-二氢化醇衍生的光盘极共聚酯碳酸酯 | |
JPH03290429A (ja) | 水素化開環共重合体の製造方法および光学用材料 | |
JPH048585A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
JP3094445B2 (ja) | 光ディスク | |
CN100426396C (zh) | 高数据密度光介质盘 | |
JPH02253201A (ja) | 光学用成形品 | |
KR20010102252A (ko) | 비닐시클로헥산 기재 중합체 | |
JPS62141009A (ja) | ポリ(メタ)アクリレート系重合体 | |
JP3460317B2 (ja) | 回折格子およびその製造方法 | |
US5124240A (en) | Optical recording medium | |
JPS63156825A (ja) | 光記録媒体用基体 | |
JP2691024B2 (ja) | 光カード | |
JPS63218727A (ja) | 光学材料 | |
JP3519373B2 (ja) | 積層体の製造方法 |