JPH02101029A - 塩化ビニリデンの製造方法 - Google Patents

塩化ビニリデンの製造方法

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JPH02101029A
JPH02101029A JP63253739A JP25373988A JPH02101029A JP H02101029 A JPH02101029 A JP H02101029A JP 63253739 A JP63253739 A JP 63253739A JP 25373988 A JP25373988 A JP 25373988A JP H02101029 A JPH02101029 A JP H02101029A
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JP
Japan
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vinylidene chloride
atomic ratio
zeolite
catalyst
reaction
Prior art date
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Pending
Application number
JP63253739A
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English (en)
Inventor
Toru Ide
徹 井手
Takao Kitamura
高雄 北村
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、塩化ビニリデン系の樹脂あるいはラテックス
の原料である塩化ビニリデンの経済的な製法に関するも
のである。
(従来の技術) 従来、工業的に実施されている塩化ビニリデンの製法は
、1,1.2−)リクロルエタンをアルカリ金属あるい
はアルカリ土類金属の水酸化物の如き強塩基で脱塩化水
素するものであるが、この方法では化学量論的量の塩基
が消費される上、脱離した塩化水素も利用価値のない塩
になってしまう。
そこで、近年1,1.2−)リクロルエタンを接触的に
気相で脱塩化水素することにより、塩基を消費すること
なく、かつ脱離した塩化水素を回収できる塩化ビニリデ
ンの製造方法の開発が活発に行われている。1,1.2
−トリクロルエタンの脱塩化水素用触媒としては、例え
ばカリウム、セシウムまたはルビジウムのハロゲン化物
(特公昭56−53527号公報)が提案され、担体と
しては脱塩化水素反応に不活性なもの、特にシリカゲル
が推奨されている。また、クラウン化合物とアルカリ金
属化合物とからなる錯体(特開昭58−146520号
公報)あるいはポルフィリン型化合物またはポルフィリ
ン型化合物とアルカリ金属化合物を成分とする触媒(特
開昭58−172329号公報)も提案され、担体とし
てはシリカ、アルミナ、炭素などが示され、特に好まし
いのはシリカであることが述べられている。
(発明が解決しようとする課題) 従来、工業的に実施されている強塩基を用いる方法では
、化学量論的量の塩基が消費される上、脱離した塩化水
素も利用価値のない塩になってしまうため、コストの高
い塩化ビニリデンになる。
この問題を解決するために、上記のように種々の接触脱
塩化水素の方法が考案されているが、工業的に満足すべ
き方法は未だない。
一方、ゼオライトはそれ自身あるいは担体として、炭化
水素の接触分解反応および異性化反応、あるいは塩素化
炭化水素の接触脱塩化水素反応等多くの反応の触媒とし
て用いられている。しかしながら1,1. 2−トリク
ロルエタンの気相接触脱塩化水素による塩化ビニリデン
の製造触媒として用いられた例はない。これは、ゼオラ
イトの強い酸性点のために、1,1.2−1リクロルエ
タンの接触脱塩化水素においては、1.2−ジクロルエ
チレンが優先的に生成し、塩化ビニリデンの選択率が極
めて低いためであると思われる。
(課題を解決するための手段) 本発明者らは、1.l、2−1−ジクロルエタンの接触
脱塩化水素による塩化ビニリデンの製造方法について鋭
意検討を行った結果、驚くべきことに、Si/Al原子
比が10〜500なるゼオライトのCs交換体を触媒と
して接触脱塩化水素を行うことにより、高収率で塩化ビ
ニリデンが得られることを見いだして、本願発明を完成
した。
すなわち、本願発明は、Si/Al原子比が10〜50
0、望ましくはSi/Al原子比が20〜100なるゼ
オライトのCs交換体を触媒とすることを特徴とする、
1,1.1−)ジクロルエタンの気相接触脱塩化水素に
よる塩化ビニリデンの製造方法である。
上記のようなゼオライトがなぜ効果を持つのかは必ずし
も明確でないが、Si/Al原子比が10より小さいも
のに比較して疎水性が大であり、生成した塩化水素を容
易に脱離させる効果があり、一方、Si/Al原子比が
500より大きいものではCs交換体に含まれるCsの
量が少な過ぎるためと思われる。従って、Si/Al原
子比は10〜500が適切である。
ゼオライトのCs交換体の製造方法としては種々の方法
が採用できる。即ち、Na、KSCaなどのアルカリま
たはアルカリ土類金属の陽イオン交換体あるいはプロト
ン交換体(以下H一体と称す)のゼオライトを水に分散
させ、これに塩化セシウムの水溶液を加えて交換する方
法、H一体のゼオライトを水に分散させ、水酸化カリウ
ムで処理した後水洗し、これを再び水に分散させ、これ
に塩化セシウムの水溶液を加えて交換する方法などが採
用できる。セシウム交換は必ずしも100%である必要
はないが、できるだけ高く、望ましくは50%以上であ
る。
本願発明ムこおける適切な反応条件は、反応温度は、1
50〜450°C1望ましくは250〜400°Cであ
り、空間速度は100〜1’5007時、望ましくは2
00〜800/時である。反応圧力は特に制限はないが
、塩化ビニリデンの選択性を良好に保つには、ゲージ圧
で2気圧以下が望ましい。反応に供する1、1.2−)
ジクロルエタンはそれ単独で供給してもよいし、不活性
ガスで希釈してもよい。
(発明の効果) 本願発明の触媒は、高活性でかつ高い塩化ビニリデン選
択性を示すので、この触媒を使用して1゜1.2−.1
−ジクロルエタンを気相接触分解することにより、塩化
ビニリデンを効率よく取得することができる。
(実施例) 以下に実施例により本願発明を具体的に説明するが、本
願発明はこれにより限定されるものではない。
実施例 I Si/Al原子比が48であるH一体のモルデナイト型
ゼオライトを水に加え10%スラリーにし、水酸化カリ
ウム水溶液によりPHを11に調整し、70℃で3時間
かき混ぜた後、冷却、濾過および水洗した。この繰作を
3回繰り返した。このように調整されたゼオライトをゼ
オライトに48と称す。
塩化セシウムの水溶液にゼオライトに−48を加え10
%スラリーにした。塩化セシウムの濃度はセシウムとゼ
オライトに一48中のアルミニウムのモル比が3になる
ように調整した。このスラリーを70°Cで3時間かき
混ぜた後、冷却、濾過および水洗した。この操作を3回
繰り返した。このように調整されたゼオライトをゼオラ
イトCs48と称す。
このゼオライトCs−48を110’Cで8時間、次い
で150°Cで3時間いずれも窒素気流下において乾燥
した。この乾燥品のCs含量は3,8%重量であった。
この8gを触媒として内径8ミリのステンレス製反応管
に詰め、これに窒素で希釈した1、1゜2−トリクロル
エタンの蒸気(1,1,2−)リクロルエタン分圧は0
.3気圧)を通じ、反応温度が350°Cかつ空間速度
が400/時で反応を行ったところ、1.1.2−)リ
クロルエタンの転化率は69.8%、塩化ビニリデンの
選択率は65.1%であった。
比較例 1 実施例1におけるSi/Al原子比が48であるH一体
のモルデナイト型ゼオライトを窒素気流下150°Cで
3時間乾燥した物を触媒として、実施例1と同様に反応
を行ったところ、1,1.2=トリクロルエタンの転化
率は99.8%、塩化ビニリデンの選択率は0.3%で
あった。
比較例 2 実施例1におけるゼオライトに−48を110°Cで8
時間、次いで150°Cで3時間いずれも窒素気流下に
おいて乾燥した。これを触媒として実施例1と同様に反
応を行ったところ、1,1.2トリクロルエタンの転化
率は15.7%、塩化ビニリデンの選択率は20.3%
であった。
実施例 2 Si/Al原子比が78であるH一体のモルデナイト型
ゼオライトを用いた以外は、実施例1と全く同様な処理
を行い、全く同様に反応を行ったところ、1,1.2−
トリクロルエタンの転化率は66.0%、塩化ビニリデ
ンの選択率は60゜4%であった。
実施例 3 Si/Al原子比が29であるH一体のモルデナイト型
ゼオライトを用いた以外は、実施例1と全く同様な処理
を行い、全く同様に反応を行ったところ、1,1.l)
リクロルエタンの転化率は75.1%、塩化ビニリデン
の選択率は58゜2%であった。
実施例 4 Si/Al原子比が450であるH一体のモルデナイト
型ゼオライトを用いた以外は、実施例1と全く同様な処
理を行い、全く同様に反応を行ったところ、1,1.2
−)リクロルエタンの転化率は41.1%、塩化ビニリ
デンの選択率は58゜1%であった。
実施例 5 S i / A I原子比が14であるH一体のモルデ
ナイト型ゼオライトを用いた以外は、実施例1と全く同
様な処理を行い、全く同様に反応を行ったところ、1,
1.2=トリクロルエタンの転化率は90.4%、塩化
ビニリデンの選択率は36゜1%であった。
比較例 3 Si/Al原子比が5であるH一体のモルデナイト型ゼ
オライトを用いた以外は、実施例1と全く同様な処理を
行い、全く同様に反応を行ったところ、1.l、2−ト
リクロルエタンの転化率は97.5%、塩化ビニリデン
の選択率は13.9%であった。
比較例 4 富士デビソン社製シリカ3Aに塩化セシウムをCs換算
で4.0重量%担持させたものを触媒として実施例1と
全く同様に反応を行ったところ、1.1.1−1−リク
ロルエタンの転化率は65゜0%、塩化ビニリデンの選
択率は54.1%であった。
(ほか1名)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. Si/Al原子比が10〜500なるゼオライトのCs
    交換体を触媒とすることを特徴とする、1,1,2−ト
    リクロルエタンの気相接触脱塩化水素による塩化ビニリ
    デンの製造方法。
JP63253739A 1988-10-11 1988-10-11 塩化ビニリデンの製造方法 Pending JPH02101029A (ja)

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