JPH0198195A - 半導体メモリのセンスアンプ回路 - Google Patents

半導体メモリのセンスアンプ回路

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JPH0198195A
JPH0198195A JP62255833A JP25583387A JPH0198195A JP H0198195 A JPH0198195 A JP H0198195A JP 62255833 A JP62255833 A JP 62255833A JP 25583387 A JP25583387 A JP 25583387A JP H0198195 A JPH0198195 A JP H0198195A
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JP
Japan
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sense amplifier
amplifier circuit
type
semiconductor memory
enhancement
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JP62255833A
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Masahiro Kobayashi
雅弘 小林
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体メモリのセンスアンプ回路に関し、特
に半導体メモリセルに流れる電流を検出する電流センス
タイプのセンスアンプ回路に関する。
〔従来の技術〕
従来、半導体メモリのセンスアンプ回路としては、電圧
センスタイプと電流センスタイプのセンスアンプがある
。それぞれに応じた使い方があるが、ここでは電流セン
スタイプのセンスアンプについて説明する。
第3図は従来の一例を説明するためのかかる電流センス
タイプのセンスアンプ回路図である。
第3図に示すように、このセンスアンプ回路において、
エンハンスメントP型トランジスタP1とP!及びP3
とP4はそれぞれカレントミラー回路を構成しておシ、
一方エンハンスメントN型トランジスタN2とN3. 
N4とはダミーセルに流れる基準電流をメモリーセルに
流れる電流の1/2になるように設定されている。この
電流センスタイプのセンスアンプ回路において、前記ダ
ミーセルにエンハンスメントN型トランジスタN、を介
して流れるtaR,とメモリーセルにエンハンスメン)
N型トランジスタN1を介して流れる電流との比を変え
る場合は、製造工程上で行う必要があり、例えばコンタ
クト形成工程あるいはその前の拡散層形成工程のマスク
を変更することによシミ流比の設定あるいは変更を行っ
ている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来のセンスアンプ回路は、ダミーセルとメモ
リーセルの電流の比を変える場合、コンタクト形成工程
あるいは拡散層形成工程のマスクを変更することによシ
行っているが、この電流比は半導体メモリのデジット線
長やメモリーセルのディメンション等によシ最適値が異
なシ、設計完了後に変更を要することがしばしば発生す
る。しかるに、RAM−?EFROMなどの半導体メモ
リ回路ではどのマスク工程を変更しても有利おるいは不
利の差は生じないが、特にマスクROMにおいては、設
計完了後に製作されるコード工程(ROMの内容を決め
る工程)のマスクで1itlIE比を変更出来ないとい
う欠点がある。
本発明の目的は、かかるメモリーセルとダミーセルとに
流れる電流の比を変更しうる半導体メモリのセンスアン
プ回路を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕 本発明のセンスアンプ回路は、エンハンスメントN型ト
ランジスタと直列にイオン注入を行ったデプレ、シヲン
N型トランジスタを接続し、前記ダミーセルとメモリー
セルとの電流比を変更しつるように構成される。
〔実施例〕
第1図は本発明の第一の実施例を説明するためのセンス
アンプ回路図である。
第1図に示すように、かかるセンスアンプ回路は第3図
に示す従来のセンスアンプ回路に加え、エンハンスメン
トN型トランジスタNxおよびN3゜N4. N、に直
列にそれぞれイオン注入を行ったデプレッションN型ト
ランジスタD、およびD3.D4゜D、を接続して11
gする。これによシメモリーセルとダミーセルとに流れ
る電流の電流比を1/3に変更することができる。また
、デブレッシ冒ンN凰トランジスタDsにはイオン注入
を行わずに、その他のり、およびり1. D4にイオン
注入を行えば、メモリーセルとダミーセルとに流れる電
流の電流比をl/2とすることができる。
第2図は本発明の第二の実施例を説明するためのセンス
アンプ回路図である。
第2図に示すように、第二の実施例の回路はそれぞれメ
モリーセル側のエンハンスメン)N型トランジスタN、
、N3とデプレッションN型トランジスタD、、D3と
の対を2組としダミーセル側のエンハンスメントNff
)ランジスタN、〜N書とデプレッションNfiトラン
ジスタD4〜D9との対を6組としたものである。
かかる構成のセンスアンプ回路によれば、メモリーセル
およびダミーセルの電流比を2/6 (1/3 ) 。
215.2/4(1/2)、2/3と細かく変更するこ
とが出来る。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の半導体メモリのセンスア
ンプ回路は、デプレッション型MOSトランジスタを形
成することによシ、半導体メモリ回路、すなわちマスク
ROMを迅速に開発することができ、特にメモリーセル
とダミーセルとの電流比をイオン注入の際に容易に変更
することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第一の実施例を説明するためのセンス
アンプ回路図、第2図は本発明の第二の実施例を説明す
るためのセンスアンプ回路図、第3図は従来の一例を説
明するだめのセンスアンプ回路図である。 N、〜N1o・・・・・・エンハンスメントNu)ラン
ジスタ、P1〜P4・・・・・・エンハンスメン)Pa
)ランジスタ、Dz〜D9・・・・・・テフレ、シ薔ン
N型トランジスタ。 代理人 弁理士  内 原   晋

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. メモリーセルに流れる電流を検出する電流センスタイプ
    の半導体メモリ回路のセンスアンプ回路において、エン
    ハンスメントN型トランジスタに直列にイオン注入を行
    ったデプレッションN型トランジスタを接続し、メモリ
    ーセルおよびダミーセルに流れる電流の比を変更しうる
    ことを特徴とする半導体メモリのセンスアンプ回路。
JP25583387A 1987-10-09 1987-10-09 半導体メモリのセンスアンプ回路 Expired - Lifetime JPH0719479B2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04163796A (ja) * 1990-10-26 1992-06-09 Nec Ic Microcomput Syst Ltd センスアンプ回路
JPH04177695A (ja) * 1990-11-09 1992-06-24 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 半導体メモリ
JP2009129472A (ja) * 2007-11-20 2009-06-11 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US7639543B2 (en) 2006-12-18 2009-12-29 Spansion Llc High speed cascode circuit with low power consumption

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JP2009129472A (ja) * 2007-11-20 2009-06-11 Toshiba Corp 半導体記憶装置

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