JPH0196177A - エポキシ化(メタ)アクリレート化合物の製造方法 - Google Patents
エポキシ化(メタ)アクリレート化合物の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 title description 15
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 18
- -1 acrylate compound Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 10
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- KATROYJQYZJDCU-UHFFFAOYSA-N cyclohexen-1-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CCCCC1 KATROYJQYZJDCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 4
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 150000004967 organic peroxy acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 1-nitrosonaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=O)C(O)=CC=C21 YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYPISWUKQGWYGX-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethaneperoxoic acid Chemical compound OOC(=O)C(F)(F)F XYPISWUKQGWYGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 3-(5-amino-1h-indol-3-yl)-2-azaniumylpropanoate Chemical compound C1=C(N)C=C2C(CC(N)C(O)=O)=CNC2=C1 YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOFIAZGYBIBEGI-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=CC(S)=C1 DOFIAZGYBIBEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- DKZCGMSOJJOZKK-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;copper Chemical compound [Cu].OC1=CC=C(O)C=C1 DKZCGMSOJJOZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N cumene hydroperoxide Chemical compound OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000007701 flash-distillation Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- CZPZWMPYEINMCF-UHFFFAOYSA-N propaneperoxoic acid Chemical compound CCC(=O)OO CZPZWMPYEINMCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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- Epoxy Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は新規な(メタ)アクリレート化合物およびその
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
(メタ)アクリレート化合物は熱、紫外線、イオン化放
射線、ラジカル重合開始剤の存在下で容易に単独重合ま
たは池の不飽和基含有化合物と共重合でき、また塗料用
樹脂の中間原料としても有用である。
射線、ラジカル重合開始剤の存在下で容易に単独重合ま
たは池の不飽和基含有化合物と共重合でき、また塗料用
樹脂の中間原料としても有用である。
(従来の技術)
従来より各種のアクリル酸エステル類が知られている。
例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸2−エチルヘキシル等の単官能モノマーおよびトリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート等の多官能モノマーが一般的に知
られている。
酸2−エチルヘキシル等の単官能モノマーおよびトリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート等の多官能モノマーが一般的に知
られている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、単官能モノマーは印刷インキおよび塗料
に用いた場合には硬化後の未反応モノマーの臭気がはな
はだしく問題となる。
に用いた場合には硬化後の未反応モノマーの臭気がはな
はだしく問題となる。
また多官能モノマーは、塗料および印刷インキの希釈剤
として用いる場合には、樹脂に対して多量に使用する必
要があり、したがって樹脂が有する特性が失われるとい
う欠点を有している。
として用いる場合には、樹脂に対して多量に使用する必
要があり、したがって樹脂が有する特性が失われるとい
う欠点を有している。
本発明者らは、鋭意研究の結果、低粘度で、かつ、低臭
気で広範囲にわたる樹脂への溶解性を有する新規な三官
能(メタ)アクリル酸エステルを得るに至った。
気で広範囲にわたる樹脂への溶解性を有する新規な三官
能(メタ)アクリル酸エステルを得るに至った。
このものはインキ、塗料、接着剤、被覆剤、成型用樹脂
の原料あるいは改質剤として有用である。
の原料あるいは改質剤として有用である。
(発明の構成)
本発明は
「下記の一般式(I)
(式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れる(メタ)アクリレート化合物」および 「下記の一般式CIり (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れる(メタ)アクリレート化合物を酸1ヒ剤でエポキシ
化することを特徴とする下記の一般式<I) R (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れる(メタ)アクリレート化合物の製造方法」 である。
れる(メタ)アクリレート化合物」および 「下記の一般式CIり (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れる(メタ)アクリレート化合物を酸1ヒ剤でエポキシ
化することを特徴とする下記の一般式<I) R (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れる(メタ)アクリレート化合物の製造方法」 である。
以下に本発明の(メタ)アクリレート化合物の製造方法
について詳述する。
について詳述する。
反応出発原料である下記の一般式(II)(式中Rは水
素原子またはメチル基を表わす)で表わされる(メタ)
アクリレート化合物は以下のような構造式で示され無色
透明の液体でありエポキシ樹脂の中間原料、インキ、塗
料、接着剤として用いられる。
素原子またはメチル基を表わす)で表わされる(メタ)
アクリレート化合物は以下のような構造式で示され無色
透明の液体でありエポキシ樹脂の中間原料、インキ、塗
料、接着剤として用いられる。
工業的にはテトラヒドロベンジルアルコールと(メタ)
アクリル酸とのエステル化あるいはテトラヒドロベンジ
ルアルコールと(メタ)アクリル酸エステルとのエステ
ル交換反応に□よってF aされる。
アクリル酸とのエステル化あるいはテトラヒドロベンジ
ルアルコールと(メタ)アクリル酸エステルとのエステ
ル交換反応に□よってF aされる。
また、用い得る酸化剤は、不飽和結合をエポキシ化でき
るものなら何て゛もよく、過キ酸、過酢酸、過プロピオ
ン酸、m−クロロ過安7ニ、香酸、トリフルオロ過酢酸
、過安息香酸等の有機過酸、ターシャリブチルハイドロ
パーオキシド、クミルハイドロパーオキシド、テトラリ
ルハイドロパーオキシド、ジインプロピルベンゼンハイ
ドロパーオキシド等のハイドロパーオキシド類、過酸化
水素等を例として挙げることができる。
るものなら何て゛もよく、過キ酸、過酢酸、過プロピオ
ン酸、m−クロロ過安7ニ、香酸、トリフルオロ過酢酸
、過安息香酸等の有機過酸、ターシャリブチルハイドロ
パーオキシド、クミルハイドロパーオキシド、テトラリ
ルハイドロパーオキシド、ジインプロピルベンゼンハイ
ドロパーオキシド等のハイドロパーオキシド類、過酸化
水素等を例として挙げることができる。
酸化剤は触媒を併用してもよく、例えば有機過酸なら、
炭酸ソーダなどのアルカリや硫酸などの酸を触媒として
用い得る。
炭酸ソーダなどのアルカリや硫酸などの酸を触媒として
用い得る。
同じくハイドロパーオキシドの場合、モリブデンヘキサ
カルボニル等公知の触媒能を持つ化合物を、また過酸(
ヒ水素の場合、タングステン酸と苛性ソーダの混合物等
公知の触媒能を持つ化合物を併用することが出来る。
カルボニル等公知の触媒能を持つ化合物を、また過酸(
ヒ水素の場合、タングステン酸と苛性ソーダの混合物等
公知の触媒能を持つ化合物を併用することが出来る。
反応をバッチで行なう場合は先ず、反応容器内にシクロ
へキセニル(メタ)アクリレートを所定量仕込み、この
中に必要に応じて触媒、安定剤を溶解させ、この中に酸
化剤を滴下して行なう。
へキセニル(メタ)アクリレートを所定量仕込み、この
中に必要に応じて触媒、安定剤を溶解させ、この中に酸
化剤を滴下して行なう。
酸化剤とシクロへキセニル(メタ)アクリレートとのモ
ル比は理論的には1であるが本発明などのように実際に
は0.1〜10の範囲、好ましくは0.5〜2の範囲、
さらに好ましくは0.8〜1.2の範囲である。
ル比は理論的には1であるが本発明などのように実際に
は0.1〜10の範囲、好ましくは0.5〜2の範囲、
さらに好ましくは0.8〜1.2の範囲である。
酸化剤とシクロへキセニル(メタ)アクリレートとのモ
ル比が10より大きい場合はシクロへキセニル(メタ)
アクリレートの転化率および反応時間短縮、(メタ)ア
クリレートの重合によるロスの減少の点で好ましいが過
剰の酸化剤による副反応や酸(ヒ剤の這択率及び未反応
の酸化剤を回収する場合回収に多大の費用を要するので
好ましくない。
ル比が10より大きい場合はシクロへキセニル(メタ)
アクリレートの転化率および反応時間短縮、(メタ)ア
クリレートの重合によるロスの減少の点で好ましいが過
剰の酸化剤による副反応や酸(ヒ剤の這択率及び未反応
の酸化剤を回収する場合回収に多大の費用を要するので
好ましくない。
逆に酸化剤とシクロへキセニル(メタ)アクリレートと
のモル比が0,1以下の場合は酸化剤の転化率、還択率
、酸化剤による生成物の副反応を防ぐという点で好まし
いが(メタ)アクリレートの重合によるロス、また、未
反応のシクロへキセニル(メタ)アクリレートの回収に
多大の費用を要するなどの欠点がある。
のモル比が0,1以下の場合は酸化剤の転化率、還択率
、酸化剤による生成物の副反応を防ぐという点で好まし
いが(メタ)アクリレートの重合によるロス、また、未
反応のシクロへキセニル(メタ)アクリレートの回収に
多大の費用を要するなどの欠点がある。
反応温度は、エポキシ化反応が酸化剤の分解反応に優先
するような上限値以下で行い、例えば過haなら70°
C以下、ターシャリブチルハイドロパーオキシドなら1
50℃以下が好ましい。
するような上限値以下で行い、例えば過haなら70°
C以下、ターシャリブチルハイドロパーオキシドなら1
50℃以下が好ましい。
反応温度が低いと、反応完結に長時間を要するので、過
酢酸なら0°C、ターシャリブチルハイドロパーオキシ
ドなら20℃の下限値以上で行う事が好ましい。
酢酸なら0°C、ターシャリブチルハイドロパーオキシ
ドなら20℃の下限値以上で行う事が好ましい。
またエポキシ化の際には酸化剤からの副生等による有機
酸、アルコール、水でエポキシ基がつぶれる副反応が生
じるので、副反応量が少なくなるような温度を先述した
温度領域から選んで反応を実施する。
酸、アルコール、水でエポキシ基がつぶれる副反応が生
じるので、副反応量が少なくなるような温度を先述した
温度領域から選んで反応を実施する。
本発明による方法は種々の圧力下に実施することができ
る。
る。
一般には常圧下で操作するが、本発明による方法は加圧
または低圧下でも実施できる。
または低圧下でも実施できる。
2容媒は反応■液の粘度低下、酸化剤の希釈による安定
化等の効果があり、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族(ヒ合物、クロロホルム、ジメチルクロライド、
四塩化炭素、クロルベンゼン等のハロゲン化物、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等のエステル化合物、アセトン、メチ
ルイソブチルゲトン等のゲトン化合物、1.2−ジメト
キシエタン等のエーテル化合物等を用いることが出来る
。
化等の効果があり、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族(ヒ合物、クロロホルム、ジメチルクロライド、
四塩化炭素、クロルベンゼン等のハロゲン化物、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等のエステル化合物、アセトン、メチ
ルイソブチルゲトン等のゲトン化合物、1.2−ジメト
キシエタン等のエーテル化合物等を用いることが出来る
。
シクロヘキセニル(メタ)アクリレートに対して0.5
〜5倍量の溶媒を使用することが望ましい。
〜5倍量の溶媒を使用することが望ましい。
0.5@量より少ない場合、酸化剤の希釈による安定化
効果が少ないため収率の低下を招く。
効果が少ないため収率の低下を招く。
5倍量より多くしても効果は変わらず、また溶媒の回収
に多大の費用を要するので無駄である。
に多大の費用を要するので無駄である。
(メタ)アクリレートの熱重合を防止するために重合禁
止剤を添加する。
止剤を添加する。
このような重合禁止剤としては(メタ)アクリレートに
通常添加する禁止剤が使用され、ハイドロキノン、P−
メトキシフェノール、2.4−ジメチル−6−t−ブチ
ルフェノール、3−ヒドロキシチオフェノール、α−ニ
トロソ−β−ナフトール、P−ペンゾキノンフェネチア
ジン、2.5−ジヒドロキシ−P−キノン、銅塩等を使
用することができるが、安定性などの点でハイドロキノ
ン、P−メトキシフェノールが好ましい。
通常添加する禁止剤が使用され、ハイドロキノン、P−
メトキシフェノール、2.4−ジメチル−6−t−ブチ
ルフェノール、3−ヒドロキシチオフェノール、α−ニ
トロソ−β−ナフトール、P−ペンゾキノンフェネチア
ジン、2.5−ジヒドロキシ−P−キノン、銅塩等を使
用することができるが、安定性などの点でハイドロキノ
ン、P−メトキシフェノールが好ましい。
上記のような重合禁止剤の使用量は(メタ)アクリレー
トに対して0.001〜5.0重量%、好ましくは0.
01〜1.0重量%である。
トに対して0.001〜5.0重量%、好ましくは0.
01〜1.0重量%である。
重合禁止剤の添加量がo、ooi重量重量%内溝合は重
合禁止効果が小さく、逆に5.0重量%以上添加しても
効果は向上しないので無駄となる。
合禁止効果が小さく、逆に5.0重量%以上添加しても
効果は向上しないので無駄となる。
重合禁止剤の添加はエポキシ化反応を行なう直前にシク
ロへキセニル(メタ)アクリレートに溶解させて行なう
。
ロへキセニル(メタ)アクリレートに溶解させて行なう
。
また反応粗液を精製する際にさらに重合禁止剤を添加す
ることは重合の防止に有効である。
ることは重合の防止に有効である。
反応の終点の確認は残存する酸化剤濃度あるいはガスク
ロ分析によるのが良い。
ロ分析によるのが良い。
反応で得られたエポキシ化生成物反応粗液は、溶媒、低
沸物質、未反応原料、触媒等の低沸点成分の留去、中和
、吸着剤やイオン交換樹脂処理によって精製することが
できる。
沸物質、未反応原料、触媒等の低沸点成分の留去、中和
、吸着剤やイオン交換樹脂処理によって精製することが
できる。
必要があれば、フラッシュ蒸留、精密蒸留によって精製
してもよい。
してもよい。
精製処理は、最終製品の品質要求に応じて運ぶことがで
きる。
きる。
精製処理しなくても使用に耐える品質の最#2製品が得
られる場合は省略することができる。
られる場合は省略することができる。
特に、酸化剤として有撮過酸を用いる場合反応粗液を中
和せずに低沸点成分を除去すると(メタ)アクリレート
の重合によるロスが大きいので低沸点成分を除去する前
に中和する方が好ましい。
和せずに低沸点成分を除去すると(メタ)アクリレート
の重合によるロスが大きいので低沸点成分を除去する前
に中和する方が好ましい。
中和に用いるアルカリ水溶液としてはたとえば、N80
H,KOHK2CO3、NaCO3、NaHCO,、、
KHCO,、NH,等のような溶液を使用することがで
き、その際その濃度は広い範囲内で自由に選択できる。
H,KOHK2CO3、NaCO3、NaHCO,、、
KHCO,、NH,等のような溶液を使用することがで
き、その際その濃度は広い範囲内で自由に選択できる。
分液性の点からN Co 水溶液N HC○3a
3 a 水溶液を用いるのが望ましい。
3 a 水溶液を用いるのが望ましい。
中和後水洗せずに低沸成分を除去し塔底液を製品とする
と製品中に中和塩が残存することになるので中和後水洗
することが好ましい。
と製品中に中和塩が残存することになるので中和後水洗
することが好ましい。
中和及び水洗は10〜90℃の温度範囲内で行なうこと
ができ温度10〜50°Cが有利である。
ができ温度10〜50°Cが有利である。
中和あるいは水洗を行なった反応粗液から低沸成分を除
去するには薄膜式蒸発器などを用いるのが良い。
去するには薄膜式蒸発器などを用いるのが良い。
本発明の製造方法を適用できる装置の材質はステンレス
、グラスライニング鋼などが望ましいが鉄材などでも構
わない。
、グラスライニング鋼などが望ましいが鉄材などでも構
わない。
以下に実施例を示し本発明の効果を具体的に説明するが
、本発明は、これらの実施例によって限定されるもので
はない。
、本発明は、これらの実施例によって限定されるもので
はない。
[実施例1]
水冷用のジャケット付きの内容、ft2.5jの反応器
にシクロへキセニルメタクリレート300g、酢酸エチ
ル600g、ハイドロキノン0.18gを加えた後、過
#酸の30%酢酸エチル溶液478gを2時間かけて滴
下した。
にシクロへキセニルメタクリレート300g、酢酸エチ
ル600g、ハイドロキノン0.18gを加えた後、過
#酸の30%酢酸エチル溶液478gを2時間かけて滴
下した。
滴下中は反応液温度が40°Cを保つようにジャケット
に流す温水の温度を調節した。
に流す温水の温度を調節した。
滴下終了後も反応液温度を40°Cに5時間保ち反応を
終了した。
終了した。
このときの反応粗液中の過酢酸の濃度は1%以下であっ
た。
た。
反応l11M1378gを6%炭酸ナトリウム水溶液3
583gで洗浄した。
583gで洗浄した。
分液後、上層をさらに水1378gで洗浄し分液後玉層
液の低沸成分の除去を行なった。
液の低沸成分の除去を行なった。
低沸成分の除去は薄膜式蒸発器を用いP−メトキシフェ
ノール150ppmを添加し、圧力150To r r
温度90〜95℃の条件で行なった。
ノール150ppmを添加し、圧力150To r r
温度90〜95℃の条件で行なった。
製品化は薄膜式蒸発器を用い圧力5To rr温度90
〜95℃の条件で行ない、未反応原料のシクロへキセニ
ルメタクリレートを除き精製を行なった。収率はシクロ
へキセニルメタクリレート基準で90%であった。
〜95℃の条件で行ない、未反応原料のシクロへキセニ
ルメタクリレートを除き精製を行なった。収率はシクロ
へキセニルメタクリレート基準で90%であった。
[実施例2]
実施例1と同様の装置にシクロへキセニルメタクリレー
ト300g、ハイドロキノン0,1gを加えた後、過酢
酸の30%酢酸エチル溶液478gを2時間かけて滴下
した。
ト300g、ハイドロキノン0,1gを加えた後、過酢
酸の30%酢酸エチル溶液478gを2時間かけて滴下
した。
滴下中は反応液液温が40°Cを保つようにし滴下終了
後40°Cで5時間呆ち反応を終了した。
後40°Cで5時間呆ち反応を終了した。
反応’Ill液を実施例1と同様の条件で精製した。
収率は70%であった。
[実施例3]
反応温度を30℃とした以外は実施例1と同様の操作を
行なった。
行なった。
収率は92%であった。
[実施例4]
低沸成分を除去する際にP−メトキシフェノール150
ppmを加えなかった以外は、実施例3と同様の操作を
行なった。収率は60%であった。
ppmを加えなかった以外は、実施例3と同様の操作を
行なった。収率は60%であった。
Claims (2)
- (1)下記の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れる(メタ)アクリレート化合物。 - (2)下記の一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れる(メタ)アクリレート化合物を酸化剤でエポキシ化
することを特徴とする下記の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れる(メタ)アクリレート化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62252217A JP2562620B2 (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | エポキシ化(メタ)アクリレート化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62252217A JP2562620B2 (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | エポキシ化(メタ)アクリレート化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0196177A true JPH0196177A (ja) | 1989-04-14 |
JP2562620B2 JP2562620B2 (ja) | 1996-12-11 |
Family
ID=17234137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62252217A Expired - Fee Related JP2562620B2 (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | エポキシ化(メタ)アクリレート化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2562620B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5155243A (en) * | 1990-02-15 | 1992-10-13 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Composition comprising epoxy compounds having hydroxyl group and process for producing the same |
JPH05117205A (ja) * | 1990-09-28 | 1993-05-14 | Union Carbide Chem & Plast Co Inc | 不飽和ポリラクトンアクリレート及びその誘導体 |
US5382676A (en) * | 1991-08-28 | 1995-01-17 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Purified 3,4-epoxycyclohexyl methyl(meth)acrylate, a process for the preparation thereof and a 3,4-epoxycyclohexyl methyl(meth)acrylate composition |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104893626B (zh) | 2010-03-09 | 2017-08-08 | 汉高知识产权控股有限责任公司 | 用于压敏粘合剂的阳离子的可uv交联的丙烯酸聚合物 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63221123A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-14 | Kansai Paint Co Ltd | 低温硬化性樹脂組成物 |
-
1987
- 1987-10-06 JP JP62252217A patent/JP2562620B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63221123A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-14 | Kansai Paint Co Ltd | 低温硬化性樹脂組成物 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5155243A (en) * | 1990-02-15 | 1992-10-13 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Composition comprising epoxy compounds having hydroxyl group and process for producing the same |
US5569773A (en) * | 1990-02-15 | 1996-10-29 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Process for producing a composition comprising epoxy compounds having hydroxyl group |
JPH05117205A (ja) * | 1990-09-28 | 1993-05-14 | Union Carbide Chem & Plast Co Inc | 不飽和ポリラクトンアクリレート及びその誘導体 |
US5382676A (en) * | 1991-08-28 | 1995-01-17 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Purified 3,4-epoxycyclohexyl methyl(meth)acrylate, a process for the preparation thereof and a 3,4-epoxycyclohexyl methyl(meth)acrylate composition |
US5446176A (en) * | 1991-08-28 | 1995-08-29 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Purified 3,4-epoxycyclohexyl methyl (meth)acrylate, a process for the preparation thereof and a 3,4-epxoycyclohexyl methyl (meth)acrylate composition |
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---|---|
JP2562620B2 (ja) | 1996-12-11 |
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