JPH0196080A - 超電導材の製造方法 - Google Patents
超電導材の製造方法Info
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- JPH0196080A JPH0196080A JP62252375A JP25237587A JPH0196080A JP H0196080 A JPH0196080 A JP H0196080A JP 62252375 A JP62252375 A JP 62252375A JP 25237587 A JP25237587 A JP 25237587A JP H0196080 A JPH0196080 A JP H0196080A
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- oxygen ions
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 29
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 10
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 7
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract description 2
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 abstract 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 12
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 8
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000002028 Biomass Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
- H10N60/0268—Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
- H10N60/0661—Processes performed after copper oxide formation, e.g. patterning
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、一般の超電導セラミックス材料の製造方法に
FIL、、特に、その材料の焼結後に、その焼結超電導
セラミックス材料の酸素欠損量に応じて酸素イオンをイ
オン・インプランテーション法又は注入法により制御し
て、その超電導特性を著しく改良し得る方法に関する。
FIL、、特に、その材料の焼結後に、その焼結超電導
セラミックス材料の酸素欠損量に応じて酸素イオンをイ
オン・インプランテーション法又は注入法により制御し
て、その超電導特性を著しく改良し得る方法に関する。
[従来の技術]
Y−Ba−Cu−0系、 La−Ba−Cu−0系等の
超電導セラミックス体を製造する場合、−般に超電導セ
ラミックス体を粉末焼結法により。
超電導セラミックス体を製造する場合、−般に超電導セ
ラミックス体を粉末焼結法により。
焼結して製造するが、焼結条件、雰囲気ガスを制御して
も焼結時に生じる超電導セラミックス体の酸素欠損量を
正確に制御することは、極めて困難であり、且つ、−旦
欠損した酸素を元の結晶に戻ぜ゛ことも極めて困難であ
る。
も焼結時に生じる超電導セラミックス体の酸素欠損量を
正確に制御することは、極めて困難であり、且つ、−旦
欠損した酸素を元の結晶に戻ぜ゛ことも極めて困難であ
る。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明は、超電導セラミックス体の焼結処理法において
、酸素欠損になる結晶体に対して、酸素イオンを打ち込
むことにより、その超電導特性を著しく改作できること
を見出したことに基づくものである。従って2本発明は
、超電導体の臨界温度を著しく上げることのできる超電
導セラミックス体をaaすることのできる製造方法を提
供することを目的とする。
、酸素欠損になる結晶体に対して、酸素イオンを打ち込
むことにより、その超電導特性を著しく改作できること
を見出したことに基づくものである。従って2本発明は
、超電導体の臨界温度を著しく上げることのできる超電
導セラミックス体をaaすることのできる製造方法を提
供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
前記のような超電導セラミックス体を得るために1本発
明は、超電導セラミックス体の製造方法において、超電
導セラミックス体を焼結した後に、該超電導セラミック
ス体に、該焼結超電導セラミックス体の酸素欠損に応じ
て酸素イオンを打ち込むことを特徴とする前記超電導セ
ラミックス体の製造方法である。その場合、酸素イオン
の打ち込み密度が10 ”cm−” 〜10 ”am−
’(7)範囲が好適である。
明は、超電導セラミックス体の製造方法において、超電
導セラミックス体を焼結した後に、該超電導セラミック
ス体に、該焼結超電導セラミックス体の酸素欠損に応じ
て酸素イオンを打ち込むことを特徴とする前記超電導セ
ラミックス体の製造方法である。その場合、酸素イオン
の打ち込み密度が10 ”cm−” 〜10 ”am−
’(7)範囲が好適である。
[発明の構成]
La−M−Cu−0系(M=Ba又はSr)。
Y−Ba−Cu−0系などの超電導セラミックス材料は
1通常、原料粉末を組合せ混合し、1次焼成し1次に成
形した後に焼結することにより製造されるが、その焼結
処理時に、結晶中の酸素が抜け、酸素欠損が生じること
が多い6本発明者は。
1通常、原料粉末を組合せ混合し、1次焼成し1次に成
形した後に焼結することにより製造されるが、その焼結
処理時に、結晶中の酸素が抜け、酸素欠損が生じること
が多い6本発明者は。
このような焼結された超電導セラミックス体に対して酸
素イオンをイオン・インプランテーション法又は注入法
などにより焼結体に打ち込むことにより、その超電導特
性を著しく改良できることを見出したものである。
素イオンをイオン・インプランテーション法又は注入法
などにより焼結体に打ち込むことにより、その超電導特
性を著しく改良できることを見出したものである。
酸素イオンの打ち込み処理法が種々考えられるが、イオ
ンの加速電圧、イオン電流、打ち込み時間などの条件を
変えることにより、打ち込み深さ、打ち込み密度、打ち
込み量等を変化きせて。
ンの加速電圧、イオン電流、打ち込み時間などの条件を
変えることにより、打ち込み深さ、打ち込み密度、打ち
込み量等を変化きせて。
最適の打ち込み条件を見出すことができる。
従って9本発明の超電導セラミックス体の製造方法によ
れば、超電導ビラミックス材料を焼結処理した後に、焼
結体を真空チャンバーに入れ、最適条件で、酸素イオン
を打ち込み、著しく超電導特性の改良された超電導セラ
ミ/ラス体が得られるものである。
れば、超電導ビラミックス材料を焼結処理した後に、焼
結体を真空チャンバーに入れ、最適条件で、酸素イオン
を打ち込み、著しく超電導特性の改良された超電導セラ
ミ/ラス体が得られるものである。
酸素イオンの打ち込みは通常加速器で行なわれる。その
加速器f、Eは、数百KVから数十MVの範囲で行なう
ことができる。この加速電圧を変えることにより酸素イ
オンの打ち込み深さを変えることができる。必要な打ち
込み深さの加速電圧を選択する。また、照射電流、照射
時間なども適切に選択することができる。
加速器f、Eは、数百KVから数十MVの範囲で行なう
ことができる。この加速電圧を変えることにより酸素イ
オンの打ち込み深さを変えることができる。必要な打ち
込み深さの加速電圧を選択する。また、照射電流、照射
時間なども適切に選択することができる。
打ち込むべき酸素イオンとしては Q *、 Q 、*
が一般的であるが、酸素イオンであるならばどのような
形のイオンでも基本的には好適である。
が一般的であるが、酸素イオンであるならばどのような
形のイオンでも基本的には好適である。
次にその具体的な例により1本発明の超電導セラミック
ス体の製造方法を示す。
ス体の製造方法を示す。
Y B a ! Cu s Ot〜8の超電導セラミッ
クス材料について、焼結後種々の条件で酸素イオンを打
ち込み、それにより得られた超電導体の臨界温度を測定
した。
クス材料について、焼結後種々の条件で酸素イオンを打
ち込み、それにより得られた超電導体の臨界温度を測定
した。
酸素イオンの打も込みは、酸素イオンとして。
0、+を用いて加速器で行ない、その加速電圧は。
1.4MVで行なった。その酸素イオンの打ち込み密度
は9次の式により計算される。
は9次の式により計算される。
即ち、1Iv2素イオンの打ち込み
密度−照射電流×照射時間X2/照射面積この酸素イオ
ン打ち込み密度に対して、得られた超電導体の超電導臨
界温度を、ブ[1・yトしたグシソを図に示した。
ン打ち込み密度に対して、得られた超電導体の超電導臨
界温度を、ブ[1・yトしたグシソを図に示した。
尚、酸素イオン打ち込み密度とは、セラミックス体内に
打し込まれた酸素イオンによる酸素原子の密度を意味す
る。
打し込まれた酸素イオンによる酸素原子の密度を意味す
る。
図示のように、酸素イオンを打ち込まない場合、或いは
、イオンの打ち込み密度が 1014 cm−1以下の
場合では、超電導臨界温度は一定で、変化が観測できな
かった。それに対して、イオンの打ち込み密度が、 1
0 ”Cm−”〜1017cm−”の程度の場合では、
その超電導臨界温度は270〜290にと室温付近で超
電導性を示すものであった。更に、イオンの打ら込み密
度を10 ”cm−”以上にした場合、その超電導臨界
温度を測定4−ると、臨界温度が計測できず超電導性が
観察できなかった。
、イオンの打ち込み密度が 1014 cm−1以下の
場合では、超電導臨界温度は一定で、変化が観測できな
かった。それに対して、イオンの打ち込み密度が、 1
0 ”Cm−”〜1017cm−”の程度の場合では、
その超電導臨界温度は270〜290にと室温付近で超
電導性を示すものであった。更に、イオンの打ら込み密
度を10 ”cm−”以上にした場合、その超電導臨界
温度を測定4−ると、臨界温度が計測できず超電導性が
観察できなかった。
これはイオンの打ち込み量が多過ぎて結晶構造を破壊し
たものと思われる。
たものと思われる。
このように超電導体に酸素イオンを適量打ち込むことに
より超電導体の超電導臨界温度を改善する効果があるこ
とが、明らかにされた。この実験では、酸素イオンの打
も込み密度を10 ”cm−”〜10 lFcm−”程
度にした場合に良好な結果が得られたが、焼結された超
電導セラミックス体のM素欠損量、履歴などに応じて酸
素イオンの打ち込み条件を制御することが必要である。
より超電導体の超電導臨界温度を改善する効果があるこ
とが、明らかにされた。この実験では、酸素イオンの打
も込み密度を10 ”cm−”〜10 lFcm−”程
度にした場合に良好な結果が得られたが、焼結された超
電導セラミックス体のM素欠損量、履歴などに応じて酸
素イオンの打ち込み条件を制御することが必要である。
また、それにより高い超電導臨界温度が得られるなどの
著しい効果を得ることができるものである。
著しい効果を得ることができるものである。
以上の実験では、1.4MVという比較的に高圧の加速
電圧で酸素イオンを打ち込んだために焼結試料は温度が
−b ’jlシたものと思われる。また。
電圧で酸素イオンを打ち込んだために焼結試料は温度が
−b ’jlシたものと思われる。また。
上記のようにアニール処理なしで、超電導特性が得られ
たが、これは、この温度上昇が同様な効果を果たしたも
のと思われる。一般には、#素イオンの打ち込みの後に
、アニール処理が必要と思われ、焼結試料の特性に応じ
て、適宜1選択すべきものと思われる。
たが、これは、この温度上昇が同様な効果を果たしたも
のと思われる。一般には、#素イオンの打ち込みの後に
、アニール処理が必要と思われ、焼結試料の特性に応じ
て、適宜1選択すべきものと思われる。
以上のように本発明の超電導セラミックス体の製造方法
は、酸素欠損が不可避的に生じる酸化物系超電導体のす
べてについて適応できるものである。
は、酸素欠損が不可避的に生じる酸化物系超電導体のす
べてについて適応できるものである。
[発明の効果]
本発明による超電導セラミックス体の製造方法は、単に
粉末焼結法により得られる超電導体よりはるかにすぐれ
た超電導特性を有する超電導セラミックス体を提供でき
るものであり。
粉末焼結法により得られる超電導体よりはるかにすぐれ
た超電導特性を有する超電導セラミックス体を提供でき
るものであり。
即ち、酸素イオンの打ち込みにより酸素欠損による結晶
構造の欠陥が修復され1例えば、臨界温度の著しく上が
った超電導セラミックス材料を得ることのできたもので
、それにより、著しく超電導特性の改良された酸化物超
電導体を得ることのできる製造方法を提供できたこと等
の顕著な技術的な効果が得られた。
構造の欠陥が修復され1例えば、臨界温度の著しく上が
った超電導セラミックス材料を得ることのできたもので
、それにより、著しく超電導特性の改良された酸化物超
電導体を得ることのできる製造方法を提供できたこと等
の顕著な技術的な効果が得られた。
図は9本発明の製造方法による酸素イオンの打ち込み密
度に対する。それにより得られる超電導体の超電導臨界
温度をプロットしたグラフである。
度に対する。それにより得られる超電導体の超電導臨界
温度をプロットしたグラフである。
Claims (2)
- (1)超電導セラミックス体の製造方法において,超電
導セラミックス体を焼結した後に,該超電導セラミック
ス体に,該焼結超電導セラミックス体の酸素欠損に応じ
て酸素イオンを打ち込むことを特徴とする前記超電導セ
ラミックス体の製造方法。 - (2)酸素イオンの打ち込み密度が10^1^3cm^
−^2〜10^1^7cm^−^2である特許請求の範
囲第1項記載の超電導セラミックス体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62252375A JPH0196080A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | 超電導材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62252375A JPH0196080A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | 超電導材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0196080A true JPH0196080A (ja) | 1989-04-14 |
Family
ID=17236433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62252375A Pending JPH0196080A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | 超電導材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0196080A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015192071A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 住友重機械工業株式会社 | Sns型ジョセフソン接合素子の製造方法及びsns型ジョセフソン接合素子製造装置 |
AT516825B1 (de) * | 2012-02-09 | 2016-09-15 | Cummins Ip Inc | Zündkerze zum Entfernen von Abgasrückständen und zugehörige Brennkammer |
-
1987
- 1987-10-08 JP JP62252375A patent/JPH0196080A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT516825B1 (de) * | 2012-02-09 | 2016-09-15 | Cummins Ip Inc | Zündkerze zum Entfernen von Abgasrückständen und zugehörige Brennkammer |
AT516825A5 (de) * | 2012-02-09 | 2016-09-15 | Cummins Ip Inc | Zündkerze zum Entfernen von Abgasrückständen und zugehörige Brennkammer |
JP2015192071A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 住友重機械工業株式会社 | Sns型ジョセフソン接合素子の製造方法及びsns型ジョセフソン接合素子製造装置 |
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