JPH0194551A - 光磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 大量の情報を高速に記録する光磁気ディスクに関し、 コスト低減と信号品質の向上を目的とし、案内溝を備え
た第１の透明基板上に第１の誘電体膜、第１の記録膜、
第２の誘電体膜、第１の金属膜、第３の誘電体膜、第２
の記録膜、第４の誘電体膜と順次に膜形成を行い、この
上に案内溝のない第２の透明基板を貼り合わすことによ
り光磁気ディスクを構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明はコスト低減と信号品質の向上を可能とした光磁
気ディスクの構成に関する。

光磁気ディスクは記録膜を垂直磁化している磁性膜で形
成し、外部より磁性膜の磁化方向と反対方向に垂直に磁
界を加えながら、集光したレーザ光を照射すると、照射
された磁性膜の温度上昇により保磁力が減少して磁界の
方向に磁化反転が起こるのを利用して信号の記録と消去
を行うメモリである。

そして、情報の再生は磁性膜にレーザ光を照射する場合
に、反射光の偏向面が回転するが、この回転方向が磁性
膜の磁化方向により異なるのを利用して行われている。

本発明は光ディスクの新たな構成に関するものである。

〔従来の技術〕

光磁気ディスク基板はディスク状をした透明基板の上に
第１の誘電体膜、記録膜、第２の誘電体膜と層構造をな
して形成されている。

すなわち、透明基板としてディスク状のガラス基板或い
はポリメチルメタクリレート（略称ＰＭＭＡ）、ポリカ
ーボネート（略称ＰＣ）などの樹脂基板が用いられてい
る。

そして、ガラス基板を用いる場合は写真蝕刻技術（フォ
トリソグラフィ）を用いて直接にエツチングして作る場
合もあるが、多くの場合はガラス基板上にフォトポリマ
（例えばアクリル酸エステル）を被覆し、この表面を型
形成することにより案内溝（プリグループ）が作られて
いる。

また、透明基板を用いる場合はスタンパと言われる金型
を用い、モールド成形することにより案内溝の付いた透
明基板が作られている。

光磁気ディスクは原理的にはこの上に磁化方向が垂直な
磁性膜を形成し、記録膜として用いればよいが、フォト
ポリマや樹脂基板を通っての湿気や不純物の拡散による
記録膜の劣化を防ぐために透明基板上に第１の誘電体膜
を介して記録膜が設けられている。

また、上方からの酸化防止と機械的保護のために記録膜
の上に第２の誘電体膜が設けられている。

すなわち、光磁気ディスク基板は、 透明基板／第１の誘電体膜／記録膜／第２の誘電体膜　
の構成がとられている。

然し、小形化および大容量化の要求を満たすために単一
基板のま＼で使用されることは少なく、サンドインチ形
や貼り合わせ形の形態をとることが多い。

こ＼で、サンドインチ形は透明基板を外側とし、セパレ
ータを用いて二枚の光磁気ディスク基板を一定の間隙を
保って貼り合わせた構造であり、また、貼り合わせ形は
接着剤を用いて直接に接合した構造である。

次に、光磁気ディスクの信号品質の向上を目的として第
２の誘電体膜の上に金属膜を設けた構造が実用化されて
いる。

すなわち、 透明基板／第１の誘電体膜／記録膜／第２の誘電体膜／
金属膜　の構成をとる。

こ＼で、金属膜は情報の再生に当たって、記録膜を透過
したレーザ光を反射させるもので、記録膜の厚さが７０
ｎｍ未満の場合は大部分の光磁気記録媒体についてレー
ザダイオード（略称ＬＤ）から発光するレーザ光（例え
ば波長８３０ｎｍ）が透過することから反射光を検出に
利用し、カー効果とファラデー効果の両者を利用するこ
とにより信号品質を向上するものである。

また、か＼る構造の光磁気ディスク基板を接合した貼り
合わせ形も知られている。

第２図はこの構造を示す断面図である。

すなわち、案内溝１を設けた透明基板２の上に第１の誘
電膜３．右下がりの斜線で示す記録膜４゜第２の誘電体
膜５．金属膜６と層形成した光磁気ディスク基板７を二
枚、接着剤８を用いて貼り合わせて構成されている。

このようにして大容量化と信号品質の向上が図られてい
る。

〔発明が解決しようとする問題点〕

反射膜を上層に設けた光磁気ディスク基板を貼り合わす
ことにより大容量化と信号品質の向上が行われているが
、か＼る光磁気ディスクの形成にはかなりの工数を要し
ている。

そこで、この工数を減らしてコストを低減することが課
題である。

〔問題点を解決するための手段〕 上記の問題は案内溝を備えた第１の透明基板上に第１の
誘電体膜、第１の記録膜、第２の誘電体膜、第１の金属
膜、第３の誘電体膜、第２の記録膜、第４の誘電体膜と
順次に膜形成を行い、この上に案内溝のない第２の透明
基板を貼り合わせて構成する構造の光磁気ディスクによ
り解決することができる。

４　〔作用〕 本発明は二枚の光磁気ディスクを貼り合わす代わりに透
明基板上にスパッタ法などにより順次に背中合わせに構
成しであるそれぞれの膜を層形成するものである。

このようにすると金属膜が相互に隣接するようになるが
、金属膜はレーザ光の反射膜であるため一枚で足り、下
方からの照射に対する反射膜と上方か、らの照射に対す
る反射膜とを兼ねさせる。

すなわち、 第１の透明基板／第１の誘電体膜／第１の記録膜／第２
の誘電体膜／金属膜／第３の誘電体膜／第２の記録膜／
第４の誘電体膜／第２の透明基板の構成をとる。

そして、両面を用いて従来と同様に記録・再生・消去を
行うことにより製造コストを低減した光磁気ディスクを
作ることができる。

〔実施例〕

第１図は本発明に係る光磁気ディスクの断面図であって
、厚さが１．２■ｌでディスク状をしたガラス基板の上
にフォトポリマを４０μｍの厚さに塗布し、スタンパで
型成形することにより案内溝１を備えた透明基板２を形
成した。

こ＼で、案内溝の幅は０．８μｍ、ピッチは１．６μｍ
、深さは０．０７μｍである。

この上に何れもスパッタ法を用い、第１の誘電体膜１０
として窒化硅素（５ｉＪａ　）を８０ｎｍの厚さに、第
１の記録膜１１としてテルビウム・鉄・コバルト（Ｔｂ
　Ｆｅ　Ｃｏ）を４０ｎｍの厚さに、第２の誘電体膜１
２としてＳｉＪ、を８０ｎｍの厚さに、金属膜１３とし
てアルミニウム（ｉ）を６０ｎｍの厚さに、第３の誘電
体膜１４としてＳｉ：＋Ｎ４を８０ｎｍの厚さに、第２
の記録膜１５としてＴｂ　Ｐａ　Ｃｏを４０ｎｍの厚さ
に、第４の誘電体膜１６として５ｉＪ４を８０ｎｍの厚
さに形成した後、フォトポリマを接着剤に用いてディス
ク状をした平滑なガラス基板１７を貼り付けて光磁気デ
ィスクを形成した。

そして、同図において下面側はＡの位置をトラックとし
、上面側はＢの位置をトラックとし、１μｍに集光した
レーザ光（波長８３０ｎｍ）を用いて信号を記録した。

その結果、Ｃ／Ｎ　（Ｃａｒｒｉｅｒ−１ｅｖｅｌ／Ｎ
ｏ１ｓｅ−１ｅｖｅ　１）として６０ｄＢ（３μｍビッ
ト長）の値が得られ、これは第２図に示す従来構造と同
じ値であった。

〔発明の効果〕

以上記したように本発明の実施により、信号品質が優れ
、且つ従来よりも低コストの光磁気ディスクを実用化す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る光磁気ディスクの断面図、第２図
は従来の貼り合わせ形光磁気ディスクの断面図、 である。 図において、 １は案内溝、　　　　　　　２は透明基板、１０は第１
の誘電体膜、　　１１は第１の記録膜、１２は第２の誘
電体膜、　　１３は金属膜、１４は第３の誘電体膜、　
　１５は第２の記録膜、１６は第４の誘電体膜、　　１
７はガラス基板、である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）案内溝を備えた透明基板上に第１の誘電体膜、記
   録膜、第２の誘電体膜、金属膜と順次に層形成してなる
   二枚の光磁気ディスク基板を前記透明基板を外側にし、
   接着剤を用いて相互に貼り合わせて構成する貼り合わせ
   形の光磁気ディスクの代わりに、 案内溝を備えた第１の透明基板上に第１の誘電体膜、第
   １の記録膜、第２の誘電体膜、第１の金属膜、第３の誘
   電体膜、第２の記録膜、第４の誘電体膜と順次に膜形成
   を行い、この上に案内溝のない第２の透明基板を貼り合
   わせて構成することを特徴とする光磁気ディスク。
2. （２）第１の記録膜および第２の記録膜の厚さがそれぞ
   れ７０ｎｍ以下であることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の光磁気ディスク。