JPH038153A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH038153A JPH038153A JP14256389A JP14256389A JPH038153A JP H038153 A JPH038153 A JP H038153A JP 14256389 A JP14256389 A JP 14256389A JP 14256389 A JP14256389 A JP 14256389A JP H038153 A JPH038153 A JP H038153A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気カー効果やファラデー効果等の磁気光学
特性を利用して情報信号を記録再生する光磁気記録媒体
に関するものである。
特性を利用して情報信号を記録再生する光磁気記録媒体
に関するものである。
本発明は、記録部が記録磁性層と反射層とを有する積N
構造とされた光磁気記録媒体において、前記反射層を基
板側に配置することにより、同一面からの光照射及び磁
界印加が可能な光磁気記録媒体を提供しようとするもの
である。
構造とされた光磁気記録媒体において、前記反射層を基
板側に配置することにより、同一面からの光照射及び磁
界印加が可能な光磁気記録媒体を提供しようとするもの
である。
〔従来の技術]
光磁気記録媒体は、磁性薄膜を部分的にキュリー点また
は温度補償点を越えて昇温し、この部分の保磁力を消滅
させて外部から印加される記録磁界の方向に磁化の向き
を反転させることを基本原理とするもので、コンピュー
タの外部記憶装置あるいは音響、映像情報の記録装置等
において実用化されつつある。
は温度補償点を越えて昇温し、この部分の保磁力を消滅
させて外部から印加される記録磁界の方向に磁化の向き
を反転させることを基本原理とするもので、コンピュー
タの外部記憶装置あるいは音響、映像情報の記録装置等
において実用化されつつある。
一般に、この種の光磁気記録媒体としては、ポリカーボ
ネート等からなる透明基板の一側面に、膜面と垂直方向
に磁化容易軸を有し磁気光学効果の大きな記録磁性層(
例えば希土類−遷移金属合金非晶質yJ膜)や反射層、
誘電体層を積層することにより記録部を設け、透明基板
側からレーザ光を照射して信号の読み取りを行うように
したちのが知られている。
ネート等からなる透明基板の一側面に、膜面と垂直方向
に磁化容易軸を有し磁気光学効果の大きな記録磁性層(
例えば希土類−遷移金属合金非晶質yJ膜)や反射層、
誘電体層を積層することにより記録部を設け、透明基板
側からレーザ光を照射して信号の読み取りを行うように
したちのが知られている。
例えば、米国特許第4610912号には、透明基板上
に誘電体層、記録磁性層、誘電体層2金属反射膜が順次
積層された光磁気記録媒体が開示されている。金属反射
膜は、2層の誘電体層とともに見かけ上のカー回転角を
拡大する目的で設けられるものであって、記録磁性層を
透過した光を反射して効率的な読み取りを可能とするも
のである。
に誘電体層、記録磁性層、誘電体層2金属反射膜が順次
積層された光磁気記録媒体が開示されている。金属反射
膜は、2層の誘電体層とともに見かけ上のカー回転角を
拡大する目的で設けられるものであって、記録磁性層を
透過した光を反射して効率的な読み取りを可能とするも
のである。
したがって、これまでの光磁気記録媒体では、記録磁性
層が反射層よりも透明基板側に配置され、また両面基板
とする場合には、前述の記録部を設けた透明基板を反射
層を背中合わせにした状態で紫外線硬化樹脂等を介して
貼り合わせ、いずれの面においても透rIJ4基板を通
して光照射が行われるようになされている。
層が反射層よりも透明基板側に配置され、また両面基板
とする場合には、前述の記録部を設けた透明基板を反射
層を背中合わせにした状態で紫外線硬化樹脂等を介して
貼り合わせ、いずれの面においても透rIJ4基板を通
して光照射が行われるようになされている。
〔発明が解決しようとする課題]
ところで、光磁気記録媒体への記録方式としては、光変
調方式と磁界変調方式が知られているが、オーバーライ
ド可能であるという点で磁界変調方式の方が有利である
と考えられる。そして、この磁界変調方式においては、
6〃界を高速で反転する必要があり、ル仔界印加のため
のマグネットをなるべく記録磁性層の近くに配置する必
要がある。
調方式と磁界変調方式が知られているが、オーバーライ
ド可能であるという点で磁界変調方式の方が有利である
と考えられる。そして、この磁界変調方式においては、
6〃界を高速で反転する必要があり、ル仔界印加のため
のマグネットをなるべく記録磁性層の近くに配置する必
要がある。
一方、透明基板側から信号の読み取りを行う光磁気記録
媒体では、前記透明基(反で機械的強度を確保する必要
があり、当該透明基板の厚さをある程度厚く (例えば
数■程度)しなければならない。
媒体では、前記透明基(反で機械的強度を確保する必要
があり、当該透明基板の厚さをある程度厚く (例えば
数■程度)しなければならない。
このような観点からみたとき、前述の構造を有する光磁
気記録媒体では、透明基)反側にレーザ光を照射する光
学ピンクアンプを、これきは反対側に磁界印加のための
マグネットを配置するようにせざるを得ない。
気記録媒体では、透明基)反側にレーザ光を照射する光
学ピンクアンプを、これきは反対側に磁界印加のための
マグネットを配置するようにせざるを得ない。
ところが、このように光学ピンクアップとマグネットを
光磁気記録媒体の両側に対向配置しようとすると、装置
の大型化を招き好ましいものではない、また、ボリカー
ボ2−トよりなる透明基板側からレーザ光を照射すると
、透明基板の複屈折の影響が問題となる虞れもある。
光磁気記録媒体の両側に対向配置しようとすると、装置
の大型化を招き好ましいものではない、また、ボリカー
ボ2−トよりなる透明基板側からレーザ光を照射すると
、透明基板の複屈折の影響が問題となる虞れもある。
また、特に透明基板側から信号を読み取るような構造で
両面記録可能な両面光磁気記録媒体を構成しようとする
と、マグネットをどのように配置しても記録に関与する
記録磁性層との距離が大きくなりすぎ、現行の技術では
磁界変調方式での両面記録は極めて困難とされている。
両面記録可能な両面光磁気記録媒体を構成しようとする
と、マグネットをどのように配置しても記録に関与する
記録磁性層との距離が大きくなりすぎ、現行の技術では
磁界変調方式での両面記録は極めて困難とされている。
光変調方式を採用するとしても、前述の構造では両面光
磁気記録媒体とすると媒体の厚さが非常に厚くなり、小
型化、薄型化、軽量化への要求に対して不利である。
磁気記録媒体とすると媒体の厚さが非常に厚くなり、小
型化、薄型化、軽量化への要求に対して不利である。
そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑みて促案された
ものであって、駆動装置の小型化、薄型化を図ることが
可能で、かつ複屈折の影響の少ない光磁気記録媒体を提
供することを目的とする3さらに本発明は、レーザ光照
射側から磁界を印加するようにしてもマグネットと記録
磁性層の距離を小さ(することが可能な光磁気記録媒体
を提供することを目的とし、全体の厚さが薄く且つ磁界
変調方式に対応し得る両面光るn気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
ものであって、駆動装置の小型化、薄型化を図ることが
可能で、かつ複屈折の影響の少ない光磁気記録媒体を提
供することを目的とする3さらに本発明は、レーザ光照
射側から磁界を印加するようにしてもマグネットと記録
磁性層の距離を小さ(することが可能な光磁気記録媒体
を提供することを目的とし、全体の厚さが薄く且つ磁界
変調方式に対応し得る両面光るn気記録媒体を提供する
ことを目的とする。
本発明の光磁気記録媒体は、上述の目的を達成するため
に、基板上に少なくとも反射層と記録磁性層を有する記
録部が積層されてなり、前記反射層が記録磁性層よりも
基板側に配置されるとともに、前記記録部上に光硬化性
樹脂層を介して保護カバーが設けられていることを特徴
とするものである。
に、基板上に少なくとも反射層と記録磁性層を有する記
録部が積層されてなり、前記反射層が記録磁性層よりも
基板側に配置されるとともに、前記記録部上に光硬化性
樹脂層を介して保護カバーが設けられていることを特徴
とするものである。
C作用〕
基板上に積層される記録部において、反射層を基(反側
に配置すると記録磁性層は必然的に保護カバー側に配置
され、当該記録磁性層への情報の書き込み、あるいは読
み取りのためのレーザ光は、保護カバー側から照射され
る。
に配置すると記録磁性層は必然的に保護カバー側に配置
され、当該記録磁性層への情報の書き込み、あるいは読
み取りのためのレーザ光は、保護カバー側から照射され
る。
ここで、前記保護カバーには機械的強度が要求されるこ
とはなく、ガラス等の薄板が使用されるため、読み取り
不良の原因となる複屈折が解消され、光照射側に磁界印
加用のマグネットを配置しても記録磁性層との距離が僅
かなもので済む。
とはなく、ガラス等の薄板が使用されるため、読み取り
不良の原因となる複屈折が解消され、光照射側に磁界印
加用のマグネットを配置しても記録磁性層との距離が僅
かなもので済む。
また、保護カバー側から光!lH・1するような構成で
あるため、基板の両面に記録部を設けることで両面光磁
気記録媒体とされ、全体の厚みが大幅に削減される。こ
の両面光6〃気記録姪体は、@述の通り各面に光照射側
からマグネットを近づけることが可能であることから、
磁界変調方式に対応し得る両面光磁気記録媒体となる。
あるため、基板の両面に記録部を設けることで両面光磁
気記録媒体とされ、全体の厚みが大幅に削減される。こ
の両面光6〃気記録姪体は、@述の通り各面に光照射側
からマグネットを近づけることが可能であることから、
磁界変調方式に対応し得る両面光磁気記録媒体となる。
以下、本発明を円板状の光磁気ディスクに適用した具体
的な実施例について図面を参照しながら説明する。
的な実施例について図面を参照しながら説明する。
本実施例の光磁気ディスクは、第1図に示すように、基
板lの一側面に記録磁性層2.誘電体層3.4及び反射
N5よりなる記録部6を積層し、さらにこの記録部6の
表面を光硬化性樹脂層7及び保護カバー8で覆ってなる
ものである。
板lの一側面に記録磁性層2.誘電体層3.4及び反射
N5よりなる記録部6を積層し、さらにこの記録部6の
表面を光硬化性樹脂層7及び保護カバー8で覆ってなる
ものである。
基板1ば、厚さ数lll11程度、ここでは1.2mm
の円板状の基板であって、その材質としては、アクリル
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エ
ボキン樹脂等のブラスチンク材料の他、ガラス等も使用
される。この基板1は、当該基板1側からレーザ光を照
射するわけではないことから、必ずしも透明である必要
はなく、例えばAf基板等のように光の反射率の高い基
板を使用すれば、先の反射層5を省略し基板1自体を反
射層として利用することも可能である。
の円板状の基板であって、その材質としては、アクリル
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エ
ボキン樹脂等のブラスチンク材料の他、ガラス等も使用
される。この基板1は、当該基板1側からレーザ光を照
射するわけではないことから、必ずしも透明である必要
はなく、例えばAf基板等のように光の反射率の高い基
板を使用すれば、先の反射層5を省略し基板1自体を反
射層として利用することも可能である。
なお、この基板1の記録部6を設ける側の表面laには
、通常は使用するレーザ光波長のおよそ4分の1の深さ
を持った案内溝1b及び番地符号ピント(図示は省略す
る。)が設けられる。
、通常は使用するレーザ光波長のおよそ4分の1の深さ
を持った案内溝1b及び番地符号ピント(図示は省略す
る。)が設けられる。
上記記録部6は、第1図に示す如く記録磁性層2、第1
の誘電体層3.第2の誘電体層4並びに反射層5からな
る4層構造を有し、反射層5は記録磁性層2よりも基板
1側に配置されている。すなわち、基板1上には、反射
層5.第2の誘電体層4.記録磁性層2.第1の誘電体
層3の順で積層されている。
の誘電体層3.第2の誘電体層4並びに反射層5からな
る4層構造を有し、反射層5は記録磁性層2よりも基板
1側に配置されている。すなわち、基板1上には、反射
層5.第2の誘電体層4.記録磁性層2.第1の誘電体
層3の順で積層されている。
これらのうち、第1の誘電体層3及び第2の誘電体層4
としては、酸化物や窒化物等が使用可能であるが、酸素
及び水分子を透過させず、酸素を含まない物質で且つ使
用レーザ光を十分に透過し得る物質が望ましく、窒化珪
素あるいは窒化アルミニウム等が好適である。
としては、酸化物や窒化物等が使用可能であるが、酸素
及び水分子を透過させず、酸素を含まない物質で且つ使
用レーザ光を十分に透過し得る物質が望ましく、窒化珪
素あるいは窒化アルミニウム等が好適である。
上記記録磁性N2は、膜面に垂直な方向に磁化容易方向
を有する非晶質の強磁性層であって、磁気光学特性に優
れることはもちろん、室温にて大きな保6〃力を持ち、
且つ200 ’C近辺にキュリー点を持つことが望まし
い。このような条件に叶った記録材料としては、希土類
−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げられ、なかでもTb
FeCo系非晶質薄膜が好適である。この記録磁性層2
には、耐腐食性を向上させる目的で、C「等の添加元素
が微量添加されていてもよい。
を有する非晶質の強磁性層であって、磁気光学特性に優
れることはもちろん、室温にて大きな保6〃力を持ち、
且つ200 ’C近辺にキュリー点を持つことが望まし
い。このような条件に叶った記録材料としては、希土類
−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げられ、なかでもTb
FeCo系非晶質薄膜が好適である。この記録磁性層2
には、耐腐食性を向上させる目的で、C「等の添加元素
が微量添加されていてもよい。
上記反射層5は、前記第2の誘電体層4との境界でレー
ザ光を70%以上反射する高反射率の膜により構成する
ことが好ましく、非磁性金属の藤着膜が好適である。ま
た、この反射層5は、熱的に良導体であることが望まし
く、入手の容易さや成膜のし易さ等を考慮すると、アル
ミニウムが適している。
ザ光を70%以上反射する高反射率の膜により構成する
ことが好ましく、非磁性金属の藤着膜が好適である。ま
た、この反射層5は、熱的に良導体であることが望まし
く、入手の容易さや成膜のし易さ等を考慮すると、アル
ミニウムが適している。
これら各層2.3.4.5は、蒸着やスパンクリング等
の、いわゆる気相メツキ技術により形成される。このと
き各層2,3,4.5の膜厚は任意に設定することがで
きるが、通常は数百人から数千人程度に設定される。こ
れらの膜厚は、各層単独の光学的性質のみならず、膜厚
の組み合わせを考慮して決めることが好ましい、これは
、例えば記録磁性層2の膜厚がレーザ光の波長に比べて
薄い場合に、レーザ光が記録磁性層を透過して各層境界
で反射した光と多重干渉し、記録磁性層2の実効的な光
学及び磁気光学特性が膜厚の組み合わせに大きく依存す
る等の理由による。
の、いわゆる気相メツキ技術により形成される。このと
き各層2,3,4.5の膜厚は任意に設定することがで
きるが、通常は数百人から数千人程度に設定される。こ
れらの膜厚は、各層単独の光学的性質のみならず、膜厚
の組み合わせを考慮して決めることが好ましい、これは
、例えば記録磁性層2の膜厚がレーザ光の波長に比べて
薄い場合に、レーザ光が記録磁性層を透過して各層境界
で反射した光と多重干渉し、記録磁性層2の実効的な光
学及び磁気光学特性が膜厚の組み合わせに大きく依存す
る等の理由による。
一方、上記光硬化性樹脂層7は、前記基板1に設けられ
た案内溝1b等による凹凸を解消すると同時に、後述の
保護カバー8の接着層を兼ねるもので、紫外線や電子線
等で硬化される光硬化性樹脂が使用される。この光硬化
性樹脂層7は、レーザ光を十分に透過する必要があり、
透明性等の光学特性に優れた光硬化性樹脂を選択する必
要がある。また、この光硬化性樹脂層7には、前記記録
部6の腐食を防止するために防水性も要求され、アクリ
ル系紫外線硬化樹脂等、これまで知られる光硬化性樹脂
のなかからこれら要求を満たすものを選択して使用する
ことが好ましい。本例では、防水効果を−N確実なもの
とするために、記録部6を基板lの周縁から若干後退さ
せ、この部分を光硬化性樹脂層7並びに保護カバー8で
覆うようなかたちとしており、記録部6の端面が基板の
周囲に露出してこの部分から腐食が進むのを抑えるよう
な構造としている。
た案内溝1b等による凹凸を解消すると同時に、後述の
保護カバー8の接着層を兼ねるもので、紫外線や電子線
等で硬化される光硬化性樹脂が使用される。この光硬化
性樹脂層7は、レーザ光を十分に透過する必要があり、
透明性等の光学特性に優れた光硬化性樹脂を選択する必
要がある。また、この光硬化性樹脂層7には、前記記録
部6の腐食を防止するために防水性も要求され、アクリ
ル系紫外線硬化樹脂等、これまで知られる光硬化性樹脂
のなかからこれら要求を満たすものを選択して使用する
ことが好ましい。本例では、防水効果を−N確実なもの
とするために、記録部6を基板lの周縁から若干後退さ
せ、この部分を光硬化性樹脂層7並びに保護カバー8で
覆うようなかたちとしており、記録部6の端面が基板の
周囲に露出してこの部分から腐食が進むのを抑えるよう
な構造としている。
なお、この光硬化性樹脂層7の厚さは、前記凹凸を解消
でき、しかも十分な接着性を確保できる程度とすれば良
く、マグネットをなるべく近くに配置するという目的か
らはなるべく薄い方が良い。
でき、しかも十分な接着性を確保できる程度とすれば良
く、マグネットをなるべく近くに配置するという目的か
らはなるべく薄い方が良い。
上記保護カバー8は、前記記録部6を覆って物理的9機
械的に保護する役割を果たすものであるが、当該保護カ
バー8側からレーザ光が照射されることになるので、そ
の表面は光学的に十分平滑であることが必要である。し
たがってその材質としては、強化ガラス、結晶ガラス等
のガラス系材料や、ポリカーボネート2 エボキン樹脂
等のプラスチック系材料等が挙げられる。
械的に保護する役割を果たすものであるが、当該保護カ
バー8側からレーザ光が照射されることになるので、そ
の表面は光学的に十分平滑であることが必要である。し
たがってその材質としては、強化ガラス、結晶ガラス等
のガラス系材料や、ポリカーボネート2 エボキン樹脂
等のプラスチック系材料等が挙げられる。
前記保3Wカバー8の厚さも、先の光硬化性樹脂N7と
同様、磁界変調記録時にマグネットをなるべく記L1磁
性層2に近づける必要があることからできる限り薄いも
のであることが望まれる。また、この保護カバー8でデ
ィスクの機械強度を維持する必要がないので、なるべく
薄いものを選定することが好ましく、例えばガラスを使
った場合には0.11N5程度のものまで実現可能であ
る。
同様、磁界変調記録時にマグネットをなるべく記L1磁
性層2に近づける必要があることからできる限り薄いも
のであることが望まれる。また、この保護カバー8でデ
ィスクの機械強度を維持する必要がないので、なるべく
薄いものを選定することが好ましく、例えばガラスを使
った場合には0.11N5程度のものまで実現可能であ
る。
なお、保護カバー8にも透明性等の光学特性乙こ優れる
ことが要求されるが、厚さが基板に比べて非常に薄いも
のであるので、ある程度複屈折が生したとしてもその影
響は小さい。
ことが要求されるが、厚さが基板に比べて非常に薄いも
のであるので、ある程度複屈折が生したとしてもその影
響は小さい。
以上の構成を有する光磁気ディスクにおいては、レーザ
ビームを照射する光学ピックアップは保護カバー8側に
配置され、この保護カバー8及び光硬化性樹脂樹脂層7
を介して記録部6の記録磁性N2にレーザ光が照射され
る。また、磁界印加を行うマグネットも前記光学ピック
アップと同様保護カバー8側に配置され、同一面側に光
学ピックアップ及びマグネットを配置しての情報の書き
込みが可能となる。このとき、保護カバー8及び光硬化
性樹脂層7の厚さが薄いことから、マグネットを記i3
磁性層2に近づけることが可能となり、ER界変調方弐
にも十分対応し得る。
ビームを照射する光学ピックアップは保護カバー8側に
配置され、この保護カバー8及び光硬化性樹脂樹脂層7
を介して記録部6の記録磁性N2にレーザ光が照射され
る。また、磁界印加を行うマグネットも前記光学ピック
アップと同様保護カバー8側に配置され、同一面側に光
学ピックアップ及びマグネットを配置しての情報の書き
込みが可能となる。このとき、保護カバー8及び光硬化
性樹脂層7の厚さが薄いことから、マグネットを記i3
磁性層2に近づけることが可能となり、ER界変調方弐
にも十分対応し得る。
このように、同一面側に光学ピックアップとマグネット
を配置することができると、これらを−体化、薄型化で
き、ディスク駆動装7を小型化薄型化する上で非常に有
利である。また、ディスク駆動装置を設計するに当たっ
ても、ディスクのロープインクやチャンキングに対する
制約が少なくなり、その自由度を増すこ止ができる。
を配置することができると、これらを−体化、薄型化で
き、ディスク駆動装7を小型化薄型化する上で非常に有
利である。また、ディスク駆動装置を設計するに当たっ
ても、ディスクのロープインクやチャンキングに対する
制約が少なくなり、その自由度を増すこ止ができる。
また、レーザ光は保護カバー8側から脇射されるので、
これまで問題となってきた基板の複屈折による影響が解
消され、信頬性の点でも有利である。
これまで問題となってきた基板の複屈折による影響が解
消され、信頬性の点でも有利である。
本発明は、前述の片面ディスクばかりでなく、両面ディ
スクに適用することもでき、特に両面ディスクとしたと
きにそのメリットは非常に大きい。
スクに適用することもでき、特に両面ディスクとしたと
きにそのメリットは非常に大きい。
第2図は、本発明を両面ディスクに適用した実施例を承
すもので、i+)1211を共通とするとともに、この
基板11の両面にそれぞれ記録部16光硬化性樹脂層1
7.保護カバー18を設けてなるものである。各記録部
16は、第2図に示すように、それぞれ反射層15が記
録磁性層12よりも基板11側に配されるように積層さ
れ、したがってそれぞれ基板11側から、反射層15.
第2の誘電体層14.記録磁性層12.第1の誘電体層
13の順である。基板1.1や光硬化性樹脂層17、保
護カバー18.記録部16を構成する各層の材質、厚さ
等は、先の実施例と同様である。
すもので、i+)1211を共通とするとともに、この
基板11の両面にそれぞれ記録部16光硬化性樹脂層1
7.保護カバー18を設けてなるものである。各記録部
16は、第2図に示すように、それぞれ反射層15が記
録磁性層12よりも基板11側に配されるように積層さ
れ、したがってそれぞれ基板11側から、反射層15.
第2の誘電体層14.記録磁性層12.第1の誘電体層
13の順である。基板1.1や光硬化性樹脂層17、保
護カバー18.記録部16を構成する各層の材質、厚さ
等は、先の実施例と同様である。
この両面ディスクにおいては、基板11が共通とされて
いるので、これまでの基板の貼り合わせによる両面ディ
スクに比べて厚さを略半分に抑えることが可能である。
いるので、これまでの基板の貼り合わせによる両面ディ
スクに比べて厚さを略半分に抑えることが可能である。
基板IIも1回の成形で作成できるため、生産性の点で
も有利である。
も有利である。
また、各記録部16に対しては、先の実施例と同様、光
学ピックアップとマグネットを同一面倒に配置すること
で磁界変調方式により情報の書き込みを行うことが可能
であり、したがってvi磁界変調方式両面光ルホ気記録
システムが実現されることになる。この両面光C荘気記
録ンステムでは、両面を同時にアクセスすることも可能
である。
学ピックアップとマグネットを同一面倒に配置すること
で磁界変調方式により情報の書き込みを行うことが可能
であり、したがってvi磁界変調方式両面光ルホ気記録
システムが実現されることになる。この両面光C荘気記
録ンステムでは、両面を同時にアクセスすることも可能
である。
以上、本発明を適用した具体的な実施例について説明し
たが、本発明がこれら実施例に限定されるものではない
。例えば、上述の各実施例では、記録部を第1の誘電体
層、記録磁性層、第2の誘電体層1反射層からなる4層
構造としたが、特に誘電体層は必要に応じて増減可能で
あって、場合によっては記録部が記録磁性層と反射層の
みから構成されていてもよいし、あるいは4層以上の多
層構造としてもよい。
たが、本発明がこれら実施例に限定されるものではない
。例えば、上述の各実施例では、記録部を第1の誘電体
層、記録磁性層、第2の誘電体層1反射層からなる4層
構造としたが、特に誘電体層は必要に応じて増減可能で
あって、場合によっては記録部が記録磁性層と反射層の
みから構成されていてもよいし、あるいは4層以上の多
層構造としてもよい。
(発明の効果)
以上の説明からも明らかなように、本発明の光磁気記録
媒体においては、反射層が記録磁性層よりも基板側に配
され、同一面側(保護カバー側)から光照射並びに磁界
印加が可能であるので、駆動装置の小型化、薄型化を図
ることが可能となるとともに、複屈折による影響も解消
することができる。また、光照射並びに磁界印加が同一
面側から行われることから、ディスクのローディング機
構やチャッキング機構等に対する制約が少なくなり、装
置を設計するに当たって自由度を増すことができる。
媒体においては、反射層が記録磁性層よりも基板側に配
され、同一面側(保護カバー側)から光照射並びに磁界
印加が可能であるので、駆動装置の小型化、薄型化を図
ることが可能となるとともに、複屈折による影響も解消
することができる。また、光照射並びに磁界印加が同一
面側から行われることから、ディスクのローディング機
構やチャッキング機構等に対する制約が少なくなり、装
置を設計するに当たって自由度を増すことができる。
また、本発明を両面光るn気記録媒体に適用すれば、媒
体自体の厚さを半減することが可能となるばかりか、こ
れまで不可能とされてきた磁界変調方式の両面光磁気記
録システムが実現可能となり、その効果は非常に大きい
。
体自体の厚さを半減することが可能となるばかりか、こ
れまで不可能とされてきた磁界変調方式の両面光磁気記
録システムが実現可能となり、その効果は非常に大きい
。
第1図は本発明を片面光磁気ディスクに適用した一実施
例を示す要部概略断面図であり、第2図は本発明を両面
光磁気ディスクに適用した一実施例を示す要部概略断面
図である。 1.11・・・基板 l 2 ・ 15 ・ l 6 ・ 7 18 ・ ・ 記録磁性層 ・反射層 ・記録部 ・光硬化性樹脂層 保護カバー 特許出廓人 ソニー株式会社
例を示す要部概略断面図であり、第2図は本発明を両面
光磁気ディスクに適用した一実施例を示す要部概略断面
図である。 1.11・・・基板 l 2 ・ 15 ・ l 6 ・ 7 18 ・ ・ 記録磁性層 ・反射層 ・記録部 ・光硬化性樹脂層 保護カバー 特許出廓人 ソニー株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板上に少なくとも反射層と記録磁性層を有する記録部
が積層されてなり、 前記反射層が記録磁性層よりも基板側に配置されるとと
もに、 前記記録部上に光硬化性樹脂層を介して保護カバーが設
けられてなる光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1142563A JP2855659B2 (ja) | 1989-06-05 | 1989-06-05 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1142563A JP2855659B2 (ja) | 1989-06-05 | 1989-06-05 | 光磁気記録媒体 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10012976A Division JPH10188381A (ja) | 1998-01-26 | 1998-01-26 | 光ディスク及び光ディスク記録及び/又は再生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH038153A true JPH038153A (ja) | 1991-01-16 |
JP2855659B2 JP2855659B2 (ja) | 1999-02-10 |
Family
ID=15318244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1142563A Expired - Fee Related JP2855659B2 (ja) | 1989-06-05 | 1989-06-05 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2855659B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0715303A2 (en) * | 1990-01-31 | 1996-06-05 | Sony Corporation | Optical recording medium, disc system and apparatus |
US5838656A (en) * | 1990-01-31 | 1998-11-17 | Sony Corporation | Optical disk system having an objective lens with a numerical aperture related to the thickness of the protective layer |
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US5914915A (en) * | 1995-02-03 | 1999-06-22 | Sony Corporation | Magneto-optical disk system having an objective lens with a numerical aperture related to the thickness of the protective layer |
WO2001027919A1 (fr) * | 1999-10-15 | 2001-04-19 | Hitachi Maxell, Ltd. | Support d'enregistrement magnéto-optique et enregistreur magnéto-optique |
USRE43972E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5727494A (en) * | 1980-07-23 | 1982-02-13 | Sharp Corp | Magneto-optical storage element |
JPS5766549A (en) * | 1980-10-09 | 1982-04-22 | Sharp Corp | Magnetooptical storage element |
-
1989
- 1989-06-05 JP JP1142563A patent/JP2855659B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6219308B1 (en) | 1990-01-31 | 2001-04-17 | Sony Corporation | Optical disk system having objective lens with a numerical aperture related to thickness of protective layer |
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USRE43967E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE43970E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE43972E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE43973E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE44154E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-04-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE43975E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE43974E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE43971E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE43966E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE43969E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE44018E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
USRE43968E1 (en) | 1998-04-03 | 2013-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium |
US6760279B1 (en) | 1999-10-15 | 2004-07-06 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magneto-optical storage apparatus having the relation between numerical aperture and recording medium |
WO2001027919A1 (fr) * | 1999-10-15 | 2001-04-19 | Hitachi Maxell, Ltd. | Support d'enregistrement magnéto-optique et enregistreur magnéto-optique |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2855659B2 (ja) | 1999-02-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |