JP2546840B2 - 光学的記録方法 - Google Patents

光学的記録方法

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JP2546840B2 JP62120085A JP12008587A JP2546840B2 JP 2546840 B2 JP2546840 B2 JP 2546840B2 JP 62120085 A JP62120085 A JP 62120085A JP 12008587 A JP12008587 A JP 12008587A JP 2546840 B2 JP2546840 B2 JP 2546840B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光ビームにより記録を行なう記録方法に関す
る。
[従来の技術] 従来より、光学的高密度記録媒体としては、昇華によ
る孔あけを利用したもの、結晶と非晶質の変化を利用し
た相転移型、光磁気効果を利用した光磁気記録媒体等が
知られている。
第5図にこれらの記録媒体のうち、両面で記録可能な
タイプの従来例を示す。このタイプでは、案内溝が設け
られた2つの基板1a,1b上に各々記録膜2が成膜され、
それらが張り合わされた構造をしている。記録は案内溝
を利用して行なわれる。
[発明が解決しようとする問題点] しかし、表裏面の記録に際し第5図のように記録光3
a、3bを照射して案内溝山部分での記録を行なうにして
も、あるいは案内溝谷部分での記録を行なうにしても、
クロスストロークの問題もあり、情報利用密度は低かっ
た。
例えば、1.6μmの溝間にビット幅0.95μmで記録す
る場合、利用率60%となる。
本発明の目的は記録膜の利用率を挙げることの可能な
記録方法を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 上記の目的は、案内溝がある、光によって情報の記録
と再生が可能な層を有して成る光学的記録媒体に対し光
を照射して記録する方法において、該案内溝の山、谷の
うちいずれか一方の部分で表面の記録を行ない、他方の
部分で裏面の記録を行なうことにより達成できる。
第1図は本発明を説明するために挙げた図である。1
a,1bが基板、2が案内溝を有する記録膜、3a,3bが記録
光である。
この図から明らかなように、本発明では記録膜の非利
用部分を実質的になくすような表裏記録ができる。言い
換えれば、従来では表裏記録をする場合、2枚の記録膜
が必要であったが、本発明では表裏記録が一枚の記録膜
で可能になる。
光ビームの照射は第1図のようにするのが好ましい
が、第2図のように照射してもよい。第1図のようにす
るのが好ましいのは、第2図のように光を照射するとト
ラックピッチが狭い場合、奥にある部分のみに記録し、
その際、前方にある隣接部を無傷にしておくのはむずか
しいからである。
本発明に使用する他の光学的記録媒体の例を第3図に
示す。これは特開昭57−8652号に開示されているよう
な、情報の記録、再生が実施される層として交換結合し
た多層の磁性膜を利用したものである。即ち、低いキュ
リー点と高い保磁力とをもった書き込み層2Xに、低エネ
ルギーで書き込んだ情報を、高いキュリー点と低い保持
力とをもった読み出し層2Yに転写し、この転写された情
報を良み出す形式の媒体である。
表裏記録するために第3図に示されるように、本発明
では読み出し層2Yについては、一層しかもたない媒体を
使用できる。即ち、この形式で従来表裏記録するために
は書き込み層、読み出し層が2組必要であったのが、本
発明によれば書き込み層、読み出し層、書き込み層の三
層でよい。
上記の場合は読み出し層、書き込み層として光磁気効
果を利用する磁性体が利用されるが、本発明に使用する
光学的記録媒体の記録層、基板の種類については本質的
には特に制限がない。ただし、記録層としては、磁気光
学効果を呈するもの、孔あけ型の記録層(例えば、テル
ル系合金やメチン系の有機染料から成る記録層)、相転
移型の記録材料を用いた記録層等が挙げられ、基盤材料
としては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ガラス、
エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、本発明に使用する記録媒体の構造等も任意であ
るが、例えば2つの基板を用いた全面貼り合わせ構造あ
るいは中空構造や、一方の基盤を保護用のUV硬化樹脂膜
に代えた構造等が挙げられる。
[実施例] 以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
実施例1 第4図に示す光学的記録媒体を次のように製造した。
まず、原盤工程によって、1400Åの段差を有する案内溝
が設けられたスタンパーを作製した。
その案内溝の山、谷は各1.2μm幅で、ピッチは2.4μ
mであった。
これを利用してインジェクション法によりポリカーボ
ネート製基板1a(130mmφ、1.2mm厚)を成形した。この
基板に以下の膜をスパッタ法により順次成膜した。
膜 厚さ(Å) SiO膜4a 2200 ZnS膜5a 750 GdFeCo膜2X(書き込み層) 300 TbFe膜2Y(読み出し層) 300 GdFeCo膜2X(書き込み層) 300 ZnS膜5b 750 SiO膜4a 2200 これに厚さ1.2mmのエポキシ基板1b(130mmφ)をエポ
キシアクリレート6によって接着し、光学的記録媒体を
作製した。
1800rpmの回転、記録は4〜8mW(板面上)2MHzで記録
した。
これを評価装置により評価した。
評価装置は3ビーム方式によりオートトラッキングを
行なった。
表面 最大C/N比 47dB 裏面 最大C/N比 46dB これは実用上十分な値であった。
実施例2 積層膜を以下のようにした以外は実施例1と同様に光
学的記録媒体を作製した。
膜 厚さ(Å) SiO 2200 ZnS 300 GdTbFeCo 150 ZnS 300 SiO 900 A Å 500 SiO 900 ZnS 300 GdTbFeCo 150 ZnS 300 SiO 2200 実施例1と同様に表裏記録し、評価したところ、次の
ようであった。
表面 C/N 47dB 裏面 C/N 46dB これは実用上十分な値であった。
実施例3 積層膜を以下のようにした以外は実施例1と同様に光
学的記録媒体を作製した。
膜 厚さ(Å) SiO膜 2200 ZnS膜 750 TbFe膜(記録膜) 300 ZnS膜 750 SiO膜 2200 実施例1と同様に表裏記録し、評価したところ、次の
ようであった。
表面 C/N 46dB 裏面 C/N 44dB これは実用上十分な値であった。
[発明の効果] 以上詳細に説明した本発明によれば、従来より少ない
層構成の光学的記録媒体で表裏の記録が可能なので、記
録1ビット当たりに必要なコストの低減が図れた。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図は各々本発明の記録法を説明す
るための模式図、第4図は実施例1で作製した光学的記
録媒体の模式断面図、第5図は従来の表裏記録可能な光
学的記録媒体の代表例の模式断面図である。 1a,1b:基板、2:記録膜 2X:書き込み層、2Y:読み出し層 3a,3b:記録光 4a,4b:SiO 5a,5b:ZnS

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】案内溝がある、光によって情報の記録と再
    生が可能な層を有して成る光学的記録媒体に対し光を照
    射して記録する方法において、該案内溝の山、谷のうち
    いずれか一方の部分で表面の記録を行ない、他方の部分
    で裏面の記録を行なうことを特徴とする記録方法。
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