JPH0192206A - アクリルエステル系重合体 - Google Patents

アクリルエステル系重合体

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JPH0192206A
JPH0192206A JP62248012A JP24801287A JPH0192206A JP H0192206 A JPH0192206 A JP H0192206A JP 62248012 A JP62248012 A JP 62248012A JP 24801287 A JP24801287 A JP 24801287A JP H0192206 A JPH0192206 A JP H0192206A
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JP
Japan
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acrylate
methacrylate
meth
weight
dodecyl
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Application number
JP62248012A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Komiya
全 小宮
Noboru Yamahara
山原 登
Kohei Goto
幸平 後藤
Akira Iio
飯尾 章
Masaji Yoshinari
吉成 正司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
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Publication date
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    • F21S48/1364

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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビデオディスク、コンパクトディスク、追記
可能な光ディスク、記録・消去・再生可能な光ディスク
、プラスチックレンズなどの材料として好適に使用され
るアクリルエステル系重合体に関するものである。
〔従来の技術〕
近年において、透明性樹脂は、自動車部品、照明機器、
電気部品、雑貨などにおける透明性が要求される成形材
料としての分野の他に、光学的性質を重要視する光学材
料としての応用が研究されてきている。この種の光学材
料においては、高い透明性に加え、従来の透明性樹脂で
は満足されない高度の性能が要求されている。
従来、例えば光学材料としての光ディスクの基板材料と
しては、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレ
ート樹脂、ポリシクロへキシルメタクリレート樹脂、ア
ルキルメタクリレートとメチルメタクリレート、スチレ
ンまたは他の単量体との共重合体樹脂、嵩高いエステル
基を有するメタクリル酸エステルを含む重合体、その他
が知られている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、上述の重合体は、特に光ディスクの基板
材料として要求される低複屈折性、低吸湿性、耐熱性お
よび機械的強度のすべてを満足するものではない。
例えば、複屈折性が大きいポリスチレン樹脂やポリカー
ボネート樹脂は、レーザー光による情報再生時にエラー
が多くなり、また吸湿性の大きいポリメチルメタクリレ
ート樹脂は、吸湿によって変形が生ずるために情報再生
時にエラーが多くなると共に、吸湿による記録膜の変質
が生ずるおそれが大きい。またポリシクロへキシルメタ
クリレート樹脂は、吸湿性の点はともかくとしても、ガ
ラス転移点が低いため耐熱性が劣るという問題点があり
、シクロへキシルメタクリレートとメチルメタクリレー
トまたはスチレンとの共重合体は、耐熱性は向上するも
のの、例えばメチルメタクリレートとの共重合体は吸湿
性が大きく、一方スチレンとの共重合体は複屈折性が増
大して光学的性質が劣ったものとなる。
以上のように、従来、十分な光学的性質、低吸湿性、耐
熱性および機械的強度を有する重合体としては、好適な
ものは殆ど得られていないのが現状である。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、下記一般式(I)で表わされる化合物を単独
でまたは当該化合物と共重合可能な他の単量体とを(共
)重合させて得られるポリスチレン換算重量平均分子量
が5.000〜1.000.000のアクリルエステル
系重合体を提供するものである。
一般式(1) 〔式中、Rは水素原子またはメチル基を表わし、R’お
よびR2は水素原子または炭素数が1〜5のアルキル基
を表わし、R3はニトリル基、−COOR5で表わされ
るカルボン酸エステル基または一〇COR@で表わされ
るアルコールエステル基を表わし R4はニトリル基、
−COOR’で表わされるカルボン酸エステル基、−0
COR”で表わされるアルコールエステル基、水素原子
またはアルキル基(ただしR5およびR@は炭素数1〜
IOの炭化水素基を示す)を表わし、nは0〜2までの
整数を表わす。〕 一般式(I)で表わされる化合物は、例えばアクリロニ
トリル、アクリル酸メチノペ酢酸ビニルなどのビニル化
合物とシクロペンタンジエンとのディールスアルダー付
加物に対し、環内二重結合に水酸基を導入し、さらにア
クリル酸またはメタクリル酸でエステル化することによ
って製造することができる。
本発明に係る上記一般式(I)で表わされる化合物とし
て好ましいものは、Rがメチル基、R1およびR2が水
素原子またはメチル基 R3およびR4のいずれか一方
が水素原子で他方がニトリル基、カルボン酸エステル基
またはアルコールエステル基であり、nが0または1の
ものである。
またカルボン酸エステル基のR’ Jよびアルコールエ
ステル基のR@は炭素数1〜6の炭化水素基であること
が好ましい。
斯かる化合物の具体例としては、 5−(または6−)シアノビシクロ[2,2,1コヘブ
チル−2−(メタ)アクリレート、5−(または6−)
メチル−5−(または6−)シアノビシクロ[2,2,
1]へブチル−2−(メタ)アクリレート、 5−(または6−)メチル−6−(または5−)シアノ
ビシクロ[2,2,1]へブチル−2−(メタ)アクリ
レート、 5.6−ジシアノビシクロ[2,2,1]へフチルー2
−(メタ)アクリレート、 5−(または6−)カルボキシメチルビシクロ[2,2
,1コヘプチル−2−(メタ)アクリレート、 5−(または6−)メチル−5−(または6−)カルボ
キシメチルビシクロ[2,2,11へブチル−2−(メ
タ)アクリレート、 5.6−ジカルボキシメチルビシクロ[2,2,1]へ
]ブチルー2−メタ)アクリレート、5−(または6−
)カルボキシエチルビシクロ’2.2.1]へブチル−
2−(メタ)アクリレート、 5−(または6−)メチル−5−(または6−)カルボ
キシエチルビシクロ[2,2,1]へ−jfルー2−(
メタ)アクリレート、 5−(または6−)カルボキシプロピルビシクロ[2,
2,1]へブチル−2−(メタ)アクリレート、 5−(または6−)メチル−5−(または6−)カルボ
キシプロピルビシクロ[2,’2.1]へブチル−2−
(メタ)アクリレート、 5−(または6−)カルボキシシクロへキシルビシクロ
[2,2,1]へブチル−2−(メタ)アクリレート、 5−(または6−)カルボキシメンチルビシクロ[2,
2,1コヘプチル−2−(メタ)アクリレート、 5−(または6−)カルボキシメチルシクロヘキシルビ
シクロ[2,2,1]へブチル−2−(メタ)アクリレ
ート、 5−(tたは6−)カルボキシボルニルビシクロ[2,
2,1コヘプチル−2−(メタ)アクリレート、 5−(tたは6−)カルボキシイソボルニルビシクロ[
2,2,1]へブチル−2−(メタ)アクリレート、 5−(または6−)カルボキシアダマンチルビシクロ[
2,2,1]へ]ブチルー2−メタ)アクリレート、 5−(または6−)ホルミルオキシビシクロ[2゜2.
1コヘプチル−2−(メタ)アクリレート、5−(また
は6−)アセトキシビシクロ[2,2,1]へブチル−
2−(メタ)アクリレート、5−(または6−)プロピ
オニルオキシビシクロ[2,2,1コヘプチル−2−(
メタ)アクリレート、 8−(または9−)シアノテトラシクロ[4,4,0゜
12・5.17・IQ]  ドデシル−3−(メタ)ア
クリレート、 8−(または9−)メチル−9−(または8−)シアノ
テトラシクロ[4,4,O,l”・5.17・10コド
デシル−3−(メタ)アクリレート、 8−(または9−)メチル−8−(または9−)シアノ
テトラシクロ[4,4,0,1”・5.11°10] 
ドデシル−3−(メタ)アクリレート、 8.9−ジシアノテトラシクロ[4,’4.0.12゛
’、 1’−10〕  ドデシル−3−(メタ)アクリ
レート、2.7−シメチルー8−(または9−)シアノ
テトラシクロ[4,4,0,1”・5.17・10コド
デシル−3−(メタ)アクリレート、 2.10−ジメチル−8−(または9−)シアノテトラ
シクロ[4,4,0,1”・3.11・10コドデシル
−3−(メタ)アクリレート、 11.12−ジメチル−8−(または9−)シアノテト
ラシクロ[4,4,0,1” ’、 1” ”] ]ド
デシルー3−メタ)アクリ・レート、 8−(または9−)カルボキシメチルテトラシクロ[4
,4,0,12・5.17・10]  ドデシル−3−
(メタ)アクリレート、 8−(または9−)メチル−8−(または9−)カルボ
キシメチルテトラシクロ[4,4,0,12゛’、 1
1゛10コ ドデシル−3−(メタ)アクリレート、8
−(または9−)メチル−9−(または8−)カルボキ
シメチルテトラシクロ[4,4,0,12”3.17・
10]  ドデシル−3−(メタ)アクリレート、8.
9−ジカルボキシメチルテトラシクロ[4,4゜0.1
2′5.17′10]  ドデシル−3−(メタ)アク
リレート、 8−(または9−)カルボキシエチルテトラシクロ[4
,4,0,1’・5.17・+ol  ドデシル−3−
(メタ)アクリレート、 8−(または9−)メチル−9−(または8−)カルボ
キシエチルテトラシクロ[4,4,0,12°5゜l7
110 コ ドデシル−3−(メタ)アクリレート、8
−(または9−)カルボキシプロピルテトラシクロ[4
,4,0,1”・5.17・10]  ドデシル−3−
(メタ)アクリレート、 8−(または9−)メチル−9−(または8−)カルボ
キシプロピルテトラシクロ[4,4,0,1”・5゜I
LlOコ ドデシル−3−(メタ)アクリレート、8−
(または9−)カルボキシシクロへキシルテトラシクロ
[4,4,0,12・5.17・10] ドデシル−3
−(メタ)アクリレート、 8−(または9−)カルボキシメチルシクロへキシルテ
トラシクロ[4,4,O,l” s、 1’−”コ ド
デシル−3−(メタ)アクリレート、 8−(または9−)カルボキシメンチルテトラシクロ[
4,4,0,1”・5.17・10] ドデシル−3−
(メタ)アクリレート、 8−(または9−)カルボキシボルニルテトラシクロ[
4,4,0,1”・5.17・10コ ドデシル−3−
(メタ)アクリレート、 8−(または9−)カルボキシイソボルニルテトラシク
ロE4.4.0.1’・5.11・10コ ドデシル−
3−(メタ)アクリレート、 8−(または9−)カルボキシアダマンチルテトラシク
ロC4,4,0,+2・5.17・10コ ドデシル−
3=(メタ)アクリレート、 8−(または9−)ホルミルオキシテトラシクロ[4,
4,0,12・5.1ff+IO]  ドデシル−3−
(メタ)アクリレート、 8−(または9−7)アセトキシテトラシクロ[4゜4
.0.12°S、lff+IO]  ドデシル−3−(
メタ)アクリレート、 8−(または9−)プロピオニルオキシテトラシクロl
I4.4.0.1’°3.+7・10] ドデシル−3
−(メタ)アクリレート、 2.7−シメチルー8−(または9−)カルボキシメチ
ルテトラシクロ[4,4,0,1””J?、16] ド
デシル−3−(メタ)アクリレート、 2.10−ジメチル−8−(または9−)カルボキシメ
チルテトラシクロ[4,4,0,12−5,1’= ”
] ]ドデシルー3−メタ)アクリレート、 11.12−ジメチル−8−(または9−)カルボキシ
メチルテトラシクロ[4,4,0,t” t、 1ff
、 toコドデシル−3−(メタ)アクグレート、11
−(または12−)シアノヘキサシクロ[6,6,1゜
131 g、 110. +3. Q21 ’It (
p・目コヘブタデシル−4−(メタ)アクリレート、 11−(または12−)カルボキシメチルへキサシクロ
[6,6,1,13・6.110+ 13.02・7.
09・14コヘプタデシル−4−(メタ)アクリレート
、 11−(または12−)カルボキシエチルへキサシクロ
[6,6,1,13・8.110+ 13.02・1.
09・14コヘブタデシル−4−(メタ)アクリレート
、 11−(または12−)カルボキシプロピルへキサシク
ロ[6,6,1,1’′’、 1”−”、 02゛’、
 09=口]ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレート
、11−(または12−)ホルミルオキシへキサシクロ
[6,6,1,13・6゜11011ff、 Q2°f
f、pH4]ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレート
、 11−(または12−)アセトキシヘキサシクロ[6゜
6、1.13・@、110・1.Q2・7.09・14
]ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレート、 11−(または12−)プロピオニルオキシへキサシク
ロ[6,6,1,1” ’、 1’ ” ” 、 0”
 ’、 0”目コヘプタデシル−4−(メタ)アクリレ
ート などを挙げることができる。
これらの化合物のうち、更に好ましい例としては、 5−(または6−)シアノビシクロ[2,2,1]へブ
チル−2−メタアクリレート、 5−(または6−)カルボキシメチルビシクロ[2,2
,1]へブチル−2−メタアクリレート、5−(または
6−)カルボキシプロピルビシクロ[2,2,1]へブ
チル−2−メタアクリレート、5−(または6−)カル
ボキシブチルビシクロ[2,2,1]へブチル−2−メ
タアクリレート、5−(または6−)カルボキシシクロ
へキシルビシ9o J2.2.1]へブチル−2−メタ
アクリレート、 5−(または6−)アセトキシビシクロ[2,2,1]
へブチル−2−メタアクリレート、 8−(または9−)シアノテトラシクロC4,4,0゜
1” ’、 1’″10コ ドデシル−3−メタアクリ
レート、8−(または9−)カルボキシメチルテトラシ
クロ[4,4,0,1’′’、 1’= ” ] ]ド
デシルー3−メタアクリレート 8−(または9−〉カルボキシエチルテトラシクロC4
,4,0,1’−’、 1’・10コ ドデシル−3−
メタアクリレート、 8−(または9−)カルボキシプロピルテトラシクロ[
4,4,0,1”・5.17°10] ドデシル−3−
メタアクリレート、 8−(または9−)カルボキシブチルテトラシクロE4
.4.0.1”−’、 1’′”コ ドデシル−3−メ
タアクリレート、 8−(または9−)カルボキシシクロへキシルテトラシ
クロ[4,4,0,1’−’、 1’゛”コ ドデシル
−3−メタアクリレート、 8−(または9−)アセトキシテトラジクロロ4゜4、
0.1”′’、 1” ”]  ]ドデシルー3−メタ
アクリレート などを挙げることができる。
本発明の重合体は、上記一般式(1)で表わされる化合
物の単独重合体であってもよいが、これと共重合可能な
他の単量体との共重合体よりなるものであることが好ま
しく、それは、共重合体の場合には、十分な低吸湿性が
犠牲されることなしに、溶融時の流動性が高くて優れた
成形性が得られると共に、大きな機械的強度を得ること
ができるからである。
このような共重合可能な他の単量体としては、不飽和脂
肪酸エステル、芳香族ビニル化合物、シアン化ビニル化
合物、不飽和二塩基酸またはその誘導体、不飽和脂肪酸
またはその誘導体を挙げることができる。
不飽和脂肪酸エステルとしては、アクリル酸メチノにア
クリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エ
チルヘキシルなどのアクリル酸アルキルエステノペアク
リル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシ
ル、アクリル酸ボルニノペアクリル酸インボルニル、ア
クリル酸アダマンチルなどのアクリル酸シクロアルキル
エステル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、
アクリル酸ナフチルなどのアクリル酸芳香族エステル、
アクリル酸フルオロフェニノペアクfJル酸クロロフェ
ニル、アクリル酸ブロモフェニル、アクリル酸フルオロ
ベンジル、アクリル酸クロロヘンシル、アクリル酸ブロ
モベンジルなどのアクリル酸置換芳香族エステル、アク
リル酸フルオロメチノベアクリル酸フルオロエチル、ア
クリル酸クロロエチル、アクリル酸ブロモエチルなどの
アクリル酸ハロゲン化アルキルエステル、アクリル酸ヒ
ドロキシアルキルエステル、アクリル酸グリシジノペア
クリル酸アルキルアミノアルキルエステノペアクリル酸
シアノアルキルエステルなどのアクリル酸エステル、メ
タクリル酸メチノペメタクリル酸エチル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシルなどのメタク
リル酸アルキルエステル、メタクリル酸シクロヘキシル
、メタクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸ボ
ルニル、メタクリル酸インボルニノペメタクリル酸アダ
マンチルなどのメタクリル酸シクロアルキルエステル、
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタク
リル酸ナフチルなどのメタクリル酸芳香族エステル、メ
タクリル酸フルオロフェニル、メタクリル酸クロロフェ
ニル、メタクリル酸ブロモフェニル、メタクリル酸フル
オロベンジル、メタクリル酸クロロベンジル、メタクリ
ル酸ブロモベンジルなどのメタクリル酸置換芳香族エス
テル、メタクリル酸フルオロメチル、メタクリル酸フル
オロエチル、メタクリル酸クロロエチル、メタクリル酸
ブロモエチルなどのメタクリル酸ハロゲン化アルキルエ
ステル、メタクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、メ
タクリル酸グリシジル、メタクリル酸アルキルアミノア
ルキルエステノペメタクリル酸シアノアルキルエステル
などのメタクリル酸エステル、α−フルオロアクリル酸
エステル、α−クロロアクリル酸エステル、α−シアノ
アクリル酸エステルなどのα置換アクリル酸エステルな
どを挙げることができる。
芳香族ビニル化合物としては、スチレンまたはα−メチ
ルスチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレ
ン、α−クロロスチレンなどのα−ltmスチレン、フ
ルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メ
チルスチレン、ブチルスチレン、メトキシスチレンなど
の核置換スチレンなどを挙げることができる。
シアン化ビニル化合物としては、アクリロニトリノベメ
タクリロニトリルなどを挙げることができる。
不飽和二塩基酸およびその誘導体としては、N−メチル
マレイミド、N−エチルマレイミド、N−プロビルマレ
イミド、N−ブチルマレイミド、N−シクロへキシルマ
レイミド、N−フェニルマレイミド、N−メチルフェニ
ルマレイミド、N−メトキシフェニルマレイミド、N−
カルボキシフェニルマレイミドなどのN−置換マレイミ
ド、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸などを挙げ
ることができる。
不飽和脂肪酸およびその誘導体としては、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、N−ジメチルアクリルアミド、
N−ジエチルアクリルアミド、N−ジメチルメタクリル
アミド、N−ジエチルメタクリルアミドなどのアクリル
アミドもしくはメタクリルアミド類、アクリル酸カルシ
ウム、メタクリル酸カルシウム、アクリル酸バリウム、
メタクリル酸バリウム、アクリル酸鉛、メタクリル酸鉛
、アクリル酸すず、メタクリル酸すず、アクリル酸亜鉛
、メタクリル酸亜鉛などのアクリル酸もしくはメタクリ
ル酸の金属塩、アクリル酸、メタクリル酸などを挙げる
ことができる。
これらの共重合可能な他の単量体のうち、非芳香族マレ
イミド、スチレン、アクリル酸若しくはメタクリル酸の
アルキルエステルやシクロアルキルエステルが好ましく
、更にメチルメタクリレートまたはメチルメタクリレー
トと非芳香族マレイミドとの組合せが特に好ましく、就
中メチルメタクリレートが好ましい。
上記一般式(I)で表わされる化合物と、共重合可能な
他の単量体との比率は、5〜100/95〜0であるこ
とが好ましく、更に好ましくは10〜100/90〜0
であり、特に好ましくは20〜100/80〜0である
本発明に係る重合体を製造するための方法としては、ラ
ジカル重合法、その他の公知の方法を適用することがで
き、例えば重合開始剤の存在下における塊状重合法、溶
液重合法、整濁重合法などの方法が使用されるが、特に
光学材料という用途に対しては、不純物の混入は避ける
べきであることから、塊状重合法あるいは懸濁重合法を
利用するのが好ましい。
重合反応に用いられる開始剤としては、通常のラジカル
重合に用いられるものをそのまま用いることができる。
その具体例としては、例えば過酸化ヘンジイル、過酸化
ラウロイル、ジ−t−ブチルパーオキシへキサヒドロテ
レフタレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキ
サノエート、1.1−ジ−t−ブチルパーオキシ−3,
3,5−)リメチルシクロヘキサンなどの育成過酸化物
、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−4−メトキ
シ−2,4−ジメチルバレロニトリノペアゾピスシクロ
へキサノン−1−カルボニトリル、アゾジベンゾイルな
どのアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム
に代表される水溶性触媒および過酸化物あるいは過硫酸
塩と還元剤との組み合わせによるレドックス触媒などを
挙げることができる。これらの開始剤は、重合される単
量体の総量に対して0.01〜10重量%の範囲で使用
されるのが好ましい。重合調節剤として、メルカプタン
系化合物、チオグリコール、四臭化炭素、α−メチルス
チレンダイマーなどの分子量調節剤が必要に応じて使用
される。
重合温度は0〜200℃の範囲において適宜選択される
が、特に50〜120℃が好ましい。
溶液重合法による場合における溶媒としては、ベンゼン
、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジクロルエ
チレンなどを使用することができる。
9濁重合法による場合には、水性媒体中に懸濁剤および
必要に応じて懸濁助剤が添切口される。懸濁剤の具体例
としては、例えばポリビニルアルコーノヘメチルセルロ
ース、ポリアクリルアミドなどの水溶性高分子物質、燐
酸カルシウム、ピロ燐酸マグネシウムなどの難溶性無機
物質などがあるが、水溶性高分子物質の場合には単量体
の総量に対して0.03〜1重量%の割合で、また難溶
性無機物質の場合には噴量体の総量に対して0.05〜
0.5重量%の割合で使用するのが好ましい。また懸濁
助剤としては、例えばドデシルベンゼンスルホン酸す)
 IJウムなどの陰イオン性界面活性剤を挙げることが
でき、特に懸濁剤として難溶性無機物質を用いる場合に
は懸濁助剤を併用することが好ましい。懸濁助剤は、単
量体の総量に対して0.001〜0゜02重量%の割合
で用いるのが好ましい。
本発明に係る重合体は、その分子量が特に制限されるも
のではないが、優れた耐熱性および機械的強度が得られ
る点から、重量平均分子量(ポリスチレン換算)が5.
000〜1.000.000が好ましく、更に10.0
00〜800.000の範囲にあるものが好ましく、こ
の範囲であれば、特に成形材料として使用する場合にお
いても良好な成形性が得られる。
また本発明に係る重合体は、重合体の元素分析による分
子中の炭素原子の比率が60重量%以上であると、優れ
た低吸湿性のものとなるので好ましい。
更に本発明に係る重合体は、透明性が阻害されない限り
、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体
、ブロック共重合体、ブレンド共重合体のいずれの形態
であってもよい。
本発明に係る重合体は、その使用に際して、老化防止、
熱安定化、成形性の向上、加工性の向上を目的として、
フェノール系、ホスファイト系、チオエーテル系などの
抗酸化剤、脂肪族アルコール、l1lj酸エステル、フ
タル酸エステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活
性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤、その地滑剤、可
塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、重金属不活性化剤な
どの添加剤を添加することができる。
本発明の重合体は、種々の公知の成形手段を適用して光
学材料とすることができる。すなわち、射出成形法、圧
縮成形法、押出し成形法などを利用することができる。
そして注型法による場合には、単量体組成物を部分的に
重合したものを型内に注入して重合を完結させるように
してもよい。
本発明による重合体を例えば光学材料などの成形品にし
た場合には、その表面に、熱硬化法、紫外線硬化法、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法
などの方法により、無機化合物、シランカップリング剤
などの有機シリコン化合物、アクリル系モノマー、ビニ
ルモノマー、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素系樹
脂、シリコーン樹脂などをハードコートすることにより
、耐熱性、光学特性、耐薬品性、耐摩耗性、透湿性など
を向上させることができる。
本発明の重合体の用途は特に制限されるものではなく、
広い範囲にわたって使用することができ、例えば、一般
カメラ用レンズ、ビデオカメラ用レンズ、望遠鏡用レン
ズ、レーザービーム用レンズなどのレンズ、光学式ビデ
オディスク、オーディオディスク、文書ファイルディス
ク、メモリディスクなどに好適に使用することができる
〔効果〕
本発明の重合体は、一般式(1)で表わされる化合物の
重合体または共重合体よりなるものであるため、優れた
光学的特性すなわち高い透明性と低光学分散性を有する
と共に優れた耐熱性および大きな機械的強度を有し、し
かも十分な耐湿性を有し、さらに良好な成形性を有する
。そしてこのような優れた特性は、共重合体の場合には
、一般式(I)で表わされる化合物が全単量体の5重量
%以上の割合で含有されるときに確実に得ることができ
る。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について述べるが、本発明がこれ
らに限定されるものではない。
実施例1 5−または6−カルボキシメチ ルビシクロ[2,2,1]−ヘプ チル−2−メタアクリレート (以下「化合物■」という)・・・90  重量部メチ
ルアクリレート     ・・・lO重量部アゾビスイ
ソブチロニトリル ・・・ 0.02重量部トルエン 
         ・・・100  重量部を、窒素雰
囲気下において、還流冷却器および撹拌器を備えたセパ
ラブルフラスコに入れ、攪拌しながら80℃で8時間反
応させた。得られた共重合体を凝固させ、乾燥して回収
した。この共重合体中の化合物■の含有量は95重量%
であった。またポリスチレン換算分子量は約35.00
0であった。この共重合体の赤外線吸収スペクトルを第
1図に示す。
この共重合体により、0.1オンス射出成形機を用いて
試験用試料を調製した。
実施例2 化合物■          ・・・50  重量部メ
チルメタアクリレート   ・・・40  重量部メチ
ルアクリレート     ・・・10  重量部アゾビ
スイソブチロニトリル ・・・ 0.02重量部トルエ
ン          ・・・100  重量部以上の
物質を、実施例1に準する方法によって処理して共重合
体を得た。この共重合体中の化合物■の含有量は56重
量%であった。また、ポリスチレン換算分子量は55.
000であった。
この共重合体により、0.1オンス射出成形機を用いて
試験用試料を調製した。
実施例3 5−または6−ジアツビシクロ [2,2,1コーヘプチル−2− メタアクリレート(以下「化 合物■」という)     ・・・50  重量部メチ
ルメタアクリレート   ・・・40  重量部メチル
アクリレート     ・・・lO重量部アゾビスイソ
ブチロニトリル ・・・ 0.02重量部トルエン  
       ・・・100  重量部以上の物質を、
実施例1に準する方法によって処理して共重合体を得た
。この共重合体中の化合物■の含有量は54重量%であ
った。また、ポリスチレン換算分子量は約65.000
であった。
この共重合体により、0.1オンス射出成形機を用いて
試験用試料を調製した。
比較例1 メチルメタアクリレート   ・・・100  重量部
アゾビスイソブチロニトリル ・・・ 0.02重Ii
部トルエン          ・・・100  重量
部以上の物質を、実施例1に準する方法によって処理し
て重合体を得た。この重合体中のポリスチレン換算分子
量は約48.000であった。
この重合体により、0.1オンス射出成形機を用いて試
験用試料を調製した。
実施例4 8−(または9−)アセトキシテ トラシクロ[4,4,0,12= ’、 17−1°]
 ドデシル−3−メタアク リレート         ・・・100  重量部ア
ゾビスイソブチロニトリル ・・・ 0.02重重量部
トルエン         ・・・100  重量部以
上の物質を、実施例1に準する方法によって処理して共
重合体を得た。また、ポリスチレン換算分子量は72.
000であった。
この共重合体により、0.1オンス射出成形機を用いて
試験用試料を調製した。
比較例2 テトラシクロ[4,4,0,12−’、 1’′10]
  ドデシル−3−メタアク リレート         ・・・100  重量部ト
ルエン          ・・・100  重量部ア
ゾイソブチロニトリル   ・・・ 0.01重量部以
上の物質を、実施例1に準する方法によって処理して重
合体を得た。
この重合体により、0.1オンス射出成形機を用いて試
験用試料を調製した。
実施例5 化合物■          ・・・90  重量部メ
チルアクリレート     ・・・10  重量部アゾ
ビスイソブチロニトリル ・・・ 0.02重量部トル
エン          ・・・100  重量部以上
の物質を、実施例1に準する方法によって杷理して共重
合体を得た。この共重合体中の化合物■成分の含有量は
94重量%であった。また、ポリスチレン換算分子量は
78.000であった。二の共重合体の赤外線吸収スペ
クトルを第2図に示す。
この共重合体により、0.1オンス射出成形機を用いて
試験用試料を調製した。
゛以上の実施例および比較例において得られた重合体お
よび共重合体による試験用試料の各々について、固有粘
度、複屈折値、飽和吸水率、ガラス転移温度および引張
強度を求めた。
固有粘度 試料により濃度0.5g#f!のトルエン溶液を調製し
、その30℃における相対粘度η、を測定し、次式によ
り算出した。
吏屈折値 エリプソメーターによって測定した。
飽和吸水率 試料を水中に浸して試料に水を吸収させ、平衡状態に到
達した後の試料の重量W、を測定し、その後、この試料
を乾燥した窒素気流下で200℃に加熱し、これによっ
て放出された水分IW2をカールフィッシャー法によっ
て定量し、次式によって飽和吸水率を算出した。
飽和吸水率= −X 100 (%) w、−w2 ガラス転移温度 走査熱量計(DSC)により、窒素男囲気下において1
0℃/分の昇温速度で測定した。
試験結果は第1表に示すとふりである。
第1表の結果から明らかなように、本発明によれば、優
れた光学的性質、光学的性質、低吸湿性、耐熱性および
機械的強度を有する重合体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図はそれぞれ実施例1および実施例5
で得られた重合体の赤外線吸収スペクトルである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)下記一般式( I )で表わされる化合物を単独でま
    たは当該化合物と共重合可能な他の単量体とを(共)重
    合させて得られるポリスチレン換算重量平均分子量が5
    ,000〜1,000,000のアクリルエステル系重
    合体。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素原子またはメチル基を表わし、R^1
    およびR^2は水素原子または炭素数が1〜5のアルキ
    ル基を表わし、R^3はニトリル基、−COOR^5で
    表わされるカルボン酸エステル基または−OCOR^6
    で表わされるアルコールエステル基を表わし、R^4は
    ニトリル基、−COOR^5で表わされるカルボン酸エ
    ステル基、−OCOR^6で表わされるアルコールエス
    テル基、水素原子またはアルキル基(ただしR^5およ
    びR^6は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表わ
    し、nは0〜2までの整数を表わす。〕
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02211401A (ja) * 1989-02-13 1990-08-22 Hitachi Chem Co Ltd 光学部品及び光学素子
JP2004276019A (ja) * 2003-02-26 2004-10-07 Ohmoto Gumi Co Ltd 汚染水、汚染泥土、その他の汚染処理対象物の処理方法
US7575846B2 (en) 2003-01-31 2009-08-18 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Resist polymer and resist composition
JP2009215264A (ja) * 2008-03-12 2009-09-24 Jsr Corp 新規化合物
JP2009234956A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Jsr Corp 重合性化合物

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