JPH0150709B2 - - Google Patents

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JPH0150709B2
JPH0150709B2 JP56127853A JP12785381A JPH0150709B2 JP H0150709 B2 JPH0150709 B2 JP H0150709B2 JP 56127853 A JP56127853 A JP 56127853A JP 12785381 A JP12785381 A JP 12785381A JP H0150709 B2 JPH0150709 B2 JP H0150709B2
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methyl
benzoxazine
dihydro
oxo
mixture
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Shiro Shiroshitsu
Hideaki Tsurumi
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Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はピリドベンズオキサジン誘導体に関す
る。さらに詳しくは、本発明は一般式() (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を
X1およびX2は同じまたは異なるハロゲン原子を
示す)で表わされる2,3−ジヒドロ−4H−1,
4−ベンズオキサジン誘導体をジアルキルエトキ
シメチレンマロネートと反応させ、一般式() (式中、R1、X1およびX2は前記と同じであり、
Rは低級アルキル基を示す)で表わされるN−ジ
アルキルメチレンマロネート置換ベンズオキサジ
ンを製造し、次いでこれを三フツ化ホウ素または
3フツ化ホウ素錯体を用いて加熱環化縮合させる
ことを特徴とする一般式() (式中、R1、X1およびX2は前記と同じである)
で表わされるキレート化ピリドベンズオキサジン
誘導体の製造法ならびにこの化合物に関する。
一般式()で表わされるキレート化合物は一
般式() (式中、R1、R2は水素原子または低級アルキル
基をX1はハロゲン原子を示す)で表わされる医
療上きわめて有用な抗菌剤への合成中間体として
きわめて重要な化合物である。
本発明の環化縮合反応は、一般式()で表わ
される化合物を100〜200℃の温度範囲でジアルキ
ルエトキシメチレンマロネートと反応させ、一般
式()で表わされる化合物を製造し、次いでこ
れと三フツ化ホウ素錯体との混合物を80〜250℃、
好ましくは140〜240℃で30〜240分間、好ましく
は60〜120分間保つことにより実施される。該環
化縮合を溶媒の存在下で行う際の原料化合物およ
び溶媒の混合方法は種々可能であり、たとえば溶
媒と一般式()で表わされる化合物を混合し、
所定の温度に加熱し、それに三フツ化ホウ素また
は三フツ化ホウ素錯体を添加するか、あるいは一
般式()で表わされる化合物、三フツ化ホウ素
錯体および溶媒を混合し、所定の温度に加熱する
か、あるいは上記混合物をこれとは別に所定の温
度に加熱された溶媒中に滴下する方法などがあげ
られる。
本発明において、三フツ化ホウ素錯体として
は、環状エーテル、ジアルキルエーテル錯体など
のエーテル錯体、酢酸錯体、ケトン錯体など各種
のものが使用できる。具体的には、たとえば三フ
ツ化ホウ素のテトラヒドロフラン錯体、ジエチル
エーテル錯体、ジブチルエーテル錯体、酢酸錯
体、アセトン錯体などがあげられ、これらは単独
または2種以上混合して使用される。かかる三フ
ツ化ホウ素または三フツ化ホウ素錯体の使用量は
一般式()で表わされる化合物1モルに対して
1〜3モルの範囲、とくに1〜1.5モルの範囲が
好ましい。
本発明において使用される溶媒は、不活性でし
かも反応温度を80〜250℃に保つのに充分な沸点
を有するものであればとくに制限はなく、通常ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ジアリル、ジアリ
ルエーテルなどが好適に使用される。具体的には
ジフエニルエーテルまたはジフエニルエーテルと
ジフエニルとの混合物が最適である。溶媒の使用
量はとくに制限されないが、通常一般式()で
表わされる化合物1部に対して5〜20部の範囲が
好適である。
本発明の目的物の一般式()で表わされるキ
レート化合物をアルカリ存在下に水および(また
は)アルコールで処理することにより一般式
() (式中、R1は水素原子または低級アルキル基、
X1およびX2はハロゲン原子を示す)で表わされ
る化合物をうることができる。
なお本工程において使用するアルコールとして
は、たとえばメタノール、エタノールなどの汎用
アルコールがあげられる。
アルカリ存在下で水および(または)アルコー
ル処理する場合に、使用するアルカリとしてはと
くに制限されないが、工業的に入手しやすいナト
リウム、カリウムなどのアルカリ金属の水酸化
物、炭酸塩あるいは重炭酸塩など、またトリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、ピリジンなどの3
級の有機アミン類などがあげられる。該処理の温
度は室温でも可能であるが、好ましくは溶媒の沸
点近くが採用される。かかるアルカリ処理の終了
後、有機3級アミンの場合は直接、またはアルカ
リ金属塩の場合は酸で中和することにより、一般
式()で表わされる化合物を結晶でうることが
できる。この化合物は一般式() (式中、R2は水素原子または低級アルキル基を
示す)で表わされる化合物と反応せしめることに
より、一般式()で表わされる医療上きわめて
有用な抗菌剤をうることができる。
以上述べた如く、本発明の方法を実施すること
により、高収率、高純度、また高能率で一般式
()で表わされるピリドベンズオキサジン誘導
体をうることができ、本発明は工業的にきわめて
有用な方法である。
つぎに実施例をあげて本発明の方法を説明す
る。
実施例 1 7,8−ジフルオロ−2,3−ジヒドロ−3−
メチル−4H−1,4−ベンズオキサジン2.00g
およびジエチルエトキシメチレンマロネート2.57
gの混合物を120〜130℃で5時間加熱させた。反
応で生成するエタノールを減圧下に留去したの
ち、残渣油状物にダウサム(ダウケミカル社製)
10mlを加える。この溶液を室温まで冷却し、三フ
ツ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体2.0gを加え、
これをあらかじめ250℃まで加熱したダウサーム
10ml中に220〜240℃で30分を要し滴下した。滴下
終了後さらに1時間同温度に保つた。100℃まで
冷却後、ジクロルエタン5mlを加え、結晶を充分
に分散し、さらに室温まで冷却してから濾取し、
結晶をジクロルエタンおよびメタノールで充分に
洗浄し、9,10−ジフルオロ−3−メチル−7−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,
2,3−d,e〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−
6−カルボン酸−BF2−キレート3.38g(収率
94.2%)をえた。融点300℃以上。
元素分析値 C13H8BF4NO4として 計算値(%):C 47.45、 H 2.45、 N 4.26 実測値(%):C 47.69、 H 2.46、 N 4.21 H−NMR(DMSO−d6、IS:TMS) δ:1.59ppm(3H、d、−C 3) δ:4.73ppm(2H、q、−C 2−) δ:5.35ppm(1H、m、>C−CH3) δ:8.18ppm(1H、q、8位 =−C−) δ:9.68ppm(1H、s、5位 =−C−) Mass:M+329 実施例 2 7,8−ジフルオロ−2,3−ジヒドロ−3−
メチル−4H−1,4−ベンズオキサジン2.00g
とジエチルエトキシメチレンマロネート2.57gの
混合物を減圧下に140〜150℃で2時間加熱した。
反応液をキシレン15mlに溶解させ、室温まで冷却
後三フツ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体1.8g
を加え、この混合物を還流しているキシレン5ml
中に2時間かけて滴下した。滴下後、さらに1時
間還流をつづけた。冷却後、メタノールを加え、
析出物を分散させ、濾取し、結晶をジクロルエタ
ンとメタノールで洗浄し、9,10−ジフルオロ−
3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7H−ピリド〔1,2,3−d,e〕〔1,4〕−
ベンズオキサジン−6−カルボン酸−BF2−キレ
ート2.22g(収率64.6%)をえた。本品は標品と
IRおよびNMRが一致した。
実施例 3 7,8−ジフルオロ−2,3−ジヒドロ−3−
メチル−4H−1,4−ベンズオキサジン2.00g
およびジエチルエトキシメチレンマロネート2.57
gの混合物を減圧下に140〜150℃で3時間加熱さ
せた。反応液にキシレン10mlを加え、還流しつつ
三フツ化ホウ素テトラヒドロフラン1.8gを1時
間かけて滴下した。滴下後さらに4時間反応させ
た。室温まで冷却後メタノールを加え析出物を濾
取し、ジクロルエタンで洗い、9,10−ジフルオ
ロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ
−7H−ピリド〔1,2,3−d,e〕〔1,4〕
−ベンズオキサジン−6−カルボン酸−BF2−キ
レート2.47g(収率71.9%)をえた。本品は標品
とIRおよびNMRが一致した。
実施例 4 7,8−ジフルオロ−2,3−ジヒドロ−3−
メチル−4H−1,4−ベンズオキサジン2.00g
とジエチルエトキシメチレンマロネート2.57gの
混合物を130〜135℃で2時間加熱した。留出する
エタノールを減圧留去後、残渣をキシレン15mlに
とかし室温で三フツ化ホウ素テトラヒドロフラン
錯体1.8gを加え2時間還流した。冷後、析出物
をメタノールで処理し、濾取し、メタノールとジ
クロルエタンの混液で洗浄し、9,10−ジフルオ
ロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ
−7H−ピリド〔1,2,3−d,e〕〔1,4〕
−ベンズオキサジン−6−カルボン酸−BF2−キ
レート2.43g(収率70.7%)を得た。本品は標品
とIRおよびNMRが一致した。
実施例 5 7,8−ジフルオロ−2,3−ジヒドロ−3−
メチル−4H−1,4−ベンズオキサジン2.00g
およびジエチルエトキシメチレンマロネート2.57
gの混合物を減圧下に140〜150℃で3時間加熱さ
せた。反応液にキシレン20mlと三フツ化ホウ素ジ
エチルエーテル錯体1.84gを室温で加え、3時間
還流した。析出物を濾取し、メタノールとジクロ
ルエタンで洗い、9,10−ジフルオロ−3−メチ
ル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド〔1,2,3−d,e〕〔1,4〕−ベンズオキ
サジン−6−カルボン酸−BF2−キレート2.22g
(収率64.6%)をえた。本品は標品とIRおよび
NMRが一致した。
実施例 6 7,8−ジフルオロ−2,3−ジヒドロ−3−
メチル−4H−1,4−ベンズオキサジン0.5gと
ジエチルエトキシメチレンマロネート0.64gの混
合物を減圧下に140〜150℃で3時間加熱し、これ
にキシレン10mlと三フツ化ホウ素酢酸錯体(ジア
セテート)0.61gを加え、1時間還流した。冷却
後、析出物を濾取し、メタノールで洗浄し、9,
10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−d,
e〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボン
酸−BF2−キレート0.36g(収率42%)をえた。
本品は標品とIRおよびNMRが一致した。
実施例 7 8−クロロ−7−フルオロ−2,3−ジヒドロ
−3−メチル−4H−1,4−ベンズオキサジン
0.75gおよびジエチルエトキシメチレンマロネー
ト0.89gの混液を減圧下に140〜150℃に3時間加
熱した。反応液を冷却後、ダウサーム10mlと三フ
ツ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体0.63gを加
え、これを別の250℃に加熱したダウサーム20ml
中に220〜240℃で30分を要して滴下し、さらに30
分間反応した。冷却後析出物を濾取し、メタノー
ルとジクロルエタンで洗浄し、10−クロロ−9−
フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジ
ヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−d,e〕
〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボン酸−
BF2−キレート0.74g(収率58%)をえた。融点
300℃以上。
元素分析値 C13H8BClF3NO4として 計算値(%):C 45.20、 H 2.33、 N
4.05 実測値(%):C 45.01、 H 2.27、 N
4.12 実施例 8 7−クロロ−8−フルオロ−2,3−ジヒドロ
−3−メチル−4H−1,4−ベンズオキサジン
0.64gとジエチルエトキシメチレンマロネート
0.76gの混液を減圧下で140〜150℃に4.5時間加
熱した。これに冷却下、ダウサーム5mlと三フツ
化ホウ素テトラヒドロフラン錯体0.54g加え、別
の加熱ダウサム15ml中にこれを240〜250℃で5分
間で加え、さらに1時間反応した。析出晶を濾取
し、メタノールで洗浄し、9−クロル−10−フル
オロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒド
ロ−7H−ピリド〔1,2,3−d,e〕〔1,
4〕−ベンズオキサジン−6−カルボン酸−BF2
−キレート0.59g(収率54%)をえた。融点300
℃以上。
元素分析値 C13H8BClF3NO4として 計算値(%):C 45.20、 H 2.33、 N
4.05 実測値(%):C 44.98、 H 2.29、 N
4.03 参考例 1 9,10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3
−d,e〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カ
ルボン酸−BF2−キレート29.0g、メタノール
290ml、水29mlおよびトリメチルアミン17.8gの
混合物を14時間還流した。反応液を氷水で冷却
し、析出物を濾取し、メタノールで洗浄し、9,
10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−d,
e〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボン
酸24.6g(収率99.2%)をえた。融点300℃以上。
元素分析値 C13H9F2NO4として 計算値(%):C 55.52、 H 3.23、 N
4.98 実測値(%):C 55.58、 H 3.30、 N
5.01 H−NMR(DMSO−d6、IS:TMS) δ:1.48ppm(3H、d、−C 3) δ:4.62ppm(2H、q、−C 2−) δ:5.05ppm(1H、m>C−CH3) δ:7.88ppm(1H、q、8位 =C−) δ:9.13ppm(1H、s、5位 =C−) Mass:M+281 参考例 2 9,10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3
−d,e〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カ
ルボン酸−BF2−キレート6.23g、重ソウ8.2gお
よび水200mlの混液を18時間還流した。冷後、反
応液を酢酸々性とし析出物を濾取し、結晶を水
洗、9,10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,
3−d,e〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−
カルボン酸4.54g(収率82.4%)をえた。融点
300℃以上。本品は標品とIRおよびNMRが一致
した。
参考例 3 9,10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3
−d,e〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カ
ルボン酸1.0gおよびN−メチルピペラジン2.85
gをジメチルスルホキシド16mlに加え、100〜110
℃で12時間撹拌する。反応混合物を減圧乾固し、
残渣に水40mlを加えてクロロホルムで抽出する。
抽出液を乾燥後、減圧乾固し、残渣をエタノール
から再結晶すると融点250〜257℃(分解)の無色
針状晶として9−フルオロ−3−メチル−10−
(4−メチル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−
d,e〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カル
ボン酸550mgを得る。
元素分析値 C18H20FN3O4として 計算値(%):C 59.82、 H 5.58、 N 11.63 分析値(%):C 59.62、 H 5.59、 N 11.65 参考例 4 9,10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3
−de][1,4]ベンズオキサジン−6−カルボ
ン酸−BF2−キレート1.00g、N−メチルピペラ
ジン0.46g、トリエチルアミン0.62gおよびメチ
ルスルホキシド5mlの混液を室温下3時間反応さ
せた。反応後、析出晶を水5mlを注加後濾取して
水で洗い、9−フルオロ−3−メチル−10−(4
−メチル−1−ピペラニジル)−7−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3−de]
[1,4]ベンズオキサジン−6−カルボン酸−
BF2−キレート1.23g(収率98.9%)を得た。融
点252−255℃(分解) 参考例 5 9−フルオロ−3−メチル−10−(4−メチル
−1−ピペラジニル)−7−オキソ−2,3−ジ
ヒドロ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,
4]ベンズオキサジン−6−カルボン酸−BF2
キレート、1.00g、トリエチルアミン0.50gおよ
び95%エタノール20mlの混液を6時間還流した。
反応後析出晶を冷却し、濾取して冷含水メタノー
ルで洗浄し、9−フルオロ−3−メチル−10−
(4−メチル−1−ピペラニジル)−7−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3−
de][1,4]ベンズオキサジン−6−カルボン
酸0.76g(収率86%)を得た。クロロホルム・メ
タノール(10:1)の混液で再結晶したのち減圧
乾燥(100〜110℃、5hr)した。融点254〜256℃
(分解) 参考例 6 9,10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3
−de][1,4]ベンズオキサジン−6−カルボ
ン酸−BF2−キレート2.00g、N−メチルピペラ
ジン、0.73g、トリエチルアミン1.23gおよびジ
メチルスルホキシド10mlの混液を120〜130℃に5
時間加熱した。析出晶を冷却して濾取し、9−フ
ルオロ−3−メチル−10−(4−メチル−1−ピ
ペラニジル)−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズ
オキサジン−6−カルボン酸、1.69g(収率76.9
%)を得た。これを濃アンモニア水−エタノール
(1:20)だ再結晶した。融点254〜250℃(分解)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を、
    X1およびX2は同じまたは異なるハロゲン原子を
    示す)で表されるキレート化ピリドベンズオキサ
    ジン誘導体。 2 特許請求の範囲第1項においてR1がメチル
    基、X1およびX2がフツ素原子である化合物。
JP12785381A 1981-08-17 1981-08-17 ピリドベンズオキサジン誘導体 Granted JPS5829789A (ja)

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