JPS5829789A - ピリドベンズオキサジン誘導体 - Google Patents
ピリドベンズオキサジン誘導体Info
- Publication number
- JPS5829789A JPS5829789A JP12785381A JP12785381A JPS5829789A JP S5829789 A JPS5829789 A JP S5829789A JP 12785381 A JP12785381 A JP 12785381A JP 12785381 A JP12785381 A JP 12785381A JP S5829789 A JPS5829789 A JP S5829789A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- benzoxazine
- dihydro
- methyl
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はピリドベンズオキサジン誘導体およびその製造
法に関する。さらに詳しくは1本発示す)で表わされる
3、8−ジヒドロ−4H−1,4−ベンズオキサジン誘
導体をジアルキルエトキシメチレンマロネートと反応さ
せ、一般式キル基を示す)で表わされるN−ジアルキル
メチレンマリネート置換ベンズオキサジンを製造し2次
いでこれを三7ツ化ホウ素または三7゜化ホウ素錯体を
用いて加熱環化縮合させることキレート化ピリドベンズ
オキサジン誘導体の製造法ならびにこの化合物に関する
。
法に関する。さらに詳しくは1本発示す)で表わされる
3、8−ジヒドロ−4H−1,4−ベンズオキサジン誘
導体をジアルキルエトキシメチレンマロネートと反応さ
せ、一般式キル基を示す)で表わされるN−ジアルキル
メチレンマリネート置換ベンズオキサジンを製造し2次
いでこれを三7ツ化ホウ素または三7゜化ホウ素錯体を
用いて加熱環化縮合させることキレート化ピリドベンズ
オキサジン誘導体の製造法ならびにこの化合物に関する
。
一般式0[)で表わされるキレート化合物は一般抗菌剤
への合成中間体としてきわめて重要な化合物である。
への合成中間体としてきわめて重要な化合物である。
本発明の環化縮合反応は、一般式(I)で表わされる化
合物を100−400”Cの温度範闘てジアルキルエト
キシメチレンマロネートト反応すせ、一般式(1)で表
わされる化合物を製造し2次いでこれと三7.化ホウ素
錯体との混合物を80−450℃、好ましくは140〜
240℃で80−440分間、好ましくは60〜110
分間保つことにより実施される。該環化縮合を溶媒の存
在下で行う際の原料化合物および溶媒の混合方法は種々
可能であり、たとえば溶媒と一般<(1)で表わされる
化合物とを混合し、所定の温度に加熱し、それに三7.
化ホウ素または三7.化ホウ素錯体を添加するか、ある
いは一般式(1)で表わされる化合物、三77化ホウ素
錯体および溶媒を混合し、所定の温度に加熱するか、あ
るいは上記混合物をこれとは別に所定の温度に加熱され
た溶媒中に滴下する方法などがあげられる。
合物を100−400”Cの温度範闘てジアルキルエト
キシメチレンマロネートト反応すせ、一般式(1)で表
わされる化合物を製造し2次いでこれと三7.化ホウ素
錯体との混合物を80−450℃、好ましくは140〜
240℃で80−440分間、好ましくは60〜110
分間保つことにより実施される。該環化縮合を溶媒の存
在下で行う際の原料化合物および溶媒の混合方法は種々
可能であり、たとえば溶媒と一般<(1)で表わされる
化合物とを混合し、所定の温度に加熱し、それに三7.
化ホウ素または三7.化ホウ素錯体を添加するか、ある
いは一般式(1)で表わされる化合物、三77化ホウ素
錯体および溶媒を混合し、所定の温度に加熱するか、あ
るいは上記混合物をこれとは別に所定の温度に加熱され
た溶媒中に滴下する方法などがあげられる。
本発明において、三7ツ化ホウ素錯体としては、環状エ
ーテル、ジアルキルエーテル錯体などのエーテル錯体、
酢酸錯体、ケトン錯体など各種のものが使用できる。具
体的には、たとえば三7.化ホウ素のテトラヒト07ラ
ン錯体。
ーテル、ジアルキルエーテル錯体などのエーテル錯体、
酢酸錯体、ケトン錯体など各種のものが使用できる。具
体的には、たとえば三7.化ホウ素のテトラヒト07ラ
ン錯体。
ジエチルエーテル錯体、ジブチルエーテル錯体。
酢酸錯体、アセトン錯体などがあげられ、これらは単独
または2種以上混合して使用される。
または2種以上混合して使用される。
かかる三7.化ホウ素または三7フ化ホウ素錯体の使用
量は一般式(1)で表わされる化合物1モルに対して1
〜8モルの範囲、とくに1〜1.5モルの範囲が好まし
い。
量は一般式(1)で表わされる化合物1モルに対して1
〜8モルの範囲、とくに1〜1.5モルの範囲が好まし
い。
本発明において使用される溶媒は、不活性でしかも反応
温度を80〜z50°Cに保つのに充分な沸点を有する
ものであればとくに制限はなく、amベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジアリル、ジアリルエーテルなどが好適
に使用される。具体的にはジフェニルエーテルまたはジ
フェニルエーテルとジフェニルとの混合物カ最適である
。溶媒の使用量はとくに制限されないが。
温度を80〜z50°Cに保つのに充分な沸点を有する
ものであればとくに制限はなく、amベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジアリル、ジアリルエーテルなどが好適
に使用される。具体的にはジフェニルエーテルまたはジ
フェニルエーテルとジフェニルとの混合物カ最適である
。溶媒の使用量はとくに制限されないが。
通常一般式(1)で表わされる化合物1部に対してレー
ト化合物をアルカリ存在下に水および(または)アルコ
ールで処理することにより一般式(式中、 R1は水素
原子または低級アルキル基。
ト化合物をアルカリ存在下に水および(または)アルコ
ールで処理することにより一般式(式中、 R1は水素
原子または低級アルキル基。
X、および島はハpゲン原子を示す)で表わされては、
たとえばメタノール、エタノールなどの汎用アルコール
があげられる。
たとえばメタノール、エタノールなどの汎用アルコール
があげられる。
アルカリ存在下で水および(または)アルコ−ル処理す
る場合に91、使用するアルカリとしてはとくに制限さ
れないが、工業的に入手しやすいナトリウム、カリウム
などのアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩あるいは重炭酸
塩など、またトリエチルアミン、トリブチルアミン、ピ
リジンなどの3級の有機アミン類などがあげられる。
る場合に91、使用するアルカリとしてはとくに制限さ
れないが、工業的に入手しやすいナトリウム、カリウム
などのアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩あるいは重炭酸
塩など、またトリエチルアミン、トリブチルアミン、ピ
リジンなどの3級の有機アミン類などがあげられる。
該処理の温度は室温でも可能であるが、好ましくは溶媒
の沸点近くが採用される。かかるアルカリ処理の終了後
、有機3級アミンの場合は直接、またアルカリ金属塩の
場合は酸で中和することにより、一般式(7)で表わさ
れる化合物を結晶でつることができる。この化合物は一
般式(6)(式中、R2は水素原子または低級アルキル
基を示す)で表わされる化合物と反応せしめることによ
り、一般式(支)で表わされる医療上きわめて有用な抗
菌剤をうることができる。
の沸点近くが採用される。かかるアルカリ処理の終了後
、有機3級アミンの場合は直接、またアルカリ金属塩の
場合は酸で中和することにより、一般式(7)で表わさ
れる化合物を結晶でつることができる。この化合物は一
般式(6)(式中、R2は水素原子または低級アルキル
基を示す)で表わされる化合物と反応せしめることによ
り、一般式(支)で表わされる医療上きわめて有用な抗
菌剤をうることができる。
以上述べた如く1本発明の方法を実施することにより、
高収率、高純度、また高能率で一般式@)で表わされる
ピリドベンズオキサジン誘導体をつることができ9本発
明は工業的にきわめて有用な方法である。
高収率、高純度、また高能率で一般式@)で表わされる
ピリドベンズオキサジン誘導体をつることができ9本発
明は工業的にきわめて有用な方法である。
つぎに実施例をあげて本発明の詳細な説明する。
実施例1
7.8−ジフルオロ−Z、S−ジヒドロ−3−メ+に−
4M −1,4−ベンズオキサジ>2.00fおよびジ
エチルエトキシメチレンマロネートL57りの混合物を
110〜130℃で5時間加熱させた。反応で生成する
エタノールを減圧下に留去したのち、残渣油状物にダウ
サム(ダウケミカル社製)10−を加える。この溶液を
室温まで冷却し、三7.化ホウ素テトラヒドロ7ラン錯
体LO9を加え、これをあらかじめ250℃まで加熱し
たダウサームlod中に320〜140℃で80分を要
し滴下した。滴下終了後さらに1時〒度に保った。10
0℃まで冷却後、ジクロルエタン5−を加え、結晶を充
分に分散し、さらに室温まで冷却してから濾取し、結晶
をジクロルエタンおよびメタノールで充分に洗浄し、9
.10−ジフルオロ−8−メチル−7−オキソ−2,8
−ジヒド0−7H−ピリド(1,2,8−ave )
(184)−ベンズオキサジン−6−カルボン酸−BF
2−キレート8.88り(収率94.2%)をえた。融
点soo”c以上。
4M −1,4−ベンズオキサジ>2.00fおよびジ
エチルエトキシメチレンマロネートL57りの混合物を
110〜130℃で5時間加熱させた。反応で生成する
エタノールを減圧下に留去したのち、残渣油状物にダウ
サム(ダウケミカル社製)10−を加える。この溶液を
室温まで冷却し、三7.化ホウ素テトラヒドロ7ラン錯
体LO9を加え、これをあらかじめ250℃まで加熱し
たダウサームlod中に320〜140℃で80分を要
し滴下した。滴下終了後さらに1時〒度に保った。10
0℃まで冷却後、ジクロルエタン5−を加え、結晶を充
分に分散し、さらに室温まで冷却してから濾取し、結晶
をジクロルエタンおよびメタノールで充分に洗浄し、9
.10−ジフルオロ−8−メチル−7−オキソ−2,8
−ジヒド0−7H−ピリド(1,2,8−ave )
(184)−ベンズオキサジン−6−カルボン酸−BF
2−キレート8.88り(収率94.2%)をえた。融
点soo”c以上。
元素分析値 G15H@BFaNO4として計算値(%
) : C47,45,HL45. )i 4J6実
測値(Q : C47,69,H?1.46. N
4JIH−NMR(DMSO−64,IS:7M8)J
: 1.59 PPM(8H,(1,−CHs)J
: 4.78 PPM(!H,q、 −C&−)δ:
5.85 PPM(IH,im、 >C)L−CHs)
δ: 8.18 PPM(IH,q、 8位−0IL−
)J : 9,68 PPM(IH,s、 5位−〇h
i−)Mas畠 :M”82Q 実施例! 7.8−ジフルオロ−2,8−ジヒドロ−8−メチル−
4H−1,4−ベンズオキサジン2.0O#とジエチル
エトキシメチレンマロネート2.579の混合物を減圧
下に140〜150″Cで2時間加熱した。反応液をキ
シレン15gLtに溶解させ、室温まで冷却後玉7.化
ホウ素テトラヒドロ7ラン錯体1.81+を加え、この
混合物を還流しているキシレン5−中に2時間かけて滴
下した。滴下後、さらに1時間還流をつづけた。反応後
、メタノールを加え、析出物を分散させ。
) : C47,45,HL45. )i 4J6実
測値(Q : C47,69,H?1.46. N
4JIH−NMR(DMSO−64,IS:7M8)J
: 1.59 PPM(8H,(1,−CHs)J
: 4.78 PPM(!H,q、 −C&−)δ:
5.85 PPM(IH,im、 >C)L−CHs)
δ: 8.18 PPM(IH,q、 8位−0IL−
)J : 9,68 PPM(IH,s、 5位−〇h
i−)Mas畠 :M”82Q 実施例! 7.8−ジフルオロ−2,8−ジヒドロ−8−メチル−
4H−1,4−ベンズオキサジン2.0O#とジエチル
エトキシメチレンマロネート2.579の混合物を減圧
下に140〜150″Cで2時間加熱した。反応液をキ
シレン15gLtに溶解させ、室温まで冷却後玉7.化
ホウ素テトラヒドロ7ラン錯体1.81+を加え、この
混合物を還流しているキシレン5−中に2時間かけて滴
下した。滴下後、さらに1時間還流をつづけた。反応後
、メタノールを加え、析出物を分散させ。
濾取し、結晶をジクロルエタンとメタノールで洗浄し、
9.10−ジフルオロ−8−メチル−7−オキソ−1,
8−ジヒドロ−7H−ピリド(1?2.8−71.6
) (1,4)−ベンズオキサジン−6−カルボン酸−
BF2−キレ−)24!9(収率64.6%)をえた。
9.10−ジフルオロ−8−メチル−7−オキソ−1,
8−ジヒドロ−7H−ピリド(1?2.8−71.6
) (1,4)−ベンズオキサジン−6−カルボン酸−
BF2−キレ−)24!9(収率64.6%)をえた。
本品は標品とIRおよびH口
舊Rが一致した。
実施例3
7.8−ジフルオロ−!、8−ジヒドロー3−メチルー
4 H−1,4−ベンズオキサジンB、009およびジ
エチルエトキシメチレンマロネートz、′6フタの混合
物を減圧下に140〜160°Cで8時間加熱させた。
4 H−1,4−ベンズオキサジンB、009およびジ
エチルエトキシメチレンマロネートz、′6フタの混合
物を減圧下に140〜160°Cで8時間加熱させた。
反応液にキシレン1〇−を加え、還流しつつ三7フ化ホ
ウ素テトラヒドロ7ラン1.8Fを1時間かけて滴下し
た。滴下後さらに4時間反応させた□室温まで冷却後メ
タノールを加え析出物を濾取し、ジクロルエタンで洗い
、9.10−ジフルオロ−8−メチル−7−オキソ−!
、8−ジヒドロー7H−ピリド〔t、z、s −a、a
) (L4 )−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
−BFx−キレート飢47り(収率71.9%)をえた
。本品は標品とIRおよびNMRが一致した。
ウ素テトラヒドロ7ラン1.8Fを1時間かけて滴下し
た。滴下後さらに4時間反応させた□室温まで冷却後メ
タノールを加え析出物を濾取し、ジクロルエタンで洗い
、9.10−ジフルオロ−8−メチル−7−オキソ−!
、8−ジヒドロー7H−ピリド〔t、z、s −a、a
) (L4 )−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
−BFx−キレート飢47り(収率71.9%)をえた
。本品は標品とIRおよびNMRが一致した。
実施何番
7.8−ジフルオO−Z、S−ジヒドロ−8−メfルー
4 H−1,4−ベンズオキサジンN、009とジエ
チルエトキシメチレンマロネート2.572の混合物を
180〜185℃で2時間加熱した。留出するエタノー
ルを減圧留去後、残渣をキシレン15−にとかし室温で
三7ツ化ホウ素テトラヒドロ7ラン錯体1.89を加え
2時間選流した。冷却後析出物をメタノールで処理し。
4 H−1,4−ベンズオキサジンN、009とジエ
チルエトキシメチレンマロネート2.572の混合物を
180〜185℃で2時間加熱した。留出するエタノー
ルを減圧留去後、残渣をキシレン15−にとかし室温で
三7ツ化ホウ素テトラヒドロ7ラン錯体1.89を加え
2時間選流した。冷却後析出物をメタノールで処理し。
濾取し、メタノールとジクロルエタンの混液で洗浄し、
9.10−ジフルオロ−8−メチル−7−オキソ−2,
8−ジヒドロ−7H−ピリド〔1゜L 1l−dl e
) CL 4 )−ベンズオキサジン−6−カに&ン
酸−BFz−キレー)2.41SF(収率70.7%)
を得た。本品は標品とIRおよびNMRが一致した。
9.10−ジフルオロ−8−メチル−7−オキソ−2,
8−ジヒドロ−7H−ピリド〔1゜L 1l−dl e
) CL 4 )−ベンズオキサジン−6−カに&ン
酸−BFz−キレー)2.41SF(収率70.7%)
を得た。本品は標品とIRおよびNMRが一致した。
実施例5
7.8−ジフルオワー2,8−ジヒドロ−3−メチル−
41−1,4−ベンズオキサジンZ、00flおよびジ
エチルエトキシメチレンマロネートL67gの混合物を
減圧下に140〜160℃で3時間加熱させた。反応液
にキシレンz〇−と三7.化ホウ素ジエチルエーテル錯
体1,84すを室温で加え、8時間還流した。析出物を
濾取し、メタノールとジクロルエタンで洗い。
41−1,4−ベンズオキサジンZ、00flおよびジ
エチルエトキシメチレンマロネートL67gの混合物を
減圧下に140〜160℃で3時間加熱させた。反応液
にキシレンz〇−と三7.化ホウ素ジエチルエーテル錯
体1,84すを室温で加え、8時間還流した。析出物を
濾取し、メタノールとジクロルエタンで洗い。
9、lO−ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ1.8
−ジヒドロ−7H−ピリド(1,2,8−el、e )
(1,4)−ベンズオキサジン−6−カルボン酸−BF
、−キレ−)LtS9(収率64.6%)をえた。本品
は標品とIRおよびNMRが一致した。
−ジヒドロ−7H−ピリド(1,2,8−el、e )
(1,4)−ベンズオキサジン−6−カルボン酸−BF
、−キレ−)LtS9(収率64.6%)をえた。本品
は標品とIRおよびNMRが一致した。
実施例6
7.8−ジフルオロ−S、S−ジヒドロ−3−メチル−
4M −1,4−ベンズオキサジン0゜5りとジエチル
エトキシメチレンマνネー)0.64Fの混合物を減圧
下に140〜150℃で8時間加熱し、これにキシレン
10−と三7.化ホウ素酢酸錯体(シアセテー))0.
619を加え。
4M −1,4−ベンズオキサジン0゜5りとジエチル
エトキシメチレンマνネー)0.64Fの混合物を減圧
下に140〜150℃で8時間加熱し、これにキシレン
10−と三7.化ホウ素酢酸錯体(シアセテー))0.
619を加え。
1時間還流した。冷却後、析出物を濾取し、メタノール
で洗浄し、Q、10−ジフルオo−8−メチル−7−オ
キソ−2,8−ジヒドロ−7H−ピリド(l、!、a
−d、6 ) (1,4)−ベンズオキサジン−6−カ
ルボン酸−BF、−キレート0.86g(収率42≦)
をえた。本品は標品とIRおよびNMRが一致した。
で洗浄し、Q、10−ジフルオo−8−メチル−7−オ
キソ−2,8−ジヒドロ−7H−ピリド(l、!、a
−d、6 ) (1,4)−ベンズオキサジン−6−カ
ルボン酸−BF、−キレート0.86g(収率42≦)
をえた。本品は標品とIRおよびNMRが一致した。
実施例7
8−クロロ−7−フルオロ−2,8−ジヒドロ−8−メ
チル−4H−1,4−ベンズオキサジン0.75gおよ
びジエチルエトキシメチレンマロネー)0.89gの混
液を減圧下に140〜150℃に8時間加熱した。反応
液を冷却後。
チル−4H−1,4−ベンズオキサジン0.75gおよ
びジエチルエトキシメチレンマロネー)0.89gの混
液を減圧下に140〜150℃に8時間加熱した。反応
液を冷却後。
ダウサーム10gLtと三7ツ化ホウ素テFラヒドロ7
ラン鯖体o、ssgを加え、これを別の250℃に加熱
したダウサーム!OgLt中に!zO〜?t40℃で8
0分を要して滴下し、さらにBO分間反応した。冷却後
析出物を濾取し。
ラン鯖体o、ssgを加え、これを別の250℃に加熱
したダウサーム!OgLt中に!zO〜?t40℃で8
0分を要して滴下し、さらにBO分間反応した。冷却後
析出物を濾取し。
メタノールとジクロルエタンで洗浄し、1〇−クロロ−
9−フルオロ−8−メチル−7−オキソ−z、s−ジヒ
ドロ−’7 )T−ピリド(1,z、8−a、 e )
(1+ ’ )−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
−BF、−キレート0.74り(収率S8襲)をえた。
9−フルオロ−8−メチル−7−オキソ−z、s−ジヒ
ドロ−’7 )T−ピリド(1,z、8−a、 e )
(1+ ’ )−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
−BF、−キレート0.74り(収率S8襲)をえた。
融点800℃以上。
元素分析値 C15)kBCIF1NO4として計算値
(%) : O45JO,I(L8B、 N 4.0
5実測値(%) : 045,01. )I LZ7
. N 4.1g実施例8 奏−クロロ−8−フルオロ−2,8−ジヒドロ−8−メ
fルー48−1.4−ベンズオキサンノン0.649と
ジエチルエトキシメチレンマロネー)0.769の混液
を減圧下で140〜150°Cに4.5時間加熱した。
(%) : O45JO,I(L8B、 N 4.0
5実測値(%) : 045,01. )I LZ7
. N 4.1g実施例8 奏−クロロ−8−フルオロ−2,8−ジヒドロ−8−メ
fルー48−1.4−ベンズオキサンノン0.649と
ジエチルエトキシメチレンマロネー)0.769の混液
を減圧下で140〜150°Cに4.5時間加熱した。
これに冷却下、ダウサーム5−と三7ア化ホウ素テトラ
ヒドロ7ラン錯体0.64f7を加え、別の加熱ダウサ
ム15−中にこれを140〜250℃で5分間で加え、
さらに1時間反応した。析出晶を濾取し、メタノールで
洗浄し、 9−クロル−1O−フルオロ−8−メチル−
7−オキソ−2,8−ジヒドロ−7H−ピリド(1,2
−8−dT e ) (le ’ )−ベンズオキサジ
ン−6−カルボン鹸−By、−キレ−)0.691収率
54襲)をえた。融点800℃以上。
ヒドロ7ラン錯体0.64f7を加え、別の加熱ダウサ
ム15−中にこれを140〜250℃で5分間で加え、
さらに1時間反応した。析出晶を濾取し、メタノールで
洗浄し、 9−クロル−1O−フルオロ−8−メチル−
7−オキソ−2,8−ジヒドロ−7H−ピリド(1,2
−8−dT e ) (le ’ )−ベンズオキサジ
ン−6−カルボン鹸−By、−キレ−)0.691収率
54襲)をえた。融点800℃以上。
元素分析値 (31s)bBIJF3NQ4として計算
値(%): C45JO,HL8B、 N 4,05
m1Jl値e@ : c 44゜98. HL29.
N 4,08参考例1 9.10吟ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ−ml
、8−ジヒドty−7H−ピリド(1,!、8−a、e
) (1,4)−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
−BF2−キレート*Q、09.メタノール1 Q Q
d、水29−およびトリメチルアミン17.89の混合
物を14時間還流した。反応液を氷水で冷却し、析出物
を濾取し、メタノールで洗浄し、9.10−ジフルオロ
−8−メチル−7−オキソ−2,♂−ジヒドロー7H−
ピリド(t、s、a −6,s ) (1,4)−ベン
ズオキサジン−6−カルボン酸2466り(収率99.
2%)をえた。融点800℃以上。
値(%): C45JO,HL8B、 N 4,05
m1Jl値e@ : c 44゜98. HL29.
N 4,08参考例1 9.10吟ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ−ml
、8−ジヒドty−7H−ピリド(1,!、8−a、e
) (1,4)−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
−BF2−キレート*Q、09.メタノール1 Q Q
d、水29−およびトリメチルアミン17.89の混合
物を14時間還流した。反応液を氷水で冷却し、析出物
を濾取し、メタノールで洗浄し、9.10−ジフルオロ
−8−メチル−7−オキソ−2,♂−ジヒドロー7H−
ピリド(t、s、a −6,s ) (1,4)−ベン
ズオキサジン−6−カルボン酸2466り(収率99.
2%)をえた。融点800℃以上。
元素分析値 C+aH*F2NO4として計算値(%)
: C55,5L H8,2B、 84.98実測
値(5): G 55.58. H8,80,N 5
.0LH−)IMR(DM80−14.Ii9:TMS
)J : 1.48 PPM(8H,(1,−CR3)
δ: 4.62 PPM(ZM、 q、 −C1b
)δ+ 6.05 PPM(IM、璽、>c旦−CR2
)1 : 7.88 PPM(IH,q、 8位−〇H
−)δ: Q、l S PPM(1)t、s、5位 −
C旦−)Mass ; M” 281 参考例2 9.10−ジフルオロ−8−メチル−7−オキソ−2,
8−ジヒ1−A−7H−ピリドr 1.!、8−(5,
1! ) (1,4)−ベンズオキサジン−6−カルボ
ン酸−BF、−キレ−)6.28F、重ソウ8.2fお
よび水200−の混液を18時間還流した。
: C55,5L H8,2B、 84.98実測
値(5): G 55.58. H8,80,N 5
.0LH−)IMR(DM80−14.Ii9:TMS
)J : 1.48 PPM(8H,(1,−CR3)
δ: 4.62 PPM(ZM、 q、 −C1b
)δ+ 6.05 PPM(IM、璽、>c旦−CR2
)1 : 7.88 PPM(IH,q、 8位−〇H
−)δ: Q、l S PPM(1)t、s、5位 −
C旦−)Mass ; M” 281 参考例2 9.10−ジフルオロ−8−メチル−7−オキソ−2,
8−ジヒ1−A−7H−ピリドr 1.!、8−(5,
1! ) (1,4)−ベンズオキサジン−6−カルボ
ン酸−BF、−キレ−)6.28F、重ソウ8.2fお
よび水200−の混液を18時間還流した。
今後1反発液を酢酸々性とし析出物を濾取し。
結晶を水洗、9.10−ジフルオ0−8−メチル−7−
オキソ−2,8−ジヒドロ−7H−ピリド(1,!+
8−4 a ’) (1゜4)−べ>ズt−+サジンー
6−カルポン酸4.549(収率8z、4%)をえた。
オキソ−2,8−ジヒドロ−7H−ピリド(1,!+
8−4 a ’) (1゜4)−べ>ズt−+サジンー
6−カルポン酸4.549(収率8z、4%)をえた。
融点800℃以上。本品は標品とIRおよびNMRが一
致した。
致した。
参考例S
9.10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ−Z、
S−ジヒド0−7H−ピリド(1,2,8−dr’ )
(1,4)−ベンゾオキサジン−6−カルボン酸i、
o9およびドーメチルビペラジン!、85Fをジメチル
スルホキシド16−に加え。
S−ジヒド0−7H−ピリド(1,2,8−dr’ )
(1,4)−ベンゾオキサジン−6−カルボン酸i、
o9およびドーメチルビペラジン!、85Fをジメチル
スルホキシド16−に加え。
100〜110℃で12時間攪拌する。反応混合物を減
圧乾固し、残渣に水40−を加えてクロルホルムで抽出
する。抽出液を乾燥後、減圧乾固し、残渣をエタノール
から再結晶すると融点250〜157°C(分解)の無
色針状晶として9−フルオロ−3−メチル−10−(4
−メチル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−Z、R−
ジヒドo−7H−ピリド(1,S、8− d、e )で 〔l、4〕−ベンゾオキサジン−6−カルボン酸550
119を得る。
圧乾固し、残渣に水40−を加えてクロルホルムで抽出
する。抽出液を乾燥後、減圧乾固し、残渣をエタノール
から再結晶すると融点250〜157°C(分解)の無
色針状晶として9−フルオロ−3−メチル−10−(4
−メチル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−Z、R−
ジヒドo−7H−ピリド(1,S、8− d、e )で 〔l、4〕−ベンゾオキサジン−6−カルボン酸550
119を得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 を示す)で表わされるキレート化ピリドベンズオキサジ
ン誘導体0 を示す)で表わされる化合物をジアルキルエYキシメチ
レンマロネ−訃と反応させ、一般ルキル基を示す)で表
わされるN−ジアルキルメチレンマロネート置換体を製
造し1次いでこれを三7.化ホウ素または三7.化ホウ
素錯体を用いて環化縮合させることを特徴とるキレート
化ピリドベンズオキサジン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12785381A JPS5829789A (ja) | 1981-08-17 | 1981-08-17 | ピリドベンズオキサジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12785381A JPS5829789A (ja) | 1981-08-17 | 1981-08-17 | ピリドベンズオキサジン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5829789A true JPS5829789A (ja) | 1983-02-22 |
JPH0150709B2 JPH0150709B2 (ja) | 1989-10-31 |
Family
ID=14970281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12785381A Granted JPS5829789A (ja) | 1981-08-17 | 1981-08-17 | ピリドベンズオキサジン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5829789A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62198685A (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-02 | Kyorin Pharmaceut Co Ltd | キノロンカルボン酸誘導体及びその製造方法 |
EP0351889A1 (en) | 1985-12-09 | 1990-01-24 | CHINOIN Gyogyszer és Vegyészeti Termékek Gyára RT. | Process for the preparation of a quinoline carboxylic acid |
WO2001018005A1 (fr) | 1999-09-08 | 2001-03-15 | Daiichi Pharmaceutical Co., Ltd. | Procede de preparation de derives de benzoxazine et de leurs intermediaires |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50108298A (ja) * | 1974-02-11 | 1975-08-26 | ||
JPS5492992A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-23 | Koei Chemical Co | Manufacture of 1*88naphthylidine derivative |
-
1981
- 1981-08-17 JP JP12785381A patent/JPS5829789A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50108298A (ja) * | 1974-02-11 | 1975-08-26 | ||
JPS5492992A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-23 | Koei Chemical Co | Manufacture of 1*88naphthylidine derivative |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0351889A1 (en) | 1985-12-09 | 1990-01-24 | CHINOIN Gyogyszer és Vegyészeti Termékek Gyára RT. | Process for the preparation of a quinoline carboxylic acid |
JPS62198685A (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-02 | Kyorin Pharmaceut Co Ltd | キノロンカルボン酸誘導体及びその製造方法 |
WO2001018005A1 (fr) | 1999-09-08 | 2001-03-15 | Daiichi Pharmaceutical Co., Ltd. | Procede de preparation de derives de benzoxazine et de leurs intermediaires |
EP1211254A4 (en) * | 1999-09-08 | 2006-05-03 | Daiichi Seiyaku Co | PROCESS FOR THE PREPARATION OF BENZOXAZINE DERIVATIVES AND THEIR INTERMEDIATES |
US7087778B2 (en) | 1999-09-08 | 2006-08-08 | Daiichi Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for producing benzoxazine derivative and production intermediate thereof |
EP2218722A3 (en) * | 1999-09-08 | 2011-05-11 | Daiichi Sankyo Company, Limited | Process for producing benzoxazine derivative and production intermediate thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0150709B2 (ja) | 1989-10-31 |
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